JP2008027860A - 光電変換素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電荷輸送層4中における酸化体I3−の濃度を0[mol/dm3]を超え0.02[mol/dm3]以下の範囲内とし、電荷輸送層中にN−メチルホルムアミドを含有させる。
【選択図】図1
Description
実施例1では、始めに、平均1次粒子径が15[nm]の高純度酸化チタン粉末をアルコール中に分散させることによりスクリーン印刷用のペーストを作製し、このペーストを厚さ1[mm]の第1の導電性ガラス基板(旭硝子製,一方の表面がフッ素ドープされたSnO2でコーティングされることにより導電性が付与されたガラス基板,シート抵抗10[Ω/□])上に塗布,乾燥させた。次に、得られた乾燥物を500[℃]で30分間空気中で焼成することにより第1の導電性ガラス基板上に厚さ7[μm]の多孔質酸化チタン膜を形成した。次に、エタノールに増感色素[Ru(4,4’−ジカルボキシル−2,2’−ビピリジン)2−(NCS)2]ビス−テトラブチルアンモニウム(3×10−4[mol/dm3])を加えた溶液に多孔質酸化チタン膜を浸漬した後、多孔質酸化チタン膜を溶液から取り出し、室温で24時間暗所下静置することにより、多孔質酸化チタン膜に増感色素を吸着させた。
実施例2では、電解液中のヨウ素濃度を0.0005[mol/dm3]とした以外は実施例1と同じ処理を行うことにより受光面積1[cm2]の実施例2の光電変換素子を得た。
実施例3では、電解液中のヨウ素濃度を0.01[mol/dm3]とした以外は実施例1と同じ処理を行うことにより受光面積1[cm2]の実施例3の光電変換素子を得た。
比較例1では、電解液として、γ−ブチロラクトンに、ヨウ素(0.005[mol/dm3])と、メチルトリプロピルアンモニウムヨージド(0.5[mol/dm3])と、N−メチルベンズイミダゾール(0.5[mol/dm3])と、ヨウ化リチウム(0.1[mol/dm3])とを加えたものを用いた以外は実施例1と同じ処理を行うことにより受光面積1[cm2]の比較例1の光電変換素子を得た。
比較例2では、電解液中のヨウ素濃度を0.05[mol/dm3]とした以外は実施例1と同じ処理を行うことにより受光面積1[cm2]の比較例2の光電変換素子を得た。
比較例3では、電解液として、γ−ブチロラクトンにヨウ素(0.05[mol/dm3])を加えたものを用いた以外は実施例1と同じ処理を行うことにより受光面積1[cm2]の比較例3の光電変換素子を得た。
2,3:基板
4:電荷輸送層
5:封止材
6,9:基材
7:電極層
8:半導体層
9:対電極層
Claims (2)
- 増感色素が担持された半導体層を一方の表面に有する電極と、前記半導体層に対して対向配置された対電極と、前記電極と前記対電極間に配置され、酸化体I3−と還元体I−を含む電荷輸送層とを有する光電変換素子であって、
前記電荷輸送層中における前記酸化体I3−の濃度が0[mol/dm3]を超え0.02[mol/dm3]以下の範囲内にあり、電荷輸送層中にN−メチルホルムアミドが含有されていることを特徴とする光電変換素子。 - 請求項1に記載の光電変換素子であって、前記電荷輸送層中におけるN−メチルホルムアミドの濃度が1[%]以上100[%]以下の範囲内にあることを特徴とする光電変換素子。
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