JP2007527005A - 放射性および有害廃棄物のホウケイ酸ガラス固定化の方法および組成物 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
本出願は、2004年2月23日出願、米国仮出願第60/546,202号の優先権を主張し、本明細書の一部を構成するものとしてその全体を援用する。また、発明の名称を「放射性および有害廃棄物の固定化方法(Process for Immobilizing Radioactive and Hazardous Wastes)」とする、2003年6月26日出願の同時係属米国特許出願第10/606,218号を本明細書の1部を構成するものとしてその全体を援用する。
本発明は一般的に放射性および有害廃棄物の処理に関し、より詳細には1つ以上の放射性核種、有害な元素、有害な化合物および廃棄物中に存在する他の化合物を含有する廃棄物を固定化する方法に関する。
用語「廃棄物(waste)」は放射性核種、有害な元素、放射性化合物、有害な化合物および/または廃棄中に存在する他の化合物を含有する核分裂生成物のような廃棄物を含む。例えば、廃棄混合物は以下の元素およびその化合物を含む。Fe、Na、P、Cr、Al、Mn、Ni、Na、Zr、K、Cs、Ru、Sr、Ba、Tc、Rh、Mg、I、ランタニド、アクチニド(例:Th、U、Pu、Np、Am、CmおよびCe)およびそれらの化合物、他の放射性および有害な廃棄物の成分である。廃棄物はまた貴金属およびH2Oおよび/またはCO2のような揮発性成分を含んでもよい。分離されれば、これらの元素および化合物のすべてが有害というわけではない。
1.「低レベル放射性廃棄物」は、主として病院、研究室および産業部門から発生するものである。また、低レベル放射性廃棄物は高レベル放射性廃棄物から除去される成分からも発生するものである。低レベル放射性廃棄物は容積では約90%で示されるが、世界のすべての放射性廃棄物の放射能では約1%にすぎない。
2.「中レベル放射性廃棄物」は、樹脂、化学汚泥物および原子炉成分を含む。中レベル放射性廃棄物は体積では約7%で示され、世界のすべての放射性廃棄物の放射能では約4%である。
3.「高レベル放射性廃棄物」は、使用済み原子炉燃料(使用済み燃料)および主として使用済み燃料の再加工および核兵器開発から発生する他の高レベル放射性廃棄物を含む。高レベル放射性廃棄物は容積ではわずか約3%で示されるにすぎないが、世界のすべての放射性廃棄物の放射能では約95%になる。
少数のNBO(高重合化ガラス)を有するガラスはより化学的に耐久性があり、より多数のNBO(低重合化したガラス)を有するガラスよりも結晶化しない。完全に重合化した(NBOを有しない100%重合化)ガラスの例は、長石ガラス組成、斜長石ガラス組成および純シリカガラス組成である。高重合化ガラス(少数のNBOを有する約90%以上の重合)の例は、黒曜石のような天然ガラスである。完全または高重合化ガラスは、化学的耐久性を維持しながら、低または非重合化ガラスよりも追加的成分を取り込む容量が大きい。このことは、高重合化構造が低重合化構造よりもより多くの破壊される結合を有することによる。なお、低重合化ガラスにおいて、アルカリおよびアルカリ性イオンがNBOと結合しており、それゆえ、より移動しやすく活性である。それらは容易に水中のヒドロニウムイオンと交換し、より少数のNBOのガラス中でより強く結合する場合、より結晶化をも生じさせる。
K=NBO/T*100=[2(O−2T)/T]*100
式中、Kは重合度、NBOはメルト中の非架橋酸素の略号、Tは酸素に対して四面体的に配位しメルト構造のアニオン性部分である網目形成のグラムイオン(例、Al3+、Fe3+、B3+、Si4+、Zr4+、P5+など)の総数、Oはメルト中の酸素グラムイオンの総数である。
1.列AからC−106廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは38重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
(c)粘度:1200℃で3.04パスカル秒から950℃で69.8パスカル秒の範囲。
(d)比電気抵抗率:1200℃で6.14Ωcmから950℃で16.29Ωcmの範囲。
(e)製品一貫性試験(PCT)結果(g/m2/d):Li−2.34×10-2、Na−1.78×10-2、B−1.04×10-2、Al−8.57×10-3、Si−4.94×10-3。
(f)毒性特性浸出手順(TCLP)結果(mg/L):Ni−0.18、Sb−0.10、As−0.019、Cr−0.05、Se−0.10、Zn−0.17。
1.列AからC−104廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは45重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:1体積%未満の結晶(ジルコン型)が見出された。
(b)950℃で3日後の結晶性:2体積%未満の結晶(ジルコン型)が見出された。
(c)粘度:1200℃で2.27パスカル秒から950℃で47.4パスカル秒の範囲。
(d)比電気抵抗率:1200℃で4.19Ωcmから950℃で12.01Ωcmの範囲。
(e)PCT結果(g/m2/d):Li−7.9×10-4、Na−5.3×10-2、B−5.7×10-3、Si−6.1×10-3。
(f)TCLP結果(mg/L):Ni−0.033、Cr−0.011、Zn−0.19、Pb−0.077。
1.以下のAZ−101廃棄物組成を使用した(wt%)。Ag2O−0.26、Al2O3−11.63、BaO−0.25、CaO−1.34、CdO−2.71、CeO2−0.37、CoO−0.39、Cr2O3−0.35、CuO−0.13、Fe2O3−43.31、K2O−1.23、La2O3−1.44、MgO−0.28、MnO−0.91、MoO3−0.02、Na2O−11.89、Nd2O3−0.95、NiO−2.37、P2O5−2.54、PbO−0.37、SiO2−3.20、SrO−0.19、TiO2−0.05、ZnO−0.11、ZrO2−13.69。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
(c)粘度:1200℃で2.5パスカル秒から950℃で46.5パスカル秒の範囲。
(d)比電気抵抗率:1200℃で2.91Ωcmから950℃で8.65Ωcmの範囲。
(e)PCT結果(g/m2/d):Li−8.0×10-4、Na−1.3×10-3、B−4.45×10-3、Si−8.0×10-2。
(f)TCLP結果(mg/L):Ni−0.052、Cr−0.05、Pb−1.1、Ba−3.0、Ag−0.32、Cd−1.1。
1.列Aから廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは45重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
(c)粘度:1200℃で4.46パスカル秒から950℃で47.9パスカル秒の範囲。
(d)比電気抵抗率:1200℃で4.92Ωcmから950℃で10.7Ωcmの範囲。
(e)PCT結果(g/m2/d):Li−1.4×10-3、Na−6.2×10-2、B−7.2×10-3、Si−1.2×10-2。
(f)TCLP結果(mg/L):Ni−0.01、Cr−0.01、Ba−0.507、Pb−0.05、Ag−0.05、Cd−0.54。
1.以下のバッチ69廃棄物組成を使用した(wt%)。Al2O3−18.86、B2O3−0.03、Bi2O3−4.80、CaO−4.58、Ce2O3−0.01、Cr2O3−0.54、F-−0.76、Fe2O3−10.48、K2O−0.12、La2O3−0.02、MgO−0.1、MnO−1.08、Na2O−23.36、Nd2O3−0.01、NiO−0.96、P2O5−2.74、PbO−0.32、SiO2−23.26、SO3−0.12、SrO−0.79、U3O8−6.86、ZrO2−0.11。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:0.5体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
(c)TCLP結果(mg/L):Ni−0.12、Cr−0.024、Pb−0.04。
1.列Aからバッチ56廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは55重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:0.2体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ35廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは40重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:0.3体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
(b)950℃で3日後の結晶性:2体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。平均寸法は10ミクロン未満。
1.列Aからバッチ46廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは45重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:0.2体積%の結晶(スピネル型)が見出された。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ53廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは50重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:0.5体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ62廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは40重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ87廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは50重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:0.3体積%の結晶(スピネル型)が見出された。
(b)950℃で3日後の結晶性:0.5体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ34廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは50重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:0.1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ32廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは50重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ20廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは40重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:0.3体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
(b)950℃で3日後の結晶性:2体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。平均寸法は10ミクロン未満。
1.列Aからバッチ4廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは40重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列Aからバッチ30廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは40重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
1.列AからSavannah River汚泥物バッチ2廃棄物組成が列Bの量に従い使用された。列Cは40重量パーセント廃棄物充填での最終ガラス製品の中で見出された成分量(重量パーセント)を示す。
(a)急冷後の結晶性:結晶は見出されなかった。
(b)950℃で3日後の結晶性:1体積%未満の結晶(スピネル型)が見出された。
Claims (21)
- 高濃度の廃棄物成分(廃棄物充填)を達成する廃棄物をガラスに固定化する方法であって、
放射性核種、有害元素および有害成分のうちの1つ以上のを有する廃棄物の流れをフッ素およびガラス形成成分に組み合わせて、1価のカチオン酸化物(R2O)と2価のカチオン酸化物(RO)との組み合わせが約1〜約1.1モル部、3価のカチオン酸化物(R2O3)が約1〜約1.4モル部、および、4価のカチオン酸化物(RO2)と5価のカチオン酸化物(R2O5)との組み合わせが約1.2〜約4.2モル部で実質的に構成され、SiO2が30重量パーセントを超えて存在し、B2O3が8.7と15.3重量パーセントの間で存在し、Al2O3が8.7と15.1重量パーセントの間で存在し、CaOが0.2と2.3重量パーセントの間で存在し、フッ素が約1と約3重量パーセントの間で存在する高重合化ホウケイ酸ガラスを形成する能力を有する混合物を形成し、
前記混合物を溶融して、廃棄物を一体化した溶融ガラスを形成し、
前記廃棄物一体化溶融ガラスを冷却することにより固化して、高重合化ホウケイ酸ガラスを形成することよりなる、廃棄物の固定化方法。 - 廃棄物を固定化する方法であって、
放射性核種、有害元素および有害成分のうちの1つ以上のを有する廃棄物の流れをフッ素およびガラス形成成分に組み合わせて、アルカリ酸化物およびアルカリ土類酸化物を含む1価のカチオン酸化物(R2O)と2価のカチオン酸化物(RO)との組み合わせが約1〜約1.1モル部、アルミナ、酸化ホウ素および酸化鉄を含む3価のカチオン酸化物(R2O3)が約1〜約1.4モル部、および、シリカ、ジルコニア、チタニアおよび無水リン酸を含む4価のカチオン酸化物(RO2)と5価のカチオン酸化物(R2O5)との組み合わせが約1.2〜約4.2モル部で実質的に構成され、SiO2が30重量パーセントを超えて存在し、B2O3が8.7と15.3重量パーセントの間で存在し、Al2O3が8.7と15.1重量パーセントの間で存在し、CaOが0.2と2.3重量パーセントの間で存在しおよびフッ素が約1と約3重量パーセントの間で存在する高重合化ホウケイ酸ガラスを形成する能力を有する混合物を形成し、
前記混合物を溶融して、廃棄物を一体化した溶融ガラスを形成し、
前記廃棄物一体化溶融ガラスを冷却することにより固化して、高重合化ホウケイ酸ガラスを形成することよりなる、廃棄物の固定化方法。 - 1価のカチオン酸化物(R2O)と2価のカチオン酸化物(RO)との組み合わせが約1〜約1.1モル部、
3価のカチオン酸化物(R2O3)が約1〜約1.4モル部、
4価のカチオン酸化物(RO2)と5価のカチオン酸化物(R2O5)との組み合わせが約1.2〜約4.2モル部、により実質的に構成され、
SiO2が30重量パーセントを超えて存在し、B2O3が8.7と15.3重量パーセントの間で存在し、Al2O3が8.7と15.1重量パーセントの間で存在し、CaOが0.2と2.3重量パーセントの間で存在し、およびフッ素が約1と約3重量パーセントの間で存在する、ホウケイ酸ガラス。 - アルカリ酸化物およびアルカリ土類酸化物を含む1価のカチオン酸化物(R2O)と2価のカチオン酸化物(RO)との組み合わせが約1〜約1.1モル部、
アルミナ、酸化ホウ素および酸化鉄を含んで3価のカチオン酸化物(R2O3)が約1〜1.4モル部、
シリカ、ジルコニア、チタニアおよび無水リン酸を含んで4価のカチオン酸化物(RO2)と5価のカチオン酸化物(R2O5)との組み合わせが約1.2〜約4.2モル部、により実質的に構成され、
フッ素が約1〜3重量パーセント、
SiO2が30重量パーセントを超えて存在し、B2O3が8.7と15.3重量パーセントの間で存在し、Al2O3が8.7と15.1重量パーセントの間で存在し、およびCaOが0.2と2.3重量パーセントの間で存在する、ホウケイ酸ガラス。 - ホウケイ酸ガラスが過アルミナ性である、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約1000から約1200℃の温度でガラス化加工要件を満たす粘度を有する、請求項3または請求項4のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約15未満の計算された重合度(K)を有する、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約7未満の計算された重合度(K)を有する、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが1150℃および約950℃で3日後に共に約1体積パーセント未満の結晶化度を有する、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約1000から約1200℃で約1.4Ωcmと約10Ωcmの範囲の、ガラス化溶融装置での加工条件を満たす、比電気抵抗率を有する、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが高レベル廃棄物所蔵所で受け入れられる侵出要件を満たす、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約1.2と約2.5重量パーセント間の量のフッ素を含有する、請求項3または請求項4に記載のホウケイ酸ガラス。
- 前記溶融工程が約1200℃までの温度で実施される、請求項1または請求項2に記載の方法。
- ホウケイ酸ガラスが過アルミナ性である、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約1000から約1200℃の温度でガラス化加工要件を満たす粘度を有する、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約15未満の計算された重合度(K)を有する、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約7未満の計算された重合度(K)を有する、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが1150℃および約950℃で3日後に共に約1体積パーセント未満の結晶化度を有する、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約1000から約1200℃で約1.4Ωcmと約10Ωcmの範囲の、ガラス化溶融装置での加工条件を満たす、比電気抵抗率を有する、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが高レベル廃棄物所蔵所で受け入れられる侵出要件を満たす、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
- ホウケイ酸ガラスが約1.2と約2.5重量パーセント間の量のフッ素を含有する、請求項1または請求項2に記載の方法で製造されるホウケイ酸ガラス。
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