JP2007287916A - 電子部品パッケージ - Google Patents

電子部品パッケージ Download PDF

Info

Publication number
JP2007287916A
JP2007287916A JP2006113454A JP2006113454A JP2007287916A JP 2007287916 A JP2007287916 A JP 2007287916A JP 2006113454 A JP2006113454 A JP 2006113454A JP 2006113454 A JP2006113454 A JP 2006113454A JP 2007287916 A JP2007287916 A JP 2007287916A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal line
ground conductor
electronic component
component package
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006113454A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4653005B2 (ja
Inventor
Shisei Cho
子誠 張
Akira Ikeuchi
公 池内
Takatoshi Yagisawa
孝俊 八木澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2006113454A priority Critical patent/JP4653005B2/ja
Priority to US11/456,870 priority patent/US7436056B2/en
Publication of JP2007287916A publication Critical patent/JP2007287916A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4653005B2 publication Critical patent/JP4653005B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/50Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/10Containers; Seals characterised by the material or arrangement of seals between parts, e.g. between cap and base of the container or between leads and walls of the container
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49822Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49838Geometry or layout
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6605High-frequency electrical connections
    • H01L2223/6616Vertical connections, e.g. vias
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15153Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/15165Monolayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15172Fan-out arrangement of the internal vias
    • H01L2924/15174Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
    • H01L2924/1617Cavity coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1905Shape
    • H01L2924/19051Impedance matching structure [e.g. balun]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • H01L2924/30111Impedance matching

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

【課題】伝送損失が小さく、且つ遮断周波数が高い信号伝送を実現する表面実装用電子部品パッケージを提供する。
【解決手段】電子部品12が封止されて上面に設けられた誘電体基板11を備えた電子部品パッケージは、前記誘電体基板11の前記上面に、前記電子部品12に接続される第1信号線路15と、第1接地導体13とが形成され、前記誘電体基板11の下面に、外部接続用電極20に接続される第2信号線路19と、第2接地導体16とが形成され、前記第1接地導体13と第2接地導体16とは接地導体用ビアホール26を介して接続され、前記第1信号線路15及び前記第2信号線路19に接続された基板内部信号線路21が、上下を前記第1接地導体13及び前記第2接地導体16に、左右を前記接地導体用ビアホール26に囲まれて、前記誘電体基板11の内部に設けられていることを特徴とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、電子部品パッケージに関し、より具体的には、伝送速度が高速な信号伝送に用いられる電子部品の表面実装用のパッケージの構造に関する。
従来より、伝送速度が40Gb/sの信号伝送を行う電気光学インターフェイス回路を有する通信システム及び光通信システムにおいて、高速ICパッケージとして、表面実装用封止パッケージが広く使用されている。
かかる表面実装用封止パッケージでは、パッケージングされる誘電体基板と、前記誘電体基板の表面に接続された蓋等とによって形成されるキャビティ内に電子部品が封止され、当該電子部品と、前記誘電体基板の信号線路路が設けられている面と反対の面に設けられた電極と、が接続される。
図1は、従来の電子部品を備えたパッケージを示す図である。より具体的には、図1(a)は、上面に蓋部が設けられていない状態のパッケージ基板の平面図であり、図1(b)は、図1(a)に示すパッケージ基板の上面に蓋部が設けられている状態における、図1(a)の線A−Aにおける断面図である(例えば、特許文献1参照)。
図1を参照するに、パッケージ基板1の略中央に、LSI(大規模集積回路:Large Scale Integrated circuit)2が載置されている。LSI2の外側であって、パッケージ基板1の上面の四辺に沿って、金属から成る接地導体3が環状に設けられている。
接地導体3上に金属又は誘電体から成る蓋部4の壁部4aが載置され、蓋部4の内部にキャビティが形成され、かかるキャビティ内に前記LSI2が封止されている。
パッケージ基板1の上面には、LSI2に接続する信号線路5も設けられている。パッケージ基板1の下面の端部近傍には電極6が配設されている。信号線路5と電極6とは、パッケージ基板1中に設けられたビアホール7、8及び中間信号線路9を介して接続されている。
従って、パッケージ基板1がプリント配線基板(図示を省略)に搭載されると、電極6を介して、LSI2とプリント配線基板の信号線路パターンが接続される。
米国特許第5,168,344号公報
しかしながら、図1に示す構造では、高周波特性を考慮していないため、パッケージ基板1の上面に設けられた接地導体3の下方に位置する中間信号線路9においてインピーダンス不整合が生じる。かかるインピーダンス不整合は、信号周波数が増加すると、伝送損失は大きくなり通信速度の低下を招く。
更に、パッケージ基板1と、当該パッケージ基板1が搭載されるプリント配線基板(図示を省略)との間の接触は周波数特性を制限し、最大動作周波数に影響を及ぼす。
より具体的には、図1に示す構造では、パッケージ基板1がセラミック等の誘電体から成る場合、シミュレーションを行った結果、利得が3dB減衰となる遮断周波数は35GHzよりも低い低周波数となることを、本発明の発明者は知得している。
そこで、本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであって、伝送損失が小さく、且つ遮断周波数が高い信号伝送を実現する表面実装用電子部品パッケージを提供することを本発明の目的とする。
本発明の一観点によれば、電子部品が封止されて上面に設けられた誘電体基板を備えた電子部品パッケージであって、前記誘電体基板の前記上面には、前記電子部品に接続される第1信号線路と、第1接地導体とが形成され、前記誘電体基板の下面には、外部接続用電極に接続される第2信号線路と、第2接地導体とが形成され、前記第1接地導体と第2接地導体とは接地導体用ビアホールを介して接続され、前記第1信号線路及び前記第2信号線路に接続された基板内部信号線路が、上下を前記第1接地導体及び前記第2接地導体に、左右を前記接地導体用ビアホールに囲まれて、前記誘電体基板の内部に設けられていることを特徴とする電子部品パッケージが提供される。
前記基板内部信号線路は、ビアホールによって、前記第1信号線路及び前記第2信号線路と接続されていてもよい。また、前記第2信号線路に接続された前記外部接続用電極の両側に、前記第2接地導体から延出された接地導体電極が形成されていてもよい。
前記誘電体基板は多層基板であって、各層の下面に層信号線路が形成されており、前記層信号線路は互いにビアホールで接続されて、前記基板内部信号線路が構成されることとしてもよい。更に、前記層信号線路の近傍に、層接地導体が設けられていてもよい。
前記基板内部信号線路の両側に、基板内部接地導体が設けられていてもよい。前記基板内部接地導体は、前記第1接地導体が設けられている箇所よりも外側に延出している部分を有し、当該部分は、前記第2接地導体のみとビアホールを介して接続されていてもよい。
本発明によれば、伝送損失が小さく、且つ遮断周波数が高い信号伝送を実現する表面実装用電子部品パッケージを提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
[第1の実施の形態]
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る、電子部品を備えたパッケージの概略構造を示す図であり、より具体的には、図2(a)は、上面に蓋部が設けられていない状態のパッケージ基板の平面図であり、図2(b)は、図2(a)に示すパッケージ基板の上面に蓋部が設けられている状態における、図2(a)の線A−Aにおける断面図である。
図2を参照するに、パッケージ基板11の主面の略中央に、LSI(大規模集積回路:Large Scale Integrated circuit)12が載置されている。LSI12の外側であって、パッケージ基板11の上面の四辺に沿って、金属パターンから成る第1接地導体13が略矩形状に設けられている。
なお、パッケージ基板11は誘電体基板であり、例えば、セラミック等から成る。また、図2に示す例では、LSI12が図示されているが、本発明はこれに限られず、IC(集積回路:Integrated Circuit)、受動素子、能動素子、又はこれらの組合せ等の電子部品をパッケージ基板11の略中央に設けてもよい。更に、図2に示す例では、第1接地導体13はパッケージ基板11の上面に平面視、略矩形環状に設けられているが、円型環状、楕円型環状、又は多角形の環状等に設けられていても良い。
第1接地導体13上に、断面がコの字を90度反時計回りに回転させた形状を有する蓋部14の壁部14aが載置され、両者が半田等で接合されて、蓋部14の内部に前記LSI12が設けられたキャビティが形成される。即ち、第1接地導体13は蓋部14との接点として機能し、前記LSI12が気密封止される。なお、蓋部14は、例えば、金属又は誘電体から成る。
封止構造でないパッケージに関しても、同様の構造で高速特性が満足できる。
また、パッケージ基板11の上面であって、第1接地導体13と重ならない内側の領域には、第1信号線路15が設けられており、第1信号線路15は、後述するボンディングワイヤ(図2では図示を省略)によりLSI12に接続している。
パッケージ基板11の下面であって、前記第1接地導体13が設けられている箇所に対応する箇所及びその内側には、金属パターンから成る第2接地導体16が、また、前記第1接地導体13が設けられている箇所に対応する箇所よりも外側には、第2信号線路19が、設けられている。詳細は後述するが、第1接地導体13は、図2において点線で示すビアホール26−1及び26−2を介して第2接地導体16に接続している。
第2信号線路19には、パッケージ基板11の外側に延出する金属リード20が、外部接続用電極として接続している。なお、本例では、このように、外部接続用電極として金属リードが設けられているが、外部接続用電極として半田ボールを用いて、パッケージ基板11をBGA(Ball Grid Array)基板として構成してもよい。
パッケージ基板11の内部には、基板内部信号線路として第3信号線路21が設けられている。第3信号線路21は、パッケージ基板11中に鉛直方向に形成された第1ビアホール17を介して第1信号線路15に接続し、また、パッケージ基板11中に鉛直方向に形成された第2ビアホール18を介して第2信号線路19に接続し、信号が伝送される。なお、第1ビアホール17及び第2ビアホール18は、パッケージ基板11の上面に設けられた第1接地導体13と重ならないように設けられている。
このように、パッケージ基板11の上面に第1接地導体13が、下面に第2接地導体16が設けられ、第1接地導体13及び第2接地導体16はビアホール26−1及び26−2を介して接続され、更に、かかる第1接地導体13及び第2接地導体16に上下を、前記ビアホール26−1及び26−2に左右を挟まれて、第3信号線路21が設けられている。
即ち、第1信号線路15と第2信号線路19とに接続している第3信号線路21は、四方を接地導体に囲まれて、パッケージ基板11の内部に設けられている。
なお、第2接地導体16の下には、金属板22が金属リード20の端部から離間して設けられている。金属板22が設けられていない場合は、入出力インピーダンスが例えば50Ωになるようにインピーダンス整合をとって信号線路15、19及び21をパッケージ基板11に設けたとしても、パッケージ基板11をプリント配線基板(図示を省略)に搭載すると前記インピーダンスが不整合になるおそれがある。しかしながら、金属板22を設けることにより、かかる状態を回避することができる。また、金属板22により、パッケージ基板11をプリント配線基板(図示を省略)に搭載する際の良好な半田接続を確保することができる。なお、金属板22は、例えば、金(Au)、銅(Cu)等の金属から成る。
図3は、プリント配線基板及び当該プリント配線基板上に搭載された図2に示すパッケージ基板11の一部を示す平面図である。なお、図3では、図2に示す蓋部14の図示を省略している。
図3を参照するに、プリント配線基板30上に、パッケージ基板11が搭載されている。プリント配線基板30の上面には、複数の金属パターン31が設けられている。
図3では、パッケージ基板11の第1信号線路15−1に接続される信号線路31−1、パッケージ基板11の第1信号線路15−3に接続される信号線路31−3、パッケージ基板11の第1信号線路15−5に接続される信号線路31−5、信号線路31−1と信号線路31−3との間及び信号線路31−3と信号線路31−5との間に設けられた接地導体31−GNDが示されている。
このように、本実施の形態では、プリント配線基板30は、高周波信号の配線導体である信号線路(例えば、信号線路31−1)を所定の間隔を介して接地導体31−GNDで挟むように設けた所謂コプレーナ(CPW:Coplanar Waveguide)型伝送線路構造を有している。但し、本発明はかかる例に限られず、プリント配線基板30は、表面に高周波信号の配線導体である信号線路(例えば、信号線路31−1)を所定の間隔を介して接地導体31−GNDで挟むように設け、当該接地導体31−GNDがビアホールを介して裏面に設けられた接地導体と接続している所謂グランデットコプレーナ(GCPW:Grounded Coplanar Waveguide)型伝送線路構造を有していてもよい。いずれの場合も、高速の信号伝送が可能である。
また、パッケージ基板11においては、パッケージ基板11の上面の略中央に設けられたLSI12に、ボンディグワイヤ25を介して、第1信号線路15−1(15−3、15−5)が接続している。
第1信号線路15−1(15−3、15−5)は、第1ビアホール17−1(17−3、17−5)、及び図3において点線で示す第3信号線路21−1(21−3、21−5)、第2ビアホール18−1(18−3、18−5)、及び第2信号線路19−1(19−3、19−5)を介して、パッケージ基板11の外側に延出する金属リード20−1(20−3、20−5)に接続している。
金属リード20−1(20−3、20−5)は、プリント配線基板30の信号線路31−1(31−3、31−5)に接続し、他の金属リード20−2(20−4、20−6、20−7、20−8及び20−9)はプリント配線基板30の接地導体31−GNDに接続している。なお、図3に示す例では、プリント配線基板30の信号線路31−1及び信号線路31−3は、プリント配線基板30の上面に設けられた受動素子、能動素子、LSI、IC、又はこれらの組合せ等の電子部品32にも接続している。
詳細は後述するが、パッケージ基板11の上面の四辺に沿って環状に設けられた第1接地導体13には、第1の接地導体接続用ビアホール26−1及び第2の接地導体接続用ビアホール26−2が、第1信号線路15、第2信号線路19、及び第3信号線路19の配設方向と略垂直方向に複数並んで形成されている。
次に、図3において点線Bで囲った部分の詳細図を図4に示す。また、図4に示すパッケージ基板11の底面図を図5に示す。
図4及び図5を参照するに、プリント配線基板30の信号線路31−1及び信号線路31−3に接続する金属リード20−1及び20−3と、プリント配線基板30の接地導体31−GNDに接続する他の金属リード20−2、20−4、及び20−6は、パッケージ基板11の外側に延出している。
プリント配線基板30の接地導体31−GNDに接続し、接地導体電極として機能する金属リード20−2、20−4、及び20−6は、接地導体である金属板22から延出して設けられている。
なお、図5に示す例では、プリント配線基板30の信号線路31−1に接続する金属リード20−1とプリント配線基板30の信号線路31−3に接続する金属リード20−3との間には、接地導体として1本の金属リード20−2のみが設けられているが、本発明はかかる例に限定されず、図6に示す構造であってもよい。
ここで、図6は、図5に示すパッケージ基板11の変形例の誘電体基板であるパッケージ基板11の底面図である。なお、図6において図5と同じ箇所には同じ番号を付し、その説明を省略する。
図6を参照するに、本変形例では、プリント配線基板30の信号線路31−1に接続する金属リード20−1とプリント配線基板30の信号線路31−3に接続する金属リード20−3との間に、接地導体として2本の金属リード20−2a及び20−2bが金属板22から延出して設けられている。かかる構造は、特に、高周波信号線路が短いピッチで密集して設けられているパッケージの場合に有効であり、優れた接地安定性の下、良好な高周波特性を得ることができる。
次に、上述の構造を備えたパッケージ基板11及びプリント配線基板30の内部構造について、図7乃至図8を参照して説明する。
ここで、図7は、図4の線C−Cにおける断面図であり、図8は、図4の線D−Dにおける断面図である。
図7及び図8を参照するに、パッケージ基板11の上面に設けられた第1信号線路15−1は、パッケージ基板11中に鉛直方向に形成された第1ビアホール17−1を介して、パッケージ基板11の内部に設けられている第3信号線路21−1に接続し、第3信号線路21−1は、パッケージ基板11中に鉛直方向に形成された第2ビアホール18−1を介して、パッケージ基板11の下面に設けられた第2信号線路19−1に接続している(図7参照)。
また、第3信号線路21−1は、パッケージ基板11の上面に設けられた第1接地導体13と下面に設けられた第2接地導体16とに、上下を挟まれた状態で、パッケージ基板11の内部に設けられている(図7参照)。
更に、第1接地導体13及び第2接地導体16は、接地導体接続用ビアホール26−1及び26−2によって接続されている(図8参照)。
即ち、第3信号線路21−1は、パッケージ基板11の内部において四方を接地導体に囲まれたトンネル構造の下、設けられている。
かかるトンネル構造につき、図9及び図10を参照して更に説明する。
ここで、図9は、図4の線E−Eにおける断面図であり、図10は、図4において矢印Fで示す方向から見たときの斜視図である。
図9及び図10を参照するに、第3信号線路21−1は、パッケージ基板11の上面に設けられた第1接地導体13と、下面に設けられた第2接地導体16と、第1接地導体13及び第2接地導体16とを鉛直方向に接続する接地導体接続用ビアホール26−1及び26−2によって、四方を囲まれて設けられている。
このように、第3信号線路21−1の四方に接地導体を設けることにより、入出力インピーダンスが50Ω等、所望の値になるようにインピーダンス整合をとることができる。
特に、第1接地導体13と第2接地導体16とを接続する接地導体接続用ビアホール26−1及び26−2は、信号の帰還電流(戻り電流)の直接且つ短い経路として機能する。よって、第1接地導体13が電気的フローイング状態を回避することができ、共振の発生を抑制することができる。また、接地導体接続用ビアホール26−1及び26−2により、第1接地導体13と第2接地導体16との間の長さを短くすることができる。
なお、第1ビアホール17、第2ビアホール18、第1の接地導体接続用ビアホール26−1及び第2の接地導体接続用ビアホール26−2は、周知の方法により形成することができ、例えば、パッケージ基板11にレーザを用いて又は機械的に孔を形成し、当該孔全体にメッキを施して導通させることにより形成してもよく、また、レーザ等で孔が形成された層を、当該孔に金属ペーストを充填して積層することにより形成してもよい。
次に、かかる構造を備えたパッケージの伝送特性及び反射特性につき、図11を参照して説明する。
ここで、図11は、本発明の実施の形態にかかるパッケージの、伝送特性及び反射特性を示したグラフである。
より具体的には、図11(a)は、図1に示す従来の構造の場合との比較における前記伝送特性を示し、図11(b)は、図1に示す従来の構造の場合との比較における前記反射特性を示す。両グラフにおいて、本発明の実施の形態にかかるパッケージの場合を実線で示し、図1に示す従来の構造の場合を一点鎖線で示す。
図11(a)を参照するに、横軸は周波数(単位:GHz)を、縦軸は透過係数(S21、単位:dB)を表し、特性曲線は透過係数の周波数特性を表している。本発明の実施の形態にかかるパッケージの場合、図1に示す従来の構造の場合に比し、伝送損失が小さく、高速通信に適している。
特に、本発明の実施の形態にかかるパッケージでは、利得が3dB減衰となる遮断周波数(f2)は、図1に示す従来の構造の場合における前記遮断周波数(f1)よりも、約25%以上大きい。
例えば、パッケージ基板の長さX及び幅Y(図2参照)が約1cmの場合、図1に示す従来の構造の場合では利得が3dB減衰となる前記遮断周波数は約35GHzであるのに対し、本発明の実施の形態にかかるパッケージでは前記遮断周波数は約45GHzと、より高い周波数を示しており、伝送特性に優れ、高速動作や消費電力の面で優れる。
次に、図11(b)を参照するに、横軸は周波数(単位:GHz)を、縦軸は反射係数(S11、単位:dB)を表し、特性曲線は反射係数の周波数特性を表している。本発明の実施の形態にかかるパッケージの場合、反射周波数f0の2倍の周波数のときに、図1に示す従来の構造の場合に比し、25%以上反射特性が低くなり、信号線路における低ノイズの信号伝送を可能としている。
ここで、反射周波数f0は、パッケージ基板の誘電率をErとしたときに、以下の式で表される。
f0=光速 /(2×信号線路の長さ×Er)
例えば、パッケージ基板の長さX(図2参照)が約1cmの場合、信号線路の長さは0.5cmであり、パッケージ基板がセラミックから成る場合、誘電率Erは約8であるので、反射周波数f0は約7GHzと算出される。
ところで、図2を再度参照するに、本実施の形態では、パッケージ基板11の外側に延出する金属リード20の厚さ(図2におけるt)は、パッケージ基板11がセラミックから成る場合、約0.05mm乃至0.3mmの範囲に設定することができる。これについて、図12を参照して説明する。
ここで、図12は、本発明の実施の形態にかかるパッケージの周波数特性と金属リードの厚さとの関係を示すグラフであり、横軸は、金属リード20の厚さ(図2におけるt)を示し、縦軸は利得が3dB減衰となる遮断周波数を示す。
図12を参照するに、金属リード20の厚さ(図2におけるt)が約0.05mm乃至0.3mmの場合、利得が3dB減衰となる遮断周波数は40GHz以上の値を示し、伝送速度が40Gb/s以上の信号伝送を行う通信システムに適用することができる。
図2を再度参照するに、本実施の形態では、パッケージ基板11の主面の略中央に、電子部品としてLSI12が載置されている。ここで、LSI12の厚さとパッケージ基板11の厚さとの関係について、図13乃至図15を参照して説明する。
図13乃至図15は、LSI12の厚さとパッケージ基板11の厚さとの関係を説明するための第1乃至第3の図であり、それぞれ、パッケージ基板11の上面に蓋部14が設けられていない状態におけるパッケージ基板11の断面図である。図13乃至図15では、説明の便宜上、図2において示した箇所と同じ箇所には同じ番号を付し、その説明は省略する。
図13を参照するに、パッケージ基板11の略中央には孔形成部60が設けられている。当該孔形成部60内であって、金属板22上には、上面に信号線路52が設けられたLSI12が載置されている。ここで、パッケージ基板11の厚さh1とLSI12の厚さh2とは略等しく設定されている。従って、パッケージ基板11の上面に設けられた第1信号線路15と、LSI12の上面に設けられた信号線路52とは、略同一平面上に設けられていることになり、ボンディングワイヤ25(図3参照)により両者を容易に接続することができる。
パッケージ基板11の厚さh1がLSI12の厚さh2よりも大きい場合(h2<h1)は、図14に示す構造を採用してもよい。即ち、LSI12の下面と、金属板22との間に、LSI載置用金属板61を設け、パッケージ基板11の上面に設けられた第1信号線路15と、LSI12の上面に設けられた信号線路52とが、略同一平面上になるようにする。これにより、図13に示す例と同様に、ボンディングワイヤ25(図3参照)により両者を容易に接続することができる。なお、LSI載置用金属板61は、金属板22と同様に、例えば、金(Au)、銅(Cu)等の金属から成る。
LSI12の厚さh2がパッケージ基板11の厚さh1よりも大きい場合(h1<h2)は、図15に示す構造を採用してもよい。即ち、金属板22の上面に凹部62を形成し、凹部62内にLSI12を設ける構造とする。当該凹部62により、LSI12の厚さh2とパッケージ基板11の厚さh1との差が吸収され、パッケージ基板11の上面に設けられた第1信号線路15と、LSI12の上面に設けられた信号線路52とが、略同一平面上となる。これにより、図13及び図14に示す例と同様に、ボンディングワイヤ25(図3参照)により両者を容易に接続することができる。
なお、本例では、LSI12をワイヤボンディング法によりパッケージ基板11に実装しているが、本発明はこれに限られず、例えば、LSI12をパッケージ基板11にフリップチップ実装することとしてもよい。
ところで、上述の例では、第1接地導体13上に載置される蓋部14は、例えば金属又は誘電体から成ると説明したが、図16又は図17に示すように、当該蓋部14に電磁波吸収体65を設けてもよい。
ここで、図16及び図17は、蓋部14に電磁波吸収体65を設けた第1及び第2の例を示す図である。図16及び図17では、説明の便宜上、図2において示した箇所と同じ箇所には同じ番号を付してその説明は省略し、第1信号線路15、第2信号線路19、第3信号線路21、第1ビアホール17、及び第2ビアホール18の図示は省略する。
図16に示す例では、第1接地導体13上に載置される蓋部14の内面上に電磁波吸収体65が設けられている。一方、図17に示す例では、第1接地導体13上に載置される蓋部14の外面上に電磁波吸収体65が設けられている。
電磁波吸収体65により、蓋部14とパッケージ基板11の上面とによって形成されるキャビティ内において発生する電磁波が吸収されるため、当該電磁波の反射が抑制され、キャビティ内の空洞共振の発生を防止することができる。また、当該電磁波が、蓋部14の外部に漏洩してしまうことを防止することができる。
電磁波吸収体65として、使用周波帯域が約10乃至30GHzの場合はカーボニル鉄系素材を、使用周波帯域が約3乃至30GHzの場合は複合カーボニル鉄系素材又はシリコーン+カーボニル鉄系素材を、使用周波帯域が約3乃至10GHzの場合はフェライト/フェライト・マグネット性素材又はカーボニル鉄粉末を、使用周波帯域が約0.7乃至16GHzの場合は複合フェライトを、使用周波帯域が約4MHz乃至10GHzの場合はポリエチレンテレフタレート/金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)の繊維・モノフィラメントを、使用周波帯域が約22乃至50GHzの場合は多層構造の導電性繊維の織物を、用いることができる。また、電磁波吸収体65として、使用周波帯域が約4MHz乃至50GHzの場合は、上記素材を組み合わせた混合素材又は多層構造のものを用いてもよい。更に、電磁波吸収体65として、上記素材を、シート状、板状又はメッシュ(網)状にしたものを用いてもよい。
[第2の実施の形態]
上述の本発明の第1の実施の形態では、パッケージ基板11は、3つの信号線路15、19及び21を厚さ方向に互い違いに備えた構造であったが、本発明はこの例に限られず、図18乃至図21に示すように、多層構造の一例として、4つの信号線路を厚さ方向に互い違いに備えた3層構造としてもよい。
ここで、図18は、本発明の第2の実施の形態に係る、3層構造を有するパッケージ基板の一部を示す平面図であり、図19は、図18の線G−Gにおける断面図であり、図20は、パッケージ基板の3層構造を立体的に示す図であり、図21は、図18の線H−Hにおける断面図である。なお、図18乃至図21において、既に参照した図面で示した箇所と同じ箇所には同じ符号を付し、その説明を省略する。また、図18では、説明の便宜上、前記3層構造に設けられた4つの信号線路のセットは1つのみ図示し、また、図3同様に、図2に示す蓋部14の図示を省略する。
図18乃至図20(特に、図19及び図20)を参照するに、誘電体基板であるパッケージ基板71は、厚さが夫々等しく設定された3つの層から構成されている。
第1信号線路15と第1接地導体13とが配設されたパッケージ基板71の上面を含む最上位層には、第1信号線路15から第1ビアホール75が、第1接地導体13から接地導体接続用ビアホールである第2ビアホール77が、厚さ方向に形成されている。
また、第1接地導体13からパッケージ基板71の下面に設けられた第2接地導体16に、接地導体接続用ビアホールである第6ビアホール78−2(78−1)及び第7ビアホール79−2(79−1)が形成されている。
前記最上位層の下に位置する中間層の上面には、前記第1ビアホール75を介して第1信号線路15に接続された層信号線路としての第3信号線路72と、第2ビアホール77を介して第1接地導体13に接続された層接地導体としての第3接地導体82とが設けられている。また、第3信号線路72のうち、第1ビアホール75が接続されていない側の端部には、第3ビアホール76が厚さ方向に形成されている。
前記中間層の下に位置する最下層の上面には、前記第3ビアホール76が端部に接続された層信号線路としての第4信号線路73が設けられている。前記第3ビアホール76が接続されていない側の第4信号線路73の端部には、第4ビアホール85が厚さ方向に形成され、当該最下層の下面に設けられた第2信号線路74に接続されている。かかる第2信号線路74は、パッケージ基板71の外側に延出する金属リード20に接続している。
また、当該最下層の上面には、層接地導体として第4接地導体81も設けられている。第4接地導体81は、当該最下層の厚さ方向に形成された接地導体接続用ビアホールである第5ビアホール80を介して、下面に設けられた第2接地導体16に接続されている。第2接地導体16の下には金属板22が設けられている。
図18及び図21を参照するに、前述のように、前記パッケージ基板71の上面に設けられた第1接地導体13と、パッケージ基板71の下面に設けられた第2接地導体16とは、接地導体接続用ビアホールである第6ビアホール78−1(78−2)及び第7ビアホール79−1(79−2)によって接続されている。
かかる構造を有するパッケージ基板71は、上述の最下層、中間層、最上層をこの順に積層することによって形成される。また、上述の各ビアホールは、周知の方法により形成することができ、例えば、パッケージ基板71にレーザを用いて又は機械的に孔を形成し、当該孔全体にメッキを施して導通させることにより形成してもよく、また、レーザ等で孔が形成された層を、当該孔に金属ペーストを充填して積層することにより形成してもよい。
かかる構造の下、第1信号線路15は、第1ビアホール75、第3信号線路72、第3ビアホール76、第4信号線路73、及び第4ビアホール85を介して第2信号線路74に接続し、信号が伝送される。なお、第3信号線路72及び第4信号線路73が、基板内部信号線路を構成する。
また、第3信号線路72及び第4信号線路73は、パッケージ基板71の上面に設けられた第1接地導体13と、下面に設けられた第2接地導体16とによって上下を挟まれ、更に、第1接地導体13と第2接地導体16とを接続する接地導体接続用ビアホールである第6ビアホール78−1(78−2)と第7ビアホール79−1(79−2)とによって左右を挟まれて、パッケージ基板71の内部に設けられている。即ち、第3信号線路72及び第4信号線路73は、パッケージ基板71の内部において、四方を接地導体に囲まれたトンネル構造の下、設けられている。
このように、第3信号線路72及び第4信号線路73の四方に接地導体を設けることにより、入出力インピーダンスが50Ω等、所望の値になるようにインピーダンス整合をとることができる。
特に、第1接地導体13と第2接地導体16とを接続する接地導体接続用ビアホールである第6ビアホール78−1(78−2)及び第7ビアホール79−1(79−2)は、信号の帰還電流(戻り電流)の直接且つ短い経路として機能する。よって、第1接地導体13が電気的フローイング状態を回避することができ、共振の発生を防止することができる。
また、本例では、第3信号線路72の近傍に、接地導体接続用ビアホールである第2ビアホール77を介して第1接地導体13に接続している第3接地導体82が設けられ、更に、第4信号線路73の近傍に、接地導体接続用ビアホールである第5ビアホール80を介して第2接地導体16に接続している第4接地導体81が設けられている。従って、上述のインピーダンス整合をより確実にとることができる。
[第3の実施の形態]
上述の本発明の第1及び第2の実施の形態では、パッケージ基板11又は71の上面に載置される蓋部14の断面はコの字を90度反時計回りに回転させた形状を有していたが、蓋部とパッケージ基板とが接触する部分の形状を図22乃至図24に示す形状することにより、板状の蓋部をパッケージ基板に載置することができる。
ここで、図22は、本発明の第3の実施の形態に係るパッケージの概略構造を示す図であり、図23は、図22において点線Jで囲った部分の詳細図であり、図24は、図23に示す例の変形例を示す図である。なお、図22乃至図24において、既に参照した図面で示した箇所と同じ箇所には同じ符号を付し、その説明を省略する。また、図22では、説明の便宜上、信号線路の図示を省略する。
図22及び図23を参照するに、本実施の形態では、誘電体基板であるパッケージ基板91の端部近傍において、平面視略矩形状に壁部92が形成されている。壁部92は、多層の誘電材料から成り、その厚さは、パッケージ基板91の他の箇所の厚さよりも厚く形成されている。壁部92の上面には、第1接地導体13が、図2に示す構造と異なり、厚く形成されており、例えば、壁部92と蓋部90との直接の溶接封止又は半田付けを可能としている。
また、壁部92の厚さは、パッケージ基板91の他の箇所の厚さよりも厚いため、当該壁部92と蓋部90とが接触することにより、LSI12を収容するキャビティが形成される。従って、本発明の第1及び第2の実施の形態における構造と異なり、蓋部90を平坦な板状形状に形成することができる。
壁部92の内部構造は、図24に示す構造にしてもよい。図24に示す例では、パッケージ基板91の内部構造を、図19を参照して説明した本発明の第2の実施の形態における構造、即ち、4つの信号線路を厚さ方向に互い違いに備えた3層構造とし、更に、壁部92の内部に、第1接地導体13と第3接地導体82とを接続する接地構造が設けられている。
より具体的には、第1接地導体13と第3接地導体82との間に第5接地導体95を設け、第1接地導体13と第5接地導体95とをパッケージ基板91の厚さ方向に形成された第8ビアホール96によって接続し、第3接地導体82と第5接地導体95とをパッケージ基板91の厚さ方向に形成された第9ビアホール97によって接続している。かかる構造の下、インピーダンス整合をより確実にとることができる。
[第4の実施の形態]
上述の本発明の第1の実施の形態では、図2に示すように、パッケージ基板11は、3つの信号線路15、19及び21を厚さ方向に互い違いに備えた構造であったが、図25乃至図28に示すように、第3信号線路21の配設面と略同一面上であって、第3信号線路21の左右両側に、第3信号線路21と略平行に、第3信号線路用接地導体100を設けてもよい。
ここで、図25は、本発明の第4の実施の形態に係る、第3信号線路用接地導体を有するパッケージ基板の一部を示す平面図であり、図26は、図25の線K−Kにおける断面図であり、図27は、図25において矢印Lで示す方向から見たときの斜視図であり、図28は、図25の線M−Mにおける断面図である。なお、図25乃至図28において、既に参照した図面で示した箇所と同じ箇所には同じ符号を付し、その説明を省略し、また、説明の便宜上、前記3つの信号線路15、19及び21のセットは1つのみ図示している。
図25乃至図27を参照するに、本例の、誘電体基板であるパッケージ基板101では、第3信号線路21−1の配設面と略同一面上であって、当該第3信号線路21−1の左側に第3信号線路用接地導体100−1が、右側に第3信号線路用接地導体100−2が、第3信号線路21−1と略平行に設けられている。第3信号線路用接地導体100−1及び100−2は、基板内部接地導体として機能する。
なお、図25では、3つの信号線路15、19及び21のセットは1つのみ図示され、1つの第3信号線路21−1の左右両側にのみ第3信号線路用接地導体100−1及び100−2は設けられている。しかしながら、第3信号線路21が複数設けられている場合には、かかる第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を隣り合う第3信号線路21の間に設けてもよい。
第3信号線路用接地導体100−1及び100−2と、パッケージ基板101の上面に設けられた第1接地導体13と、パッケージ基板101の下面に設けられた第2接地導体16は、第1の接地導体接続用ビアホール26−1を介して接続されている。
第3信号線路用接地導体100−1及び100−2は、3つの信号線路15、19及び21のセットが設けられていない箇所に対応する第1接地導体13の箇所の下側においては、第1接地導体13の外側に延出するように設けられている。
更に、第3信号線路用接地導体100−1及び100−2の当該延出部分は、第3の接地導体接続用ビアホール102−1及び102−2を介して、第2接地導体16にのみ接続されている。従って、第1接地導体13については、図2乃至図8に示す例のものと同じ大きさ及び形状のものを採用することができる。
次に、図25乃至図28に示す構造を有するパッケージ基板101の伝送特性について図29を参照して説明する。ここで、図29は、図25乃至図28に示す構造を有するパッケージ基板101の伝送特性示すグラフである。
より具体的には、図29(a)は、図25乃至図28に示す構造を有するパッケージ基板101の伝送特性を示すグラフであり、図29(b)は、比較のために第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を備えていない構造を有するパッケージ基板の伝送特性を示すグラフである。図29に示すグラフの横軸は周波数(単位:GHz)を、縦軸は透過係数(S21、単位:dB)を表し、特性曲線は透過係数の周波数特性を表している。
図29に示すグラフにおいて、f2は、図11で示したように、利得が3dB減衰となる遮断周波数を示す。また、f3乃至f5、即ち、fnは以下の式から算出される周波数を示す。即ち、
fn=光速 /(2×(一の信号線路と他の信号線路との間の距離)×Er)
ここで、Erは、パッケージ基板の誘電率を示す。
例えば、第3信号線路21−1と、この第3信号線路21−1と隣り合う第3信号線路21−3との間隔が0.3mmであり、誘電率Erが約8であるセラミックからパッケージ基板が構成される場合、上述の共振周波数は約20GHzと算出される。
図29(b)に示されるように、第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を備えていない構造を有するパッケージ基板では、周波数f3乃至f5において、信号線路間における共振に因り伝送特性がやや劣化するのが分かる。一方、図29(a)に示されるように、図25乃至図28に示す構造を有するパッケージ基板101では、このような共振に因る伝送特性の特性劣化は改善され、周波数応答の向上を図ることができる。
なお、本例では、第3信号線路用接地導体100−1及び100−2はパッケージ基板101において1層設けられているが、必要に応じ、第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を複数層設けてもよい。
ところで、図25乃至図28に示す例では、第1接地導体13については、図2乃至図8に示す例のものと同じ大きさ及び形状のものを採用していたが、図30に示すように、第1接地導体13の幅を変えてもよい。
ここで、図30は、図25に示すパッケージ基板101の変形例にかかるパッケージ基板の一部を示す平面図である。図30において、図25乃至図28で示した箇所と同じ箇所には同じ符号を付し、その説明を省略する。
図30を参照するに、本例では、パッケージ基板111の上面に設けられた第1接地導体113は、図25等に示す第1接地導体13よりも幅が拡張されている。但し、下部において第3信号線路21−1が設けられている箇所に相当する第1接地導体113の箇所は、平面視凹んだ形状を有し、前記他の箇所よりも幅が狭く設定されている。なお、前記凹みは、図30に示す例では、略台形形状を有するが、当該形状に特に限定はなく、例えば、円弧形状であってもよい。
かかる形状を有する第1接地導体113において、幅の広い箇所には、第1接地導体113と、パッケージ基板111の下面に設けられた第2接地導体16と、第3信号線路20−1の左右に設けられた第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を接続する第1の接地導体接続用ビアホール26−1及び第2の接地導体接続用ビアホール26−2が設けられ、更に、当該第1の接地導体接続用ビアホール26−1と第2の接地導体接続用ビアホール26−2との間に、第1接地導体113と、第2接地導体16と、第3信号線路20−1の左右に設けられた第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を接続する第4の接地導体接続用ビアホール26−3が設けられている。
一方、第1接地導体113において、幅の狭い箇所には、第1の接地導体接続用ビアホール26−1及び第2の接地導体接続用ビアホール26−2が設けられ、第4の接地導体接続用ビアホール26−3は設けられていない。
このように、本例のパッケージ基板111では、パッケージ基板111の上面に設けられた第1接地導体113において、下部において第3信号線路21−1が設けられている箇所に相当する部分以外の箇所には、図25乃至図28に示す例に比し、第1接地導体113と、第2接地導体16と、第3信号線路20−1の左右に設けられた第3信号線路用接地導体100−1及び100−2を接続するビアホール26が多く形成されている。従って、パッケージ基板111に設けられた第3信号線路21−1の入出力インピーダンスが50Ω等、所定の値になるように確実にインピーダンス整合をとることができる。
かかるパッケージ基板111の伝送特性について図31を参照して説明する。
ここで、図31は、図30に示すパッケージ基板111の伝送特性を示すグラフである。
図31に示すグラフにおいて、横軸は周波数(単位:GHz)を、縦軸は透過係数(S21、単位:dB)を表し、特性曲線は透過係数の周波数特性を表している。グラフの横軸上のf2は、図29で示したように、利得が3dB減衰となる遮断周波数を示す。また、f3乃至f5、即ち、fnは前述の式から算出される周波数を示す。
図31に示されるように、本例では信号線路間における共振に因る伝送特性の特性劣化は図25に示す構造の場合よりも更に抑制され、前記特性劣化は殆ど見られず、周波数応答の向上を更に図ることができる。
以上説明したように、上述の本発明の各実施の形態によれば、少なくともパッケージ基板の上面及び下面に設けられた接地導体に上下を挟まれた状態で信号線路がパッケージ基板内に設けられている。
従って、パッケージ基板に設けられた電子部品と当該パッケージ基板が搭載されるプリント配線基板の信号線路において、入出力インピーダンスが50Ω等、所望の値になるように確実にインピーダンス整合をとることができる。よって、伝送損失を低く抑えた高速通信を実現することができる。
また、本発明の各実施の形態によれば、簡易な構造により、即ち、パッケージ基板の大きさを大きくすることなく、上述の伝送特性を得ることが出来る。
更に、パッケージ基板の下面に設けられた第2接地導体とプリント配線基板の接地導体との接続は金属リードを介して達成され、前記第2接地導体とパッケージ基板の上面に設けられた第1接地導体との接続は接地導体接続用ビアホールを介して達成されるため、歩留まり良くパッケージ基板の製造及び当該パッケージ基板のプリント配線基板への実装を行うことができ、量産性に富んでいる。
以上、本発明の実施の形態について詳述したが、本発明は特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。
以上の説明に関し、更に以下の項を開示する。
(付記1) 電子部品が封止されて上面に設けられた誘電体基板を備えた電子部品パッケージであって、
前記誘電体基板の前記上面には、前記電子部品に接続される第1信号線路と、第1接地導体とが形成され、
前記誘電体基板の下面には、外部接続用電極に接続される第2信号線路と、第2接地導体とが形成され、
前記第1接地導体と第2接地導体とは接地導体用ビアホールを介して接続され、
前記第1信号線路及び前記第2信号線路に接続された基板内部信号線路が、上下を前記第1接地導体及び前記第2接地導体に、左右を前記接地導体用ビアホールに囲まれて、前記誘電体基板の内部に設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記2) 付記1記載の電子部品パッケージであって、
前記基板内部信号線路は、ビアホールによって、前記第1信号線路及び前記第2信号線路と接続されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記3) 付記1又は2記載の電子部品パッケージであって、
前記電子部品は、前記誘電体基板上に蓋部を載置することにより封止され、
前記第1接地導体は、前記誘電体基板と前記蓋部との接点として機能することを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記4) 付記1乃至3いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記第1接地導体は、前記誘電体基板の前記上面に環状に設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記5) 付記1乃至4いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記蓋部の内面又は外面上に電磁波吸収体が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記6) 付記1乃至5いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記外部接続用電極は、金属リードであることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記7) 付記6記載の電子部品パッケージであって、
前記金属リードの厚さは、0.05mm以上及び0.3mm以下であることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記8) 付記1乃至7いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記第2信号線路に接続された前記外部接続用電極の両側に、前記第2接地導体から延出された接地導体電極が形成されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記9) 付記1乃至8いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記第2信号線路の下に金属板が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記10) 付記1乃至9いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記電子部品の上面は、前記誘電体基板の上面と略同一面上に位置していることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記11) 付記1乃至10いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記誘電体基板は多層基板であって、各層の下面に層信号線路が形成されており、
前記層信号線路は互いにビアホールで接続されて、前記基板内部信号線路が構成されることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記12) 付記11記載の電子部品パッケージであって、
前記層信号線路の近傍に、層接地導体が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記13) 付記1乃至12記載の電子部品パッケージであって、
前記誘電体基板の端部近傍に、誘電材料から成る壁部が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記14) 付記13記載の電子部品パッケージであって、
前記壁部の内部に、前記第1接地導体に接続する接地構造が形成されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記15) 付記1乃至14いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記基板内部信号線路の両側に、基板内部接地導体が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記16) 付記15記載の電子部品パッケージであって、
前記基板内部接地導体は、第1接地導体が設けられている箇所よりも外側に延出している部分を有することを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記17) 付記16記載の電子部品パッケージであって、
前記基板内部接地導体は、前記第1接地導体及び前記第2接地導体と、ビアホールを介して接続されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記18) 付記16又は17記載の電子部品パッケージであって、
前記基板内部接地導体の、前記第1接地導体が設けられている箇所よりも外側に延出している前記部分は、前記第2接地導体のみとビアホールを介して接続されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
(付記19) 付記1乃至18いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
前記誘電体基板は、セラミックから成ることを特徴とする電子部品パッケージ。
従来の電子部品を備えたパッケージを示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る、電子部品を備えたパッケージの概略構造を示す図である。 プリント配線基板及び当該プリント配線基板上に搭載された図1に示すパッケージ基板の一部を示す平面図である。 図3において点線Bで囲った部分の詳細図である。 図4に示すパッケージ基板の底面図である。 図5に示すパッケージ基板の変形例の底面図である。 図4の線C−Cにおける断面図である。 図4の線D−Dにおける断面図である。 図4の線E−Eにおける断面図である。 図4において矢印Fで示す方向から見たときの斜視図である。 本発明の実施の形態にかかるパッケージの伝送特性及び反射特性を示したグラフである。 本発明の実施の形態にかかるパッケージの周波数特性と金属リードの厚さとの関係を示すグラフである。 LSIの厚さとパッケージ基板の厚さとの関係を説明するための第1の図である。 LSIの厚さとパッケージ基板の厚さとの関係を説明するための第2の図である。 LSIの厚さとパッケージ基板の厚さとの関係を説明するための第3の図である。 蓋部に電磁波吸収体を設けた第1の例を示す図である。 蓋部に電磁波吸収体を設けた第2の例を示す図である。 本発明の第2の実施の形態に係る、3層構造を有するパッケージ基板の一部を示す平面図である。 図18の線G−Gにおける断面図である。 パッケージ基板の3層構造を立体的に示す図である。 図18の線H−Hにおける断面図である。 本発明の第3の実施の形態に係るパッケージの概略構造を示す図である。 図22において点線Jで囲った部分の詳細図である。 図23に示す例の変形例を示す図である。 本発明の第4の実施の形態に係る、第3信号線路用接地導体を有するパッケージ基板の一部を示す平面図である。 図25の線K−Kにおける断面図である。 図25において矢印Lで示す方向から見たときの斜視図である。 図25の線M−Mにおける断面図である。 図25乃至図28に示す構造を有するパッケージ基板の伝送特性示すグラフである。 図25に示すパッケージ基板の変形例にかかるパッケージ基板の一部を示す平面図である。 図30に示す構造を有するパッケージ基板の伝送特性を示すグラフである。
符号の説明
1、11、51、71、91、101、111 パッケージ基板
2、12 LSI
3、13、113 第1接地導体
4、14、90 蓋部
5、15 第1信号線路
6 電極
7、8、17、18、26、75、76、77、78、79、80、85、96、97、102 ビアホール
9 中間信号線路
16 第2接地導体
19、74 第2信号線路
20 金属リード
21、72 第3信号線路
22、61 金属板
25 ボンディングワイヤ
30 プリント配線基板
31 金属パターン
32 電子部品
52 LSI上の信号線路
60 孔形成部
62 金属板の凹部
65 電磁波吸収体
73 第4信号線路
81 第4接地導体
82 第3接地導体
92 壁部
95 第5接地導体
100 第3信号線路用接地導体

Claims (10)

  1. 電子部品が封止されて上面に設けられた誘電体基板を備えた電子部品パッケージであって、
    前記誘電体基板の前記上面には、前記電子部品に接続される第1信号線路と、第1接地導体とが形成され、
    前記誘電体基板の下面には、外部接続用電極に接続される第2信号線路と、第2接地導体とが形成され、
    前記第1接地導体と第2接地導体とは接地導体用ビアホールを介して接続され、
    前記第1信号線路及び前記第2信号線路に接続された基板内部信号線路が、上下を前記第1接地導体及び前記第2接地導体に、左右を前記接地導体用ビアホールに囲まれて、前記誘電体基板の内部に設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  2. 請求項1記載の電子部品パッケージであって、
    前記基板内部信号線路は、ビアホールによって、前記第1信号線路及び前記第2信号線路と接続されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  3. 請求項1又は2記載の電子部品パッケージであって、
    前記外部接続用電極は、金属リードであり、
    前記金属リードの厚さは、0.05mm以上及び0.3mm以下であることを特徴とする電子部品パッケージ。
  4. 請求項1乃至3いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
    前記第2信号線路に接続された前記外部接続用電極の両側に、前記第2接地導体から延出された接地導体電極が形成されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  5. 請求項1乃至4いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
    前記第2信号線路の下に金属板が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  6. 請求項1乃至5いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
    前記誘電体基板は多層基板であって、各層の下面に層信号線路が形成されており、
    前記層信号線路は互いにビアホールで接続されて、前記基板内部信号線路が構成されることを特徴とする電子部品パッケージ。
  7. 請求項6記載の電子部品パッケージであって、
    前記層信号線路の近傍に、層接地導体が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  8. 請求項1乃至7記載の電子部品パッケージであって、
    前記誘電体基板の端部近傍に、誘電材料から成る壁部が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  9. 請求項1乃至8いずれか一項記載の電子部品パッケージであって、
    前記基板内部信号線路の両側に、基板内部接地導体が設けられていることを特徴とする電子部品パッケージ。
  10. 請求項9記載の電子部品パッケージであって、
    前記基板内部接地導体は、前記第1接地導体が設けられている箇所よりも外側に延出している部分を有し、当該部分は、前記第2接地導体のみとビアホールを介して接続されていることを特徴とする電子部品パッケージ。
JP2006113454A 2006-04-17 2006-04-17 電子部品パッケージ Expired - Fee Related JP4653005B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006113454A JP4653005B2 (ja) 2006-04-17 2006-04-17 電子部品パッケージ
US11/456,870 US7436056B2 (en) 2006-04-17 2006-07-12 Electronic component package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006113454A JP4653005B2 (ja) 2006-04-17 2006-04-17 電子部品パッケージ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007287916A true JP2007287916A (ja) 2007-11-01
JP4653005B2 JP4653005B2 (ja) 2011-03-16

Family

ID=38604074

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006113454A Expired - Fee Related JP4653005B2 (ja) 2006-04-17 2006-04-17 電子部品パッケージ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7436056B2 (ja)
JP (1) JP4653005B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009246317A (ja) * 2008-04-01 2009-10-22 Nec Electronics Corp 半導体装置および配線基板
JP2011243628A (ja) * 2010-05-14 2011-12-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高周波パッケージ
JP2012060533A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Fujitsu Ltd 高周波回路用パッケージ及び高周波回路装置
WO2012165434A1 (ja) * 2011-05-31 2012-12-06 京セラ株式会社 素子収納用パッケージ、半導体装置用部品および半導体装置
WO2013179875A1 (ja) * 2012-05-28 2013-12-05 株式会社村田製作所 複合モジュール
US20160133513A1 (en) * 2014-11-10 2016-05-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Metal oxysilicate diffusion barriers for damascene metallization with low rc delays and methods for forming the same
JP2016178221A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 三菱電機株式会社 マイクロ波デバイス
JP2019195097A (ja) * 2016-08-10 2019-11-07 京セラ株式会社 電気素子搭載用パッケージ、アレイ型パッケージおよび電気装置
JPWO2021230224A1 (ja) * 2020-05-15 2021-11-18
WO2022145313A1 (ja) * 2020-12-28 2022-07-07 京セラ株式会社 半導体パッケージ及び半導体電子装置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008078205A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Fujitsu Ltd 基板組立体及びその製造方法、電子部品組立体及びその製造方法、電子装置
JP2008262989A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Toshiba Corp 高周波回路基板
JP5697669B2 (ja) * 2010-07-30 2015-04-08 京セラ株式会社 電子部品収納用部品、電子モジュールおよび電子装置
TWI437293B (zh) * 2010-08-13 2014-05-11 Nat Univ Tsing Hua 具有接地共平面波導之光通信系統
CN104836619B (zh) 2015-03-30 2017-08-29 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 一种光器件
CN104767103B (zh) * 2015-03-30 2017-12-19 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 一种激光器用连接结构及激光器组件
US9686866B2 (en) * 2015-08-23 2017-06-20 Unimicron Technology Corp. Package structure and manufacturing method thereof
JP6635605B2 (ja) * 2017-10-11 2020-01-29 国立研究開発法人理化学研究所 電流導入端子並びにそれを備えた圧力保持装置及びx線撮像装置
JP7245947B1 (ja) * 2022-08-15 2023-03-24 Fcnt株式会社 印刷配線基板及び無線通信端末

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04336702A (ja) * 1991-05-14 1992-11-24 Mitsubishi Electric Corp パッケージ
JPH10303333A (ja) * 1997-04-22 1998-11-13 Kyocera Corp 高周波用パッケージ
JP2001127182A (ja) * 1999-10-22 2001-05-11 Kyocera Corp 高周波回路用パッケージ
JP2005311337A (ja) * 2004-03-26 2005-11-04 Mitsubishi Electric Corp 高周波パッケージ、送受信モジュールおよび無線装置
JP2007242933A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Anritsu Corp セラミックパッケージ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4739448A (en) * 1984-06-25 1988-04-19 Magnavox Government And Industrial Electronics Company Microwave multiport multilayered integrated circuit chip carrier
US5168344A (en) * 1990-08-15 1992-12-01 W. R. Grace & Co. Conn. Ceramic electronic package design
US6410847B1 (en) * 2000-07-25 2002-06-25 Trw Inc. Packaged electronic system having selectively plated microwave absorbing cover
JP2006147676A (ja) * 2004-11-17 2006-06-08 Nec Corp 半導体集積回路パッケージ用配線基板とその配線基板を用いた半導体集積回路装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04336702A (ja) * 1991-05-14 1992-11-24 Mitsubishi Electric Corp パッケージ
JPH10303333A (ja) * 1997-04-22 1998-11-13 Kyocera Corp 高周波用パッケージ
JP2001127182A (ja) * 1999-10-22 2001-05-11 Kyocera Corp 高周波回路用パッケージ
JP2005311337A (ja) * 2004-03-26 2005-11-04 Mitsubishi Electric Corp 高周波パッケージ、送受信モジュールおよび無線装置
JP2007242933A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Anritsu Corp セラミックパッケージ

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8363421B2 (en) 2008-04-01 2013-01-29 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device having wiring formed on wiring board and electric conductor formed in wiring board and conductor chip formed over wiring
JP2009246317A (ja) * 2008-04-01 2009-10-22 Nec Electronics Corp 半導体装置および配線基板
JP2011243628A (ja) * 2010-05-14 2011-12-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高周波パッケージ
JP2012060533A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Fujitsu Ltd 高周波回路用パッケージ及び高周波回路装置
US9491873B2 (en) 2011-05-31 2016-11-08 Kyocera Corporation Element housing package, component for semiconductor device, and semiconductor device
WO2012165434A1 (ja) * 2011-05-31 2012-12-06 京セラ株式会社 素子収納用パッケージ、半導体装置用部品および半導体装置
JP5518260B2 (ja) * 2011-05-31 2014-06-11 京セラ株式会社 素子収納用パッケージ、半導体装置用部品および半導体装置
WO2013179875A1 (ja) * 2012-05-28 2013-12-05 株式会社村田製作所 複合モジュール
JPWO2013179875A1 (ja) * 2012-05-28 2016-01-18 株式会社村田製作所 複合モジュール
US9686858B2 (en) 2012-05-28 2017-06-20 Murata Manufacturing Co., Ltd. Composite module
US20160133513A1 (en) * 2014-11-10 2016-05-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Metal oxysilicate diffusion barriers for damascene metallization with low rc delays and methods for forming the same
US9728502B2 (en) * 2014-11-10 2017-08-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Metal oxysilicate diffusion barriers for damascene metallization with low RC delays and methods for forming the same
JP2016178221A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 三菱電機株式会社 マイクロ波デバイス
JP2019195096A (ja) * 2016-08-10 2019-11-07 京セラ株式会社 電気素子搭載用パッケージ、アレイ型パッケージおよび電気装置
JP2019195097A (ja) * 2016-08-10 2019-11-07 京セラ株式会社 電気素子搭載用パッケージ、アレイ型パッケージおよび電気装置
US11784459B2 (en) 2016-08-10 2023-10-10 Kyocera Corporation Electrical element mounting package, array package, and electrical device
JPWO2021230224A1 (ja) * 2020-05-15 2021-11-18
WO2021230224A1 (ja) * 2020-05-15 2021-11-18 株式会社村田製作所 伝送線路
JP7197057B2 (ja) 2020-05-15 2022-12-27 株式会社村田製作所 伝送線路
WO2022145313A1 (ja) * 2020-12-28 2022-07-07 京セラ株式会社 半導体パッケージ及び半導体電子装置
JP7431351B2 (ja) 2020-12-28 2024-02-14 京セラ株式会社 半導体パッケージ及び半導体電子装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7436056B2 (en) 2008-10-14
US20070241447A1 (en) 2007-10-18
JP4653005B2 (ja) 2011-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4653005B2 (ja) 電子部品パッケージ
JP6837432B2 (ja) 高周波モジュール
JP4188373B2 (ja) 多層誘電体基板および半導体パッケージ
WO2018164158A1 (ja) 高周波モジュール
US8354975B2 (en) Electromagnetic band gap element, and antenna and filter using the same
JP6950757B2 (ja) 高周波モジュール
JP5132760B2 (ja) 多層誘電体基板および半導体パッケージ
WO2018101381A1 (ja) 高周波モジュール
JP6151794B2 (ja) 回路基板、電子部品収納用パッケージおよび電子装置
JP6973667B2 (ja) 回路基板及び電子機器
JP2015056719A (ja) 多層配線基板
US8324508B2 (en) Composite circuit board
JP2013138147A (ja) 電子装置
JP3935082B2 (ja) 高周波用パッケージ
JP2002299502A (ja) 高周波半導体素子収納用パッケージ
JP7455730B2 (ja) 配線基板
JP6282944B2 (ja) 配線基板およびこれを用いた高周波装置
JP2006114623A (ja) 基板モジュール及び印刷配線板並びにこれを用いた電子装置
JP2004259960A (ja) 配線基板
JP4663351B2 (ja) 電子装置
JP2001189405A (ja) 高周波用入出力端子ならびに高周波用半導体素子収納用パッケージ
JP2006073935A (ja) 半導体パッケージ
JP2004186606A (ja) 高周波用パッケージの実装構造
JP2006262137A (ja) 高周波線路−導波管変換器および電子装置
JP2006238055A (ja) 高周波線路−導波管変換器

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081022

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090210

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100818

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20100901

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101130

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101216

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4653005

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees