JP7431351B2 - 半導体パッケージ及び半導体電子装置 - Google Patents
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Description
本開示は、半導体パッケージ及び半導体電子装置に関する。
半導体パッケージでは、信号端子とパッケージの内部空間に位置する電子部品との間で送受信される信号が当該パッケージの信号線路及び貫通導体(ビアホール導体)などの信号経路を介して伝えられる。特開2020-53533号公報では、差動信号を伝える1対の信号線路に係る電極導体間の絶縁基板に切り欠きを有し、当該切り欠きの底面も接地面とする構造により、信号線路間において1-60GHz帯の高周波信号の干渉によるクロストークを低減させる技術が開示されている。
本開示の一の態様は、
第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有する絶縁基板と、
前記第1面の1辺に沿って並ぶ1対の第1電極と、
前記1対の第1電極にそれぞれ電気的に接続して信号を伝える1対の差動線路と、
接地用導体と、
を備え、
前記絶縁基板は、前記第1面に位置し前記1対の第1電極の間を伸びる第1溝を有し、
前記1対の差動線路の各々は、
前記絶縁基板の内部に位置し前記第1面に沿って伸びる第1信号線路と、
前記第2面に位置する第2信号線路と、
前記絶縁基板の内部で前記第1電極と前記第1信号線路とを電気的に接続する第1接続導体と、
前記絶縁基板の内部で前記第1信号線路と前記第2信号線路との間に位置する第2接続導体と、
を含み、
前記接地用導体は、
前記第1面に位置する第1接地面と、
前記第1溝の底面に位置する第1溝内接地面と、
前記第1面との間に前記第1信号線路を挟んで前記絶縁基板の内部に位置する第2接地面と、
前記絶縁基板の内部で前記第2接続導体に沿って位置する接地用接続導体と、
を含み、
前記接地用接続導体の一部は、前記第2接続導体の周囲に位置して、前記第2接続導体とともに同軸構造をなし、
前記第1信号線路は、前記第1接地面及び前記第2接地面と対向する範囲でストリップライン構造をなし、
前記第1面の平面透視で、前記第2接続導体の前記第2信号線路との接点とは反対側の端部を含む前記第1面の位置は、前記第1接地面のない隙間領域である、
半導体パッケージである。
第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有する絶縁基板と、
前記第1面の1辺に沿って並ぶ1対の第1電極と、
前記1対の第1電極にそれぞれ電気的に接続して信号を伝える1対の差動線路と、
接地用導体と、
を備え、
前記絶縁基板は、前記第1面に位置し前記1対の第1電極の間を伸びる第1溝を有し、
前記1対の差動線路の各々は、
前記絶縁基板の内部に位置し前記第1面に沿って伸びる第1信号線路と、
前記第2面に位置する第2信号線路と、
前記絶縁基板の内部で前記第1電極と前記第1信号線路とを電気的に接続する第1接続導体と、
前記絶縁基板の内部で前記第1信号線路と前記第2信号線路との間に位置する第2接続導体と、
を含み、
前記接地用導体は、
前記第1面に位置する第1接地面と、
前記第1溝の底面に位置する第1溝内接地面と、
前記第1面との間に前記第1信号線路を挟んで前記絶縁基板の内部に位置する第2接地面と、
前記絶縁基板の内部で前記第2接続導体に沿って位置する接地用接続導体と、
を含み、
前記接地用接続導体の一部は、前記第2接続導体の周囲に位置して、前記第2接続導体とともに同軸構造をなし、
前記第1信号線路は、前記第1接地面及び前記第2接地面と対向する範囲でストリップライン構造をなし、
前記第1面の平面透視で、前記第2接続導体の前記第2信号線路との接点とは反対側の端部を含む前記第1面の位置は、前記第1接地面のない隙間領域である、
半導体パッケージである。
以下、実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本実施形態の半導体電子装置1を上蓋を外した状態で見た全体斜視図である。
半導体電子装置1は、半導体パッケージ6と、電子部品7と、蓋体8などを備える。
図1は、本実施形態の半導体電子装置1を上蓋を外した状態で見た全体斜視図である。
半導体電子装置1は、半導体パッケージ6と、電子部品7と、蓋体8などを備える。
半導体パッケージ6は、配線基板10と、枠体20などを備える。また、半導体パッケージ6は、基板などへの固定に利用される固定具3を有していてもよい。
配線基板10と枠体20とは、上下(z方向)に重なって接合している。配線基板10は、z方向から見た平面視で略矩形状(角が丸められていたり落とされていたりしてもよい)であるが、これに限られない。配線基板10の下面(第1面10a)は平面である。配線基板10の上面は、中央に一段低い平面部分(第3面10d)と、第3面10dの周囲に位置し、当該第3面10dよりも高い平面部分(第2面10c)とを含む。
枠体20は、平面視で配線基板10の外縁を取り囲む環状の形状を有する。枠体20は、第2面10cに接合している。第2面10cは、枠体20の幅より広い部分を有しており、階段状となっている。枠体20の上面は、ここでは、均一な高さである。半導体パッケージ6は、配線基板10の第3面10dを底面とし、周囲の第2面10cに係る突出部分及び枠体20により側面4方向が囲まれて、上方向に開放された凹部201を有する形状となっている。
配線基板10又は枠体20は、半導体パッケージ6の側面をなす一の面に開口101を有していてもよい。例えば、電子部品7がフォトダイオード又はレーザーダイオードなどの光学部品を含む場合に、この開口101を光が通過することができる。開口101は、半導体パッケージ6の内外がガラス又は透明樹脂などの光透過部材で仕切られていてもよい。
蓋体8は、枠体20の上面と接合しており、凹部201の上面を覆う。枠体20及び蓋体8は、いずれも導体であって、例えば、鉄、銅、ニッケル、クロム、コバルト、モリブデン若しくはタングステンを含む金属又はこれらの合金である。枠体20及び蓋体8の材質は、同一であっても同一でなくてもよい。
配線基板10は、絶縁基板11(図4参照)と、接地用導体と、信号線路などを有する。信号線路は、絶縁基板11の表面及び内部を通り、第2面10cに位置する端子と、第1面10aの1辺である辺10bの外側へ突出して位置するリード12a(リード端子)との間を電気的に接続している。また、接地用導体は、リード13aに電気的につながっている。
電子部品7は、第3面10dに位置し、凹部201の内部に収まっている。電子部品7の端子と、上記第2面10cの端子とがボンディングワイヤなどにより接続されて(不図示)、信号の送受信が行われる。
図2は、半導体パッケージ6(配線基板10)の第1面10aを示す底面図である。
配線基板10の下面の-x方向の端部である辺10b(第1面10aの1辺)に沿って複数の信号電極12(第1電極)及び接地電極13(第2電極)などが若干の間隔を空けて並んで位置している。信号電極12は、リード12a(導体接続部)を有し、接地電極13はリード13aを有する(ここでは、リード12a、13aを一つずつのみ図示)。第1面10aの残りの部分は、特には限られないが、信号電極12の周囲及び隙間領域11f以外の大部分が接地面11g(第1接地面)となっている。
配線基板10の下面の-x方向の端部である辺10b(第1面10aの1辺)に沿って複数の信号電極12(第1電極)及び接地電極13(第2電極)などが若干の間隔を空けて並んで位置している。信号電極12は、リード12a(導体接続部)を有し、接地電極13はリード13aを有する(ここでは、リード12a、13aを一つずつのみ図示)。第1面10aの残りの部分は、特には限られないが、信号電極12の周囲及び隙間領域11f以外の大部分が接地面11g(第1接地面)となっている。
図3A及び図3Bは、第1面10aの一部を拡大して詳細に示す図である。図3Aは斜視図であり、図3Bは底面図である。なお、説明上、図3Aではリード12a、13aを省略している。
信号電極12は、y方向に並んだ2つ(1対)の信号電極121、122を含み、これらが1対で差動信号を送信する。接地電極13は、1対の信号電極121、122のy方向について両側に位置する。接地電極13の周囲には、表面にコーティング膜11sが位置している。コーティング膜11sは、例えば、アルミナ薄膜である。接地電極13と周囲の接地面11gとは、コーティング膜11sの下でつながっている。
信号電極12は、y方向に並んだ2つ(1対)の信号電極121、122を含み、これらが1対で差動信号を送信する。接地電極13は、1対の信号電極121、122のy方向について両側に位置する。接地電極13の周囲には、表面にコーティング膜11sが位置している。コーティング膜11sは、例えば、アルミナ薄膜である。接地電極13と周囲の接地面11gとは、コーティング膜11sの下でつながっている。
信号電極12及び接地電極13は、例えば、それぞれ一端が辺10bに接している。また、これら信号電極12及び接地電極13は、それぞれ辺10bに対して垂直な方向(x方向)に伸びている。リード12aは、信号電極12の第1面10a上の露出面の延在方向に沿って(x方向に)伸びて、当該露出面に接合している。リード13aは、接地電極13の第1面10a上の露出面の延在方向に沿って(x方向に)伸びて、この露出面に接合している。リード12a、13aの露出面に接合されていない残り部分は、折れ曲がって平面視で配線基板10の範囲の外側に引き出されている。信号電極12は、例えば、y方向についての幅が0.5-2mm、x方向についての長さが1-20mmである。接地電極13の大きさは、信号電極12の大きさと異なっていても(ここでは若干大きくても)よいし、同一であってもよい。
差動信号を伝える1対の信号線路である差動線路14は、詳しくは後述するが、それぞれ第1ビアホール導体141及び第2ビアホール導体143を含む。第1ビアホール導体141は、平面視でリード12aと少なくとも一部、ここでは半分程度が重なる位置で、第1面10aから直接絶縁基板11の内部(+z方向)に伸びている。差動線路14は、後述のように配線基板10の内部で折れ曲がり、枠体20と重ならないように位置する第2ビアホール導体143につながる。隙間領域11fは、z方向から絶縁基板11の内部を透視して見た平面透視で1対の差動線路14の第2ビアホール導体143と重なる(両方含む)範囲に位置し、例えば、長円状(2つの半円とこれらの半円の間を結ぶ長方形とを組み合わせた形状。角丸長方形ともいう)である。すなわち、1対の第2ビアホール導体143は、平面視で単一の隙間領域11fに対して互いに共通に重なっている。
図3Aでは、差動線路14が3対示されており、隣り合う差動線路14で接地電極13が共用されてよい。差動線路14の対の数は、伝送が必要な信号の数に応じて適宜定められてよい。なお、この図3Aでは、いずれか1対の構成についてのみ符号を付しているが、符号が省略されている他の対についても同一の構成である。
1対の信号電極121、122の間には、配線基板10(絶縁基板11)の第1面10aに第1溝111が位置している。第1溝111は、信号電極12に沿って、例えば、辺10bからこの辺10bに対して垂直(x方向)に、一定の深さ(第1面10aからの距離。例えば、0.5-5mmなど)で伸びている。
また、各信号電極12と各信号電極12に隣り合う接地電極13との間には、第2溝112が位置している。第2溝112は、信号電極12に沿って、例えば、辺10bからこの辺10bに対して垂直(x方向)に伸びている。第2溝112の深さは、第1溝111の深さと同一(例えば、0.5-5mm)であってもよいし、異なっていても(例えば、より浅くても)よい。第2溝112が第1溝111よりも浅いことで、信号電極12から伸びる差動線路14の配線基板10(絶縁基板11)内での配置が相対的に容易になる。
第1溝111と第2溝112の形状は、ここでは例えば、平面視(底面視)で幅(y方向の長さ)が0.2-2mm、長さ(x方向の長さ)が信号電極12の長さ(1-20mm)よりも若干短い略長矩形状であり、辺10bから最も遠い位置(先端)付近で丸められて(第2溝112については、例えば、曲率半径が0.1-1mm程度である。第1溝111の先端の形状については後述)、細くなっている。また、第1溝111は、第2溝112よりも長くてもよい。深さ方向についての形状は、x方向から見た側面視で矩形状であり、底面は平面である。第1溝111と第2溝112の形状は、これらとは異なっていてもよい。例えば、第1溝111及び/又は第2溝112は、側面視でテーパー形状、逆テーパー形状、又は複数段の階段状であってもよい。
図3Bに示すように、第1溝111は、基部111aと突起部111bとに分けられる。基部111aは、長矩形状の先端(辺10bから離れた端)に、第2溝112と同様の曲率半径0.1-1mm程度の半円状の丸まった部分を有する。突起部111bは、第1溝111の上記半円状の先端(基部111aの辺10bの側とは反対側の他端)につながって位置する。例えば、基部111aの半円状の先端の中心位置と、突起部111bの半円状部分の中心位置とは、y方向について等しい位置である。突起部111bは、基部111a(例えば、幅0.2mm)よりも辺10bに沿ったY方向についての幅が狭い。また、突起部111bは、先端(x成分が大きい)ほど幅が狭い形状である。突起部111bの形状は、例えば、半径0.05mmの半円柱状(平面視で半円状)であり、これにより矩形状よりも応力の分散を図ることができるが、これに限られない。
このように、配線基板10は、第1溝111の長さを可能な範囲で得つつ、第1溝111から第1ビアホール導体141の位置までの距離を大きく取ることのできる構造を有する。第1ビアホール導体141と第1溝111及び第2溝112とが近すぎると、これらの形成時にひび割れ(クラック)などが生じやすくなるので、これら第1溝111及び第2溝112は、第1ビアホール導体141から所定距離以上離れている(クリアランスを得る)必要がある。一方で、第1溝111及び第2溝112が短くなると、差動線路14の特性インピーダンスを低下させるといった問題が生じやすくなる。
第1溝111と第2溝112の底面(第1面10aに対して+zの側に位置する第1面10aと平行な平面)には、それぞれ接地用導体111g(第1溝内接地面)及び接地用導体112g(第2溝内接地面)が位置している。信号電極121に対し、接地面11gだけではなく、より広い接地面を有することにより、信号電極12間のクロストークを低減させて高周波数特性を向上させることができる。
突起部111bは、基部111aの深さと同一の深さ(例えば、0.5-5mm)であってもよいし、基部111aよりも浅くてもよい。第1溝111内の接地用導体111gは、突起部111bの底面まで広がっていてよい。これらの深さは、第1ビアホール導体141の長さ、すなわち、第1信号線路142の接地面11gからの距離を考慮して定められてもよい。また、絶縁基板11の材質(誘電率)が場所によって異なる場合などには、基部111aと突起部111bとの間で深さを異ならせて特性インピーダンスの調整などを行ってもよい。
第1溝111(突起部111b)内の接地用導体111gの先端は、平面視で信号電極12の先端よりも辺10bの近くに位置する。ここでは、接地用導体111gは、平面視で第1ビアホール導体141の位置よりも上記の辺10bから離れた位置までは伸びていない。
また、突起部111bの内壁面(側面)にも接地面を有し、スルービアの代わりに接地面11gと接地面15gとの間などを電気的に接続していてもよい。
また、本実施形態のように、第1溝111及び接地用導体111gが2つの信号電極121、122のy方向についての中心線について対称の形状であることで、第1溝111及び接地用導体111gの信号電極121、122に対する影響の差を小さくすることができる。これにより、信号の伝送特性、例えば、伝送速度(伝搬遅延)のばらつき及び信号損失の大きさの差異などを小さくすることができる。
このように、1対の信号電極121、122の間に誘電率が絶縁基板11よりも低い領域を有する構造により、信号電極12間の誘電率を、単に絶縁基板11の平面上に並べるよりも低下させることができる。これにより、信号電極121、122の間隔が狭くても特性インピーダンスの低下が抑えられる。また、第1溝111及び/又は第2溝112の深さ、すなわち、第1面10aからの距離は、第1面10aから絶縁基板11の内部に位置する後述の接地面15g(図4参照)までの距離と同一であってもよい。この場合、接地面15gがそのまま第1溝111、第2溝112の底面の接地用導体111g、112gに延長されていてもよい。なお、第1溝111、第2溝112は、絶縁基板11よりも誘電率の低い他の絶縁部材で満たされていてもよい。
接地面11g及び接地電極13は、それぞれ多数の接地用ビアホール導体(図の黒丸)により配線基板10の内部の他の接地面と電気的に接続している。
図4は、配線基板10の1つの信号電極121及び差動線路14を含むxz面内での断面を示す図である。また、図5Aは、図4の断面線AAを含むスライス断面図であり、図5Bは、図4の断面線BBを含むスライス断面図である。信号電極122を含む断面の構造は、信号電極121を含む断面の構造と基本的に同一であり、説明を省略する。
上記のように信号電極121には、配線基板10内の差動線路14が接続している。差動線路14の各信号線路は、それぞれ、第1ビアホール導体141(第1接続導体)、第1信号線路142、第2ビアホール導体143(第2接続導体)、及び第2信号線路144を含む。第1信号線路142は、絶縁基板11の内部に配線基板10の下面(第1面10a)に沿って第1面10aと平行に伸びている。第2信号線路144は、配線基板10の上面(第2面10c)に位置している。第1ビアホール導体141は、第1面10aに対して垂直に伸びており、信号電極121と第1信号線路142とを電気的に接続している。差動線路14において第1信号線路142と第2信号線路144との間に位置する第2ビアホール導体143は、第1面10aに対して垂直に伸びている。第2ビアホール導体143は、ここでは一方の端部(第2信号線路144との接点とは反対側の第2端部143c)が第1信号線路142の一方の端部(第1ビアホール導体141との接点とは反対側の第1端部142c)と直接接続して、第1信号線路142と第2信号線路144とを電気的に接続している。
絶縁基板11は、その内部に、第1面10aの接地面11gに平行な接地面15g(第2接地面)を有する。接地面11gと接地面15gとの間は、図2、図3A、図3Bなどにおいて黒丸で示されていた複数の接地用ビアホール導体により電気的に接続されている。
信号電極12、接地電極13、接地面11g、15g及び差動線路14などの配線は、例えば、金、銀、銅、ニッケル、タングステン、モリブデン若しくはマンガンなどの金属材料又はこれらの組合せを含む金属層である。また、この金属層の表面に更にニッケルめっき又は金めっきなどの層が重なっていてもよい。このようなめっきの層を有することで、耐腐食性及び耐候性を向上させ、また、金属層に接合されるろう材及びはんだなどの接合材の濡れ性を向上させることができる。
第1ビアホール導体141は、上述のように、平面視で枠体20の位置と重なっている。したがって、第1ビアホール導体141がそのまま絶縁基板11を貫通すると、枠体20と近接して特性インピーダンスの調整が難しくなる。したがって、第1信号線路142を介して、平面視で枠体20の位置と重ならない第2ビアホール導体143に接続されている。
第1信号線路142は、接地面11gと、接地面15gとの間に位置している。これにより、第1信号線路142は、接地面11gと接地面15gとの間に挟まれて(接地面11g、15gと対向して)いる部分でこれらとともにストリップライン構造をなしている。第1信号線路142の接地面11gからの距離及び接地面15gからの距離は、ストリップライン構造に係る特性インピーダンスに応じて定められている。
また、接地面11g、15gと第2面10cの接地面16gとの間には、第2ビアホール導体143に平行に位置している複数の接地用ビアホール導体145(接地用接続導体)がある。この断面内の図では、両側にそれぞれ1本ずつの接地用ビアホール導体145が示されているが、図5Aに示すように、接地用ビアホール導体145の一部は、第2ビアホール導体143の周囲を所定の距離で囲んで位置している。この位置関係にある第2ビアホール導体143と接地用ビアホール導体145とは、同軸構造をなしている。第2ビアホール導体143とその周囲の接地用ビアホール導体145との上記所定の距離は、同軸構造に係る特性インピーダンスに応じて定められている。なお、接地面15g、16gの間など絶縁基板11の内部に他の接地面があり、接地用ビアホール導体145は、これらと電気的につながっていてもよい。
図5Bに示すように、第2面10cにおいて、第2信号線路144は凹部201に面した端部に伸びて、上述のように電子部品7とボンディングワイヤなどで電気的に接続されている。
このように1対の差動線路14は、信号電極12から直接配線基板10(絶縁基板11)の内部につながり、第1面10aに伸びる信号線路を有しない。これにより、この配線基板10では、特に数十GHz以上の高周波数帯の信号でより多く生じる信号線路からの損失を低減させることができる。
また、1対の差動線路14は、配線基板10の内部で、同軸構造とストリップライン構造との間でモード変化が生じる。モード変化に係る折れ曲がり部分での特性インピーダンスの変化を低減させるために、この配線基板10は、第1面10aに垂直な方向(Z方向)からの平面透視で上記折れ曲がり位置、すなわち、第1信号線路142及び第2ビアホール導体143の接点を含む位置には、第1面10aに接地面11gがなく、絶縁基板11が露出された(保護被膜などがなされていてもよい)隙間領域11fとなっている。
隙間領域11fは、図2などでも示したように、1対の差動線路14の1対の第2ビアホール導体143に対して共通である。隙間領域11fの外周は、特に限定するものではないが、同軸構造をなす複数の接地用ビアホール導体の内縁に沿うように定められるとよい。これにより、特性インピーダンスの変動を抑えながら、この隙間領域から高周波信号が放射されて生じる損失を低減させることができる。
また、図3A及び図3Bにも示したように、第1ビアホール導体141は、平面視でリード12aと少なくとも一部が重なるように位置している。これにより、第1面10aに信号線路を配線することなく高周波信号がリード12aと直下の絶縁基板11の内層とを結んで通ることになるので、第1面10aからの高周波信号の放射を抑制することができる。
リード12a(リード13a)は、外部の基板2、例えば、PCB(プリント回路板)に接続されている。固定具3は、基板2上に半導体パッケージ6を固定支持している。
配線基板10の製造において、絶縁基板11は、例えば、材料物質の粉末(例えば、酸化アルミニウム及び酸化ケイ素など)に有機バインダ及び溶剤を混合して作製したスラリーをシート状に成形した複数の絶縁シート(セラミックグリーンシート)が積層され、圧着及び焼成(例えば、還元雰囲気中において約1600℃で加熱)されて作製されてもよい。焼成された基板に対して、適宜切断、打ち抜きなどの加工処理が行われる。また、絶縁基板11内部の接地面15g及び第1信号線路142などの作製では、例えば、まず、上記した導体金属、バインダ及び有機溶剤を混合して金属ペーストを作製する。次いで、上記絶縁シートの積層時に上下いずれかとなる絶縁シートに対し、この金属ペーストをスクリーン印刷などにより塗布する。そして、上記のように通常の絶縁シートと積層されて圧着、焼成される。
第1ビアホール導体141、第2ビアホール導体143及び接地用ビアホール導体145などは、例えば、上記積層の途中又は積層後などに貫通孔が形成されて孔内に上記金属ペーストが充填され、焼成されることにより得られてもよい。貫通孔の形成は、例えば、金属ピンによる打ち抜き加工又はレーザー加工などにより行われる。金属ペーストの充填には、例えば、真空吸引などが用いられ又は併用されてもよい。
第1溝111及び第2溝112は、形成された絶縁基板11から該当部分を切り欠くことで形成されてもよい。
絶縁基板11の露出面(表面)に位置する接地面11g、16g、信号電極12、接地電極13及び第2信号線路144などは、絶縁基板11の表面などにメタライズ層として焼成されて得られてもよいし、めっきなどにより形成されてもよい。また、この金属層の表面に更にニッケルめっき又は金めっきなどの層が重なっていてもよい。
図6は、本実施形態の配線基板10による周波数に対する信号の挿入損失(b)を、従来の配線基板による信号の挿入損失(a)と比較して示したシミュレーションの結果を示すグラフである。なお、挿入損失の測定範囲は、リード12aの先端から第2信号線路144の端部までである。挿入損失は、値が大きい、すなわち0[dB]に近いほど小さい。
従来の配線基板では、第2ビアホール導体143が直接第1面10aと第2面10cとの間を貫通しており、第1面10aの表面に第2ビアホール導体143と信号電極12とを電気的に接続する信号線路が位置している。この従来の配線基板と比較して、高周波数帯の信号、特に60~80GHzの信号の挿入損失が小さく抑えられるという結果が得られた。
[変形例]
図7A及び図7Bは、半導体パッケージ6の変形例1について説明する図である。
上述したように、信号電極121、122の周囲には、接地面11gとの間に隙間が必要である。図7Aの底面図では、第1ビアホール導体141の位置から幅wにわたって平面透視で第1信号線路142aが接地面11gと重なっていない。
図7A及び図7Bは、半導体パッケージ6の変形例1について説明する図である。
上述したように、信号電極121、122の周囲には、接地面11gとの間に隙間が必要である。図7Aの底面図では、第1ビアホール導体141の位置から幅wにわたって平面透視で第1信号線路142aが接地面11gと重なっていない。
この範囲での第1信号線路142aの容量不足を補うために、変形例1の半導体パッケージ6では、第1信号線路142aは、第1ビアホール導体141との接続部分と平面透視で接地面11gと重ならない範囲(隙間領域11fとは異なる)との間に幅広部1421を有する。幅広部1421は、平面透視で信号電極121、122と重なる部分も含む上記幅w全体にわたっていてよい。第1信号線路142aの幅を広げることで、この部分での電気容量を追加して、特性インピーダンスを低下させる。幅広部1421の幅は、特性インピーダンスに応じて定められればよい。
このとき、第1信号線路142aは、1対の差動線路14の間隔を狭めないように幅広部1421を有していてよい。すなわち、第1信号線路142aは、平面透視でY方向について第1溝111とは反対側に拡張される。必要以上に第1信号線路142a間の距離を狭くしないことで、1対の第1信号線路142aの間での信号への影響の増大を抑えることができる。
なお、上記実施の形態では、第1ビアホール導体141と第2ビアホール導体143とがY方向について同一の位置にあるものとしたが、リード12aの間隔(ピッチ)の設定に応じて、これらがY方向について異なる位置にあってもよい。この場合、差動線路14(第1信号線路142a)の間の幅の調整がこの幅wの区間で併せてなされてもよい。
図7Bには、幅広部1421に応じたリード12aと第2ビアホール導体143との間の部分的な挿入損失を算出したシミュレーションの結果を示している。
上記実施形態のように幅広部1421を有さない場合(b)と比較して、信号電極121、122と重なる部分には幅広部1421を有さない部分的な拡張の場合(c)でも、挿入損失は60GHz以上の高周波数帯域で小さくなる。さらに、信号電極121、122と重なる部分まで含めた幅wの全体に幅広部1421を有する場合(d)には、より顕著に挿入損失が高周波数帯域で小さくなることが分かる。
図8は、半導体パッケージ6の変形例2における配線基板10の1つの信号電極121及び1本の差動線路14を含むxz面内での断面を示す図である。なお、後述のように、本変形例2では差動線路14がy方向に折れ曲がっている部分を含むので、破線Cの左右で断面の位置(y方向についての位置)が異なる。
ここでは、差動線路14は、第1信号線路142b及び第2ビアホール導体143の間で曲線、例えば双曲線に沿うように複数箇所で折れ曲がって、第3信号線路146と第3ビアホール導体147(第3接続導体)とが交互に並んでいる。すなわち、第1信号線路142bと第2ビアホール導体143の間では、一端同士がつながっている第3ビアホール導体147と第3信号線路146の組が複数組直列でつながっている。
差動線路14を曲線状とすることができれば、反射損失を顕著に低減させることができるが、絶縁基板11内に曲線形状の複数の配線を適切な位置関係で設けるのは難しいので、配線基板10では、近似的に曲線形状となるように信号長に比して短いスケールで細かい折れ曲がりにより反射損失を低減させる。したがって、差動線路14は、各組における第3信号線路146の長さに対する第3ビアホール導体147の長さの比は、第1信号線路142bに対する第1ビアホール導体141の長さの比よりも大きく、かつ第2端部143cに近い組ほどこの比が大きくなる。
接地面15gの位置も、絶縁基板11内で第1信号線路142b及び複数の第3信号線路146の位置にそれぞれ応じて異なるz方向についての位置に分かれており、複数の接地面15gの間は、それぞれ接地用ビアホール導体145で接続されている。
変形例2の隙間領域11fは、各差動線路14に各々応じて独立している。隙間領域11fは、平面透視でそれぞれの差動線路14の少なくとも第2ビアホール導体143を内包し、また、第3ビアホール導体147の一部又は全てを内包していてもよい。
図9は、図8に示した変形例2の配線基板10の底面側から見た差動線路14の位置を説明する図である。
絶縁基板11内で接地面15gに平行に伸びる第1信号線路142bは、第1ビアホール導体141と第2ビアホール導体143との間に折れ曲がり142eを有する。差動線路14の間の距離を近づけることで信号間の結合力を強めることができるが、一方で、第2ビアホール導体143間の最短距離には制限がある。折れ曲がり142eは、平面透視で隙間領域11fの境界付近にあり、隙間領域11fの外側で部分的に差動線路14の間の距離を近づける形状となっている。具体的な距離は、適切な特性インピーダンスが得られるように定められる。信号は、上述のように第2ビアホール導体143に係る同軸線路及び第1信号線路142bに係るストリップライン線路に加え、隙間領域11fにおいて、第3信号線路146などでは、xy方向について周囲に位置する接地面に応じてグランデッドコプレーナ線路となる。同軸線路の差動線路間に係る適切な線路間距離は、他の線路の差動線路間に係る適切な線路間距離よりも広いので、上記の折れ曲がり142eにより前後で適切な距離に調整される。差動信号間の結合力が向上することで、高周波数帯域での信号特性が向上する。
以上のように、本実施形態の半導体パッケージ6は、第1面10aと、第1面10aとは反対側の第2面10cとを有する絶縁基板11と、第1面10aの1辺に沿って並ぶ1対の信号電極12と、1対の信号電極12にそれぞれ電気的に接続して信号を伝える1対の差動線路14と、接地用導体と、を備える。絶縁基板11は、第1面10aに位置し1対の信号電極12の間を伸びる第1溝111を有し、1対の差動線路14の各々は、絶縁基板11の内部に位置し第1面10aに沿って伸びる第1信号線路142と、第2面10cに位置する第2信号線路144と、絶縁基板11の内部で信号電極12と第1信号線路142とを電気的に接続する第1ビアホール導体141と、絶縁基板11の内部で第1信号線路142と第2信号線路144との間に位置する第2ビアホール導体143と、を含む。接地用導体は、第1面10aに位置する接地面11gと、第1溝111の底面に位置する接地用導体111gと、第1面10aとの間に第1信号線路142を挟んで絶縁基板11の内部に位置する接地面15gと、絶縁基板11の内部で第2ビアホール導体に沿って位置する接地用ビアホール導体145と、を含む。接地用ビアホール導体145の一部は、第2ビアホール導体143の周囲に位置して、第2ビアホール導体とともに同軸構造をなし、第1信号線路142は、接地面11g及び接地面15gと対向する範囲でこれらとともにストリップライン構造をなす。第1面10aの平面透視で、第2ビアホール導体143の第2端部143cの位置は、接地面11gのない隙間領域11fである。
このように、差動線路14が信号電極121から直接絶縁基板11に進むことで、第1面10aの表面から放射される高周波信号を抑制することで、信号の損失が低減される。また、このために、差動線路14は、絶縁基板11内部では、ストリップライン構造と同軸構造との間でモード変化を生じるが、この切り替わりの部分に対応して第1面10aの接地面11gに隙間領域11fを有する構造とすることで、特性インピーダンスへの悪影響を抑えることができる。したがって、従来よりも高周波数帯の信号であっても、適切な特性インピーダンスを維持しつつ信号の損失をより効果的に低減させることができる。よって、この半導体パッケージ6では、より周波数の高い信号を伝えることができる。
このように、差動線路14が信号電極121から直接絶縁基板11に進むことで、第1面10aの表面から放射される高周波信号を抑制することで、信号の損失が低減される。また、このために、差動線路14は、絶縁基板11内部では、ストリップライン構造と同軸構造との間でモード変化を生じるが、この切り替わりの部分に対応して第1面10aの接地面11gに隙間領域11fを有する構造とすることで、特性インピーダンスへの悪影響を抑えることができる。したがって、従来よりも高周波数帯の信号であっても、適切な特性インピーダンスを維持しつつ信号の損失をより効果的に低減させることができる。よって、この半導体パッケージ6では、より周波数の高い信号を伝えることができる。
また、第1面10aの平面視で、接地用導体111gの辺10bから最も遠い位置は、信号電極12の辺10bから最も遠い位置よりも辺10bの近くに位置する。これにより、接地用導体111gが信号伝送に対する影響を与えない範囲で定めることができる。
また、第1溝111は、基部111aと、基部111aの辺10bの側とは反対の先端につながって位置し基部111aよりも第1溝111の伸びるx方向に垂直なy方向についての幅の狭い突起部111bと、を有する。これにより、第1溝111と第1ビアホール導体141との間の所定の距離を確保しながら第1溝111の表面積(体積)を広げることができるので、第1溝111及び第1ビアホール導体141の形成時におけるクラックなどの欠陥の発生を抑え、一方で、第1溝111に応じた誘電率の低下により信号電極121、122の間の距離を狭めて、半導体パッケージ6の小型化を図ることができる。
また、第1信号線路142の第1ビアホール導体141との接点とは反対側の第1端部142cと、第2ビアホール導体143の第2信号線路144との接点とは反対側の第2端部143cとは、直接つながっていてもよい。このような構造であれば、手間が大きく増大せずに容易に形成されて、信号の損失を低減させることができる。
また、変形例1のように、第1信号線路142aは、第1面10aの平面透視で隙間領域11fとは異なる接地面11gと重ならない幅wの範囲に、当該第1信号線路142aの延在方向(X方向)に垂直なY方向についての線幅が部分的に広い幅広部1421を有していてもよい。信号電極12と接地面11gの間には隙間が必要なので、第1ビアホール導体141と第1信号線路142aの接続側では、第1信号線路142aに対応する接地面が不足する。これに対し、半導体パッケージ6では、この部分で第1信号線路142aの線幅を部分的に幅広とすることで、部分的に信号線路の容量を増加させ、特性インピーダンスを適切に定めて、従来よりも損失の少ない信号を安定して伝えることが可能になる。
また、幅広部1421は、第1信号線路142aが第1ビアホール導体141と接続する位置と、第1面の平面透視で第1信号線路142aが接地面11gと重なる範囲の境界との間の全体にわたって伸びていてもよい。
また、幅広部1421は、第1面10aの平面透視で第1溝111とは反対側に幅が広がっていてもよい。すなわち、隣り合って位置する2本の第1信号線路142aの間の距離を縮めないので、第1信号線路142aの間で互いに影響を及ぼして信号を劣化させるのを抑えることができる。
また、変形例2のように、第1信号線路142bの第1端部142cは、第2ビアホール導体143の第2端部143cよりも、第1面10aに近くかつ第1面10aの平面透視で第1ビアホール導体141に近い位置にあり、第1端部142cと第2端部143cとの間は、第1ビアホール導体141に平行な第3ビアホール導体147と、第1信号線路142に平行な第3信号線路146とを介して接続されている。
このように差動線路14を一度で曲げるのではなく、細かく階段状に方向を変化させていくことで、信号の急な方向変化による損失を低減させることができる。
このように差動線路14を一度で曲げるのではなく、細かく階段状に方向を変化させていくことで、信号の急な方向変化による損失を低減させることができる。
また、特に、第1端部142cと第2端部143cとの間では、一端同士がつながっている第3ビアホール導体147と第3信号線路146の組が複数組直列につながっており、第3信号線路146の長さに対する第3ビアホール導体147の長さの比は、第1信号線路142bの長さに対する第1ビアホール導体141の長さの比よりも大きく、かつ第2端部143cに近い組ほど大きい。
このように、第1信号線路142bから第2ビアホール導体143へ向けて徐々に上下方向(z方向)に向くように差動線路の平均的な傾きを変化させることで、信号の損失をより低減することができる。
このように、第1信号線路142bから第2ビアホール導体143へ向けて徐々に上下方向(z方向)に向くように差動線路の平均的な傾きを変化させることで、信号の損失をより低減することができる。
また、差動線路14における第1信号線路142bの間隔は、第2ビアホール導体143の間隔よりも広い。すなわち、ストリップライン線路構造と同軸線路構造とに応じて各々差動線路14の間隔を適切に定めるように差動線路14の途中で変更されてよい。また、ビアホールの構造上間隔を狭くできない場合でも、ストリップライン線路の部分で部分的に差動線路14の間隔を狭めることで信号間の結合力を高めて、高周波領域の特性を向上させることができる。
また、平面透視で第3ビアホール導体147の位置は、隙間領域11fに含まれていてもよい。この場合、第3信号線路146はグランデッドコプレーナ線路のような構造になり、第1信号線路142bと第2ビアホール導体143との間で特性を適切に調整しやすくすることができる。
また、1対の差動線路14の各々に係る隙間領域11fは、互いにつながった単一の領域である。これにより、差動信号の特性インピーダンスの変動を低減させて、より良好な高周波数の信号の伝送を可能とすることができる。
あるいは、隙間領域11fは、差動線路14の第2ビアホール導体143ごとに各々離隔していてもよい。この場合でも各々適切に経路を設計することで、従来よりも良好な高周波数の信号の伝送を行うことができる。
また、隙間領域11fの外縁は、第1面10aの平面透視で、1対の第2ビアホール導体143についてそれぞれ同軸構造をなす接地用ビアホール導体145の内縁と各々半円状に重なっている。これにより、同軸構造での信号伝送に係る特性インピーダンスが変動する影響を抑えつつ、隙間領域11fからの高周波信号の放射を小さくして、従来よりも良好な高周波数の信号を伝えることを可能とすることができる。
また、半導体パッケージ6は、辺10bに沿ったy方向について1対の信号電極12のそれぞれ第1溝111の側とは反対側に位置し、接地面11gに電気的に接続している1対の接地電極13を備える。絶縁基板11は、信号電極12と接地電極13との間にそれぞれ位置する第2溝112を有する。第2溝112の底面には、接地用導体112gが位置している。
これにより、信号電極12と接地電極13との間の誘電率を低減し、高周波信号線路の特性インピーダンスが低下するおそれを抑制することができる。
これにより、信号電極12と接地電極13との間の誘電率を低減し、高周波信号線路の特性インピーダンスが低下するおそれを抑制することができる。
また、1対の信号電極12の各々は、リード12aを有する。第1面10aの平面視で、リード12aは、第1ビアホール導体141の少なくとも一部と重なっている。このように、リード12aと第1ビアホール導体141との間でできるだけ第1面10aに沿って信号が伝わるのを抑えることで、特に高周波数帯の信号の損失を更に低減させることができる。
また、本実施形態の半導体電子装置1は、上記の半導体パッケージ6と、1対の差動線路14に電気的に接続されている電子部品7と、蓋体8と、を備える。
この半導体電子装置1によれば、電子部品7から出力される信号及び/又は電子部品7へ入力させる信号が、従来よりも高周波数のものであっても伝えることができる。
この半導体電子装置1によれば、電子部品7から出力される信号及び/又は電子部品7へ入力させる信号が、従来よりも高周波数のものであっても伝えることができる。
なお、上記実施の形態は例示であって、様々な変更が可能である。
例えば、上記実施の形態では、絶縁基板11は、セラミックグリーンシートを積層し、圧着、焼成して作製するものとして説明したが、これに限られない。内部に差動線路14が適切に位置するものであれば、他の方法で作製されてもよい。
例えば、上記実施の形態では、絶縁基板11は、セラミックグリーンシートを積層し、圧着、焼成して作製するものとして説明したが、これに限られない。内部に差動線路14が適切に位置するものであれば、他の方法で作製されてもよい。
また、第1溝111の先端位置は、上記実施形態で示したように信号電極12の先端位置よりも辺10bに近い位置でなくてもよい。サイズ上の問題がない場合などには、第1溝111の先端位置が信号電極12の先端位置よりも辺10bから多少遠い位置であってもよい。
また、第1溝111は、辺10bに接していなくてもよい。すなわち、第1溝111は、第1面10aの内部に位置する孔状のものであってもよい。孔の形状は、特には限られないが、例えば、長円状などであってもよい。
また、第1溝111は、上記のような基部111aと突起部111bとを組み合わせた形状でなくてもよい。例えば、突起部111bの形状が三角形などであってもよい。あるいは、基部111aと突起部111bとに分けられずに一体的なテーパー形状などであってもよい。
また、隙間領域11fは、1対の差動線路14の各々について分かれて位置していてもよいし、複数の対の差動線路14について共通であってもよい。
また、隙間領域11fの形状は、上記のような長円状に限られない。例えば、1対の接地用ビアホール導体145の内縁同士を接続する長方形部分が同軸構造の直径よりも狭い幅に絞られたダンベル形状などを有していてもよい。また、同軸構造をなす接地用ビアホール導体145の内縁と多少ずれていてもよく、例えば、長方形状などの多角形状であってもよい。
また、上記実施の形態では、平面視で第1ビアホール導体141がリード12aと半分程度重なるものとして説明したが、これとは異なる範囲、例えば、全体がリード12aと重なっていてもよい。
また、上記実施の形態では、信号電極12の両外側の接地電極13が並ぶ構造(GSSG構造)を有し、信号電極12と接地電極13との間に第2溝112を有するものとして説明したが、これに限られない。第2溝112を有していなくてもよいし、接地電極13の位置が異なっていてもよい。
また、上記実施の形態で示した半導体パッケージ6の形状に限られるものではない。例えば、第3面10dよりも高い位置にある第2面10cは平面でなくてもよく、複数の高さの部分を有していてもよい。また、第1面10a全体が配線基板10ではなく、一部は、別個の底板などであってもよい。
また、上記実施の形態では、差動線路14が、変形例1、2で示したような間隔の調整がなされる部分以外ではx方向及びz面方向に伸びているものとして説明しているが、y方向に伸びる成分を有していてもよい。
また、上記変形例1では、幅広部1421が平面透視で接地面11gの境界位置から第1信号線路142aの第1ビアホール導体141との接続位置までの全体にわたっているものとして説明したが、これに限られない。図7Bにも示したように、部分的であっても特性インピーダンスの改善がなされる。また、幅広部1421が平面透視で接地面11gと重なる位置まで伸びている必要はないが、重なる部分がない場合に限定されるものではない。
また、幅広部1421は、平面透視で第1溝111と反対側にのみ広がっている場合に限られない。第1溝111の側に、例えば平面透視で接地用導体111gと重ならない範囲で広がっていてもよい。
また、上記の半導体パッケージ6は、電子部品7とは別個に製造販売されてよい。この場合、蓋体8は、枠体20と接合されない状態で販売されてよい。また、半導体パッケージ6は、枠体20を有しなくてもよい。また、半導体電子装置1は、蓋体8を有していなくてもよい。
その他、上記実施の形態で示した具体的な構成、位置関係及び材質などは、本開示の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。本発明の範囲は、特許請求の範囲に記載した発明の範囲とその均等の範囲を含む。
その他、上記実施の形態で示した具体的な構成、位置関係及び材質などは、本開示の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。本発明の範囲は、特許請求の範囲に記載した発明の範囲とその均等の範囲を含む。
本発明は、半導体パッケージ及び半導体電子装置に利用することができる。
Claims (17)
- 第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有する絶縁基板と、
前記第1面の1辺に沿って並ぶ1対の第1電極と、
前記1対の第1電極にそれぞれ電気的に接続して信号を伝える1対の差動線路と、
接地用導体と、
を備え、
前記絶縁基板は、前記第1面に位置し前記1対の第1電極の間を伸びる第1溝を有し、
前記1対の差動線路の各々は、
前記絶縁基板の内部に位置し前記第1面に沿って伸びる第1信号線路と、
前記第2面に位置する第2信号線路と、
前記絶縁基板の内部で前記第1電極と前記第1信号線路とを電気的に接続する第1接続導体と、
前記絶縁基板の内部で前記第1信号線路と前記第2信号線路との間に位置する第2接続導体と、
を含み、
前記接地用導体は、
前記第1面に位置する第1接地面と、
前記第1溝の底面に位置する第1溝内接地面と、
前記第1面との間に前記第1信号線路を挟んで前記絶縁基板の内部に位置する第2接地面と、
前記絶縁基板の内部で前記第2接続導体に沿って位置する接地用接続導体と、
を含み、
前記接地用接続導体の一部は、前記第2接続導体の周囲に位置して、前記第2接続導体とともに同軸構造をなし、
前記第1信号線路は、前記第1接地面及び前記第2接地面と対向する範囲でストリップライン構造をなし、
前記第1面の平面透視で、前記第2接続導体の前記第2信号線路との接点とは反対側の端部を含む前記第1面の位置は、前記第1接地面のない隙間領域である、
半導体パッケージ。 - 前記第1面の平面視で、前記第1溝内接地面の前記1辺から最も遠い位置は、前記第1電極の前記1辺から最も遠い位置よりも前記1辺の近くに位置する、
請求項1記載の半導体パッケージ。 - 前記第1溝は、基部と、当該第1溝の前記1辺の側とは反対の他端の側に位置し前記基部よりも前記第1溝の伸びる方向に垂直な幅の狭い突起部と、を有する、請求項2記載の半導体パッケージ。
- 前記第1信号線路の前記第1接続導体との接点とは反対側の第1端部と、前記第2接続導体の前記第2信号線路との接点とは反対側の第2端部とは、直接つながっている請求項1~3のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 前記第1信号線路は、前記第1面の平面透視で前記隙間領域とは異なる前記第1接地面と重ならない範囲に、当該第1信号線路の延在方向に垂直な線幅が部分的に広い幅広部を有する、請求項1~4のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 前記幅広部は、前記第1信号線路が前記第1接続導体と接続する位置と、前記第1面の平面透視で前記第1信号線路が前記第1接地面と重なる範囲の境界との間の全体にわたって伸びている、請求項5記載の半導体パッケージ。
- 前記幅広部は、前記第1面の平面透視で前記第1溝とは反対側に幅が広がっている、請求項5又は6記載の半導体パッケージ。
- 前記第1信号線路の前記第1接続導体との接点とは反対側の第1端部は、前記第2接続導体の前記第2信号線路との接点とは反対側の第2端部よりも、前記第1面に近くかつ前記第1面の平面透視で前記第1接続導体に近い位置にあり、前記第1端部と前記第2端部との間は、前記第1接続導体に平行な第3接続導体と、前記第1信号線路に平行な第3信号線路とを介して接続されている請求項1~3のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 一端同士がつながっている前記第3接続導体と前記第3信号線路の組が複数組直列につながっており、
前記第3信号線路の長さに対する前記第3接続導体の長さの比は、前記第1信号線路の長さに対する前記第1接続導体の長さの比よりも大きく、かつ前記第2端部に近い組ほど大きい
請求項8記載の半導体パッケージ。 - 前記差動線路における前記第1信号線路の間隔は、前記第2信号線路の間隔よりも狭い請求項8又は9記載の半導体パッケージ。
- 平面透視で前記第3接続導体の位置は、前記隙間領域に含まれる請求項8~10のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 前記1対の差動線路の各々に係る前記隙間領域は、互いにつながった単一の領域である、請求項1~7のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 前記隙間領域は、前記第2接続導体ごとに各々離隔している請求項8~11のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 前記隙間領域の外縁は、前記第1面の平面透視で、前記同軸構造をなす前記接地用接続導体の内縁と重なっている、請求項1~13のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
- 前記1辺に沿った方向について前記1対の第1電極のそれぞれ前記第1溝の側とは反対側に位置し、前記第1接地面に電気的に接続している1対の第2電極を備え、
前記絶縁基板は、前記第1電極と前記第2電極との間にそれぞれ位置する第2溝を有し、
前記接地用導体には、前記第2溝の底面に位置する第2溝内接地面を含む、
請求項1~14のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 前記1対の第1電極の各々は、導体接続部を有し、
前記第1面の平面視で、前記導体接続部は、前記第1接続導体の少なくとも一部と重なっている、
請求項1~15のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 請求項1~16のいずれか一項に記載の半導体パッケージと、
前記1対の差動線路に電気的に接続されている電子部品と、
を備える、半導体電子装置。
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