JP2007242722A - 横型バイポーラトランジスタ - Google Patents
横型バイポーラトランジスタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007242722A JP2007242722A JP2006059950A JP2006059950A JP2007242722A JP 2007242722 A JP2007242722 A JP 2007242722A JP 2006059950 A JP2006059950 A JP 2006059950A JP 2006059950 A JP2006059950 A JP 2006059950A JP 2007242722 A JP2007242722 A JP 2007242722A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffusion layer
- layer
- bipolar transistor
- base
- emitter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 237
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 32
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 40
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 27
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract description 14
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract description 14
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 23
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 20
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 17
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 14
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 4
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 102000004129 N-Type Calcium Channels Human genes 0.000 description 1
- 108090000699 N-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0611—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
- H01L27/0617—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
- H01L27/0623—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type in combination with bipolar transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8222—Bipolar technology
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8248—Combination of bipolar and field-effect technology
- H01L21/8249—Bipolar and MOS technology
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/84—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being other than a semiconductor body, e.g. being an insulating body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/082—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including bipolar components only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1203—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body the substrate comprising an insulating body on a semiconductor body, e.g. SOI
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【課題】この発明はSOI構造の基板上に形成される横型バイポーラトランジスタに関し、MOSプロセスの流用により形成することができ、かつ、十分な増幅率を確保することを目的とする。
【解決手段】SOI構造の基板上にP+ベース引き出し拡散層14を形成する。P+ベース引き出し拡散層14の両側に分離絶縁膜17B,17Cを介してN+エミッタ拡散層15A,15Bを形成する。それらを囲むように、ベース拡散層として機能するP型SOI層を形成し、その上に導電層22を形成する。更にそれらを囲むように、N+コレクタ拡散層16を形成する。
【選択図】図1
【解決手段】SOI構造の基板上にP+ベース引き出し拡散層14を形成する。P+ベース引き出し拡散層14の両側に分離絶縁膜17B,17Cを介してN+エミッタ拡散層15A,15Bを形成する。それらを囲むように、ベース拡散層として機能するP型SOI層を形成し、その上に導電層22を形成する。更にそれらを囲むように、N+コレクタ拡散層16を形成する。
【選択図】図1
Description
この発明は、横型バイポーラトランジスタに係り、特に、埋め込み絶縁膜層の上にシリコン層を備えるSOI構造の基板上に形成される横型バイポーラトランジスタに関するものである。
従来、例えば特開平6−151859号公報に開示されているように、SOI(Silicon On Insulator)基板上にトランジスタを形成する構造が知られている。SOI基板は、素子形成の領域となるシリコン層の下に埋め込み酸化膜を備えている。このような構造によれば、基板の寄生要領を減らすことができ、その結果、集積回路を高速化することが可能である。
上記の公報には、より具体的には、エミッタ拡散層、ベース拡散層、及びコレクタ拡散層が、埋め込み酸化膜に到達するように形成された横型バイポーラトランジスタが開示されている。MOSトランジスタの高性能化のためにSOI基板を用いる事が行われる。この場合、SOI基板上にはMOSトランジスタと共に、上記のようなバイポーラトランジスタが形成されることがある。SOI基板上にMOSトランジスタを形成する場合には、接合容量を減らすために、ソース・ドレイン領域を、埋め込み酸化膜に到達するように形成するのが通常である。
上述した横型バイポーラトランジスタの構成によれば、エミッタ拡散層やコレクタ拡散層を、埋め込み酸化膜に達するソース・ドレイン領域を有するMOSトランジスタの形成プロセスのみで作り出すことができる。このため、上記従来の構造によれば、MOSトランジスタとバイポーラトランジスタとを同一のSOI基板上に有する集積回路のコストアップ防止を図ることが可能である。
ところで、一般的なバイポーラトランジスタは、ウェル状に形成されたベース拡散層と、そのウェルの中に形成されるエミッタ拡散層及びコレクタ拡散層を有している。このような構造によれば、エミッタ拡散層、及びコレクタ拡散層は、それぞれ、それらの側面に加えてそれらの底面においてもベース拡散層と接することができる。そして、このような構造をとることで、十分なコレクタ電流の流通を可能とし、更には、十分な増幅率の確保を可能としている。
しかしながら、上述した横型バイポーラトランジスタでは、エミッタ拡散層、及びコレクタ拡散層は、それぞれ、それらの側面でしかベース拡散層と接することができない。このため、上述した従来の横型バイポーラトランジスタによっては、十分なコレクタ電流を確保することが困難であった。また、ベース引き出し拡散層がエミッタ拡散層に近接した場合、エミッタからベースに流れる電流が増加しエミッタ効率が低下して増幅率が上がらないという問題が有った。
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、MOSプロセスの流用により形成することができ、かつ、十分なコレクタ電流と増幅率を確保することのできる横型バイポーラトランジスタを提供することを目的とする。
第1の発明は、上記の目的を達成するため、埋め込み絶縁膜層の上にシリコン層を備えるSOI構造の基板上に形成される横型バイポーラトランジスタであって、
前記基板に形成されるエミッタ拡散層と、
前記エミッタ拡散層から離れた位置に形成されるベース引き出し拡散層と、
前記埋め込み絶縁膜層に到達し、かつ、前記ベース引き出し拡散層と接するように、前記エミッタ拡散層と前記ベース引き出し拡散層との間に形成される分離絶縁膜と、
前記分離絶縁膜の両側で、それぞれ前記ベース引き出し拡散層との電気的な接続を確保しつつ前記分離絶縁膜の側面と接する2つの端部領域と、前記エミッタ拡散層の周囲を覆うように前記2つの端部領域と一体的に形成される中央領域とを含むベース拡散層と、
少なくとも前記ベース拡散層の中央領域の周囲に形成されるコレクタ拡散層と、
を備えることを特徴とするものである。
前記基板に形成されるエミッタ拡散層と、
前記エミッタ拡散層から離れた位置に形成されるベース引き出し拡散層と、
前記埋め込み絶縁膜層に到達し、かつ、前記ベース引き出し拡散層と接するように、前記エミッタ拡散層と前記ベース引き出し拡散層との間に形成される分離絶縁膜と、
前記分離絶縁膜の両側で、それぞれ前記ベース引き出し拡散層との電気的な接続を確保しつつ前記分離絶縁膜の側面と接する2つの端部領域と、前記エミッタ拡散層の周囲を覆うように前記2つの端部領域と一体的に形成される中央領域とを含むベース拡散層と、
少なくとも前記ベース拡散層の中央領域の周囲に形成されるコレクタ拡散層と、
を備えることを特徴とするものである。
また、第2の発明は、上記の目的を達成するため、埋め込み絶縁膜層の上にシリコン層を備えるSOI構造の基板上に形成される横型バイポーラトランジスタであって、
前記基板に形成されるエミッタ拡散層と、
前記エミッタ拡散層を挟むように形成される2つのベース拡散層と、
前記エミッタ拡散層及び前記2つのベース拡散層を挟むように形成される2つのコレクタ拡散層と、
前記2つのベース拡散層のそれぞれと電気的に接続された状態で、前記エミッタ拡散層から離れた位置に形成される少なくとも2つのベース引き出し拡散層と、
前記エミッタ拡散層の前記ベース拡散層と接していない部分の全域と接し、かつ、前記埋め込み絶縁膜層に到達するように形成された分離絶縁膜と、
を備えることを特徴とするものである。
前記基板に形成されるエミッタ拡散層と、
前記エミッタ拡散層を挟むように形成される2つのベース拡散層と、
前記エミッタ拡散層及び前記2つのベース拡散層を挟むように形成される2つのコレクタ拡散層と、
前記2つのベース拡散層のそれぞれと電気的に接続された状態で、前記エミッタ拡散層から離れた位置に形成される少なくとも2つのベース引き出し拡散層と、
前記エミッタ拡散層の前記ベース拡散層と接していない部分の全域と接し、かつ、前記埋め込み絶縁膜層に到達するように形成された分離絶縁膜と、
を備えることを特徴とするものである。
第1の発明によれば、エミッタ拡散層を取り囲むようにベース拡散層の中央領域が設けられ、更に、その中央領域を取り囲むようにコレクタ拡散層が設けられる。このため、エミッタ拡散層とベース拡散層との間、及び、コレクタ拡散層とベース拡散層との間に十分な接触面積を得ることができる。また、本発明によれば、ベース引き出し拡散層とエミッタ拡散層との間には、分離絶縁膜が配置される。ベース引き出し拡散層とエミッタ拡散層とが分離絶縁膜を介さずに隣接されていると、エミッタ拡散層からベース拡散層に流れ込むべきキャリアの一部がエミッタ拡散層から、直接ベース引き出し拡散層に流れ込む事態が生じ、その結果、バイポーラトランジスタのエミッタ注入効率が低下する。本発明によれば、分離絶縁膜により、そのようなキャリアの流入を阻止することができる。このため、本発明によれば、MOSプロセスの流用により形成することができ、かつ、十分なコレクタ電流を確保することのできる横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
また、第2の発明によれば、エミッタ拡散層の両側に、ベース拡散層とコレクタ拡散層とが設けられる。このため、エミッタ拡散層とベース拡散層との接触面積、及び、コレクタ拡散層とベース拡散層との接触面積を、何れも十分に確保することができる。また、本発明によれば、エミッタ拡散層から離れた位置にベース引き出し拡散層が形成され、かつ、エミッタ拡散層からベース引き出し拡散層に向かうキャリアの流れを阻止する分離絶縁膜が形成される。このため、本発明によっても、MOSプロセスの流用により形成することができ、かつ、十分なコレクタ電流を確保することのできる横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
実施の形態1.
[実施の形態1の基本構造]
以下、この発明の実施の形態1について説明する。図1は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタの平面図である。図2は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図1に示すX-X'面に沿って切断することで得られる断面図である。また、図3は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図1に示すY-Y'面に沿って切断することで得られる断面図である。
[実施の形態1の基本構造]
以下、この発明の実施の形態1について説明する。図1は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタの平面図である。図2は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図1に示すX-X'面に沿って切断することで得られる断面図である。また、図3は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図1に示すY-Y'面に沿って切断することで得られる断面図である。
図1乃至図3において、1はP型シリコン基板である。P型シリコン基板1の上には埋め込み酸化膜層11が形成されている。埋め込み酸化膜層11の上には、図1乃至図3の中央部に示されているように、高濃度P型ベース引き出し拡散層14(以下、「P+ベース引き出し拡散層14」と称す)が形成されている。P+ベース引き出し拡散層14は、図1に示すように、平面視が四角形状となるように形成されている。
図2に示すように、P+ベース引き出し拡散層14の両側には、P型SOI層12を介して、分離絶縁膜17B,17Cが形成されている。図1において、分離絶縁膜17B,17Cの領域は、破線とハッチングによって示されている。図1に示すように、分離絶縁膜17B,17Cは、平面視が四角形状となるように形成されている。
図2に示すように、分離絶縁膜17B,17Cの更に外側には、高濃度N型エミッタ拡散層15A,15B(以下、「N+エミッタ拡散層15A,15B」と称す)が形成されている。N+エミッタ拡散層15A,15Bは、何れも、図1に示すように、平面視が四角形状となるように形成されている。
図2に示すように、N+エミッタ拡散層15A,15Bの両側には、P型SOI層12が形成されている。P型SOI層12は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタにおいて、ベース拡散層として機能する領域である。P型SOI層12は、2つのN+エミッタ領域15A,15Bと、その内側に位置する2つの分離絶縁膜17B,17Cと、トランジスタの中央に位置するP+ベース引き出し拡散層14を取り囲むように形成される環状部分と、その環状部分から分かれてP+ベース引き出し拡散層14と分離絶縁膜17B、17Cとの間に介在する分岐部分とで構成されている。
以下、P型SOI層12のうち、特に、N+エミッタ拡散層15A,15Bの側面を覆う部分を「中央領域12cent」と称し、また、その他の部分、つまり、分離絶縁膜17B,17Cの両側で中央領域12centとP+ベース引き出し拡散層14とを電気的に導通させる部分を「端部領域12end」と称す。
P型SOI層12は、その上に形成される絶縁膜21によって覆われている。図2に示すように、絶縁膜21は、分離絶縁膜17B,17Cと高さが揃うように形成される。絶縁膜21及び分離絶縁膜17B,17Cの上には、ポリシリコンによる導電層22が形成されている。図1において、導電層22は、梨地の領域により表されている。
後述するように、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、MOSプロセスにより製造される。そして、P型シリコン基板1の上には、図1乃至図3に示す横型バイポーラトランジスタと共に、Nチャネル型のMOSトランジスタが形成される。上記の絶縁膜21及び導電層22は、それぞれ、そのMOSトランジスタが備えるゲート絶縁膜、及びゲート導電層と同様に形成されている。
図2及び図3に示すように、埋め込み酸化膜層11の上には、P型SOI層12の外周を覆うように高濃度N型コレクタ拡散層16(以下、「N+コレクタ拡散層16」と称す)が形成されている。P型SOI層12の外形は、ほぼ導電層22の外形と同じである。このため、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを平面視で表すと、図1に示すように、N+コレクタ拡散層16は、導電層22の外周を囲っているように表すことができる。
図1乃至図3に示すように、N+コレクタ拡散層16の外側には、埋め込み酸化膜11まで到達するように、分離酸化膜17Aが形成されている。本実施形態では、分離酸化膜17Aの内側に、単一の横型バイポーラトランジスタとして機能する一つのユニットが形成される。
図2に示すように、P+ベース引き出し拡散層14の上には、シリサイド層45とベースコンタクト50が形成されている。N+エミッタ拡散層15A,15Bの上には、それぞれ、シリサイド層46A,46Bとエミッタコンタクト51A,51Bが形成されている。また、N+コレクタ拡散層16の上には、その全面を覆うシリサイド層47が形成されている。そして、シリサイド層47の上には、N+コレクタ拡散層16の両端に位置するように、2つのコレクタコンタクト52A,52Bが形成されている。更に、導電層22の上には、その全面を覆うシリサイド層48が形成されており、その上には、それぞれ分離絶縁膜17B,17Cの直上に当たる位置に、導電層コンタクト53A,53Bが形成されている。
図1(シリサイド層の図示は省略)に示すように、ベースコンタクト50には、ベース配線8が接続されている。また、2つのコレクタコンタクト52A,52Bには、コンタクト共通配線10が接続されている。更に、2つのエミッタコンタクト51A,51B及び2つの導電層コンタクト53A,53Bには、エミッタ共通配線9が接続されている。
[実施の形態1における寸法及び不純物濃度]
本実施形態の横型バイポーラトランジスタの、個々のパターンの寸法及び不純物濃度は、おおよそ以下の通りである。
・支持基盤1の不純物濃度:1015〜1016cm−3
・埋め込み酸化膜11の厚さ:0.02〜0.2μm
・SOI層の厚さ:0.05〜0.3μm
・P型SOI層12の不純物濃度:1015〜1018cm−3
・絶縁膜21の膜厚:数〜数十nm
・導電層22の膜厚:0.05〜0.3μm
・P+ベース引き出し拡散層の不純物濃度:1019〜1022cm−3
・N+エミッタ拡散層15A,15B及びN+コレクタ拡散層16の不純物濃度:1019〜1022cm−3
本実施形態の横型バイポーラトランジスタの、個々のパターンの寸法及び不純物濃度は、おおよそ以下の通りである。
・支持基盤1の不純物濃度:1015〜1016cm−3
・埋め込み酸化膜11の厚さ:0.02〜0.2μm
・SOI層の厚さ:0.05〜0.3μm
・P型SOI層12の不純物濃度:1015〜1018cm−3
・絶縁膜21の膜厚:数〜数十nm
・導電層22の膜厚:0.05〜0.3μm
・P+ベース引き出し拡散層の不純物濃度:1019〜1022cm−3
・N+エミッタ拡散層15A,15B及びN+コレクタ拡散層16の不純物濃度:1019〜1022cm−3
[実施の形態1における製造方法]
次に、図4乃至図8を参照して、本実施形態の横型バイポーラトランジスタの製造方法について説明する。上述した通り、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、Nチャネル型のMOSトランジスタと共に、P型シリコン基板1上に形成される。図4乃至図8は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタをMOSプロセスの流用により製造する過程を表している。
次に、図4乃至図8を参照して、本実施形態の横型バイポーラトランジスタの製造方法について説明する。上述した通り、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、Nチャネル型のMOSトランジスタと共に、P型シリコン基板1上に形成される。図4乃至図8は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタをMOSプロセスの流用により製造する過程を表している。
図4は、より具体的には、左側の領域(以下、「Nch MOS領域」と称す)にNチャネル型のMOSトランジスタを、また、右側の領域(以下、「NPN領域」と称す)に本実施形態の横型バイポーラトランジスタの一部を表している。図5乃至図8は、それぞれ、図4と同様に、Nch MOS領域とNPN領域とを表している。
すなわち、図4において、Nch MOS領域には、ソース・ドレイン領域41A,41Bと、それらに挟まれたP型SOI層12Bとが形成されている。ソース・ドレイン領域41A,41Bの上には、それぞれ、シリサイド層43A,43Bとソース・ドレインコンタクト54A,54Bが形成されている。また、P型SOI層12Bの上には、ゲート絶縁膜21Bとゲート導電層42が形成されている。ゲート導電層42は、シリサイド44によって覆われている。NPN領域の構成は、図1乃至図3を参照して説明した構成と同様であるため、ここでは、その説明を省略する。
図4に示す構成を製造するにあたっては、先ず、図5に示すように、P型シリコン基板1の上に、埋め込み酸化膜11とSOI層が積層される。次に、その基板に、分離絶縁膜17A、17B,17Cと、P型SOI層12,12Bが形成される。分離絶縁膜17A,17B,17Cは、トレンチ分離等の手法で形成される。P型SOI層12,12Bは、分離絶縁膜17A,17B,17Cを形成する以前にSOI層にP型不純物をドーピングすることで形成しても、また、分離絶縁膜17A,17B,17Cの形成後にSOI層にP型不純物をドーピングすることで形成しても良い。
次に、図6に示すように、P型SOI層12,12Bの上に、バイポーラトランジスタの絶縁膜21と、MOSトランジスタのゲート絶縁膜21Bとが形成される。更に、それらの上に、バイポーラトランジスタの導電層22と、MOSトランジスタのゲート導電層42が形成される。導電層22及びゲート導電層42には、パターニングの前に、所望の不純物ドーピングが施される。
図7に示すように、次に、標準的なMOSプロセスの工程により、LDD(Lightly Doped Drain)の構造(図示略)が形成され、かつ、絶縁膜によるサイドウォール23が形成される。次いで、Nチャネル型MOSトランジスタのソース・ドレインの形成工程により、フォトレジスト100をマスクとして、砒素等のN型不純物101がP型SOI層12,12Bに注入される。N型不純物101は、より具体的には、N+エミッタ拡散層15A,15B、N+コレクタ拡散層16、及びソース・ドレイン領域41A,41Bを形成するべき領域に注入される。
フォトレジスト100が除去された後、Pチャネル型MOSトランジスタ(図示せず)のソース・ドレインの形成工程を利用して、図8に示すように、フォトレジスト102をマスクとして、ボロン等のP型不純物103がP型SOI層12に注入される。P型不純物103は、より具体的には、P+ベース引き出し拡散層14を形成するべき領域に注入される。
上記の工程により注入された不純物が、熱処理により活性化されることにより、N+エミッタ拡散層15A,15B、N+コレクタ拡散層16、ソース・ドレイン領域41A,41B、及びP+ベース引き出し拡散層14が形成される。次いで、シリコン及びポリシリコンの上に、選択的にシリサイド層43A,43B;44;45;46a,46;47;48が形成される。
P型シリコン基板1の表面が覆われるように絶縁膜49が形成される。絶縁膜49にコンタクトホールが形成され、その中にタングステン等の金属が埋め込まれる。その結果、各種コンタクト50;51A,51B;52A,52B;53A,53B;54A,54Bが形成される。その後、各種配線8〜10の処理が施されることにより、Nチャネル型のMOSトランジスタと共に、P型シリコン基板1上に、本実施形態の横型バイポーラトランジスタが形成される。
[実施の形態1の特徴]
(MOSプロセスの利用)
上述した通り、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、一般的なMOSプロセスを利用して、MOSトランジスタと一緒に製造することができる。このため、本実施形態の構造によれば、MOSトランジスタと横型バイポーラトランジスタとを同一基板状に備える必要のあるデバイスを、安価に製造することが可能である。
(MOSプロセスの利用)
上述した通り、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、一般的なMOSプロセスを利用して、MOSトランジスタと一緒に製造することができる。このため、本実施形態の構造によれば、MOSトランジスタと横型バイポーラトランジスタとを同一基板状に備える必要のあるデバイスを、安価に製造することが可能である。
(十分な増幅率の確保)
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、図1乃至図3に示すように、N+エミッタ拡散領域15A,15Bのそれぞれが、3辺においてP型SOI層12(ベース拡散層)の中央領域12centと接触する構造となっている。そして、P型SOI層12は、その全周においてN+コレクタ領域16と接触している。
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、図1乃至図3に示すように、N+エミッタ拡散領域15A,15Bのそれぞれが、3辺においてP型SOI層12(ベース拡散層)の中央領域12centと接触する構造となっている。そして、P型SOI層12は、その全周においてN+コレクタ領域16と接触している。
一般的な横型バイポーラトランジスタは、ベース拡散層を、エミッタ拡散層とコレクタ拡散層で挟んだような構成を有している。本実施形態の構成によれば、このような一般的な構成に比べて、N+エミッタ拡散層15A、15Bが、P型SOI層12(ベース拡散層)を挟んでN+コレクタ拡散層16と対向している領域を、十分に大きく確保することができる。
ところで、N+エミッタ拡散層15A、15BとN+コレクタ拡散層16とが、P型SOI層12を介して対向する領域は、本実施形態の構造に限らず、以下に説明する比較例のような構造によっても、十分に確保することができる。
図9は、比較例の横型バイポーラトランジスタの平面図である。また、図10は、比較例の横型バイポーラトランジスタを図9に示すX-X'面に沿って切断することで得られる断面図である。図9及び図10において、図1乃至図3に示す構成要素と同一の要素には、共通する符号が付されている。
比較例の横型バイポーラトランジスタは、P+ベース引き出し拡散層14と、その両側に配置されるN+エミッタ拡散層15A、15Bとの間に分離絶縁膜17B、17Cを備えていない点を除いて、本実施形態の横型バイポーラトランジスタと同様の構成を有している。
しかしながら、比較例の構造では、図10中に矢印200で示すように、N+エミッタ拡散層15A,15BとP+ベース引き出し拡散層14との間に、エミッタ電流が、P型SOI層12を抜けて、P+ベース引き出し拡散層14に直接流れ込む領域が存在している。この場合、真正ベース(P型SOI層12)を抜けてN+コレクタ拡散層16に流れ込む電流の量は、必然的に、P+ベース引き出し拡散層14に直接流れ込む電流分だけ減少する。そして、N+コレクタ拡散層16に流れ込むエミッタ電流の量が減ると、エミッタの注入効率が下がり、トランジスタの増幅率は低下する。
これに対して、本実施形態の構造では、N+エミッタ拡散層15A,15BとP+ベース引き出し拡散層14との間に、分離絶縁膜17B、17Cが設けられている。このような構造によれば、N+エミッタ拡散層15A,15BからP+ベース引き出し拡散層14に向かう電流の流れの殆どを阻止することができ、エミッタの注入効率の損失を最小限に抑えることができる。このため、本実施形態の横型バイポーラトランジスタによれば、比較例の場合に比して、優れた増幅率を得ることができる。
(電流容量の確保)
上述した通り、実施の形態1では、単一の横型バイポーラトランジスタに、2つのN+エミッタ拡散領域15A、15Bを与えて、それらを囲むようにP型SOI層12及びN+コレクタ拡散層16を環状に形成することとしている。そして、実施の形態1では、このような構成において、2つのエミッタコンタクト51A、51Bに対して共通の配線9を設け、かつ、2つのコレクタコンタクト52A,52Bに対して共通の配線10を設けることとしている。
上述した通り、実施の形態1では、単一の横型バイポーラトランジスタに、2つのN+エミッタ拡散領域15A、15Bを与えて、それらを囲むようにP型SOI層12及びN+コレクタ拡散層16を環状に形成することとしている。そして、実施の形態1では、このような構成において、2つのエミッタコンタクト51A、51Bに対して共通の配線9を設け、かつ、2つのコレクタコンタクト52A,52Bに対して共通の配線10を設けることとしている。
このような構造によれば、N+エミッタ拡散領域を一つだけ設けた場合に比して、横型バイポーラトランジスタに、2倍の電流容量を付与することができる。このため、本実施形態の構造によれば、電流容量の大きな横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
(P型SOI層内のチャネル発生防止)
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、最も一般的には、エミッタ電位が最低電位となる状態で用いられる。本実施形態の構成によれば、ベース拡散層として機能するP型SOI12が、絶縁膜21を介して導電層22によって覆われている。そして、導電層22は、N+エミッタ拡散層15A、15Bと同様に、エミッタ共通配線9に接続されている。
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、最も一般的には、エミッタ電位が最低電位となる状態で用いられる。本実施形態の構成によれば、ベース拡散層として機能するP型SOI12が、絶縁膜21を介して導電層22によって覆われている。そして、導電層22は、N+エミッタ拡散層15A、15Bと同様に、エミッタ共通配線9に接続されている。
このような構成によれば、導電層22の電位を、最低電位であるエミッタ電位に固定することができる。通常MOSの閾値電圧はプラスに設定されているので、導電層22が最低電位に固定されれば、P型SOI層12に、N型のチャネルが形成されることはない。そして、P型SOI層12内でのチャネルの発生が阻止できれば、キャリアがチャネルを流通することに起因するエミッタ注入効率の低下を防ぐことができる。本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、この点においても、高い増幅率を確保するうえで優れた特性を有している。
(コンタクト製造時の耐性)
上述した通り、本実施形態においては、導電層22をエミッタ電位に固定することで、P型SOI層12におけるチャネルの発生を防止している。そして、この機能を実現するために、導電層22上に導電層コンタクト53A,53Bを設けることとしている。
上述した通り、本実施形態においては、導電層22をエミッタ電位に固定することで、P型SOI層12におけるチャネルの発生を防止している。そして、この機能を実現するために、導電層22上に導電層コンタクト53A,53Bを設けることとしている。
特に、本実施形態では、導電層コンタクト53A、53Bを、分離絶縁膜17B、17Cの直上となる領域で、導電層22の上に形成している(図2参照)。導電層コンタクト53A、53Bは、上記の領域に限らず、P型SOI層12の直上となる領域に形成することも可能である。しかしながら、このような構成をとった場合、コンタクトの形成に伴って絶縁膜21に損傷が生じ、導電層22とP型SOI層12間でリークする場合が有る。
分離絶縁膜17B、17Cは埋め込み酸化膜層まで達する厚い絶縁層なので、分離絶縁膜17B、17Cの直上にコンタクトを形成することとすれば、コンタクトの形成に伴う損傷の発生を事実上完全に防ぐことができる。この点で、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、品質の管理が容易であるという利点をも有している。
[実施の形態1の変形例]
上述した通り、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、一つのP+ベース引き出し拡散層14に対して、2つのN+エミッタ拡散層15A、15Bを有する構成とされている。しかしながら、本発明は、このような構成に限定されるものではない。すなわち、1つのP+ベース引き出し拡散層14に対して、N+エミッタ拡散層を一つだけ設けることとしてもよい。
上述した通り、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、一つのP+ベース引き出し拡散層14に対して、2つのN+エミッタ拡散層15A、15Bを有する構成とされている。しかしながら、本発明は、このような構成に限定されるものではない。すなわち、1つのP+ベース引き出し拡散層14に対して、N+エミッタ拡散層を一つだけ設けることとしてもよい。
図11は、P+ベース引き出し拡散層14に対して、N+エミッタ拡散層を一つだけ設けた横型バイポーラトランジスタの平面図である。図11において、図1に示す構成要素と同一の要素に対しては、共通する符号が付されている。図11に示す変形例は、おおよそ、実施の形態1の横型バイポーラトランジスタを2分割することで得られる構成を有している。
このような構成によれば、実施の形態1の場合と比して電流容量は減少するものの、その他の効果、つまり、高い増幅率の確保、P型SOI層12におけるチャネル発生の防止、コンタクトの形成に伴う損傷の防止等の効果は、実施の形態1の場合と同様に得ることができる。
ところで、上述した実施の形態1においては、同一基板上に、NPN型のバイポーラトランジスタと、Nチャネル型のMOSトランジスタを形成することとしているが、本発明の適用はこの場合に限定されるものではない。すなわち、同一基板上に上記に加えて、PNP型のバイポーラトランジスタ、Pチャネル型のMOSトランジスタのどの組み合わせを形成してもよい。
また、上述した実施の形態1においては、P+ベース引き出し拡散層14やN+エミッタ拡散層15A、15B、更にはN+コレクタ拡散層16などを四角形状としているが、それらの形状はこれに限定されるものではない。すなわち、それらの形状は、円形や楕円形であってもよい。
実施の形態2.
次に、図12を参照して、本発明の実施の形態2について説明する。図12は、本発明の実施の形態2の横型バイポーラトランジスタの平面図を示す。図12に示す構成は、導電層22の四隅において、角が取られている点を除いて、図1に示す構成と同様である。
次に、図12を参照して、本発明の実施の形態2について説明する。図12は、本発明の実施の形態2の横型バイポーラトランジスタの平面図を示す。図12に示す構成は、導電層22の四隅において、角が取られている点を除いて、図1に示す構成と同様である。
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、導電層22と同様に、その下に位置する絶縁膜21及びP型SOI層12(何れも図12においては省略)が、何れも四隅において角の取られた形状とされている。これらの要素が、角の取られた形状とされている点を除いて、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、実施の形態1のトランジスタと同様である。
バイポーラトランジスタは、コレクタとベースとの間に逆バイアスをかけて用いられることが多い。実施の形態1の横型バイポーラトランジスタにこのような逆バイアスを印加すると、導電層22の四隅、つまり、角の部分に電解が集中する。このような電解の集中がおきると、トランジスタの耐圧が低下する事態が生じ易い。これに対して、導電層22が角の取られていると、電解の集中を緩和させることができる。このため、本実施形態の構成によれば、耐圧の高い横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
また、上述した実施の形態1の構成においては、N+エミッタ拡散層15A、15BとN+コレクタ拡散層16との距離が、導電層22の角にあたる領域で、他の領域に比して長くなるという事情が生じている。エミッタ電流は、エミッタとコレクタとの距離が短いほど流通し易くなる。そして、導電層22の角を取ると、導電層22の四隅におけるエミッタ・コレクタ間の距離を短縮することができる。このため、本実施形態の構成によれば、実施の形態1の場合に比して、エミッタ電流の流通を容易とすることができ、バイポーラトランジスタの効率を更に向上させることができる。
実施の形態3.
次に、図13乃至図16を参照して、本発明の実施の形態3について説明する。図13は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタの平面図である。図14は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図13に示すX-X'面に沿って切断することで得られる断面図である。また、図15及び図16は、それぞれ、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図13に示すY1-Y1'面、又はY2-Y2'面に沿って切断することで得られる断面図である。
次に、図13乃至図16を参照して、本発明の実施の形態3について説明する。図13は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタの平面図である。図14は、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図13に示すX-X'面に沿って切断することで得られる断面図である。また、図15及び図16は、それぞれ、本実施形態の横型バイポーラトランジスタを図13に示すY1-Y1'面、又はY2-Y2'面に沿って切断することで得られる断面図である。
図13乃至図16において、上述した実施の形態1又は2における構成要素に相当する部分には、共通する符号が付されている。また、実施の形態1の場合と同様に、横型バイポーラトランジスタの平面図である図13中においては、シリサイド層の図示を省略している。
実施の形態1の欄において説明した通り、横型バイポーラトランジスタにおいては、エミッタ拡散層からベース引き出し拡散層へのエミッタ電流の放出を抑制することが、増幅率の改善を図るうえで有効である。また、コレクタ電流を十分に確保するうえでは、ベース拡散層を挟んでエミッタ拡散層とコレクタ拡散層が対向する領域を大きく確保することが有効である。
図13乃至図16に示す本実施形態の構造は、それらの要求を満たし、かつ、実施の形態1の構造と異なる構造の一例である。すなわち、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、その中心部に、単一のN+エミッタ拡散領域15を有している。
エミッタ拡散領域15の両側には、それぞれP型SOI層12(図13中に梨地で示される領域)が形成されている。図13において左側に示されるP型SOI層12の両端と接する位置にはP+ベース引き出し拡散層14A,14Cが形成されている。また、図13において右側に示されるP型SOI層12の両端と接する位置にはP+ベース引き出し拡散層14B,14Dが形成されている。
図13における左側のP型SOI層12の更に左側には、N+コレクタ拡散層16Aが形成されている。また、図13における右側のP型SOI層12の更に右側には、N+コレクタ拡散層16Bが形成されている。そして、N+エミッタ拡散層15、P型SOI層12、P+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14D、及びN+コレクタ拡散層16A,16Bの周囲は、分離絶縁膜17によって囲まれている。
つまり、本実施形態の構造によれば、4つのP+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dは、2つのP型SOI層12のそれぞれと電気的に接続された状態で、N+エミッタ拡散層15から離れた位置に形成されている。そして、N+エミッタ拡散層15の、P型SOI層12と接していない2つの辺は、その全域において、分離絶縁膜17と接している。分離絶縁膜17は、埋め込み酸化膜11に到達するように形成されている。このため、N+エミッタ拡散層15と、P+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dとの間は、分離絶縁膜17によって電気的に遮断されている。
図14に示すように、P型SOI層12の上には絶縁膜21が形成されている。絶縁膜21の上には、導電層22が形成されている。また、導電層22の表面は、その全面においてシリサイド層48で覆われている。
図15に示すように、導電層22及びシリサイド層48は、N+エミッタ拡散層15の両側では、分離酸化膜17の上にも形成されている。つまり、図13に示すように、導電層22及びシリサイド層48は、P+ベース引き出し拡散層14A,14Cの間、及び、P+ベース引き出し拡散層14B,14Dの間にそれぞれ延在する縦方向の2辺と、それらの2辺の端部をつなぐ横方向の2辺とを備える環状のパターンに形成されている。
図14に示すように、N+エミッタ拡散層15の上には、シリサイド層46とエミッタコンタクト51が形成されている。また、N+コレクタ拡散層16A,16Bの上には、それぞれ、シリサイド層47A,47Bとコレクタコンタクト52A,52Bが形成されている。
図15に示すように、導電層22上のシリサイド48の上には、導電層コンタクト53A,53Bが形成されている。導電層コンタクト53A,53Bは、より具体的には、P型SOI層12の直上領域ではなく、分離絶縁膜17の直上領域において形成されている。
また、図16に示すように、P+ベース引き出し拡散層14B,14Dの上には、それぞれ、シリサイド層45B,45Dと、ベースコンタクト50B,50Dとが形成されている。同様に、反対側のP+ベース引き出し拡散層14A,14Cの上には、それぞれ、シリサイド層45A,45Cと、ベースコンタクト50A,50Cとが形成されている。
そして、図13(シリサイド層の図示は省略)に示すように、ベースコンタクト50A,50B,50C,50Dには、共通のベース配線8が接続されている。また、2つのコレクタコンタクト52A,52Bには、コンタクト共通配線10が接続されている。更に、エミッタコンタクト51及び2つの導電層コンタクト53A,53Bには、エミッタ共通配線9が接続されている。
[実施の形態3の特徴]
(MOSプロセスの利用)
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、実施の形態1の場合と同様に、一般的なMOSプロセスを利用して、MOSトランジスタと一緒に製造することができる。このため、本実施形態の構造によれば、MOSトランジスタと横型バイポーラトランジスタとを同一基板状に備える必要のあるデバイスを、安価に製造することが可能である。
(MOSプロセスの利用)
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、実施の形態1の場合と同様に、一般的なMOSプロセスを利用して、MOSトランジスタと一緒に製造することができる。このため、本実施形態の構造によれば、MOSトランジスタと横型バイポーラトランジスタとを同一基板状に備える必要のあるデバイスを、安価に製造することが可能である。
(十分な増幅率の確保)
本実施形態の横型バイポーラトランジスタでは、上述した通り、N+エミッタ拡散層15と、P+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dとの間が、分離絶縁膜17によって電気的に遮断されている。このような構造によれば、実施の形態1の場合と同様に、N+エミッタ拡散層15と、P+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dとの間で、エミッタ電流が流通するのを阻止することができ、エミッタの注入効率の損失を最小限に抑えることができる。以上の理由により、本実施形態の横型バイポーラトランジスタによれば、実施の形態1の場合と同様に、優れた増幅率を得ることができる。
本実施形態の横型バイポーラトランジスタでは、上述した通り、N+エミッタ拡散層15と、P+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dとの間が、分離絶縁膜17によって電気的に遮断されている。このような構造によれば、実施の形態1の場合と同様に、N+エミッタ拡散層15と、P+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dとの間で、エミッタ電流が流通するのを阻止することができ、エミッタの注入効率の損失を最小限に抑えることができる。以上の理由により、本実施形態の横型バイポーラトランジスタによれば、実施の形態1の場合と同様に、優れた増幅率を得ることができる。
(電流容量の確保)
実施の形態3の構成によれば、2つのコレクタコンタクト52A,52Bに対して共通の配線10が設けられる。また、4つのP+ベース引き出し拡散層50A,50B,50C,50Dに対して、つまり、2つのP型SOI層12(ベース拡散層)に対して共通の配線8が設けられる。このような構造によれば、上述した一般的なバイポーラトランジスタに比して2倍の電流容量を得ることができる。このため、本実施形態の構造によれば、電流容量の大きな横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
実施の形態3の構成によれば、2つのコレクタコンタクト52A,52Bに対して共通の配線10が設けられる。また、4つのP+ベース引き出し拡散層50A,50B,50C,50Dに対して、つまり、2つのP型SOI層12(ベース拡散層)に対して共通の配線8が設けられる。このような構造によれば、上述した一般的なバイポーラトランジスタに比して2倍の電流容量を得ることができる。このため、本実施形態の構造によれば、電流容量の大きな横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
(P型SOI層内のチャネル発生防止)
本実施形態の構造においても、実施の形態1の場合と同様に、ベース拡散層として機能するP型SOI12の上に、絶縁膜21を介して導電層22が形成されている。そして、導電層22は、N+エミッタ拡散層15と同様に、エミッタ共通配線9に接続されている。このような構成によれば、実施の形態1の場合と同様に、P型SOI層12内でのチャネルの発生を有効に防止することができる。
本実施形態の構造においても、実施の形態1の場合と同様に、ベース拡散層として機能するP型SOI12の上に、絶縁膜21を介して導電層22が形成されている。そして、導電層22は、N+エミッタ拡散層15と同様に、エミッタ共通配線9に接続されている。このような構成によれば、実施の形態1の場合と同様に、P型SOI層12内でのチャネルの発生を有効に防止することができる。
(コンタクト製造時の耐性)
上述した通り、本実施形態の構造によれば、導電層コンタクト53A,53Bは、分離絶縁膜17の上に形成される。このため、本実施形態の構造によっても、実施の形態1の場合と同様に、導電層コンタクト53A,53Bの形成に伴って絶縁膜に損傷が生ずるのを、事実上完全に防ぐことができる。
上述した通り、本実施形態の構造によれば、導電層コンタクト53A,53Bは、分離絶縁膜17の上に形成される。このため、本実施形態の構造によっても、実施の形態1の場合と同様に、導電層コンタクト53A,53Bの形成に伴って絶縁膜に損傷が生ずるのを、事実上完全に防ぐことができる。
(素子面積の縮小効果)
また、本実施形態の構造によれば、実施の形態1の場合に比して、P+ベース引き出し拡散層の数は増えるものの、N+コレクタ拡散層の領域を大幅に減らすことができる。加えて、この構造によれば、電界集中が生ずるような導電層22の角部の発生を必然的に阻止することができる。このため、本実施形態の構造によれば、少ない素子面積で、実施の形態1の場合と同等の電流を流せるという効果を得ることができる。
また、本実施形態の構造によれば、実施の形態1の場合に比して、P+ベース引き出し拡散層の数は増えるものの、N+コレクタ拡散層の領域を大幅に減らすことができる。加えて、この構造によれば、電界集中が生ずるような導電層22の角部の発生を必然的に阻止することができる。このため、本実施形態の構造によれば、少ない素子面積で、実施の形態1の場合と同等の電流を流せるという効果を得ることができる。
実施の形態4.
次に、図17を参照して、本発明の実施の形態4について説明する。図17は、本発明の実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの構成を説明するための図である。図17において、上述した実施の形態1乃至3の何れかにおける構成要素に相当する部分には、共通する符号が付されている。図17に示す横型バイポーラトランジスタは、エミッタ長が短縮されている点、及び、P+ベース引き出し拡散層14A,14Bが、P型SOI層12の片側だけに配置されている点を除いて実施の形態3のトランジスタと同様の構成を有している。
次に、図17を参照して、本発明の実施の形態4について説明する。図17は、本発明の実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの構成を説明するための図である。図17において、上述した実施の形態1乃至3の何れかにおける構成要素に相当する部分には、共通する符号が付されている。図17に示す横型バイポーラトランジスタは、エミッタ長が短縮されている点、及び、P+ベース引き出し拡散層14A,14Bが、P型SOI層12の片側だけに配置されている点を除いて実施の形態3のトランジスタと同様の構成を有している。
横型バイポーラトランジスタに要求される電流量が少ない場合は、エミッタ長を縮小することができる。上述した実施の形態3の構成において、エミッタ長を縮小されると、トランジスタの動作部分、つまり、N+エミッタ拡散層15と、N+コレクタ拡散層16A,16BがP型SOI層12を挟んで対向する部分から、P+ベース引き出し拡散層14A、14Bまでの距離が短縮され、その間の抵抗が低下する。
上記の抵抗が十分に低ければ、実施の形態4の場合のように、P+ベース引き出し拡散層14A、14Bを、P型SOI層12の片側のみに配置することとしても、トランジスタに要求される電気的特性を満足することが可能である。そして、このような構成によれば、実施の形態3の場合に比して、トランジスタの素子面積を更に小さくすることができる。このため、実施の形態4の構成によれば、実施の形態3の場合に比して、更に小型な横型バイポーラトランジスタを実現することができる。
実施の形態5.
次に、図18を参照して、本発明の実施の形態5について説明する。図18は、本発明の実施の形態5の横型バイポーラトランジスタの構成を説明するための図である。図18において、上述した実施の形態1乃至4の何れかにおける構成要素に相当する部分には、共通する符号が付されている。
次に、図18を参照して、本発明の実施の形態5について説明する。図18は、本発明の実施の形態5の横型バイポーラトランジスタの構成を説明するための図である。図18において、上述した実施の形態1乃至4の何れかにおける構成要素に相当する部分には、共通する符号が付されている。
図18に示す横型バイポーラトランジスタは、n個のN+エミッタ拡散層15A,15B・・と、(n+1)個のN+コレクタ拡散層16A,16B,16C・・を備えている。N+エミッタ拡散層15A,15B・・と、N+コレクタ拡散層16A,16B,16C・・とは、それらの境界部分にP型SOI層12が挟まれるように、かつ、互いに交互に並ぶように設けられている。このような構成は、概念的には、実施の形態3の横型バイポーラトランジスタ(図13参照)を、N+コレクタ拡散層16Bが、N+コレクタ拡散層16Aと重なるように、複数個並列に並べることにより得ることができる。
上述した実施の形態3の構成(図13参照)によれば、エミッタ長を伸ばすことにより流通させ得る電流を大きくすることができる。しかしながら、エミッタ長を伸ばせば、トランジスタの動作部分からP+ベース引き出し拡散層14A,14B,14C,14Dまでの距離が長くなり、その間の抵抗が増大する。このため、上記の距離を不当に長くすると、トランジスタの動作部分に所望の電圧が印加できない事態が生ずる。
大きな流通電流を確保する手法としては、例えば、図13に示すユニットを複数個配列して、配線8,9,10を共通化することで、それらのユニットを単一のトランジスタとして作動させることが考えられる。しかしながら、そのような手法を用いる場合に比して、実施の形態5の構成によれば(図18参照)、N+コレクタ拡散層が重複する分だけ、個々のユニットを効率的に配置することができる。このため、本実施形態の構成によれば、大電流を流通させ得る横型バイポーラトランジスタを、小さな面積で実現することができる。
ところで、上述した実施の形態5では、図13に示すユニットを、N+コレクタ拡散層が重複するように並列に複数個並べることとしているが、上記ユニットを並べる手法はこれに限定されるものではない。すなわち、図19に示すように、P+ベース引き出し拡散層が重複するように、図13に示すユニットを、縦方向に複数個並べることとしてもよい。
実施の形態6.
[実施の形態6の構成]
次に、図20乃至図24を参照して、本発明の実施の形態6について説明する。これらの図において、左側の領域は、上述した実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの断面構造を示しており、右側の領域は、Nチャネル型のMOSトランジスタの断面構造を示している。また、これらの図において、実施の形態1乃至5の何れかの構成要素と対応するものには、共通の符号が付されている。
[実施の形態6の構成]
次に、図20乃至図24を参照して、本発明の実施の形態6について説明する。これらの図において、左側の領域は、上述した実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの断面構造を示しており、右側の領域は、Nチャネル型のMOSトランジスタの断面構造を示している。また、これらの図において、実施の形態1乃至5の何れかの構成要素と対応するものには、共通の符号が付されている。
上述した実施の形態1乃至5においては、導電層22の導電型について特に言及がなされていない。また、それらの実施形態では、横型バイポーラトランジスタと共に形成されるMOSトランジスタのゲート導電層42の導電型についても、特に言及はなされていない。本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、図20に示すように、MOSトランジスタ(Nチャネル型)のゲート導電層42が高濃度のN型(N+)であるのに対して、導電層22がイントリンシックに調製されている点に特徴を有している。
図20には、実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの構造を基礎として、導電層22をイントリンシックとした例を示しているが、本発明の適用が可能なトランジスタは、これに限定されるものではない。すなわち、導電層22がイントリンシックに調製されている限り、トランジスタの基本構造は、実施の形態1乃至5の構造の何れであってもよい。
[実施の形態6の製造方法]
図21乃至図24は、実施の形態6の横型バイポーラトランジスタの製造方法を説明するための図である。本実施形態のトランジスタを製造する工程では、先ず、図21に示すように、P型シリコン基板1の上に、埋め込み酸化膜11とSOI層が積層される。次に、その基板に、分離絶縁膜17と、P型SOI層12,12Bが形成される。
図21乃至図24は、実施の形態6の横型バイポーラトランジスタの製造方法を説明するための図である。本実施形態のトランジスタを製造する工程では、先ず、図21に示すように、P型シリコン基板1の上に、埋め込み酸化膜11とSOI層が積層される。次に、その基板に、分離絶縁膜17と、P型SOI層12,12Bが形成される。
次いで、P型SOI層12,12Bの上に、バイポーラトランジスタの絶縁膜21と、MOSトランジスタのゲート絶縁膜21Bとが形成される。更に、それらの上に、導電層22及びゲート導電層42の基材となるポリシリコン22Aが堆積される。その後、Nチャネル型のMOSトランジスタの形成領域をカバーするように形成されたフォトレジスト104をマスクとして、バイポーラトランジスタの形成領域に堆積されているポリシリコン22Aに、ボロンB等のP型不純物105が高濃度イオン注入される。
シリコン基板1上には、横型バイポーラトランジスタ及びNチャネル型のMOSトランジスタと共に、図示しないが、通常Pチャネル型のMOSトランジスタが形成される。この場合、Pチャネル型のMOSトランジスタの形成領域には、P型に調製されたゲート導電層を形成することが必要である。そして、シリコン基板1上にPチャネル型のMOSトランジスタが形成される場合、そのゲート導電層へのP型不純物の注入と、図21に示す上記のP型不純物の注入とは、同じ工程で行われる。
フォトレジスト104が除去された後、図22に示すように、バイポーラトランジスタの形成領域をカバーするようにフォトレジスト106がパターニングされる。次いで、そのフォトレジスト106をマスクとして、Nチャネル型のMOSトランジスタの形成領域に、砒素As等のN型不純物107が高濃度イオン注入される。
フォトレジスト106が除去された後、ポリシリコン22Aが、導電層22、及びゲート導電層42の形状にパターニングされる。次いで、標準的なMOSプロセスであるLDD注入(図示省略)と、絶縁膜によるサイドウォール23の形成とが行われる。その後、図23に示すように、バイポーラトランジスタの形成領域、及びNチャネル型MOSトランジスタの形成領域の双方に、砒素As等のN型不純物が注入される。
上述したN型不純物の注入がなされることにより、バイポーラトランジスタの導電層22となるポリシリコン22Aは、P型不純物(図21参照)と、N型不純物(図23参照)とが、ほぼ均等に注入された状態となる。他方、Nチャネル型MOSトランジスタのゲート導電層42となるポリシリコン42Aは、N型不純物のみが高濃度に注入された状態となる。
シリコン基板1上にPチャネル型のMOSトランジスタが形成される場合は、そのゲート導電層にP型不純物を高濃度イオン注入する処理が行われる。その後、注入された不純物を活性化させるための熱処理が行われる。その結果、図24に示すように、Nチャネル型MOSトランジスタの形成領域には、N+型のゲート導電層42が形成される。また、バイポーラトランジスタの形成領域には、P型とN型が相殺してイントリンシックな導電層22が形成される。
上記の熱処理が行われることにより、バイポーラトランジスタの形成領域におけるSOI層は、導電層22に覆われた部分がP型SOI層12となり、導電層22に覆われていない部分がN+型エミッタ拡散層15、並びにN+型コレクタ拡散層16A,16Bとなる。他方、Nチャネル型MOSトランジスタの形成領域におけるSOI層は、ゲート導電層42に覆われた部分がP型のボディとなり、ゲート導電層42に覆われていない部分がN+ソース・ドレイン層41A,41Bとなる。
図24に示す状態が形成された後、シリコン及びポリシリコンの上に、シリサイド層43〜48が選択的に形成される。次いで、絶縁膜49が形成され、コンタクトホールが開口され、その中にタングステン等の金属が埋め込まれることによりコンタクト50〜54が形成される。その後更に金属配線が施されることにより、図20に示す横型バイポーラトランジスタが形成される。
[実施の形態6による効果]
実施の形態6の横型バイポーラトランジスタでは、P型SOI層(ベース拡散層)12の上に形成される導電層22がイントリンシックに調製されている。イントリンシックなポリシリコンの仕事関数は、N型のポリシリコンより高い値となる。このため、導電層22がN型である場合に比して、導電層22がイントリンシックである場合の方が、絶縁膜21とP型SOI層12との界面におけるバンドの曲がりが緩和される。
実施の形態6の横型バイポーラトランジスタでは、P型SOI層(ベース拡散層)12の上に形成される導電層22がイントリンシックに調製されている。イントリンシックなポリシリコンの仕事関数は、N型のポリシリコンより高い値となる。このため、導電層22がN型である場合に比して、導電層22がイントリンシックである場合の方が、絶縁膜21とP型SOI層12との界面におけるバンドの曲がりが緩和される。
そして、バイポーラトランジスタにおいては、その部分のバンドの曲がりが緩和されるほど、その部分に微少電流(リーク電流)が流通し難くなる。更に、P型SOI層12と絶縁膜21との界面におけるリーク電流が少ないほど、エミッタの注入効率は改善される。このため、本実施形態の横型バイポーラトランジスタによれば、優れた増幅率を実現することができる。
ところで、上述した実施の形態6においては、シリコン基板1上にNPN型のバイポーラトランジスタを形成することとしているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明は、PNP型のバイポーラトランジスタを形成する場合に適用してもよい。そして、Nチャネル型MOSトランジスタのゲート導電層にN型の不純物を注入するプロセス、及び、Pチャネル型MOSトランジスタのゲート導電層にP型の不純物を注入するプロセスは、MOSトランジスタの製造プロセスで一般的に行われている。このため、NPN型のバイポーラトランジスタの導電層、及びPNP型のバイポーラトランジスタの導電層は、バイポーラトランジスタの形成領域におけるマスクパターンを変えるだけで、MOSプロセスに新たな工程を加えることなくイントリンシック化することができる。従って、実施の形態6の構成は、バイポーラトランジスタがNPN型であってもPNP型であっても、大きなコスト上昇を伴うことなく実現することができる。
また、上述した実施の形態6においては、横型バイポーラトランジスタをSOI基板に形成することを前提としているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、上述した手法によってリーク電流を抑制する発明は、バルク基板上にバイポーラトランジスタを形成する際に適用することとしてもよい。
実施の形態7.
[実施の形態7の構成]
次に、図25乃至図27を参照して、本発明の実施の形態7について説明する。上述した実施の形態6の場合と同様に、図25乃至図27において、左側の領域は、実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの断面構造を示しており、右側の領域は、Nチャネル型のMOSトランジスタの断面構造を示している。また、これらの図において、実施の形態1乃至5の何れかの構成要素と対応するものには、共通の符号が付されている。
[実施の形態7の構成]
次に、図25乃至図27を参照して、本発明の実施の形態7について説明する。上述した実施の形態6の場合と同様に、図25乃至図27において、左側の領域は、実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの断面構造を示しており、右側の領域は、Nチャネル型のMOSトランジスタの断面構造を示している。また、これらの図において、実施の形態1乃至5の何れかの構成要素と対応するものには、共通の符号が付されている。
本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、図25に示すように、MOSトランジスタ(Nチャネル型)のゲート導電層42が高濃度のN型(N+)であるのに対して、導電層22がP型に調製されている。この点を除いて、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、実施の形態6のトランジスタと同様である。
図25には、実施の形態4の横型バイポーラトランジスタの構造を基礎として、導電層22をP型とした例を示しているが、本発明の適用が可能なトランジスタは、これに限定されるものではない。すなわち、導電層22がP型に調製されている限り、トランジスタの基本構造は、実施の形態1乃至5の構造の何れであってもよい。
[実施の形態7の製造方法]
以下、図26及び図27と共に、図21及び図22を参照して、実施の形態7の横型バイポーラトランジスタの製造方法を説明する。本実施形態のトランジスタを製造する工程では、実施の形態6の場合と同様の手順で、シリコン基板1上に分離絶縁膜17が形成される(図21参照)。但し、ここでは、後工程(図26参照)で、導電層22及びゲート導電層42の上に形成される電極上酸化膜109の膜厚分だけ、実施の形態6の場合に比して分離酸化膜17が厚く形成される。
以下、図26及び図27と共に、図21及び図22を参照して、実施の形態7の横型バイポーラトランジスタの製造方法を説明する。本実施形態のトランジスタを製造する工程では、実施の形態6の場合と同様の手順で、シリコン基板1上に分離絶縁膜17が形成される(図21参照)。但し、ここでは、後工程(図26参照)で、導電層22及びゲート導電層42の上に形成される電極上酸化膜109の膜厚分だけ、実施の形態6の場合に比して分離酸化膜17が厚く形成される。
次に、実施の形態6の場合と同様の手順で、バイポーラトランジスタの形成領域にP型不純物105が注入され(図21参照)、更に、Nチャネル型MOSトランジスタの形成領域にN型不純物107が注入される(図22参照)。次いで、基板の全面に酸化膜が堆積され、その酸化膜がポリシリコン22A,42Aの上に残存するように、それらのパターニングが行われる。
パターニングされたポリシリコン22A,42Aの側面を覆うように再度ウォール23が形成される。その後、図26に示すように、シリコン基板1の全面に、砒素As等のN型不純物108が高濃度にイオン注入される。この場合、ポリシリコン22A,42Aに覆われていないSOI領域中には、N型不純物108が高濃度で注入される。他方、導電層22やゲート導電層42となるポリシリコン22A,42A中には、電極上酸化膜109がバリアとなるため、N型不純物が一部のみ低濃度で注入される。
導電層22となるポリシリコン22Aには、図21に示す工程により、P型不純物が高濃度に注入されている。このため、図26に示す注入工程の後に、そのポリシリコン22Aは、N型不純物に比して、P型不純物が高濃度に注入された状態となっている。
不純物を活性化させるための熱処理が行われると、図27に示すように、Nチャネル型MOS領域には、実施の形態6の場合と同様に、N型のゲート導電層42が形成される。他方、バイポーラトランジスタの形成領域には、P型の導電層22が形成される。以後、実施の形態6の場合と同様の処理が行われることにより、図25に示す横型バイポーラトランジスタが形成される。
[実施の形態7による効果]
実施の形態7の横型バイポーラトランジスタでは、P型SOI層(ベース拡散層)12の上に形成される導電層22がP型とされている。このため、本実施形態の構成では、導電層22の仕事関数が、P型SOI層12の仕事関数とほぼ同じになっている。つまり、本実施形態の構成では、絶縁膜21とP型SOI層12との界面には、バンドの曲がりがほぼ存在していない。
実施の形態7の横型バイポーラトランジスタでは、P型SOI層(ベース拡散層)12の上に形成される導電層22がP型とされている。このため、本実施形態の構成では、導電層22の仕事関数が、P型SOI層12の仕事関数とほぼ同じになっている。つまり、本実施形態の構成では、絶縁膜21とP型SOI層12との界面には、バンドの曲がりがほぼ存在していない。
そして、バイポーラトランジスタにおいて、その部分にバンドの曲がりが存在しなければ、実施の形態6の場合に比して、更に、P型SOI層12における微少電流(リーク電流)の流通を更に抑制することができる。このため、本実施形態の横型バイポーラトランジスタによれば、実施の形態6の場合に比して、更に優れた増幅率を実現することができる。
実施の形態7の製造工程には、マスクとして機能する電極上酸化膜109によってポリシリコン22A,42Aをエッチングするプロセスが含まれている。このようなプロセスは、MOSトランジスタの製造プロセスにおいて一般に行われている。従って、本実施形態の横型バイポーラトランジスタは、一般的なMOSプロセスを流用することで、特に新規な工程を追加することなく製造することができる。
また、上述した実施の形態7においては、横型バイポーラトランジスタをSOI基板に形成することを前提としているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、上述した手法によってリーク電流を抑制する発明は、バルク基板上にバイポーラトランジスタを形成する際に適用することとしてもよい。
更に、上述した実施の形態6及び7では、P型SOI層12におけるリーク電流を抑制するために、導電層22の導電型を、イントリンシック、又はP型とすることとしているが、そのリーク電流を抑制する手法はこれに限定されるものではない。すなわち、P型SOI層12のリーク電流は、導電層22の導電型が、Nチャネル型MOSトランジスタのゲート導電層42に比してP型に近ければ抑制することが可能である。従って、導電層22は、イントリンシックやP型に限らず、ゲート導電層42に比して濃度の低いN型とすることとしてもよい。
1 P型シリコン基板、 8 ベース配線、 9 エミッタ共通配線、 10 コンタクト共通配線、 12 P型SOI層、 12cent 中央領域、 12end 端部領域、 14 P+ベース引き出し拡散層、 15A,15B 16 N+コレクタ拡散層、 N+エミッタ拡散層、 17B,17C 分離絶縁膜、 22 導電層、 42 ゲート導電層
Claims (11)
- 埋め込み絶縁膜層の上にシリコン層を備えるSOI構造の基板上に形成される横型バイポーラトランジスタであって、
前記基板に形成されるエミッタ拡散層と、
前記エミッタ拡散層から離れた位置に形成されるベース引き出し拡散層と、
前記埋め込み絶縁膜層に到達し、かつ、前記エミッタ拡散層と前記ベース引き出し拡散層との間に形成される分離絶縁膜と、
前記分離絶縁膜の両側で、それぞれ前記ベース引き出し拡散層との電気的な接続を確保しつつ前記分離絶縁膜の側面と接する2つの端部領域と、前記エミッタ拡散層の周囲を覆うように前記2つの端部領域と一体的に形成される中央領域とを含むベース拡散層と、
少なくとも前記ベース拡散層の中央領域の周囲に形成されるコレクタ拡散層と、
を備えることを特徴とする横型バイポーラトランジスタ。 - 前記エミッタ拡散層及び前記分離絶縁膜は、前記ベース引き出し拡散層の両側にそれぞれ設けられており、
前記ベース拡散層は、前記ベース引き出し拡散層と、その両側に配置される2つの前記分離絶縁膜と、更にそれらの外側に配置される2つの前記エミッタ拡散層の周囲を囲むように環状に形成されており、
前記コレクタ拡散層は、前記ベース拡散層の周囲を覆うように環状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の横型バイポーラトランジスタ。 - 前記ベース引き出し拡散層に対して設けられるベース用配線と、
前記エミッタ拡散層の全てに対して共通に設けられるエミッタ用配線と、
前記コレクタ拡散層に対して設けられるコレクタ用配線と、
を備えることを特徴とする請求項2記載の横型バイポーラトランジスタ。 - 前記ベース拡散層の中央領域は、前記エミッタ拡散層を囲むように互いに接続された3つの辺を有しており、
前記辺の接続部は、角の取られた形状とされていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載の横型バイポーラトランジスタ。 - 埋め込み絶縁膜層の上にシリコン層を備えるSOI構造の基板上に形成される横型バイポーラトランジスタであって、
前記基板に形成されるエミッタ拡散層と、
前記エミッタ拡散層を挟むように形成される2つのベース拡散層と、
前記エミッタ拡散層及び前記2つのベース拡散層を挟むように形成される2つのコレクタ拡散層と、
前記2つのベース拡散層のそれぞれと電気的に接続された状態で、前記エミッタ拡散層から離れた位置に形成される少なくとも2つのベース引き出し拡散層と、
前記エミッタ拡散層の前記ベース拡散層と接していない部分の全域と接し、かつ、前記埋め込み絶縁膜層に到達するように形成された分離絶縁膜と、
を備えることを特徴とする横型バイポーラトランジスタ。 - 請求項5記載の横型バイポーラトランジスタが、前記コレクタ拡散層が重なるように、複数個並列に配置されていることを特徴とする横型バイポーラトランジスタ。
- 請求項5記載の横型バイポーラトランジスタが、前記ベース引き出し拡散層が重なるように、複数個縦列に配置されていることを特徴とする横型バイポーラトランジスタ。
- 複数個配列された前記エミッタ拡散層の全てに対して共通に設けられるエミッタ用配線と、
複数個配列された前記コレクタ拡散層の全てに対して共通に設けられるコレクタ用配線と、
複数個配列された前記ベース引き出し拡散層の全てに対して共通に設けられるベース用配線と、
を備えることを特徴とする請求項6又は7記載の横型バイポーラトランジスタ。 - 前記ベース拡散層は第1導電型に調製されており、
前記基板上には、ゲート絶縁膜と、前記第1導電型と異なる第2導電型に調製されたゲート導電層とを備え、前記第2導電型のチャネルを形成するように構成されたMOSトランジスタが形成されており、
前記ベース拡散層の表面を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜の上に、前記ゲート導電層に比して前記第2導電型の特性が抑えられた状態で形成される導電層と、
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項記載の横型バイポーラトランジスタ。 - 前記導電層は、導電型上イントリンシックであることを特徴とする請求項9記載の横型バイポーラトランジスタ。
- 前記導電層は、前記ベース拡散層と同様に、前記第1導電型に調製されていることを特徴とする請求項9記載の横型バイポーラトランジスタ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006059950A JP2007242722A (ja) | 2006-03-06 | 2006-03-06 | 横型バイポーラトランジスタ |
US11/682,126 US7514344B2 (en) | 2006-03-06 | 2007-03-05 | Lateral bipolar transistor |
US12/391,306 US7667294B2 (en) | 2006-03-06 | 2009-02-24 | Lateral bipolar transistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006059950A JP2007242722A (ja) | 2006-03-06 | 2006-03-06 | 横型バイポーラトランジスタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007242722A true JP2007242722A (ja) | 2007-09-20 |
Family
ID=38470781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006059950A Pending JP2007242722A (ja) | 2006-03-06 | 2006-03-06 | 横型バイポーラトランジスタ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7514344B2 (ja) |
JP (1) | JP2007242722A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008244321A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9035426B2 (en) | 2011-12-28 | 2015-05-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Fin-like BJT |
FR2993406B1 (fr) * | 2012-07-13 | 2014-08-22 | Commissariat Energie Atomique | Circuit integre sur soi comprenant un transistor bipolaire a tranchees d'isolation de profondeurs distinctes |
US9130006B2 (en) | 2013-10-07 | 2015-09-08 | Freescale Semiconductor, Inc. | Semiconductor device with buried conduction path |
WO2022231884A1 (en) * | 2021-04-29 | 2022-11-03 | Texas Instruments Incorporated | Repeater emitter for lateral bipolar transistor |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021894A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Toshiba Corp | バイポーラトランジスタおよびその製造方法 |
JP2001015524A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-19 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS547196B2 (ja) * | 1971-08-26 | 1979-04-04 | ||
EP0251682A3 (en) | 1986-06-25 | 1989-12-06 | Hewlett-Packard Company | Integrated bipolar-mos device |
JPH04207038A (ja) | 1990-11-30 | 1992-07-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JPH06151859A (ja) | 1992-09-15 | 1994-05-31 | Canon Inc | 半導体装置 |
JP3240231B2 (ja) | 1993-11-29 | 2001-12-17 | キヤノン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US5455188A (en) * | 1995-01-31 | 1995-10-03 | United Microelectronics Corp. | Process for fabricating a lateral bipolar junction transistor |
US6034413A (en) * | 1997-02-27 | 2000-03-07 | Texas Instruments Incorporated | High speed biCMOS gate power for power MOSFETs incorporating improved injection immunity |
JP3982204B2 (ja) | 2001-06-05 | 2007-09-26 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US6867477B2 (en) * | 2002-11-07 | 2005-03-15 | Newport Fab, Llc | High gain bipolar transistor |
TWI282127B (en) * | 2003-08-20 | 2007-06-01 | Sanken Electric Co Ltd | Semiconductor element |
-
2006
- 2006-03-06 JP JP2006059950A patent/JP2007242722A/ja active Pending
-
2007
- 2007-03-05 US US11/682,126 patent/US7514344B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-02-24 US US12/391,306 patent/US7667294B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021894A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Toshiba Corp | バイポーラトランジスタおよびその製造方法 |
JP2001015524A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-19 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008244321A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP4573849B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2010-11-04 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7667294B2 (en) | 2010-02-23 |
US20070205487A1 (en) | 2007-09-06 |
US20090160025A1 (en) | 2009-06-25 |
US7514344B2 (en) | 2009-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5487304B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US7485924B2 (en) | Lateral double-diffused field effect transistor and integrated circuit having same | |
KR101144025B1 (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
US7791148B2 (en) | Semiconductor device | |
US7709925B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2009076761A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2007201220A5 (ja) | ||
JP2007220814A (ja) | 半導体装置 | |
US10978870B2 (en) | Electrostatic discharge protection device | |
JP2006013450A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2007242722A (ja) | 横型バイポーラトランジスタ | |
JP2009158621A (ja) | 半導体装置 | |
JPH11126899A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2003303962A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP4952042B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP4039998B2 (ja) | 半導体装置及び半導体集積回路装置 | |
US7928445B2 (en) | Semiconductor MOS transistor device | |
JP4956351B2 (ja) | Dmosトランジスタの製造方法 | |
JP2009187987A (ja) | 半導体装置 | |
JP2011192843A (ja) | 半導体装置 | |
JP4921925B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2011071325A (ja) | 半導体装置 | |
JP2009032928A (ja) | 絶縁ゲート型半導体装置およびその製造方法 | |
JP2012038949A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2010245314A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081216 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120501 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120904 |