JP2007212199A - センサのパッケージ構造及びこれを有するフローセンサ - Google Patents

センサのパッケージ構造及びこれを有するフローセンサ Download PDF

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Abstract

【課題】微少流量、圧力、温度、濃度、組成などを測定するセンサチップを金属部材で形成した流路(導通路)ボディに直接搭載しかつシール性を確保したセンサのパッケージ構造を提供する。
【解決手段】基板5の表面に検出部10が形成されたセンサチップ2と、基板の検出部周りの所定位置に配置され周囲を絶縁されて表面から裏面まで貫通し、表面側に検出部のリードパターンが裏面側に外部への信号取り出し手段31が接続される貫通電極15〜17と、センサチップを搭載し検出部と対向する面に流体の流路(導通路)が形成された流路ボディ3と、センサチップと流路ボディとの間に介在されて流路のシール性を確保するシール手段21と、センサチップを裏面側から流路ボディに押し付けて固定し貫通電極の裏面側から信号取り出し手段を導出させる領域4aが形成された押さえ板4とを備えている。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体製造装置に使用するガス等の微少な流量、圧力、温度、濃度、組成などを測定するセンサのパッケージ構造及びこれを有するフローセンサに関する。
例えば、半導体製造装置に使用するガス等の流体の流量を検出する流量測定装置(フローセンサ)として、流体に熱を付与して所定位置における流体の温度差を測定することにより流量を測定する熱式の流量測定装置がある(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。これらの流量測定装置は、シリコン基板上に流量検出部が形成されたセンサチップと、前記流量検出部を収容すると共に前記流量検出部を流れる流体の流路(溝)が形成された流路チップとしてのガラスチップ又はシリコン基板とを接合して形成されている。
特開平5−99722号公報(3−4頁、図1) 特開平2000−146652号公報(2頁、図1)
上記構成の流量測定装置を一般的に流路ボディがステンレス部材などで形成されたマスフローメータ、マスフローコントローラ等の流量計や流量制御機器に搭載するためには流量測定装置とステンレス部材との接続が不可欠である。
しかしながら、ガラスチップとステンレス部材で形成された流路ボディとをろう付け等で接合するとこれら両者間の熱膨張係数差による歪を引き起こし、センサ特性に影響を与える。また、電極取り出しのためにシリコン基板とガラスチップとの接合部の一部を通して流路の外側へリードパターンを引き出さなければならないため、その部分の強度やシール性を保持するための対策が必要となる。更に特許文献2に記載されている構造では電極取り出しのためにガラスチップの一部がくびれたりしているため、このくびれの部分の強度が低下するという問題がある。
本発明の目的は、半導体製造装置に使用するガス等の微少な流量、圧力、温度、濃度、組成などを測定するセンサチップを金属部材などで形成した流路(導通路)ボディに直接搭載しかつシール性を確保するようにしたセンサのパッケージ構造及びこれを有するフローセンサを提供することにある。
上述した課題を解決するために、本発明に係るセンサのパッケージ構造は、基板と当該基板の表面に形成された検出部とからなるセンサチップと、前記基板の前記検出部周りの所定位置に配置され周囲を絶縁されて表面から裏面まで貫通し、表面側端部に前記検出部のリードパターンが接続され、裏面側端部に外部への信号取り出し手段が接続される貫通電極と、金属部材で形成され、前記センサチップを搭載しかつ前記検出部と対向する面に該検出部への流体の導通路が形成された導通路ボディと、前記センサチップと導通路ボディとの間に介在されて前記流路のシール性を確保するシール手段と、前記センサチップを裏面側から前記導通路ボディに押し付けて固定しかつ前記貫通電極の裏面側端部から前記信号取り出し手段を導出させる領域が形成された押さえ部材とを備えたことを特徴としている。
基板の表面に形成された検出部のリードパターンを当該基板に形成された貫通電極の表面側端部に接続して形成したセンサチップを、金属部材などで形成された導通路ボディにシール手段を介して搭載し、検出部と対向して形成された導通路をシールする。そして、センサチップの裏面に押さえ部材を押し付けてセンサチップを導通路ボディに固定する。センサチップが導通路ボディに押し付けられるに伴いシール手段が潰されてセンサチップと導通路ボディとに密着し、導通路のシール性が確保される。また、センサチップと導通路ボディとの間の熱膨張係数差が吸収され、熱膨張係数差に起因する歪が低減されてセンサの安定性が向上する。
外部への信号取り出し手段は、一端が貫通電極の裏面側端部に接続され、他端が押し付け板の外部信号取り出し領域から導出される。このようにして、金属部材で形成された導通路ボディにセンサチップを直接搭載する。センサチップを導通路ボディに直接搭載することで、流路チップが不要となり構造が単純となる。
また、本発明の請求項2に記載のフローセンサは、基板と当該基板の表面に形成された流量検出部とからなるフローセンサチップと、前記基板の前記流量検出部周りの所定位置に配置され周囲を絶縁されて表面から裏面まで貫通し、表面側端部に前記流量検出部のリードパターンが接続され、裏面側端部に外部への信号取り出し手段が接続される貫通電極と、前記フローセンサチップを搭載しかつ前記流量検出部と対向する面に該流量検出部上を流れる流体の流路が形成された流路ボディと、前記フローセンサチップと流路ボディとの間に介在されて前記流路のシール性を確保するシール手段と、前記フローセンサチップを裏面側から前記流路ボディに押し付けて固定しかつ前記貫通電極の裏面側端部から前記信号取り出し手段を導出させる領域が形成された押さえ部材とを備えたことを特徴としている。
基板の表面に形成された流量検出部のリードパターンを当該基板に形成された貫通電極の表面側端部に接続して形成したフローセンサチップを、金属部材などで形成された流路ボディにシール手段を介して搭載し、検出部と対向して形成された流路をシールする。そして、フローセンサチップの裏面に押さえ部材を押し付けてフローセンサチップを流路ボディに固定する。フローセンサチップが流路ボディに押し付けられるに伴いシール手段が潰されてフローセンサチップと流路ボディとに密着し、流路のシール性が確保される。また、シール手段によりセンサチップと流路ボディとの間の熱膨張係数差が吸収され、熱膨張係数差に起因する歪が低減されてセンサの安定性が向上する。
外部への信号取り出し手段は、一端が貫通電極の裏面側端部に接続され、他端が押さえ部材の外部信号取り出し領域から導出される。このようにして、金属部材などで形成された流路ボディにフローセンサチップを直接搭載する。そして、フローセンサチップを流路ボディに直接搭載することで、流路チップが不要となりフローセンサの構造が単純となる。
本発明によると、センサチップを直接計測用の流路(導通路)ボディに搭載することによってガラスやシリコンなどで形成された流路チップを省略することができ、部品点数の低減を図ることができると共に流路チップとの接合が不要となり、コストの低減を図ることができる。
また、センサチップと流路ボディとの接続部品にシール手段を採用することにより、十分な気密性を確保することができると共に、シリコンの基板とステンレス部材等の金属部材からなる流路ボディとの熱膨張係数差を吸収することが可能であり、センサの特性が安定し、測定精度が向上する。
また、センサの信号をセンサチップの裏面から取り出すことができ、パッケージの構成が単純となり、コストの低減が図られると共に組み付け性の向上が図られる。また、流路ボディに形成される流路の高さ、幅、形状を変えることにより流量計測範囲を仕様に応じて容易に調整することができる。また、センサチップの流路ボディへの着脱が可能となり、センサチップの交換やメンテナンスが容易となる。
以下、本発明の一実施形態に係るセンサのパッケージ構造について図面に基づいて説明する。図1は、本発明に係るセンサのパッケージ構造を適用したフローセンサの平面図、図2は、図1に示したフローセンサの矢線II−IIに沿う断面図、図3は、図1に示したフローセンサの矢線III−IIIに沿う断面図を示す。図1乃至図3に示すようにフローセンサ1は、フローセンサチップ2とこのフローセンサチップ2を収容する流路ボディ3及び押さえ板4からなり、例えば半導体製造装置のマスフローメータ或いはマスフローコントローラ等の流量計或いは流量制御機器に接続される。
フローセンサチップ2は、図2に示すように例えば長方形状のシリコン基板5の表面5aに全面に亘り形成された窒化シリコン又は二酸化シリコンの絶縁膜(薄膜)6の中央位置に流量検出部10が形成され、更に流量検出部10が前記窒化シリコン又は二酸化シリコンの絶縁膜(薄膜)6より被覆されている。また、シリコン基板5の裏面5bも前記窒化シリコン又は二酸化シリコンの絶縁膜(薄膜)6より被覆されている。
シリコン基板5の表面5aには図2及び図3に示すように流量検出部10と対応する位置に凹部5cが形成されており、絶縁膜6の凹部5cを覆う部位はダイアフラムとされている。これにより、流量検出部10とシリコン基板5とが熱的に遮断されている。なお、凹部5cは、ここでは詳細には示さないが、前記絶縁膜の箇所に多数のスリットをフォトリソグラフィーとエッチングにより形成し、このスリットを介して異方性エッチングをシリコン基板5に施すことによって形成される。
流量検出部10は、図5に示すように例えば白金のパターニングでできた発熱素子としてのヒータ11と、ヒータ11の上流側及び下流側に等間隔で例えば白金薄膜でできた抵抗素子としての2つの測温素子12,13及びこれらのリードパターン11a,11b,12a,12b,13a,13bにより形成されている。
シリコン基板5には流量検出部周りの所定位置例えば流量検出部10の両側方にリードパターン11a,11b,12a,12b,13a,13bの先端部が接続される貫通電極15,16,17が形成されている。貫通電極15は、図3に示すように電極柱18と、この電極柱18の周りを絶縁する絶縁部材例えばガラス19からなり、シリコン基板5の表面5aから裏面5bまで気密状態を保ちながら貫通され、端面19a,19bがシリコン基板5の表面5a、裏面5bと面一とされている。
貫通電極15は、例えばシリコン基板5に穿設した孔の内壁面に熱酸化による酸化シリコン膜や、CVDによる酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などの絶縁膜を形成し、この孔に金属を充填した金属電極、又はシリコン基板5に穿設したリング状の孔に絶縁層となるガラスを充填し、その内側の円柱状のシリコンに不純物を加えて導電体としたシリコン電極などの公知の技術により形成されている。なお、上記の不純物は、シリコン基板5がP型シリコンの場合はB(ボロン)、In(インジウム)、Sb(アンチモン)など、N型シリコンの場合はP(りん)、As(砒素)などである。他の貫通電極16,17についても貫通電極15と同様に形成されている。
そして、図3及び図5に示すように流量検出部10のリードパターン11a,11bの先端部が貫通電極15の表面側の端面19aに電気的に接続されている。他のリードパターン12a,12b,13a,13bの先端部も貫通電極16,17の表面側端面に電気的に接続されている。
流路ボディ3は、図2乃至図4に示すように直方体の形状をなし、上面3aにフローセンサチップ2を収容する平面視長方形状の凹部3b(図4参照)が形成されている。この凹部3bの底面には周縁部が側壁に内接する平面視楕円形(長円形)の凹溝3cが形成され、当該凹溝3cの内側に同心的に平面視楕円形(長円形)状の凹部3dが形成されている。
凹溝3cは、後述する接続部材及びシール手段としての楕円形のOリング(以下「楕円Oリング」という)21を装着するためのもので、その内側周縁部3eの高さは楕円Oリング21の太さよりも低く設定されている。また、その幅は、楕円Oリング21の太さよりも僅かに幅広く形成されており、楕円Oリング21が潰れたときにも凹溝3cからはみ出さないようにされている。そして、凹部3dは、流量検出部10の上を流れる流体の流路とされる(以下「流路3d」という)。
流路ボディ3には図2及び図4に示すように流路3dに流体を導入、導出するための流体導入用流路23、流体導出用の流路24が形成されている(図2参照)。これらの流路23,24は、各一側開口端23a,24aが流路ボディ3の短辺側の両側面3f,3gに開口し、各他側開口端23b,24bが流路3dの長軸側の両側部近傍底面に開口して形成されている。
流路23,24の開口端23a,24aは、同心的に拡径されて内周面に例えばねじが刻設されており、図示しない流体通路としての管路が接続可能とされている。また、図4に示すように流路ボディ3の上面3aの四隅にはねじ穴3hが形成されている。この流路ボディ3は、例えばステンレス部材により形成されている。
図1に戻り押さえ板4は、中央に外部信号取り出し領域としての穴4aが形成されている。この穴4aは、図1及び図3に示すように内周面4bがフローセンサチップ2の流量検出部10の両側方に形成された貫通電極15,16,17よりも外側に位置する大きさとされており、これらの貫通電極15,16,17の裏面側端面と接触しないようになっている。
また、押さえ板4の四隅には、図2に示すように流路ボディ3の上面3aに形成されているねじ穴3hと対応する位置にボルト挿通孔4cが形成されている。この押さえ板4は、金属部材例えば流路ボディ3と同様にステンレス部材により形成されている。
押さえ板4の穴4aの貫通電極15,16,17と対向する両縁部にプリント基板26,26が接着材等で固定されている(図3参照)。このプリント基板26は、上面に貫通電極15,16,17の裏面側端面と対応して電極27,28,29が形成されている。
以下に上記構成のフローセンサユニット1の組付手順を説明する。図2及び図3に示すように流路ボディ3の楕円形状の凹溝3cに接続部材及びシール手段としての楕円Oリング21を装着する。そして、流路ボディ3の凹部3bにフローセンサチップ2を挿入し、楕円Oリング21上に載置する。
次いで、フローセンサチップ2の裏面に押さえ板4を載置し、ボルト挿入孔4cにボルト30を挿入して流路ボディ3のねじ穴3hに螺合して締め付け固定する。楕円Oリング21は、ボルト30の締め付けに伴い潰れてフローセンサチップ2の表面即ち、シリコン基板5の表面5aに密着する。これにより、流路3dが十分な気密性を有して密封される。このようにして、フローセンサチップ2が流路ボディ3に搭載固定される。
この状態において図2及び図3に示すようにシリコン基板5の表面5aと流路ボディ3の内側周縁部3eの上端面との間に僅かな隙間が形成されており、シリコン基板5が内側周縁部3eの上端面即ち、流路ボディ3に押し付けられることが防止されている。
貫通電極15,16,17が穴4aの内方にかつ各裏面側端面が穴4aの内周面4bから離隔していることにより(貫通電極15のみを示す図3参照)、貫通電極15,16,17が押さえ板4と電気的に完全に絶縁されている。
次いで、押さえ板4の穴4aを通して貫通電極15,16,17の裏面側端面とプリント基板26の対応する各電極27,28,29を夫々外部への信号取り出し手段としてのワイヤボンド31で接続する。このようにして、流路ボディ3にフローセンサチップ2が直接搭載される(図3参照)。そして、プリント基板26の各電極27,28,29は、図示しない信号取り出し線が接続されて図示しない制御回路に接続される。また、流路ボディ3の流路23,24の各一端23a,24aは、図示しない流体の流路に接続される。
フローセンサチップ2と流路ボディ3との間の接続部品に楕円Oリング21を採用することで、流路3dの十分な気密性を確保することができると共に、シリコン基板5とステンレス部材で形成された流路ボディ3との熱膨張係数差を吸収することが可能となり、フローセンサチップ2の熱膨張係数差に起因する歪みが防止され、センサの特性が安定して測定精度の向上が図られる。
また、流路ボディに形成される流路3dの高さ(流体の流れる方向と直交する方向の断面積)を変えることにより流量計測範囲を仕様に応じて容易に調整することができる。また、フローセンサチップ2の流路ボディ3への着脱が可能であり、フローセンサチップ2の交換やメンテナンスが容易である。
次にフローセンサ2の作用を説明する。図2に示すように流路ボディ3の流体導入用流路23から例えばガス等の流体を流路3dに導入し、流体導出用流路24から導出させて流量検出部10に矢印で示すように前記ガスを流し、ヒータ11に通電する。ヒータ11は、ヒータ制御回路によりシリコン基板5に設けられた図示しない周囲温度センサで測定された流体温度よりもある一定温度高く加熱され、流量検出部10及び流路3dを流れるガスを加熱する。
ガスの流れがないときは、ヒータ11の上流側/下流側に均一の温度分布が形成されており、上流側の測温素子12と下流側の測温素子13は、略等しい温度に対応する抵抗値を示す。一方、ガスの流れがあるときは、ヒータ11の上流側/下流側の均一な温度分布がくずれ、上流側の温度が低くなり、下流側の温度が高くなる。
そして、ここでは詳細には説明しないが上流側の測温素子12と下流側の測温素子13により構成されるホイーストンブリッジ回路により上流側の測温素子12と下流側の測温素子13の抵抗値差つまり温度差を検出し、流路3d内を流れるガスの流量を測定する。
なお、上記実施形態においてはフローセンサチップ2の基板としてシリコンを使用したが、これに限るものではなく、セラミックスやサファイアや金属を使用しても良い。また、流路ボディ3や押さえ板4は、金属部材ではなくセラミックスや樹脂でもかまわない。
押さえ板4には必ずしも穴が開いている必要は無く、その板厚方向に貫通した、例えばピンの周りをハーメチックシールガラスで封止したような電極取り出し手段を備えていても良く、その電極と貫通電極15,16,17の裏面側端面を半田や導電性樹脂で直接電気的に接続しても良い。また、接続部材及びシール手段として楕円Oリング21の代わりに、流路3d形状よりも少し大きめの穴があいたシート状パッキンを使用しても良い。
更に流量検出部10の構造は、上記実施形態のように絶縁膜6がシリコン基板5の凹部5cを覆うようなダイアフラム構造でも良く、或いは絶縁膜6がシリコン基板5の凹部5cの少なくとも一部を覆うようなブリッジ構造でも良い。
また、上記実施形態においてはフローセンサチップ2を流路ボディ3に収容したパッケージ構造について記述したが、これに限るものではなくフローセンサに代えて圧力検出部を形成した圧力センサチップを同様の流路ボディに収容してパッケージ構造とする場合にも適用し得ることは勿論である。なお、圧力検出部の場合流路は、流体の圧力を圧力検出部に伝達するための伝達路(導通路)としての役割となり、一方の流路23のみを形成すれば良い。同様に、流体の温度、濃度、組成などの検出部を形成したセンサにも用いることができる。
なお、上記実施形態においては1つのヒータ(発熱素子)と、このヒータの両側に配置した2つの測温素子とにより傍熱型の流量検出部を構成した場合について記述したが、これに限るものではなく、発熱素子兼測温素子が1つ、即ち1つのヒータで自己発熱型の流量検出部を構成しても良く、或いは、発熱素子兼測温素子が2つ、即ち2つのヒータで自己発熱型の流量検出部を構成しても良い。
本発明の一実施形態に係るセンサのパッケージ構造を適用したフローセンサの平面図である。 図1に示したフローセンサの矢線II−IIに沿う断面図である。 図1に示したフローセンサの矢線III−IIIに沿う断面図である。 図2に示した流路ボディの平面図である。 図2に示したフローセンサチップの平面図である。
符号の説明
1 フローセンサ
2 フローセンサチップ
3 流路ボディ
3a 上面
3b 凹部
3c 凹溝
3d 流路(凹部)
3e 内側周縁部
3f,3g 側面
3h ねじ穴
4 押さえ板
4a 穴(外部信号取り出し領域)
4b 内周面
4c ボルト挿通孔
5 シリコン基板
5a 表面
5b 裏面
5c 凹部
6 絶縁膜(薄膜)
10 流量検出部
11 ヒータ
11a,11b リードパターン
12 測温素子
12a,12b リードパターン
13 測温素子
13a,13b リードパターン
15,16,17 貫通電極
18 電極柱
19 ガラス(絶縁部材)
19a,19b 端面
21 楕円Oリング
23 流路
23a,23b 開口端
24 流路
24a,24b 開口端
26 プリント基板
27,28,29 電極
30 ボルト
31 ワイヤボンド(外部への信号取り出し手段)

Claims (2)

  1. 基板と当該基板の表面に形成された検出部とからなるセンサチップと、
    前記基板の前記検出部周りの所定位置に配置され周囲を絶縁されて表面から裏面まで貫通し、表面側端部に前記検出部のリードパターンが接続され、裏面側端部に外部への信号取り出し手段が接続される貫通電極と、
    前記センサチップを搭載しかつ前記検出部と対向する面に該検出部への流体の導通路が形成された導通路ボディと、
    前記センサチップと導通路ボディとの間に介在されて前記導通路のシール性を確保するシール手段と、
    前記センサチップを裏面側から前記導通路ボディに押し付けて固定しかつ前記貫通電極の裏面側端部から前記信号取り出し手段を導出させる領域が形成された押さえ部材とを備えたことを特徴とするセンサのパッケージ構造。
  2. 基板と当該基板の表面に形成された流量検出部とからなるフローセンサチップと、
    前記基板の前記流量検出部周りの所定位置に配置され周囲を絶縁されて表面から裏面まで貫通し、表面側端部に前記流量検出部のリードパターンが接続され、裏面側端部に外部への信号取り出し手段が接続される貫通電極と、
    前記フローセンサチップを搭載しかつ前記流量検出部と対向する面に該流量検出部上を流れる流体の流路が形成された流路ボディと、
    前記フローセンサチップと流路ボディとの間に介在されて前記流路のシール性を確保するシール手段と、
    前記フローセンサチップを裏面側から前記流路ボディに押し付けて固定しかつ前記貫通電極の裏面側端部から前記信号取り出し手段を導出させる領域が形成された押さえ部材とを備えたセンサのパッケージ構造を有するフローセンサ。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009109349A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Yokogawa Electric Corp フローセンサ
EP2098832A2 (en) 2008-03-05 2009-09-09 Omron Corporation Thermal flow rate sensor
JP2010230312A (ja) * 2009-03-25 2010-10-14 Fujikura Ltd 半導体センサの製造方法及び半導体センサ
JP2011209130A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Kikuchiseisakusho Co Ltd 流量センサーおよび流量検出装置
JP2012533750A (ja) * 2009-07-22 2012-12-27 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 短レスポンス時間及び高感度を持つ熱流センサ集積回路
WO2018186539A1 (ko) * 2017-04-06 2018-10-11 인제대학교 산학협력단 박막을 이용하여 분리 가능한 구조를 갖는 미세 유체 유속 측정장치
KR102054610B1 (ko) * 2019-01-02 2019-12-10 인제대학교 산학협력단 다양한 종류의 박막을 이용하여 압력의 변화에 일정한 민감도를 갖는 일회용 유속측정장치
WO2020055152A1 (ko) * 2018-09-13 2020-03-19 인제대학교 산학협력단 다양한 종류의 박막을 이용하여 압력의 변화에 일정한 민감도를 갖는 일회용 유속측정장치와 다공성 박막에 돌출된 서포트 패턴을 이용하여 채널 내 미세 버블의 제거가 가능한 마이크로 플루이딕 디바이스 및 그 제조방법

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7797997B2 (en) * 2007-08-24 2010-09-21 Siargo Inc. Configuration and methods for manufacturing time-of-flight MEMS mass flow sensor
JP5052275B2 (ja) * 2007-09-20 2012-10-17 アズビル株式会社 フローセンサの取付構造
EP2282180A1 (en) * 2007-09-20 2011-02-09 Yamatake Corporation Flow sensor and manufacturing method therefor
JP4836988B2 (ja) * 2008-04-30 2011-12-14 日立オートモティブシステムズ株式会社 熱式流量計
US9003877B2 (en) * 2010-06-15 2015-04-14 Honeywell International Inc. Flow sensor assembly
US8418549B2 (en) * 2011-01-31 2013-04-16 Honeywell International Inc. Flow sensor assembly with integral bypass channel
US20120001273A1 (en) * 2010-07-02 2012-01-05 Siargo Ltd. Micro-package for Micromachining Liquid Flow Sensor Chip
CN102052940B (zh) * 2010-10-26 2012-01-04 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 一种基于静态膨胀法真空标准的极小气体流量测量装置
CN102042852B (zh) * 2010-10-26 2011-12-21 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 一种测量极小气体流量的方法
CN101995275B (zh) * 2010-10-26 2011-12-07 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 一种基于静态膨胀法真空标准的极小气体流量测量方法
JP2014532475A (ja) * 2011-10-28 2014-12-08 ザ・フェインスタイン・インスティチュート・フォー・メディカル・リサーチThe Feinstein Institute for Medical Research 局所血流量を連続的に監視するためのマイクロチップセンサ
JP5645880B2 (ja) * 2012-06-15 2014-12-24 日立オートモティブシステムズ株式会社 熱式流量計
MX339283B (es) * 2012-06-15 2016-05-10 Hitachi Automotive Systems Ltd Medidor de flujo térmico.
JP2014016238A (ja) * 2012-07-09 2014-01-30 Azbil Corp フローセンサ
US9354095B2 (en) 2012-10-02 2016-05-31 Honeywell International Inc. Modular flow sensor
NL1040148C2 (en) * 2013-04-04 2014-10-07 Putten Instr B V Van Packaging method and package.
US9612146B2 (en) 2014-02-07 2017-04-04 Honeywell International, Inc. Airflow sensor with dust reduction
US9952079B2 (en) 2015-07-15 2018-04-24 Honeywell International Inc. Flow sensor
JP7134920B2 (ja) * 2019-06-17 2022-09-12 日立Astemo株式会社 熱式センサ装置
US11965762B2 (en) 2019-10-21 2024-04-23 Flusso Limited Flow sensor
CN113008959B (zh) * 2021-02-26 2022-07-15 深圳市西尔曼科技有限公司 一种测试电极、电极模组及检测系统

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0835896A (ja) * 1991-07-16 1996-02-06 Terumo Corp 圧力変換器
JPH11317474A (ja) * 1997-04-03 1999-11-16 Yamatake Corp 回路基板およびその製造方法
DE19906100A1 (de) * 1999-02-13 2000-09-07 Joerg Mueller Thermischer Durchflußsensor in Mikrosystemtechnik
US20020043710A1 (en) * 2000-08-23 2002-04-18 Felix Mayer Flow sensor in a housing
JP2002519687A (ja) * 1998-07-01 2002-07-02 メンシス インコーポレイテッド 半導体マイクロアネモメータ
WO2003060434A1 (fr) * 2002-01-09 2003-07-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Capteur thermique et son procédé de fabrication
JP2003254806A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Ckd Corp 熱式流量計
US20040118218A1 (en) * 2002-08-27 2004-06-24 Felix Mayer Flow detector with lead-throughs and method for its production

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4130018A (en) * 1977-08-30 1978-12-19 Envirotech Corporation Ultrasonic transducer with reference reflector
JPS55177655U (ja) * 1979-06-08 1980-12-19
JPH0599722A (ja) * 1991-10-11 1993-04-23 Nippon Steel Corp シリコンを用いた流速測定装置
US5789673A (en) * 1993-09-14 1998-08-04 Hitachi, Ltd. Thermal type air flow measuring instrument for internal combustion engine
KR100337658B1 (ko) * 1997-04-03 2002-05-24 사토 요시하루 회로 기판 및 검출기 그리고 이의 제조 방법
US6378365B1 (en) * 1997-08-22 2002-04-30 Eulite Laboratories Inc. Micromachined thermal flowmeter having heating element disposed in a silicon island
JP2000146652A (ja) 1998-11-05 2000-05-26 Fuji Electric Co Ltd マスフローセンサ
US6184773B1 (en) * 1998-12-07 2001-02-06 Honeywell Inc. Rugged fluid flow and property microsensor
US6258263B1 (en) * 1999-09-17 2001-07-10 The University Of Cincinnati Liquid chromatograph on a chip
EP1365216B1 (en) * 2002-05-10 2018-01-17 Azbil Corporation Flow sensor and method of manufacturing the same
US6799456B2 (en) * 2003-02-26 2004-10-05 Ckd Corporation Thermal flow sensor

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0835896A (ja) * 1991-07-16 1996-02-06 Terumo Corp 圧力変換器
JPH11317474A (ja) * 1997-04-03 1999-11-16 Yamatake Corp 回路基板およびその製造方法
JP2002519687A (ja) * 1998-07-01 2002-07-02 メンシス インコーポレイテッド 半導体マイクロアネモメータ
DE19906100A1 (de) * 1999-02-13 2000-09-07 Joerg Mueller Thermischer Durchflußsensor in Mikrosystemtechnik
US20020043710A1 (en) * 2000-08-23 2002-04-18 Felix Mayer Flow sensor in a housing
WO2003060434A1 (fr) * 2002-01-09 2003-07-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Capteur thermique et son procédé de fabrication
JP2003254806A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Ckd Corp 熱式流量計
US20040118218A1 (en) * 2002-08-27 2004-06-24 Felix Mayer Flow detector with lead-throughs and method for its production

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009109349A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Yokogawa Electric Corp フローセンサ
EP2098832A2 (en) 2008-03-05 2009-09-09 Omron Corporation Thermal flow rate sensor
EP2098832A3 (en) * 2008-03-05 2013-03-27 Omron Corporation Thermal flow rate sensor
JP2010230312A (ja) * 2009-03-25 2010-10-14 Fujikura Ltd 半導体センサの製造方法及び半導体センサ
JP2012533750A (ja) * 2009-07-22 2012-12-27 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 短レスポンス時間及び高感度を持つ熱流センサ集積回路
US9072464B2 (en) 2009-07-22 2015-07-07 Koninklijke Philips N.V. Thermal flow sensor integrated circuit with low response time and high sensitivity
JP2011209130A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Kikuchiseisakusho Co Ltd 流量センサーおよび流量検出装置
WO2018186539A1 (ko) * 2017-04-06 2018-10-11 인제대학교 산학협력단 박막을 이용하여 분리 가능한 구조를 갖는 미세 유체 유속 측정장치
US12019094B2 (en) 2017-04-06 2024-06-25 Inje University Industry-Academic Cooperation Foundation Device for measuring microfluid flow velocity by using ultra thin film, having separable structure
WO2020055152A1 (ko) * 2018-09-13 2020-03-19 인제대학교 산학협력단 다양한 종류의 박막을 이용하여 압력의 변화에 일정한 민감도를 갖는 일회용 유속측정장치와 다공성 박막에 돌출된 서포트 패턴을 이용하여 채널 내 미세 버블의 제거가 가능한 마이크로 플루이딕 디바이스 및 그 제조방법
KR102054610B1 (ko) * 2019-01-02 2019-12-10 인제대학교 산학협력단 다양한 종류의 박막을 이용하여 압력의 변화에 일정한 민감도를 갖는 일회용 유속측정장치

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