JP2007149780A - 積層型セラミック電子部品およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】小型、高容量で、かつ高い耐電圧を有し、しかも、層間剥離現象(デラミネーション)などの構造欠陥が有効に防止された積層型セラミック電子部品を提供すること。
【解決手段】内部電極層3と、層間誘電体層2aと、が交互に積層された内層100と、中間誘電体層2bで形成され、一対の前記内層100の間に配置されている中間層200と、を有する積層型セラミック電子部品であって、前記中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径が、前記層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径よりも、大きいことを特徴とする積層型セラミック電子部品。
【選択図】図1
【解決手段】内部電極層3と、層間誘電体層2aと、が交互に積層された内層100と、中間誘電体層2bで形成され、一対の前記内層100の間に配置されている中間層200と、を有する積層型セラミック電子部品であって、前記中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径が、前記層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径よりも、大きいことを特徴とする積層型セラミック電子部品。
【選択図】図1
Description
本発明は、積層セラミックコンデンサなどの積層型セラミック電子部品、およびその製造方法に係り、さらに詳しくは、小型、高容量で、かつ耐電圧の高い積層型セラミック電子部品、およびその製造方法に関する。
積層型セラミック電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサは、小型、大容量、高信頼性の電子部品として広く利用されており、1台の電子機器の中で使用される個数も多数にのぼる。近年、機器の小型・高性能化にともない、積層セラミックコンデンサに対する更なる小型化、大容量化、低価格化、高信頼性化への要求はますます厳しくなっている。
積層セラミックコンデンサは、通常、内部電極層用の塗料と誘電体層用の塗料とを使用して、シート法や印刷法等により積層し、積層体中の内部電極層と誘電体層とを同時に焼成して製造される。内部電極層の導電材としては、一般にPdやPd合金が用いられているが、Pdは高価であるため、比較的安価なNiやNi合金等の卑金属が使用されるようになってきている。内部電極層の導電材として卑金属を用いる場合、大気中で焼成を行なうと内部電極層が酸化してしまうため、誘電体層と内部電極層との同時焼成を、還元性雰囲気中で行なう必要がある。しかし、還元性雰囲気中で焼成すると、誘電体層が還元され、比抵抗が低くなってしまう。このため、非還元性の誘電体材料が開発されている。
非還元性の誘電体材料で、しかも小型化、高容量化を達成できる誘電体材料として、チタン酸バリウム等の高誘電率系誘電体の材料が知られている。このような高誘電率系誘電体は、結晶構造に大きな歪みをもたせることで、双極子を形成し易くすることにより、高い誘電率を実現できるものである。
しかしながら、積層セラミックコンデンサの誘電体層に、このような高誘電率系誘電体を用いた場合、結晶の歪みが原因となり、電界を印加した際に機械的歪みが発生するという逆圧電現象が起こってしまう。そのため、積層セラミックコンデンサを大容量化するために、誘電体層の積層数を増加させると、逆圧電現象に起因する機械的歪みにより、絶縁破壊電圧よりも低い電圧でクラックが発生してしまい、その結果、耐電圧が低くなってしまうという問題がある。
これに対し、たとえば特許文献1では、内部電極層と層間誘電体層とを交互に積層した容量形成層の間に、逆圧電現象によって引き起こされる誘電体の応力を緩和するための中間層を設けた積層セラミックコンデンサが開示されている。しかしながら、この文献においては、実際に容量を形成する層間誘電体層と、逆圧電現象を緩和するための中間層と、を同じ誘電体材料を用いて形成しているため、層間誘電体層と中間層との間で層間剥離現象(デラミネーション)が発生してしまうという不具合があった。
また、このような中間層は、その目的を達成するために、数十μm〜数百μmと比較的に厚く形成することが求められており、一般に数μm〜十数μmの厚みを有するグリーンシートを複数積層することにより形成されることとなる。しかしながら、この文献のように、層間誘電体層に用いるような微細な誘電体材料を、中間層にも使用すると、グリーンシートの通気性が悪化してしまい、複数のグリーンシートを良好かつ効率的に積層することが困難となり、その結果、生産性が低下してしまうという不具合もあった。
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、小型、高容量で、かつ高い耐電圧を有し、しかも、層間剥離現象(デラミネーション)などの構造欠陥が有効に防止された積層型セラミック電子部品およびその製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る積層型セラミック電子部品は、
内部電極層と、層間誘電体層と、が交互に積層された内層と、
中間誘電体層で形成され、一対の前記内層の間に配置されている中間層と、を有する積層型セラミック電子部品であって、
前記中間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径が、前記層間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径よりも、大きいことを特徴とする。
内部電極層と、層間誘電体層と、が交互に積層された内層と、
中間誘電体層で形成され、一対の前記内層の間に配置されている中間層と、を有する積層型セラミック電子部品であって、
前記中間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径が、前記層間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径よりも、大きいことを特徴とする。
好ましくは、前記層間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をα1[μm]、前記中間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をβ1[μm]とした場合に、前記α1とβ1との関係が0.5≦α1/β1≦0.95である。
前記中間層は、逆圧電現象によって引き起こされる層間誘電体層の応力を緩和するために、通常、前記層間誘電体層の厚みよりも厚く形成され、その厚みは、好ましくは2〜500μmである。
本発明の積層型セラミック電子部品の製造方法は、
上記いずれかの積層型セラミック電子部品を製造する方法であって、
前記中間誘電体層を構成することとなる誘電体原料として、前記層間誘電体層を構成することとなる誘電体原料よりも、小さな比表面積を有する誘電体原料を使用することを特徴とする。
上記いずれかの積層型セラミック電子部品を製造する方法であって、
前記中間誘電体層を構成することとなる誘電体原料として、前記層間誘電体層を構成することとなる誘電体原料よりも、小さな比表面積を有する誘電体原料を使用することを特徴とする。
本発明の製造方法において、好ましくは、前記層間誘電体層を構成することとなる誘電体原料の比表面積をα2[m2/g]、前記中間誘電体層を構成することとなる誘電体原料の比表面積をβ2[m2/g]とした場合に、前記α2とβ2との関係が1.05≦α2/β2≦2である。
本発明に係る積層型セラミック電子部品としては、特に限定されないが、積層セラミックコンデンサ、圧電素子、チップインダクタ、チップバリスタ、チップサーミスタ、チップ抵抗、その他の表面実装チップ型電子部品(SMD)などが例示される。
本発明によれば、層間誘電体層と内部電極層とが交互に積層されてなる一対の内層の間に、中間誘電体層からなる中間層を形成するとともに、この中間誘電体層を、層間誘電体層を構成するセラミック粒子よりも大きな平均結晶粒径を有するセラミック粒子で構成している。そのため、逆圧電現象による機械的歪みに起因するクラックの発生を防止しつつ、しかも、内層と、中間層との界面における、層間剥離現象(デラミネーション)などの構造欠陥の発生を有効に防止することができる。その結果、層間誘電体層を薄層、多層化し、積層型セラミック電子部品を小型、高容量化した場合においても、耐電圧を高くできるとともに、信頼性を向上させることができる。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。
積層セラミックコンデンサ
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、層間誘電体層2aと内部電極層3とが交互に積層されてなる一対の内層100と、この内層100の間に配置され、中間誘電体層2bからなる中間層200と、を含有するコンデンサ素子本体10を有する。このコンデンサ素子本体10の両側端部には、素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。内部電極層3は、各側端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、層間誘電体層2aと内部電極層3とが交互に積層されてなる一対の内層100と、この内層100の間に配置され、中間誘電体層2bからなる中間層200と、を含有するコンデンサ素子本体10を有する。このコンデンサ素子本体10の両側端部には、素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。内部電極層3は、各側端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
そして、コンデンサ素子本体10において、内部電極層3および層間誘電体層2aの積層方向の両外側端部には、外側誘電体層2cからなる外層300が配置してあり、素子本体10の内部を保護している。
コンデンサ素子本体10の形状に特に制限はないが、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよいが、通常、縦(0.6〜5.6mm、好ましくは0.6〜3.2mm)×横(0.3〜5.0mm、好ましくは0.3〜1.6mm)×厚み(0.1〜1.9mm、好ましくは0.3〜1.6mm)程度である。
層間誘電体層2a
層間誘電体層2aは、複数のセラミック粒子からなる誘電体磁器組成物で構成される。誘電体磁器組成物としては、好ましくは、組成式ABO3 で表され、組成式中のAサイトがSr、CaおよびBaから選ばれる少なくとも1つの元素で構成され、BサイトがTiおよびZrの少なくとも1つの元素で構成されているペロブスカイト型結晶構造を持つ誘電体酸化物を主成分として含有する。この際、酸素(O)量は、上記式の化学量論組成から若干偏倚してもよい。
層間誘電体層2aは、複数のセラミック粒子からなる誘電体磁器組成物で構成される。誘電体磁器組成物としては、好ましくは、組成式ABO3 で表され、組成式中のAサイトがSr、CaおよびBaから選ばれる少なくとも1つの元素で構成され、BサイトがTiおよびZrの少なくとも1つの元素で構成されているペロブスカイト型結晶構造を持つ誘電体酸化物を主成分として含有する。この際、酸素(O)量は、上記式の化学量論組成から若干偏倚してもよい。
本発明では、特に、AサイトをBaで主として構成し、BサイトをTiで主として構成し、チタン酸バリウム(より好ましくは、組成式Bam TiO2+m で表され、mが0.995≦m≦1.010であり、BaとTiとの比が0.995≦Ba/Ti≦1.010である)とすることが好ましい。高誘電率系の誘電体材料であるチタン酸バリウムを用いることにより、誘電体磁器組成物の高誘電率化を図ることができ、積層セラミックコンデンサ1の小型、高容量化が可能となる。
また、誘電体磁器組成物中には、必要に応じて各種副成分が含有されていていても良い。副成分としては、Sr,Zr,Y,Gd,Tb,Dy,Ho,V,Mo,Zn,Cd,Ti,Sn,W,Ba,Ca,Mn,Mg,Cr,Si,およびPの酸化物から選ばれる1種類以上が例示される。副成分を添加することにより、主成分の誘電特性を劣化させることなく低温焼成が可能となる。そして、層間誘電体層を薄層化した場合の信頼性不良を低減することができ、長寿命化を図ることができる。ただし、本発明では、層間誘電体層を構成する誘電体磁器組成物の組成は、上記に限定されない。
図1に示す層間誘電体層2aの積層数や厚み等の諸条件は、目的や用途に応じ適宜決定すればよいが、本実施形態では、層間誘電体層2aの厚みは、好ましくは0.5〜100μm、より好ましくは0.5〜30μmに薄層化されている。また、積層数は、50層以上に多層化することが好ましい。層間誘電体層2aを薄層、多層化することにより、積層セラミックコンデンサの小型、高容量化を図ることができる。
中間誘電体層2b
中間誘電体層2bは、層間誘電体層2aと内部電極層3とが交互に積層されてなる一対の内層100の間に配置された誘電体層であり、中間層200を構成する。この中間誘電体層2b(すなわち、中間層200)は、積層セラミックコンデンサ1に電界を印加した際に、逆圧電現象によって引き起こされる層間誘電体層2aの応力を緩和するために形成される。このような中間誘電体層2bを形成し、層間誘電体層2aの応力を緩和することにより、逆圧電現象に起因する機械的歪みによるクラックの発生を有効に防止することができる。そして、その結果として、積層セラミックコンデンサ1の耐電圧を向上させることができる。
中間誘電体層2bは、層間誘電体層2aと内部電極層3とが交互に積層されてなる一対の内層100の間に配置された誘電体層であり、中間層200を構成する。この中間誘電体層2b(すなわち、中間層200)は、積層セラミックコンデンサ1に電界を印加した際に、逆圧電現象によって引き起こされる層間誘電体層2aの応力を緩和するために形成される。このような中間誘電体層2bを形成し、層間誘電体層2aの応力を緩和することにより、逆圧電現象に起因する機械的歪みによるクラックの発生を有効に防止することができる。そして、その結果として、積層セラミックコンデンサ1の耐電圧を向上させることができる。
中間誘電体層2bは、層間誘電体層2aと同様に、複数のセラミック粒子からなる誘電体磁器組成物で構成され、また、その組成も層間誘電体層2aと同様とすれば良い。中間誘電体層2bの厚み(すなわち、中間層200の厚み)は、好ましくは2〜500μm、より好ましくは10〜300μmである。中間誘電体層2bの厚みが薄すぎると、逆圧電現象に起因する機械的歪みの抑制効果が不十分となり、クラックが発生し易くなる傾向にある。一方、厚すぎると、逆圧電現象に起因する機械的歪みの抑制効果は厚みに応じて高くなるものの、素子本体10中に占める中間誘電体層2bの割合が高くなってしまい、その結果、高容量化が困難となってしまう。
層間誘電体層2aと中間誘電体層2bとの関係
本実施形態では、図2に示す層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径と、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径と、を次のような関係とする。
すなわち、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をα1[μm]、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をβ1[μm]とした場合に、α1<β1の関係とする。すなわち、中間誘電体層2bを、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子よりも大きな平均結晶粒径を有するセラミック粒子で構成する。
本実施形態では、図2に示す層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径と、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径と、を次のような関係とする。
すなわち、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をα1[μm]、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をβ1[μm]とした場合に、α1<β1の関係とする。すなわち、中間誘電体層2bを、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子よりも大きな平均結晶粒径を有するセラミック粒子で構成する。
本実施形態は、層間誘電体層2aと内部電極層3とが交互に積層されてなる一対の内層100の間に、中間誘電体層2bからなる中間層200を形成するとともに、この中間誘電体層2bを、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子よりも大きな平均結晶粒径を有するセラミック粒子で構成する点に最大の特徴を有する。そして、このような構成を採用することにより、逆圧電現象による機械的歪みに起因するクラックの発生を防止しつつ、しかも、内層100と、中間誘電体層2bからなる中間層200との界面における、層間剥離現象(デラミネーション)などの構造欠陥の発生を有効に防止することができる。そのため、層間誘電体層2aを薄層、多層化し、積層セラミックコンデンサを小型、高容量化した場合においても、耐電圧を高くできるとともに、信頼性を向上させることができる。
層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径であるα1と、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径であるβ1とは、0.5≦α1/β1≦0.95の関係とすることが好ましく、0.6≦α1/β1≦0.9の関係とすることがより好ましい。α1/β1が0.95より大きいと、内層100と、中間層200との界面で、デラミネーションが発生し易くなる傾向にある。一方、α1/β1が0.5より小さいと、中間誘電体層2bの焼結が不十分となってしまい、構造欠陥が発生し易くなる傾向にある。
なお、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径であるα1は、β1との関係が上記所定の関係となっていれば良く、特に限定されないが、好ましくは0.1〜2μm、より好ましくは0.2〜1μmである。また、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径であるβ1についても、特に限定されないが、好ましく0.2〜3μm、より好ましくは0.25〜1μmである。
外側誘電体層2c
外側誘電体層2cは、内層100の両外側端部に配置され、外層300を構成する。この外側誘電体層2c(すなわち、外層300)は、主に、素子本体10の内部を保護するために形成される。外側誘電体層2cは、層間誘電体層2aと同様に、複数のセラミック粒子からなる誘電体磁器組成物で構成され、また、その組成も層間誘電体層2aと同様とすれば良い。外側誘電体層2cの厚み(すなわち、外層300の厚み)は、たとえば100μm〜数百μm程度である。
外側誘電体層2cは、内層100の両外側端部に配置され、外層300を構成する。この外側誘電体層2c(すなわち、外層300)は、主に、素子本体10の内部を保護するために形成される。外側誘電体層2cは、層間誘電体層2aと同様に、複数のセラミック粒子からなる誘電体磁器組成物で構成され、また、その組成も層間誘電体層2aと同様とすれば良い。外側誘電体層2cの厚み(すなわち、外層300の厚み)は、たとえば100μm〜数百μm程度である。
内部電極層3
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、各誘電体層2a,2b,2cの構成材料が耐還元性を有するため、卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、Ni、Cu、Ni合金またはCu合金が好ましい。内部電極層3の主成分を卑金属にした場合には、誘電体が還元されないように、低酸素分圧(還元雰囲気)で焼成するという方法がとられている。
内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.5〜5μm程度である。
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、各誘電体層2a,2b,2cの構成材料が耐還元性を有するため、卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、Ni、Cu、Ni合金またはCu合金が好ましい。内部電極層3の主成分を卑金属にした場合には、誘電体が還元されないように、低酸素分圧(還元雰囲気)で焼成するという方法がとられている。
内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.5〜5μm程度である。
外部電極4
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、通常、CuやCu合金あるいはNiやNi合金、あるいはSnやSn合金等を用いる。なお、AgやAg−Pd合金等も、もちろん使用可能である。なお、本実施形態では、安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。
外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定されればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、通常、CuやCu合金あるいはNiやNi合金、あるいはSnやSn合金等を用いる。なお、AgやAg−Pd合金等も、もちろん使用可能である。なお、本実施形態では、安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。
外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定されればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
積層セラミックコンデンサの製造方法
次に、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
(1)まず、焼成後に図1に示す層間誘電体層2aおよび中間誘電体層2bを構成することになる誘電体磁器組成物原料を準備する。誘電体磁器組成物原料としては、上記した誘電体原料(主成分原料)や各副成分の酸化物や複合酸化物(たとえば、チタン酸バリウムなど)の他、焼成により酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択して用いれば良く、これらは混合して用いても良い。
次に、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
(1)まず、焼成後に図1に示す層間誘電体層2aおよび中間誘電体層2bを構成することになる誘電体磁器組成物原料を準備する。誘電体磁器組成物原料としては、上記した誘電体原料(主成分原料)や各副成分の酸化物や複合酸化物(たとえば、チタン酸バリウムなど)の他、焼成により酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択して用いれば良く、これらは混合して用いても良い。
本実施形態では、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料(主成分原料)、および中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料(主成分原料)として、それぞれ次のような関係を有する原料を使用する。
すなわち、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料の比表面積をα2[m2/g]、中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料の比表面積をβ2[m2/g]とした場合に、α2>β2の関係となる誘電体原料をそれぞれ使用する。すなわち、中間誘電体層2bには、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料よりも、小さな比表面積を有する誘電体原料を使用する。
すなわち、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料の比表面積をα2[m2/g]、中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料の比表面積をβ2[m2/g]とした場合に、α2>β2の関係となる誘電体原料をそれぞれ使用する。すなわち、中間誘電体層2bには、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料よりも、小さな比表面積を有する誘電体原料を使用する。
中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料として、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料よりも、比表面積の小さな誘電体原料を用いることにより、中間誘電体層2bを、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子よりも大きな平均結晶粒径を有するセラミック粒子で構成することができる。さらには、後述する中間グリーンシート(焼成後に中間誘電体層2bを構成することとなるセラミックグリーンシート)の通気性を向上させることができ、その結果、中間グリーンシートを良好かつ効率的に積層することができ、生産性の向上を図ることも可能となる。
なお、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料の比表面積であるα2と、中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料の比表面積であるβ2とは、1.05≦α2/β2≦2の関係とすることが好ましく、1.05≦α2/β2≦1.5の関係とすることがより好ましい。α2/β2が小さすぎると、内層100と、中間層200との界面で、デラミネーションが発生し易くなり、さらには、後述する中間グリーンシートの通気性が悪化してしまい、中間グリーンシートを良好かつ効率的に積層することが困難となる傾向にある。一方、α2/β2が大きすぎると、中間誘電体層2bの焼結が不十分となってしまい、構造欠陥が発生し易くなる傾向にある。
また、層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料の比表面積であるα2は、β2との関係が上記所定の関係となっていれば良く、特に限定されないが、好ましくは1〜10m2/g、より好ましくは3〜7m2/gと微細なものとする。層間誘電体層2aを構成することとなる誘電体原料として、微細な原料を使用することにより、層間誘電体層2aの薄層、多層化が可能となり、コンデンサを小型、高容量化することができる。
また、中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料の比表面積であるβ2も、特に限定されないが、好ましくは0.5〜8m2/g、より好ましくは2〜6m2/gである。中間誘電体層2bを構成することとなる誘電体原料として、比表面積が上記範囲にあるものを使用することにより、中間グリーンシートの通気性が向上し、中間グリーンシートを良好かつ効率的に積層することができ、生産性の向上を図ることができる。
(2)次いで、各誘電体原料(主成分原料)を含む誘電体磁器組成物原料を塗料化することにより、層間誘電体層2aを構成することになる層間グリーンシートを形成するための層間グリーンシート用塗料、および中間誘電体層2bを構成することになる中間グリーンシートを形成するための中間グリーンシート用塗料を、それぞれ準備する。各グリーンシート用塗料は、誘電体磁器組成物原料と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。
有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。また、有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。
また、各グリーンシート用塗料を水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、たとえば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。
(3)このようにして得られた層間グリーンシート用塗料および中間グリーンシート用塗料を用いて、ドクターブレード法などにより、支持体としてのキャリアシート上に、層間グリーンシートおよび中間グリーンシートを、それぞれ形成する。各グリーンシートは、キャリアシート上に形成された後に乾燥される。乾燥温度は、好ましくは50〜100℃であり、乾燥時間は、好ましくは1〜20分である。
乾燥後の層間グリーンシートの厚みは、好ましくは1〜120μm、より好ましくは1〜40μmとする。層間グリーンシートの厚みを薄層化することにより、焼結後の層間誘電体層2aの薄層化が可能となる。
一方、乾燥後の中間グリーンシートの厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは40μm以上とする。中間グリーンシートの厚みは、厚いほうが好ましく、中間グリーンシートを厚く形成することにより、より少ない積層数で所望の厚みとすることができ、生産効率の向上を図ることが可能となる。なお、中間グリーンシートの厚みの上限は特に限定されないが、通常100μm程度である。
(4)次に、層間グリーンシートの表面に、焼成後に図1に示す内部電極層3となる電極層を形成する。電極層の形成方法としては、特に限定されないが、内部電極層用塗料を用いた印刷法、薄膜法、転写法などが例示される。内部電極層用塗料は、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。
次に、以下の方法により、グリーンチップを得る。
すなわち、まず、電極層を形成した層間グリーンシートを、交互に積層し、焼成後に内層100となる内層用積層体を製造する。そして、この内層用積層体の上に、上記にて製造した中間グリーンシートを複数積層し、焼成後に中間層200となる部分を形成し、さらに、この中間層200となる部分の上に、別の内層用積層体を積層する。そして、その積層方向の外側両端部に、外側グリーンシートを単層または複層で積層し、得られた積層体を所定のサイズに切断することにより、グリーンチップを得る。
すなわち、まず、電極層を形成した層間グリーンシートを、交互に積層し、焼成後に内層100となる内層用積層体を製造する。そして、この内層用積層体の上に、上記にて製造した中間グリーンシートを複数積層し、焼成後に中間層200となる部分を形成し、さらに、この中間層200となる部分の上に、別の内層用積層体を積層する。そして、その積層方向の外側両端部に、外側グリーンシートを単層または複層で積層し、得られた積層体を所定のサイズに切断することにより、グリーンチップを得る。
なお、本実施形態では、中間グリーンシートに含有させる誘電体原料(主成分原料)として、比表面積の比較的に小さな誘電体原料を使用しているため、中間グリーンシートを比較的に厚く形成した場合においても、高い通気性を有するものとすることができる。そのため、所望の厚みを形成するために必要となる中間グリーンシートの枚数を少なくすることができ、さらには、中間グリーンシートを積層する際には、複数の中間グリーンシートを予め積層し、予め積層した複数の中間グリーンシートを、内層用積層体上に積層する工程を採用することができる。そのため、中間グリーンシートの積層を、良好かつ効率的に行うことができ、生産性の向上を図ることが可能となる。
また、このように、複数の中間グリーンシートを予め積層する際には、グリーンシートの積層ズレを防止するという観点より、グリーンシートを保持可能な吸引機構を有する搬送板を使用して、複数枚の中間グリーンシートをこの搬送板で吸引し、複数枚の中間グリーンシートを予め積層することとなる。そのため、このような工程を採用するためには、中間グリーンシートの通気性が良好であることが重要となる。一方、このような方法で、通気性の悪い中間グリーンシートを予め積層すると、搬送板による吸引保持が不十分となり、積層ズレの原因となってしまう。
外側グリーンシートは、層間グリーンシートや中間グリーンシートと同様の塗料を使用して、同様にして形成すれば良い。
(5)その後、上記のようにして得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理および焼成を行い、さらに、各誘電体層2a,2b,2cを再酸化させるため、熱処理を行う。
脱バインダ処理は、通常の条件で行えばよいが、内部電極層の導電体材料にNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、特に下記の条件で行うことが好ましい。
昇温速度:5〜300℃/時間、特に10〜50℃/時間、
保持温度:200〜400℃、特に250〜350℃、
保持時間:0.5〜20時間、特に1〜10時間、
雰囲気 :大気中、もしくはN2 とH2 との混合ガス等。
保持温度:200〜400℃、特に250〜350℃、
保持時間:0.5〜20時間、特に1〜10時間、
雰囲気 :大気中、もしくはN2 とH2 との混合ガス等。
焼成条件は、下記の条件が好ましい。
昇温速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
保持温度:1100〜1300℃、特に1150〜1250℃、
保持時間:0.5〜8時間、特に1〜3時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
雰囲気ガス:加湿したN2 とH2 との混合ガス等。
昇温速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
保持温度:1100〜1300℃、特に1150〜1250℃、
保持時間:0.5〜8時間、特に1〜3時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
雰囲気ガス:加湿したN2 とH2 との混合ガス等。
ただし、焼成時の空気雰囲気中の酸素分圧は、10−2Pa以下、特に10−2〜10−8 Paにて行うことが好ましい。前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にあり、また、酸素分圧があまり低すぎると、内部電極層の電極材料が異常焼結を起こし、途切れてしまう傾向にある。
このような焼成を行った後の熱処理は、保持温度または最高温度を、好ましくは900℃以上、さらに好ましくは1000〜1100℃として行うことが好ましい。熱処理時の保持温度または最高温度が、前記範囲未満では誘電体材料の酸化が不十分なために絶縁抵抗寿命が短くなる傾向にあり、前記範囲をこえると内部電極のNiが酸化し、容量が低下するだけでなく、誘電体素地と反応してしまい、寿命も短くなる傾向にある。熱処理の際の酸素分圧は、焼成時の還元雰囲気よりも高い酸素分圧であり、好ましくは10−3Pa〜1Pa、より好ましくは10−2Pa〜1Paである。前記範囲未満では、各誘電体層2a,2b,2cの再酸化が困難であり、前記範囲をこえると内部電極層3が酸化する傾向にある。そして、その他の熱処理条件は下記の条件とすることが好ましい。
保持時間:0〜6時間、特に2〜5時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に100〜300℃/時間、
雰囲気用ガス:加湿したN2 ガス等。
冷却速度:50〜500℃/時間、特に100〜300℃/時間、
雰囲気用ガス:加湿したN2 ガス等。
なお、N2 ガスや混合ガス等を加湿するには、例えばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は0〜75℃程度が好ましい。また脱バインダ処理、焼成および熱処理は、それぞれを連続して行っても、独立に行ってもよい。これらを連続して行なう場合、脱バインダ処理後、冷却せずに雰囲気を変更し、続いて焼成の際の保持温度まで昇温して焼成を行ない、次いで冷却し、熱処理の保持温度に達したときに雰囲気を変更して熱処理を行なうことが好ましい。一方、これらを独立して行なう場合、焼成に際しては、脱バインダ処理時の保持温度までN2 ガスあるいは加湿したN2 ガス雰囲気下で昇温した後、雰囲気を変更してさらに昇温を続けることが好ましく、熱処理時の保持温度まで冷却した後は、再びN2 ガスあるいは加湿したN2 ガス雰囲気に変更して冷却を続けることが好ましい。また、熱処理に際しては、N2 ガス雰囲気下で保持温度まで昇温した後、雰囲気を変更してもよく、熱処理の全過程を加湿したN2 ガス雰囲気としてもよい。
このようにして得られた焼結体(素子本体10)には、たとえば、バレル研磨、サンドブラスト等にて端面研磨を施し、その後、外部電極用塗料を焼きつけて外部電極4が形成される。外部電極用塗料の焼成条件は、例えば、加湿したN2 とH2 との混合ガス中で600〜800℃にて10分間〜1時間程度とすることが好ましい。そして、必要に応じ、外部電極4上にめっき等を行うことによりパッド層を形成する。なお、外部電極用塗料は、上記した内部電極用塗料と同様にして調製すればよい。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る積層型セラミック電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る積層型セラミック電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記構成を有するものであれば何でも良い。
たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る積層型セラミック電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る積層型セラミック電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記構成を有するものであれば何でも良い。
また、上述した実施形態では、中間層200を1層のみ形成した積層セラミックコンデンサを例示したが、2層以上の中間層200を有するような構成としてもよい。
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
層間グリーンシート用塗料の作製
まず、出発原料として、誘電体原料(主成分原料)であるBaTiO3 粉末(比表面積:6m2/g)と、副成分原料としてのMgCO3 、Y2 O3 、Tb4 O7 、MnCO3 、V2 O5 および(Ba0.5 ,Ca0.5)SiO3 とを準備した。そして、これら誘電体原料と、副成分原料とをボールミルにより16時間湿式混合することにより、誘電体磁器組成物原料を調製した。
まず、出発原料として、誘電体原料(主成分原料)であるBaTiO3 粉末(比表面積:6m2/g)と、副成分原料としてのMgCO3 、Y2 O3 、Tb4 O7 、MnCO3 、V2 O5 および(Ba0.5 ,Ca0.5)SiO3 とを準備した。そして、これら誘電体原料と、副成分原料とをボールミルにより16時間湿式混合することにより、誘電体磁器組成物原料を調製した。
次いで、上記にて調製した誘電体磁器組成物原料:100重量部と、アクリル樹脂:4.8重量部と、酢酸エチル:100重量部と、ミネラルスピリット:6重量部と、トルエン:4重量部とをボールミルで混合して塗料化し、層間グリーンシート用塗料を作製した。
中間グリーンシート用塗料の作製
誘電体原料(主成分原料)であるBaTiO3 粉末として、表1に示す各比表面積を有するBaTiO3 粉末を使用した以外は、上記した層間グリーンシート用塗料と同様にして、中間グリーンシート用塗料(表1の試料番号1〜7)を作製した。
誘電体原料(主成分原料)であるBaTiO3 粉末として、表1に示す各比表面積を有するBaTiO3 粉末を使用した以外は、上記した層間グリーンシート用塗料と同様にして、中間グリーンシート用塗料(表1の試料番号1〜7)を作製した。
内部電極層用塗料の作製
Ni粒子44.6重量部と、テルピネオール52重量部と、エチルセルロース3重量部と、ベンゾトリアゾール0.4重量部とを、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極層用塗料を作製した。
Ni粒子44.6重量部と、テルピネオール52重量部と、エチルセルロース3重量部と、ベンゾトリアゾール0.4重量部とを、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極層用塗料を作製した。
グリーンチップの形成、焼成など
まず、層間グリーンシート用塗料を用いて、PETフィルム上に、乾燥後の厚みが7μmとなるように層間グリーンシートを形成した。そして、この上に、内部電極層用塗料を用いて、電極層を所定パターンで印刷した後、PETフィルムからシートを剥離し、電極層を形成した層間グリーンシートを製造した。
まず、層間グリーンシート用塗料を用いて、PETフィルム上に、乾燥後の厚みが7μmとなるように層間グリーンシートを形成した。そして、この上に、内部電極層用塗料を用いて、電極層を所定パターンで印刷した後、PETフィルムからシートを剥離し、電極層を形成した層間グリーンシートを製造した。
一方、上記とは別に、中間グリーンシート用塗料を用いて、PETフィルム上に、乾燥後の厚みが11μm(ただし、試料番号7においては、7μmとした。)となるように中間グリーンシートを形成し、その後、PETフィルムから得られたグリーンシートを剥離した。
次いで、電極層を形成した層間グリーンシートを複数積層して、焼成後に内層100を構成することとなる内層用積層体を形成した。そして、この積層体上に、上記にて作製した中間グリーンシートを18枚(ただし、試料番号7においては、29枚とした。)積層し、さらにこの上に、別の内層用積層体を積層して、最後に積層方向の両外側部に、外側グリーンシートを複数積層し、所定サイズに切断することにより、グリーンチップを得た。外側グリーンシートは、電極層を形成しなかったこと以外は、上記にて作製した層間グリーンシートと同様にして作製したグリーンシートである。
なお、本実施例では、中間グリーンシートの積層は、グリーンシートを保持可能な吸引機構を有する搬送板を使用して、複数枚の中間グリーンシートをこの搬送板で吸引し、複数枚の中間グリーンシートを予め積層し、中間グリーンシート群とした状態で、内層用積層体上に積層した。各試料(表1に示す試料番号1〜7)において、搬送板にて実際に搬送できた中間グリーンシートの枚数、および所望の枚数(試料番号1〜6においては18枚、試料番号7においては29枚)の中間グリーンシートを積層するために要した搬送回数を、表1に示す。
次いで、上記にて作製したグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニールを下記条件にて行って、積層セラミック焼成体を得た。
脱バインダ処理条件は、昇温速度:30℃/時間、保持温度:260℃、温度保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。
焼成条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1240℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:300℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 +H2 混合ガス(酸素分圧:10−2Pa)とした。
アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1000℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:300℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 ガス(酸素分圧:10−1Pa)とした。
なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、水温を5〜75℃としたウエッターを用いた。
焼成条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1240℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:300℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 +H2 混合ガス(酸素分圧:10−2Pa)とした。
アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1000℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:300℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 ガス(酸素分圧:10−1Pa)とした。
なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、水温を5〜75℃としたウエッターを用いた。
次いで、得られた積層セラミック焼成体の端面をサンドブラストにて研磨した後、外部電極としてIn−Gaを塗布し、図1に示す積層セラミックコンデンサの試料(試料番号1〜7)を得た。なお、試料番号1〜7は、中間グリーンシートに含有させる誘電体原料(主成分原料)として、表1に示すように、比表面積の異なる誘電体原料をそれぞれ使用した試料である。
得られたコンデンサ試料のサイズは、3.2mm×1.6mm×0.9mmであり、内部電極層に挟まれた層間誘電体層2aの数は50とし、1層あたりの層間誘電体層2aの厚みは5μm、内部電極層の厚みは1μm、中間層200の厚みは180μmとした。
次いで、得られた各コンデンサ試料について、層間誘電体層2aおよび中間誘電体層2bを構成する各セラミック粒子の平均結晶粒径α1、β1と、構造欠陥の発生割合と、耐電圧不良率と、を測定した。
層間誘電体層2aおよび中間誘電体層2bを構成する各セラミック粒子の平均結晶粒径α1、β1(単位は、μm)は、次の方法により測定した。まず、得られたコンデンサ試料を内部電極層に垂直な面で切断し、その切断面を研磨し、次いで、この研磨面にケミカルエッチングを施した。その後、走査型電子顕微鏡(SEM)により観察を行い、コード法によって、層間誘電体層2aおよび中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の形状を球と仮定して、各誘電体層2a,2bの平均結晶粒径を測定した。平均結晶粒径は、測定点数250点の平均値とした。結果を表2に示す。
構造欠陥の発生割合は、得られた各コンデンサ試料について、焼上げ素地を研磨し、積層状態を目視にて観察し、デラミネーションの発生の有無を確認することにより行った。デラミネーションの有無の確認は、100個のコンデンサ試料について行った。外観検査の結果、100個のコンデンサ試料に対する、デラミネーションの発生した試料の数を求めた。結果を表2に示す。
耐電圧不良率は、コンデンサ試料の100個について、定格電圧(100V)の2倍の直流電圧を3秒印加し、抵抗が104 Ω未満の試料を耐電圧不良と判断し、測定試料に対する、耐電圧不良となった試料の割合を求めることにより、評価した。その結果、本実施例においては、耐電圧不良率が1%以下と良好な結果となった。
表1より、層間グリーンシート(層間誘電体層2a)を形成するための誘電体原料の比表面積と、中間グリーンシート(中間誘電体層2b)を形成するための誘電体原料の比表面積と、の比であるα2/β2を、1.05≦α2/β2≦2とした試料番号3〜5は、中間グリーンシートを積層する際に、一度に搬送可能なシート数を10層以上とすることができ、これにより、所望の枚数を積層するための搬送回数を2回に抑えることができ、中間グリーンシートを良好かつ効率的に積層できることが確認できた。また、これらの試料においては、中間グリーンシートを積層する際に、積層ズレが発生することもなかった。さらに、これら試料番号3〜5においては、表2より、層間誘電体層2aを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径と、中間誘電体層2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径と、の比であるα1/β1を、0.5≦α1/β1≦0.95とすることができ、層間誘電体層2aの平均結晶粒径を0.30μmと微細化した場合にも、構造欠陥の発生割合を低減できることが確認できる。
一方、誘電体原料の比表面積の比であるα2/β2をそれぞれ1.00,1.02とした試料番号1,2は、中間グリーンシートを積層する際に、一度に搬送可能なシート数が2枚となり、所望の枚数を積層するためには、搬送回数を9回とする必要があり、中間グリーンシートを積層する際の生産効率が悪化する結果となった。なお、この理由としては、中間グリーンシートの通気性が乏しかったことによると考えられる。さらに、これら試料番号1,2においては、表2より、誘電体層2a,2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径の比であるα1/β1が、それぞれ1.00,0.97となり、デラミネーション等の構造欠陥が発生する結果となった。
また、誘電体原料の比表面積の比であるα2/β2を2.07とした試料番号6は、中間グリーンシートの積層は良好に行うことができたものの、誘電体層2a,2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径の比であるα1/β1が、0.49と低くなってしまい、デラミネーション等の構造欠陥が発生する結果となった。なお、この理由としては、中間誘電体層2bの焼結が不十分であったためであると考えられる。
さらに、誘電体原料の比表面積の比であるα2/β2を試料番号1と同じ1.00とし、中間グリーンシートの厚みを7μmに、積層数を29層に、それぞれ変化させた試料番号7においては、一度に搬送可能なシート数を10層とすることができたものの、搬送回数を3回とする必要があった。さらに、この試料番号7においては、誘電体層2a,2bを構成するセラミック粒子の平均結晶粒径の比であるα1/β1が、1.00となり、デラミネーション等の構造欠陥が発生する結果となった。
1… 積層セラミックコンデンサ
10… コンデンサ素体
2a… 層間誘電体層
2b… 中間誘電体層
2c… 外側誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
100… 内層
200… 中間層
300… 外層
10… コンデンサ素体
2a… 層間誘電体層
2b… 中間誘電体層
2c… 外側誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
100… 内層
200… 中間層
300… 外層
Claims (5)
- 内部電極層と、層間誘電体層と、が交互に積層された内層と、
中間誘電体層で形成され、一対の前記内層の間に配置されている中間層と、を有する積層型セラミック電子部品であって、
前記中間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径が、前記層間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径よりも、大きいことを特徴とする積層型セラミック電子部品。 - 前記層間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をα1[μm]、前記中間誘電体層を構成するセラミック粒子の平均結晶粒径をβ1[μm]とした場合に、前記α1とβ1との関係が0.5≦α1/β1≦0.95である請求項1に記載の積層型セラミック電子部品。
- 前記中間層の厚みが、2〜500μmである請求項1または2に記載の積層型セラミック電子部品。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の積層型セラミック電子部品を製造する方法であって、
前記中間誘電体層を構成することとなる誘電体原料として、前記層間誘電体層を構成することとなる誘電体原料よりも、小さな比表面積を有する誘電体原料を使用することを特徴とする積層型セラミック電子部品の製造方法。 - 前記層間誘電体層を構成することとなる誘電体原料の比表面積をα2[m2/g]、前記中間誘電体層を構成することとなる誘電体原料の比表面積をβ2[m2/g]とした場合に、前記α2とβ2との関係が1.05≦α2/β2≦2である請求項4に記載の積層型セラミック電子部品の製造方法。
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