JP2007119851A - 黒色めっき膜およびその形成方法、めっき膜を有する物品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】無電解ニッケル黒色めっき膜の形成方法。硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬してめっき膜を形成し、前記めっき膜に黒色化処理を施し、前記めっき膜を黒色保持処理に付し、次いで、前記黒色保持処理後のめっき膜を100〜300℃の範囲の温度で熱処理する。X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角2θ=46〜49°に回折ピークを有する無電解ニッケル黒色めっき膜。
【選択図】なし
Description
一方、特許文献3に記載の方法によれば、めっき処理のみで黒色の無電解ニッケルめっき膜を得ることができるが、耐磨耗性については更なる改善が求められていた。
即ち、上記目的を達成する手段は、以下の通りである。
[1] 無電解ニッケル黒色めっき膜の形成方法であって、
硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬してめっき膜を形成し、
前記めっき膜に黒色化処理を施し、
前記めっき膜を黒色保持処理に付し、次いで、
前記黒色保持処理後のめっき膜を100〜300℃の範囲の温度で熱処理する、前記方法。
[2] 前記黒色化処理は、酸化処理である[1]に記載の方法。
[3] 前記黒色保持処理は、前記黒色化処理後のめっき膜を、リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、ならびにそのナトリウム塩、カリウム塩、およびアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の黒色保持剤を含む溶液と接触させることにより行われる[1]または[2]に記載の方法。
[4] 前記溶液は、前記黒色保持剤を、20〜1500g/リットル含有する[1]〜[3]のいずれかに記載の方法。
[5] 前記熱処理を、10〜240分間行う[1]〜[4]のいずれかに記載の方法。
[6] X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角2θ=46〜49°に回折ピークを有する無電解ニッケル黒色めっき膜。
[7] 前記無電解ニッケル黒色めっき膜は、ニッケルならびにリンおよび/またはホウ素を含有する[6]に記載の無電解ニッケル黒色めっき膜。
[8] 前記無電解ニッケル黒色めっき膜は、0.5〜7.0質量%のリンおよび0.01〜7.0質量%のホウ素を含有する[7]に記載の無電解ニッケル黒色めっき膜。
[9] [1]〜[5]のいずれかに記載の方法により形成されためっき膜または[6]〜[8]のいずれかに記載のめっき膜を有する物品。
[無電解ニッケル黒色めっき膜の形成方法]
本発明の無電解ニッケル黒色めっき膜の形成方法は、以下の工程を含む。
第一工程:硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬してめっき膜を形成する工程;
第二工程:前記めっき膜に黒色化処理を施す工程;
第三工程:前記めっき膜を黒色保持処理に付す工程;
第四工程:前記黒色保持処理後のめっき膜を100〜300℃の範囲の温度で熱処理する工程。
以下、上記第一〜第四工程の詳細について説明する。
第一工程は、硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬してめっき膜を形成する工程である。めっき浴としては、硫黄含有化合物を添加した公知の無電解ニッケルめっき浴を使用することができる。
めっき浴に含有されるニッケル塩としては、例えば、硫酸ニッケル、炭酸ニッケル、酢酸ニッケル、塩化ニッケル、次亜リン酸ニッケルなどのニッケル塩を挙げることができる。これらのニッケル塩は、一種のみを用いることができ、また二種以上を併用することも可能である。
促進剤としては、アンモニアや硫酸アンモニウム等のアンモニウム塩、酢酸、コハク酸、プロピオン酸、マロン酸等のモノカルボン酸やジカルボン酸とその塩類の単独または二種以上を併用して使用することができる。
上記錯化剤、促進剤の濃度は適宜設定することができ、例えば1〜200g/リットルの範囲とすることができる。
第二工程は、第一工程により形成されためっき膜に黒色化処理を施す工程である。この工程により、めっき膜を黒色化することができる。
第三工程は、第二工程で黒色化されためっき膜に対し、黒色を保持するための処理(黒色保持処理)を施す工程である。この工程により、その後に行われる熱処理による色調劣化を防ぐことができる。
第四工程では、第三工程を施しためっき膜に対し、100〜300℃の範囲の温度で熱処理を施す。熱処理により、耐磨耗性を高めることができる。また、本発明では熱処理前に第三工程を行うことにより、熱処理による色調劣化を防ぐことができる。
(1)第四工程(熱処理)による耐摩耗性向上効果
(2)熱処理前に行われる第三工程による、熱処理時の色調劣化抑制効果
によるものと考えられる。
本発明の無電解ニッケル黒色めっき膜は、X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角2θ=46〜49°に回折ピークを有する。
一般的な黒色化処理を施した無電解ニッケルめっき膜のX線回折パターン(2θ=30〜80°、X線源:Cu)では、後述する比較例1のように、ニッケルに帰属するブラッグ角2θ=45°付近にピークが観察される(図3参照)。それに対し、本発明の無電解ニッケル黒色めっき膜は、ブラッグ角2θ=46〜49°に回折ピークを有する。本発明者らは、この特徴的な回折ピークを有する無電解ニッケル黒色めっき膜が、優れた耐磨耗性を有することを新たに見出した。本発明の無電解ニッケル黒色めっき膜は、通常の黒色化処理を施した無電解ニッケルめっき膜とは異なる結晶構造を有し、これにより耐摩耗性が向上したものと考えられる。本発明の無電解ニッケル黒色めっき膜は、前述の無電解ニッケル黒色めっき膜の形成方法により得ることができる。
[実施例1]
SPCC材(JIS G3141)に対し、表1に示す処理を施し、無電解ニッケル黒色めっき膜を形成した。
ADC材に対し、表1に示す処理を施し、無電解ニッケル黒色めっき膜を形成した。
第三処理および第四処理を行わない以外は実施例1と同様の処理を行い、無電解ニッケルめっき膜を形成した。
第三処理を行わない以外は実施例2と同様の処理を行い、無電解ニッケルめっき膜を形成した。
(1)X線回折スペクトル
実施例1、2、比較例1、2のめっき膜のX線回折スペクトルを図1〜4に示す。X線回折の測定条件を以下に示す。
装置:PHILIPS製 X’Pert-MPD
X線源:Cu
管電圧:45kV
管電流:40mA
入射角:2°
(2)色座標
実施例1、2、比較例1、2のめっき膜の色座標をJIS−Z−8722に従い求めた。
(3)耐磨耗性
以下の条件にて耐磨耗性試験を行った。磨耗試験前後で光沢度の変化率が10%以下であれば、耐磨耗性が良好であると判断することができる。
研磨試験装置 スガ試験機(株)製NUS−ISO−3
試験条件 研磨材:ガーゼ、荷重:400gf、研磨回数:50回
光沢度測定条件 装置:日本電色工業(株)製PG−3D、角度:75度
上記(2)、(3)の評価結果を表3に示す。
それに対し、比較例1は、熱処理を行っていないため、黒色度は良好であるが耐磨耗性に劣っていた。比較例2は、熱処理前に黒色保持処理を行っていないため、耐磨耗性は高いが黒色度に劣っていた。図3、4に示すように、比較例1および2のめっき膜は、ブラッグ角2θ=46〜49°に回折ピークを有さないものであった。
以上の結果から、本発明によれば、耐磨耗性、黒色度のいずれにおいても良好なめっき膜を形成できることがわかる。
Claims (9)
- 無電解ニッケル黒色めっき膜の形成方法であって、
硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬してめっき膜を形成し、
前記めっき膜に黒色化処理を施し、
前記めっき膜を黒色保持処理に付し、次いで、
前記黒色保持処理後のめっき膜を100〜300℃の範囲の温度で熱処理する、前記方法。 - 前記黒色化処理は、酸化処理である請求項1に記載の方法。
- 前記黒色保持処理は、前記黒色化処理後のめっき膜を、リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、ならびにそのナトリウム塩、カリウム塩、およびアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の黒色保持剤を含む溶液と接触させることにより行われる請求項1または2に記載の方法。
- 前記溶液は、前記黒色保持剤を、20〜1500g/リットル含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記熱処理を、10〜240分間行う請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角2θ=46〜49°に回折ピークを有する無電解ニッケル黒色めっき膜。
- 前記無電解ニッケル黒色めっき膜は、ニッケルならびにリンおよび/またはホウ素を含有する請求項6に記載の無電解ニッケル黒色めっき膜。
- 前記無電解ニッケル黒色めっき膜は、0.5〜7.0質量%のリンおよび0.01〜7.0質量%のホウ素を含有する請求項7に記載の無電解ニッケル黒色めっき膜。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法により形成されためっき膜または請求項6〜8のいずれか1項に記載のめっき膜を有する物品。
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