JP2007092153A - Al合金反射膜、光情報記録媒体及びAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲット - Google Patents
Al合金反射膜、光情報記録媒体及びAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲット Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】光情報記録媒体に用いるAl合金反射膜であって、Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなることを特徴とするAl合金反射膜、同Al合金反射膜を備えた光情報記録媒体及び同Al合金反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【選択図】なし
Description
上記Agの反射膜は、硫黄や水分等による腐蝕が問題であり、またディスクの温度上昇に伴って、急速に結晶粒が成長し、表面粗さが粗大化するという問題があった。これを改善するために、Agに他の元素を添加する提案がなされている。しかし、この合金元素の添加は、反射率の低下を招くという問題があった。
従来は、光透過層となる透明なプラスチックの厚い基板を成膜の基板とし、その上に第1保護層、記録層、第2記録層、反射層と順に積層してDVD等を作製し、透明のプラスチックの基板側からレーザー光を照射していた。この場合、反射層は積層面に相対することになるので比較的平滑な面である。したがって、それがレーザー光の反射面となるため、積層面の表面粗さは大きな問題とはならなかった。
この場合には、薄い透明なプラスチックを成膜の基板に使用することができないので、基板として透明なプラスチック以外の材料を使用し、上記とは全くの逆工程で、基板上に反射層、第2保護層、記録層、第1保護層、光透過層を形成することになる。
また、光情報記録媒体の記録密度を高めるためには、記録マークを小さくする必要があるが、上記のように反射膜の上に極めて薄い保護層を介して記録膜を成膜するために、反射膜の結晶粒粗大化に起因する表面凹凸が記録層に直接反映されるため、記録マークの微細化に限界が生じてしまうという問題があった。
本発明者の一人、井上明久外1名は、Al合金からなるナノ組織超高強度軽金属材料の研究を報告した(非特許文献1参照)。しかし、この場合は、高温強度と耐熱性を目指したもので、結晶成長の抑制及び表面の平滑性に関する知見は得られておらず、光情報記録媒体用Al合金反射層として、適切な特性を備えているか否かについては全く未知数であった。
川村能人、井上明久共著「ナノ組織超高強度軽金属材料の動向と展望」「まてりあ」第41巻、第6号(2002)小特集、頁414〜417
その1)として、光情報記録媒体に用いるAl合金反射膜であって、Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなるAl合金反射膜を提供する。
その2)として、波長633nm及び波長405nmのレーザー光を照射した場合の反射率が80%以上である1)記載のAl合金反射膜を提供する。
その3)として、Al合金反射膜の表面粗さRaが100Å以下である1)又は2)記載のAl合金反射膜を提供する。
その5)として、波長633nm及び波長405nmのレーザー光を照射した場合の反射率が80%以上であるAl合金反射層を備えている4)記載の光情報記録媒体を提供する。
その6)として、表面粗さRaが100Å以下であるAl合金反射層を備えている4)又は5)記載の光情報記録媒体を提供する。
その7)として、基板上に形成されたCr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなるAl合金反射層、Al合金反射層上に保護層を介して形成された記録層及び該記録層上に保護層を介して形成された光透過層からなることを特徴とする光情報記録媒体を提供する。
下記実施例に示すように、100°C120時間の加熱処理を施した場合でも、表面粗さRaが100Å以下を達成できる。Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0at%未満では、表面粗さRaが100Åを超え粗大化する。また、4.0at%を超えると反射率が低下するので、Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%に調整して含有させるのが良いと言える。
このように、反射率が高くさらに温度変化に伴う反射率の変化が小さいので、本発明のAl合金反射膜を備えた光情報記録媒体は、記録マークを小さくすることが可能であり、記録密度を高めることができるという優れた効果を有する。
本発明の光情報記録媒体は、基板上に形成されたCr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなるAl合金反射層、Al合金反射層上に保護層を介して形成された記録層及び該記録層上に保護層を介して形成された光透過層からなる光情報記録媒体に特に有効である。
したがって、本発明は、光情報記録媒体に用いるAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲットであって、Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなるAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
純度3N以上のAl粉、Cr粉、Fe粉、Ti粉を、実施例1〜9に示すように、それぞれ所定量秤量した。次に、これらをV型混合機等の混合機を用いて混合した。
そしてこれらを、ホットプレスにて250kgf/cm2の荷重をかけ600°Cで焼結し、焼結後、所定の形状に機械加工を施してそれぞれのAl合金ターゲットとした。
このAl合金ターゲットを用いて、アネルバ製スパッタリングマシンSPL−500でスパッタして、ガラス基板に1500Åの厚さに成膜した。スパッタパワーは1000W、雰囲気Ar、ガス圧0.5Pa、ガス流量を100sccmとした。
成膜したサンプルは、耐熱性を確認するため、真空中、100°C、120時間の条件でアニール試験を施した。スパッタ膜の反射率はJASCO製 V−570、表面粗さはVeeco製Dektak8にて評価した。この結果を表1に示す。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、95Åから98Åと、やや大きくなったが、100Å以下の範囲であり、平滑な表面を得られ、本願発明の範囲を満足していた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、65Åから60Åと、むしろ低下し、極めて良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、51Åから56Åと、極めて良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、57Åから85Åとやや増えているが、良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、61Åから88Åとやや増えているが、良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、66Åから68Åと若干増えているが、良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、57Åから55Åとなったが、この表面粗さRaは極めて良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理後に、55Åから60Åとなったが、この表面粗さRaは極めて良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
また、表面粗さRaは加熱処理前後で、87Å、87Åと変化なく、この表面粗さRaは良好な範囲にあり、平滑な表面を得られた。
純度3N以上のAl粉、Cr粉、Fe粉、Ti粉を、比較例1〜6に示すように、それぞれ所定量秤量した。次に、これらをV型混合機等の混合機を用いて混合した。
そして実施例と同様に、これらをホットプレスにて250kgf/cm2の荷重をかけ600°Cで焼結し、焼結後、所定の形状に機械加工を施してそれぞれのAl合金ターゲットとした。
このAl合金ターゲットを、実施例と同様にスパッタして、ガラス基板に1500Åの厚さに成膜した。成膜したサンプルは、耐熱性を確認するため、真空中、100°C、120時間の条件でアニール試験を施した。スパッタ膜の反射率を同様にして評価した。
このようにアンバランスな添加は、むしろ好ましくないことが分った。
また、Al合金反射膜の形成に際し使用するスパッタリング法は、ターゲットの組成が直接Al合金反射膜に反映され、良好な反射膜を形成することが可能であり、かつ成膜の厚さを任意に調節可能である優れた成膜方法であり、Al合金反射膜形成用スパッタリングターゲットとして使用できる。
Claims (8)
- 光情報記録媒体に用いるAl合金反射膜であって、Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなることを特徴とするAl合金反射膜。
- 波長633nm及び波長405nmのレーザー光を照射した場合の反射率が80%以上であることを特徴とする請求項1記載のAl合金反射膜。
- Al合金反射膜の表面粗さRaが100Å以下であることを特徴とする請求項1又は2記載のAl合金反射膜。
- Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなるAl合金反射層を備えていることを特徴とする光情報記録媒体。
- 波長633nm及び波長405nmのレーザー光を照射した場合の反射率が80%以上であるAl合金反射層を備えていることを特徴とする請求項4記載の光情報記録媒体。
- 表面粗さRaが100Å以下であるAl合金反射層を備えていることを特徴とする請求項4又は5記載の光情報記録媒体。
- 基板上に形成されたCr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなるAl合金反射層、Al合金反射層上に保護層を介して形成された記録層及び該記録層上に保護層を介して形成された光透過層からなることを特徴とする光情報記録媒体。
- 光情報記録媒体に用いるAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲットであって、Cr,Fe,Tiをそれぞれ1.0〜4.0at%含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなることを特徴とするAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲット。
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