JP2011044225A - 光メディアの反射層用スパッタリングターゲット、及び、その製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光メディアの反射層用スパッタリングターゲットは、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む。光メディアの反射層用スパッタリングターゲットの製造方法は、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する原料粉体を焼成する工程を備える。
【選択図】 なし
Description
なお、本明細書では、主成分とは最大原子比成分のことであり、at%とは原子パーセントのことである。
本実施形態に係る光メディア用スパッタリングターゲットは、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する。
続いて、上述の光メディア用スパッタリングターゲットの製造方法の一例について説明する。
続いて、光メディア用スパッタリングターゲットを用いて製造される光メディアの一例として光ディスク100の製造方法について説明する。
図2を参照して、第2の光ディスク200について説明する。ここでは、第1の光ディスク100と異なる点のみ説明する。
このような光ディスク200でも光ディスク100と同様の作用効果を奏する。
320メッシュ以下であり、かつ、純度99.9質量%の、Al粉、Ag粉、Ta粉、Nb粉、Cr粉を用い、各粉を表1に示す組成となるように秤量し、乾式で混合し、各実施例及び比較例について混合粉体をそれぞれ得た。そして、各混合粉体を、真空中で焼成した。焼成条件は、圧力200kgf/cm2、温度プロファイルは、720℃まで30分で急速加熱し、720℃に30分維持し、その後、660℃に下げて、660℃に30分維持し、その後、室温まで徐冷した。
まず、厚さ:1.1mm、直径:120mmのポリカーボネート製の支持基板をスパッタリング装置にセットし、この支持基板上に、アルミニウム(Al)を主成分としこれに6at%のタンタル(Ta)および5at%の銀(Ag)が添加された材料からなる反射層(層厚:80nm)、ZnSとSiO2の混合物(モル比80:20)からなる誘電体層(層厚:30nm)、銅(Cu)を主成分としこれにアルミニウム(Al)が23at%添加された反応層24b(層厚:6nm)、シリコン(Si)からなる反応層24a(層厚:5nm)、ZnSとSiO2の混合物(モル比80:20)からなる誘電体層(層厚:20nm)を順次スパッタ法により形成した。
Claims (13)
- Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む光メディアの反射層用スパッタリングターゲット。
- 前記Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を2〜10at%含む請求項1記載のターゲット。
- 前記Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を3〜10at%含む請求項1記載のターゲット。
- 前記Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を5〜10at%含む請求項1記載のターゲット。
- 前記光メディアは、前記反射層の成膜終了面側から読取用又は書込用のレーザビームが照射されるものである請求項1〜4のいずれか一項に記載のターゲット。
- Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する原料粉体を焼成する工程を備える光メディアの反射層用スパッタリングターゲットの製造方法。
- 前記Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を2〜10at%含む請求項6記載の製造方法。
- 前記Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を3〜10at%含む請求項6記載の製造方法。
- 前記Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を5〜10at%含む請求項6記載の製造方法。
- 前記原料粉体は、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する合金の粉である請求項6記載の製造方法。
- 前記原料粉体は、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を2〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する合金の粉である請求項6記載の製造方法。
- 前記原料粉体は、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を3〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する合金の粉である請求項6記載の製造方法。
- 前記原料粉体は、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を5〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する合金の粉である請求項6記載の製造方法。
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