JP2007078713A - 感光性平版印刷版の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物、重合開始剤、及び重合禁止剤を含有する塗布液を塗工して感光層を形成する感光性平版印刷版の製造方法であって、
前記塗布液は、調製されてから塗工されるまでに、23〜28℃の温度で、15〜180時間保持されることを特徴とする。感光性平版印刷版の製造方法。
【選択図】 図2
Description
これらの平版印刷版は、支持体上に、重合性感光層を備えることが一般的である。
このような平版印刷版は、少なくとも、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合と重合開始剤とを含有する感光性組成物を有機溶剤で調液し、それを塗布液として用いて、支持体上に塗工することで得られる。また、感光性組成物中における不要な重合反応を抑制するために、該組成物中には、更に重合禁止剤が含有されていることが一般的である(例えば、特許文献1及び2参照)。
すなわち、本発明の目的は、支持体上に重合性感光層を設けてなる平版印刷版の製造方法であって、感度、現像性、及び耐刷性が均一となる平版印刷版の製造方法を提供することにある。
すなわち、本発明の感光性平版印刷版の製造方法は、支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物、重合開始剤、及び重合禁止剤を含有する塗布液を塗工して感光層を形成する感光性平版印刷版の製造方法であって、
前記塗布液は、調製されてから塗工されるまでに、23〜28℃の温度で、15〜180時間保持されることを特徴とする。
本発明においては、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物、重合開始剤、及び重合禁止剤を含有する塗布液を、調液から塗工するまでの環境を上記の範囲に制御することで、塗布液中での、重合禁止剤の機能が効率良く発現し、不必要な重合反応が生起することを抑制することができると推測される。
本発明は、支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物(以下、付加重合性化合物と称する。)、重合開始剤、及び重合禁止剤を含有する塗布液を塗工して感光層を形成する感光性平版印刷版の製造方法であって、
前記塗布液は、調液されてから塗工されるまでに、23〜28℃の温度で、15〜180時間保持されることを特徴とする。
つまり、本発明においては、上記の必須成分と、更に、必要に応じて、任意成分を含有する塗布液を調整してから、支持体上に塗布されるまでに、23〜28℃の温度範囲で、かつ、15〜180時間保存されることを特徴とする。
このような条件下で保存されることにより、塗布液中の感光性組成物の重合反応の生起を抑制する重合禁止剤の機能が効率良く発現されて、塗布液の状態が安定化する。このように保存された塗布液を用いて感光層を形成し、平版印刷版を得た場合、それらの平版印刷版の感度、現像性、及び耐刷性が均一となる。つまり、均一な品質の平版印刷版が得られることとなる。その結果、得られた平版印刷版を連続的に製版しても、現像不良故障が発生せず、また、印刷に供しても、耐刷不良故障が発生しない。
また、本発明において、塗布液の温度が23℃未満であると、平版印刷版が高感度となり、現像性が悪化する。また、必要な感度で連続するためには15時間を大巾に超える熟成時間が必要であり、製造効率が悪化してしまう。
一方、28℃を越えると、平版印刷版が180時間以内で感度低下し、耐刷性が減少してしまう。必要な感度で連続製造するためには、180時間より大巾に短い時間での塗工終了が必要であり、製造効率が悪化してしまう。
更に、本発明において、塗布液の保存時間が15時間未満であると、平版印刷版が高感
度となり、現像性が悪化する。
一方、180時間を越えると、平版印刷版の感度が低下し、耐刷性が劣化してしまう。
更に、図1に示されるような、塗布液の保持温度及び保持時間と、得られる感光層の膜物性と、の関係を考慮すると、下記に示される条件が最も好ましい。ここで、図1は、本発明における塗布液の保持温度及び保持時間と、得られる感光層の膜物性と、の関係を示すグラフである。
図1のグラフにおける右上の粗いドットで示される領域、すなわち、保持温度が高く、かつ、保持時間が長い状態で保持された塗布液を用いて形成される感光層は、感度や耐刷性が低下する傾向がある。また、図1のグラフにおける左下の細かいドットで示される領域、すなわち、保持温度が低く、かつ、保持時間が短い状態で保持された塗布液を用いて形成される感光層は、高感度ではあるが、現像時に残膜が発生する傾向がある。
この点から、本発明では、塗布液は、図1のグラフにおける線で囲まれたハッチング領域、すなわち、23〜28℃の温度範囲で、かつ、18〜168時間保持されることが最も好ましい。
図2に示されるように、塗布液は、まず、調液タンク1により、付加重合性化合物、重合開始剤、及び重合禁止剤の必須成分と、必要に応じて用いられた任意成分と、を有機溶剤に溶解することで調液される。ここで、図示されないが、調液タンク1は、各種の原料タンクと接続しており、所望の量の原料が調液タンク1に供給される。また、調液タンク1は、パイプを介して、ストックタンク2へと連通しており、矢印の通りに塗布液が移動することができる。
また、この調液タンク1には、ヒーターや冷却装置等の温度調整手段が設けられており、塗布液の温度が上記範囲に制御される。
なお、ストックタンク2にも、調液タンク1と同様の温度調整手段が設けられており、塗布液の温度が上記範囲に制御される。
ここで、リザーバー3や塗布装置4にも、上述のような温度調整手段が設けられていてもよいし、また、リザーバー3や塗布装置4中には、塗布液が保存される時間が短いことから、リザーバー3や塗布装置4が設置されている室内の温度環境を調整することで、温度調整手段を設けることなく、塗布液の温度管理を行ってもよい。
この温度条件を制御するために、上述のように、調液タンク1及びストックタンク2には、温度調整手段を設置することが好ましいが、この方法とは別に、例えば、調液から塗工までの工程を行うための室内の温度環境を調整することで、塗布液の温度管理を行ってもよいし、また、これらを併用してもよい。更に、調液タンク1とストックタンク2とを連通させるパイプ、ストックタンク2とリザーバー3とを連通させるパイプ、及びリザーバー3と塗布装置4とを連通させるパイプに対しても、温度調整手段を設け、塗布液の温度管理を行っていてもよい。
この時間を管理するためには、必要な製造量から必要な感光性組成物調液量、調液タンク1の調液可能量と、製造での感光性組成物消費量から、一回の光性組成物の調液量と、調液回数を算出している。
本発明において用いられる塗布液は、付加重合性化合物、重合開始剤、及び重合禁止剤を必須成分とする。以下、これらの必須成分及び任意成分について詳細に説明する。
本発明における付加重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
(ただし、R及びR’は、H又はCH3を示す。)
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
また、これらの付加重合性化合物は単独で用いても2種以上併用してもよい。
本発明における重合開始剤としては、従来公知の重合開始剤を用いることができるが、具体的には、例えば、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)活性エステル化合物、(j)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(k)メタロセン化合物等が挙げられる。
具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム等を挙げることができる。
本発明における重合開始剤の含有量は、塗布液中の全固形分に対して、1.0〜0.01質量%、好ましくは0.5〜0.05質量%である。
本発明における塗布液は、上記重合開始剤と共に、増感色素を用いることが好ましい。この増感色素としては、作製される平版印刷版を露光する際の光源にあわせて、適宜、選択すればよい。
このような増感色素としては、例えば、下記一般式(I)に示されるメロシアニン色素類、下記一般式(II)で示されるベンゾピラン類、クマリン類、下記一般式(III)で表される芳香族ケトン類、下記一般式(IV)で表されるアントラセン類、等を挙げることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類(例えば、ベンゾジチオール、5−t−ブチルベンゾジチオール、5−メチルベンゾジチオール等)、ナフトジチオール類(例えば、ナフト[1,2]ジチオール、ナフト[2,1]ジチオール等)、ジチオール類(例えば、4,5−ジメチルジチオール類、4−フェニルジチオール類、4−メトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジメトキシカルボニルベンゾジチオール類、4,5−ジトリフルオロメチルジチオール、4,5−ジシアノジチオール、4−メトキシカルボニルメチルジチオール、4−カルボキシメチルジチオール等を挙げることができる。
また、本発明における増感色素の含有量は、通常、塗布液中の全固形分100質量部に対し、0.05〜30質量部、好ましくは0.1〜20質量部、更に好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。
更に、本発明における塗布液には、感度向上の目的で、共開始剤を添加することができる。共開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、芳香族オニウム塩、オキシムエーテル等を挙げることができる。
これらの共開始剤は、単独若しくは2種以上を併用して使用することができる。
また、共開始剤の使用量は、塗布液の全固形分に対して0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%である。
本発明における塗布液には、塗布液の調液中或いは保存中において付加重合性化合物の不要な熱重合を阻止する目的で、少量の重合禁止剤を添加する。
本発明において好適に用いられる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
これらの重合禁止剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、本発明において、重合禁止剤の添加量は、塗布液の全固形分に対して、約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
本発明における塗布液には、感光層の膜性を向上させるために、バインダーポリマーが含有されることが好ましい。
バインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
また、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
側鎖に架橋性基を有するバインダーポリマーが、水可溶性の有機高分子重合体である場合には水現像が可能になる。
また、本発明におけるバインダーポリマーとしては、同様に側鎖に上記架橋性基とカルボキシル基を有する、ポリウレタン、酸性セルロース誘導体及び水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
上記の中でも、(メタ)アクリル酸共重合体及びポリウレタンがより好ましい。特に、ポリウレタン樹脂は、感光層の酸価が低くとも未露光部の現像性を低下させることなく、露光部の現像ダメージを抑制することができ、良好な汚れ性と高い耐刷性を兼ね備えることができる点で好ましい。
以下に側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂について、更に詳しく説明する。
以下に、上記ポリウレタン樹脂の原料であるジイソシアネート化合物及びジオール化合物について説明する。
ジイソシアネート化合物としては、式(4)で表されるジイソシアネート化合物が挙げられる。
少なくとも1つのカルボキシル基を有するジオール化合物としては、下記式(5)、(6)、(7)のジオール化合物及び/又は、テトラカルボン酸2無水物をジオール化合物で開環させた化合物が挙げられる。また、カルボン酸2無水物を開環させるために使用されるジオール化合物を使用することができる。
b)ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
架橋性基を有するジイソシアネート化合物としては、例えば、トリイソシアネート化合物と、架橋性基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物がある。
トリイソシアネート化合物としては、例えば下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
ポリウレタン樹脂の側鎖に不飽和基を導入する方法としては、前述の方法の他に、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法も好適である。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、不飽和基を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。これら化合物の具体的な例として、下記に示す化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
(式中、nは1以上の整数を表す。)
HO−L8−NH−CO−L9−CO−NH−L8−OH (19)
HO−L9−CO−NH−L8−OH (20)
HO−Ar2−(L16−Ar3)n−OH (21)
HO−Ar2−L16−OH (22)
式(21)又は(22)で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。
また、付加重合性化合物とバインダーポリマーとは、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は3/7〜5/5である。
本発明における塗布液には、感光層の着色を目的として、染料若しくは顔料を添加してもよい。
着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染料及び顔料の添加量は全組成物の約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性化合物と結合剤との合計重量に対し、10質量%以下添加することができる。
本発明における塗布液には、上述の各成分を溶解するために、有機溶剤が用いられる。ここで使用される有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの有機溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。
そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
本発明において、上記のような成分を含む塗布液が支持体上に塗工されることで感光層が形成される。感光層の支持体被覆量は、主に、感光層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方、多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。
本発明により得られる平版印刷版としては、その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。
本発明において用いられる支持体としては、少なくとも、上述の感光層が設けられる面が親水性であるものを用いることが好ましい。親水性の支持体としては、従来公知の、平版印刷版に使用される親水性支持体を限定なく使用することができる。使用される支持体は寸度時に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のように金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目的で適切な公知の物理的、化学的処理を施してもよい。
本発明で用いられるアルミニウム板の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
また、米国特許第3658662号に記載されているようなシリケート電着も有効である。
また、特開昭56−28893号に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽極酸化処理更に珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)若しくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
その他、好ましい例として、任意の支持体上に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げることができる。このような表面層としては、例えば、US3055295号や、特開昭56−13168号記載の無機顔料と結着剤とからなる層、特開平9−80744号記載の親水性膨潤層、特表平8−507727号記載の酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾルゲル膜等を挙げることができる。
バックコートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
本発明の望ましい様態である、走査露光用平版印刷版においては、通常、露光を大気中で行うため、感光層の上に、更に、保護層を設けることが好ましい。保護層は、感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や、塩基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3458311号、特開昭55−49729号に詳しく記載されている。
ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、分子量が300から2400の範囲のものを挙げることができる。より具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
本発明により得られる平版印刷版は、感光層と支持体との密着性向上や、感光層の未露光領域における現像除去性を高めるために、感光層と支持体との間に下塗り層を設けることも可能である。
下塗り層には、支持体と相互作用を形成し得る化合物が用いられ、具体的には、ジアゾニウム構造を有する化合物やホスホン化合物等が挙げられる。また、非画像部領域の除去性を向上させるためには、下塗り層に、ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーを用いることの好ましい。
本発明の平版印刷版の製造方法により得られた平版印刷版は下記のように製版される。
ここで、上記のようにして得られた平版印刷版は、特に、走査露光による製版に対し、すぐれた特性を示すものである。
なお、本発明により得られた平版印刷版は、感光層を構成する感光性組成物の種類に応じて、光源の種類や波長を適宜選択すればよく、例えば、より短波な光源(ブルー及び/又は紫外レーザ)、より長波長(赤、赤外レーザ)系光源やその他の光源を用いた場合であっても、走査露光が可能である。特に、近年ではGaN系材料を用いた短波半導体レーザ(ブルー及び/又は紫外)の開発が盛んに行われているが、本発明における平版印刷版はこれらを用いた走査露光に対しても好適に使用できる。
好ましい現像液としては、特公昭57−7427号に記載されているような現像液が挙げられ、具体的には、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノールアミン又はジエタノールアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。このようなアルカリ剤は、溶液の濃度が0.1〜10質量%、好ましくは0.5〜5質量%になるように添加される。
〔実施例1〕
(支持体の作成)
厚さ0.30mmの材質1Sウェブ状のアルミニウム板を、10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ0.45μm(Ra表示)であった。
ひき続いて、30%のH2SO4水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、20%H2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度5A/dm2において50秒間陽極酸化したところ厚さが2.7g/m2であった。
・テトラエチルシリケート 50質量部
・水 20質量部
・メタノール 15質量部
・リン酸 0.05質量部
(分子量(Mw)2000)
・ジメチルフタレート 5質量部
・メタノール 1000質量部
このように処理され、バックコート層が設けられたアルミニウム板上に、下記のようにして下塗り層を形成した。
まず、下記の下塗り用液状組成物を混合し30℃で攪拌した。約5分後に発熱が見られ、60分間反応させた後、内容物を別の容器に移し、メタノールを更に10000質量部加えることで、下塗り層用塗布液を調整した。
その後、得られた下塗り層用塗布液を、アルミニウム板上に0.1g/m2になるように塗布し、アルミニウム板の温度が70℃になるまで乾燥させた後、アルミニウム板の温度が50℃以下になるまで冷却し、下塗り層を形成した。
・下記構造の化合物 96質量部
・メタノール 100質量部
・水 14質量部
・リン酸(85%水溶液) 11質量部
・テトラエトキシシラン 36質量部
・3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 50質量部
下記組成の感光層用塗布液を、上記のようにして得られた下塗り層上に、乾燥後の塗布量が1.4g/m2になるようにと塗布し、アルミニウム板の温度が100℃になるまで乾燥後、アルミニウム板が50℃になるまで冷却し、感光層を形成した。
なお、実施例1の感光層用塗布液は、調液してから塗工するまで、26℃で24時間保持したものである。
・付加重合性化合物(下記A1) 2.0質量部
・バインダーポリマー(下記B1) 2.0質量部
・増感色素(下記C1) 0.2質量部
・重合開始剤(下記D1) 0.2質量部
・共開始剤(下記E1) 0.3質量部
・ε−フタロシアニン(下記F1)分散物 0.2質量部
・重合禁止剤 0.01質量部
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03質量部
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 10.0質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 10.0質量部
得られた感光層上に、下記組成の保護層用塗布液を、乾燥後の塗布質量が2.2g/m2となるように塗布し、ポリビニルアルコールの結晶化度が0.45になるように乾燥させた後、アルミニウム板の温度が50℃以下になるように冷却した。
・ポリビニルアルコール 20質量部
(クラレ(株)製PVA−105、ケン化度98モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン
(和光純薬(株)製、K30) 2質量部
・ノニオン界面活性剤 0.5質量部
(EMAREX NP−10 日本エマルジョン社(株)製)
・蒸留水 360質量部
漂白クラフトパルプを叩解し、4%の濃度に希釈した。紙料に合成系サイズ剤を0.4質量%加え、硫酸アルミニウムをpHが5.0になるまで加えた。この紙料に、でんぷんを主成分とする紙力剤を3.0質量%塗布して、抄紙して、密度0.75g/m2、平滑度25秒、水分6.0質量%で、38g/m2の合紙を得た。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度23℃で、15時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度23℃で、180時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度28℃で、15時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度28℃で、180時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度20℃で、48時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度20℃で、300時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度30℃で、4時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
上記実施例1において、感光層用塗布液を調液してから、温度30℃で、100時間保持後に塗工することに変更した以外は、実施例1と同じ方法で光重合型平版印刷版を製造した。
得られた平版印刷版を、FD−YAGレーザー(532nm)を搭載した(富士写真フイルム(株)製Luxel Plate Setter P−9600 CTP NEWS)で、200μJ/cm2の露光量で、909dpiにて100線/インチの条件で、画像露光した。
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機FLP125NFSにて、後加熱処理、及び水洗を行い、現像液DV−2希釈液(富士写真フイルム(株)製、DV−2:水=1:4)及びフィニッシングガム液FP−2W(富士写真フイルム(株)製、FP−2W:水=1:1)で、標準現像処理を行った。現像液温は25℃、現像液への浸漬時間は約22秒であった。
感度は50%網点面積をマクベス濃度系RD920を用いて測定した。なお、この結果が50%に近いほど、感度に優れ、網点再現性が良好であることを示す。結果を下記表1に示す。
前記露光・現像処理により得られた平版印刷版の非画像部の現像性を観察した。現像性とは未露光の部分の感光層が除去できたかどうかを表す。「○」は未露光の部分が目視で感光層の残留により着色していないことを表す。「×」は未露光の部分が目視で感光層の残留より着色していることを示す。結果を下記表1に示す。
前記露光・現像処理により得られた平版印刷版を、(株)小森コーポレーション製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業(株)製のDIC−GEOS(N)墨のインキ、富士写真フイルム(株)製エッチ液EU−3/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比)を用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。結果を下記表1に示す。
2 ストックタンク
3 リザーバー
4 塗布装置
Claims (1)
- 支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物、重合開始剤、及び重合禁止剤を含有する塗布液を塗工して感光層を形成する感光性平版印刷版の製造方法であって、
前記塗布液は、調製されてから塗工されるまでに、23〜28℃の温度で、15〜180時間保持されることを特徴とする。感光性平版印刷版の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JP4792326B2 (ja) * | 2005-07-25 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10282647A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-23 | Konica Corp | 平版印刷版材料及びその製造方法 |
JP2000122273A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-04-28 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
JP2000181059A (ja) * | 1998-10-07 | 2000-06-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JP2000187322A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JP2004151408A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JP2004271594A (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、及び平版印刷版原版 |
JP2005118690A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液の調製方法および塗布方法 |
Family Cites Families (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US292501A (en) | 1884-01-29 | Henry l | ||
US44563A (en) | 1864-10-04 | Improved core-barrel | ||
DE1199789B (de) | 1958-11-24 | 1965-09-02 | Oxford Paper Company | Lithographische Druckplatte fuer Flachdruck-verfahren |
JPS475125B1 (ja) | 1963-05-23 | 1972-02-14 | ||
DE1246134B (de) | 1964-10-23 | 1967-08-03 | Asea Ab | Schwerwasserkernreaktor |
DE1572136B1 (de) | 1965-06-03 | 1969-09-18 | Du Pont | Fotopolymerisierbares Gemisch |
US3458311A (en) | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
DK125218B (da) | 1967-11-09 | 1973-01-15 | Kalle Ag | Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet. |
JPS4627481B1 (ja) | 1968-03-25 | 1971-08-10 | ||
US3658662A (en) | 1969-01-21 | 1972-04-25 | Durolith Corp | Corrosion resistant metallic plates particularly useful as support members for photo-lithographic plates and the like |
US3615480A (en) | 1969-02-24 | 1971-10-26 | Du Pont | Developer solutions for photopolymerized layers |
DE2033769B2 (de) | 1969-07-11 | 1980-02-21 | Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) | Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren |
BE757124A (fr) | 1969-10-09 | 1971-04-06 | Kalle Ag | Plaques d'impression a plat composee de feuilles |
JPS4841708B1 (ja) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
DE2053683A1 (de) | 1970-11-02 | 1972-05-10 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
DE2064742C3 (de) | 1970-12-31 | 1980-02-07 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbare Verbindungen |
JPS5324989B2 (ja) | 1971-12-09 | 1978-07-24 | ||
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DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
JPS5311314B2 (ja) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
JPS5177401A (ja) | 1974-12-26 | 1976-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Genzoekisoseibutsu |
JPS5230503A (en) | 1975-09-01 | 1977-03-08 | Mitsubishi Chem Ind | Method of making aluminium plate material for lithographic printing |
JPS5258602A (en) | 1975-11-06 | 1977-05-14 | Nippon Keikinzoku Sougou Kenki | Method of producing aluminium roughened surfaced plate for offset printing |
JPS5344202A (en) | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
JPS5522759A (en) | 1978-08-08 | 1980-02-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developing method of positive type photosensitive lithographic printing plate |
JPS5463902A (en) | 1977-10-31 | 1979-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of making offset printing plate |
US4162162A (en) | 1978-05-08 | 1979-07-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl-aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
JPS5549729A (en) | 1978-10-06 | 1980-04-10 | Nec Corp | Data transfer system |
JPS5628893A (en) | 1979-08-16 | 1981-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Carrier for lithography plate and manufacture of said carrier |
JPS5613168A (en) | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Lithographic plate making method by laser beam |
DE2952698A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
DE2952697A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial |
DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3120052A1 (de) | 1981-05-20 | 1982-12-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial |
JPS5829803A (ja) | 1981-08-17 | 1983-02-22 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
JPS5854341A (ja) | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像方法および現像液 |
JPS595241A (ja) | 1982-06-21 | 1984-01-12 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 放射線重合可能な混合物 |
DE3223104A1 (de) | 1982-06-21 | 1983-12-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
JPS5953836A (ja) | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS5971048A (ja) | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
US4590287A (en) | 1983-02-11 | 1986-05-20 | Ciba-Geigy Corporation | Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same |
DE3421511A1 (de) | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
US4713401A (en) | 1984-12-20 | 1987-12-15 | Martin Riediker | Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes |
DE3710281A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710279A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3710282A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3738864A1 (de) | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3817424A1 (de) | 1988-05-21 | 1989-11-23 | Hoechst Ag | Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
DE3843205A1 (de) | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
JP2632069B2 (ja) | 1990-04-17 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JP2739395B2 (ja) | 1991-08-19 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
JP2592225B2 (ja) | 1993-02-09 | 1997-03-19 | アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ヒートモード記録材料及びそれを用いたリス印刷乾版の製造法 |
JP3223222B2 (ja) | 1993-12-03 | 2001-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性印刷版 |
JPH0980744A (ja) | 1995-09-12 | 1997-03-28 | Toray Ind Inc | 感光性平版印刷版原版 |
JP3723312B2 (ja) | 1997-02-25 | 2005-12-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JP3907144B2 (ja) | 1998-04-09 | 2007-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法、レーザ走査露光用平版印刷版原版、および光重合性組成物 |
US6232038B1 (en) * | 1998-10-07 | 2001-05-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it |
JP2003270775A (ja) | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版及び平版印刷版の製版方法 |
-
2005
- 2005-09-09 JP JP2005262663A patent/JP4694324B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10282647A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-23 | Konica Corp | 平版印刷版材料及びその製造方法 |
JP2000181059A (ja) * | 1998-10-07 | 2000-06-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JP2000187322A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JP2000122273A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-04-28 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
JP2004151408A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JP2004271594A (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、及び平版印刷版原版 |
JP2005118690A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液の調製方法および塗布方法 |
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