JP2592225B2 - ヒートモード記録材料及びそれを用いたリス印刷乾版の製造法 - Google Patents

ヒートモード記録材料及びそれを用いたリス印刷乾版の製造法

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Description

【発明の詳細な説明】 1.発明の分野 本発明はリス印刷（lithographic printing）で用い
るためのリス乾板を製造するためのヒートモード記録材
料に関する。本発明はさらに、例えばレーザーを用い、
該ヒートモード記録材料を画像形成（imaging）するた
めの方法に関する。
2.発明の背景 リス印刷は、そのいくらかの領域がインクを受容する
ことができ（疎水性領域）、他の領域がインクを受容し
ない（親水性領域）特別に製造された表面からの印刷の
方法である。いわゆるコンベンショナル又は湿印刷乾版
に従うと、水又は水性給湿液及びインクの両方が親水性
及び疎水性領域を含む乾版表面に適用される。親水性領
域は水又は給湿液に浸漬され、それにより疎油性となる
が、疎水性領域はインクを受容する。
油性インクを用いた印刷のための直接オフセットマス
ター（direct offset master）としてレーザーヒート
モード記録材料が用いられる場合、画像及び非画像領域
の疎水性−親水性マッピング（mapping）を有すること
が必要である。ヒートモードレーザーアブレーションの
場合、親水性又は疎水性上塗りを完全に画像通りに除去
し、下にあるレーザー感受性記録材料のそれぞれ疎水性
又は親水性表面を露出し、画像及び非画像領域の間のイ
ンク−受容性における必要な差を得ることも必要であ
る。
例えばDE−Ａ−2448325は、例えば親水性表面層を備
えたポリエステルフィルム支持体を含むレーザーヒート
モード「直接ネガ（direct negative）」印刷乾版を開
示している。開示されているヒートモード記録材料はア
ルゴンレーザーを用いて画像形成され、それにより露光
領域が疎水性とされる。かくしてさらに処理することな
く印刷機（printing press）上で用いることができる
オフセット印刷乾版が得られる。乾版は、露光された記
録材料の領域がインク受容性とされるので、「直接ネ
ガ」乾版と呼ばれる。
DE−Ａ−2448325における他の開示は、例えば水溶性
レーザー光（アルゴン−488nm）吸収色素は親水性ポリ
マーとレーザー光吸収色素（アルゴン−488nm）の混合
物に基づくコーティングを塗布した親水性アルミニウム
支持体を含む「直接ネガ」印刷乾版に関する。「直接ネ
ガ」印刷乾版の製造のためのヒートモード記録材料に関
する他の例は、例えばUS−Ａ−40341183、DE−Ａ−2607
207、DD−Ａ−213530、DD−Ａ−217645及びDD−Ａ−217
914を含む。これらの文献は陽極酸化アルミニウム支持
体上に親水性層を有するヒートモード記録材料を開示し
ている。開示されているヒートモード記録材料はレーザ
ーを用いて画像通りに露光される。レーザー露光により
露光された領域は不溶性及びインク受容性とされるが非
露光画像部分は親水性及び水溶性のまま残り、印刷の間
に給湿液により除去することができ、親水性支持体が露
出される。そのような乾版は処理することなく印刷機上
で直接用いることができる。
DD−Ａ−155407は、親水性酸化アルミニウム層が直接
レーザーヒートモード画像形成により親水性とされるレ
ーザーヒートモード「直接ネガ」印刷乾版を開示してい
る。これらの印刷乾版もさらに処理することなく印刷機
上で用いることができる。
上記から、レーザーヒートモード記録による「直接ネ
ガ」オフセット印刷乾版の製造のための多くの提案が成
されたことがわかる。それらは遅い記録速度、及び／又
は得られる乾版の品質が悪いなどの欠点を有する。
3.発明の概要 本発明に従えば、目的は高品質のネガ作用（negative
working）リス印刷乾版の製造のための、代替えとな
る高感度のヒートモード記録材料の提供である。
生態学的理由から、本発明の他の目的はこの高品質の
リス印刷乾版を好ましくは本質的に乾燥条件下の、又は
淡水（plain water）を用いた現像により、あるいは画
像形成未処理乾版を直接印刷機上で用いることにより得
られることであり、これらの処理法は「生態学的処理
（ecological processing）」と呼ばれる。
本発明のさらに別の目的は後文の説明から明らかにな
るであろう。
本発明に従えば、インク受容性表面を有するか、又は
インク受容性層が塗布された支持体上に、光を熱に変換
することができる物質及び厚さが３μｍ以下である硬膜
親水性表面層を有するヒートモード記録材料が提供され
る。
本発明に従えば、 −インク受容性表面を有するか又はインク受容性層が塗
布された支持体上に、光を熱に変換することができる物
質及び厚さが３μｍ以下である硬膜親水性表面層を有す
るヒートモード記録材料を画像通りに露光し、 −続いてかくして得られる画像通りに露光されたヒート
モード記録材料の本質的に乾燥条件下における摩擦によ
り、あるいは水又は水溶液を用いることにより該硬膜親
水性表面層を露光領域ににおいて除去する段階を含むリ
ス印刷乾版の製造のための方法が提供される。
4.発明の詳細な記述 本発明に従えば、より生態学的に許容し得る方法で、
記録速度が速く、高い印刷耐久性、高い鮮鋭さ、優れた
コントラスト及び優れた解像度を与えるネガ作用リス印
刷乾版が得られることが見いだされた。
本発明のオフセットを得るために、親水性表面層の厚
さは３μｍ以下、好ましくは１μｍ以下であることが重
要である。親水性表面層の厚さが３μｍより厚くなる
と、記録速度が遅く、品質の悪い印刷乾版を与えるヒー
トモード記録材料が得られるであろう。表面層の最小の
厚さは特に重要ではないが、0.05μｍより厚いのが好ま
しい。親水性表面層の厚さに関する特に興味深い範囲は
0.05μｍ〜0.5μｍである。
優れたリス印刷性を得るために、特に優れた印刷耐久
性を得るために、親水性表面層は硬膜されていることも
必要である。
本発明の好ましい方法に従うと、ヒートモード記録材
料はレーザーを用いて画像通りに露光される。用いるの
が好ましいレーザーは、例えば半導体レーザー、YAGレ
ーザー、例えばNd−YAGレーザー、アルゴンレーザーな
どである。レーザーは40mW〜10000mWの出力を有するこ
とができ、スペクトルの赤外部分で作用するのが好まし
い。
画像通りの露光に続いて親水性表面層を露光された画
像領域において除去する。除去は、例えばブラシ又は綿
パッドを用いた、例えば摩擦により行うことができる。
そのような摩擦はUS−Ｐ−5.148.746に記載の通り画像
通りの露光の間に行うことができる。ヒートモード記録
材料の摩擦は、本質的に乾燥条件下で液体の不在下で行
うのが好ましい。しかし淡水又は水に基づく現像薬も用
いることができる。画像形成領域上の親水性表面層の除
去はさらに、淡水又は水に基づく現像薬中に浸した画像
形成記録材料の超音波処理により、淡水又は水に基づく
現像薬の加圧ジェットを用いて行うことができる。露光
領域の除去は、乾版を印刷機上に直接載せ、印刷機の始
動の間に給湿液で露光領域において親水性表面層を溶解
し、除去することによっても行うことができる。
光を熱に変換することができる物質が、支持体及び／
又は支持体と硬膜親水性表面層の間に備えられた別の記
録層に存在しなければならない。そのような別の記録層
の厚さは広い範囲にわたって変化することができる。し
かしそのような記録層の厚さが３μｍより厚くなった場
合、画像通りの露光は硬膜親水性表面層を介して行わな
ければならない。この場合、そのような記録層と硬膜親
水性表面層の間に追加の層が含まれないか、あるいはそ
のような追加の層の厚さを好ましくは0.5μｍ以下の最
小に保つのも好ましい。さらに厚さが３μｍより厚い記
録層を用いる場合、そのような層はインク受容性でなけ
ればならない。
他方、記録層の厚さが３μｍ未満の場合、露光は、透
明なら支持体を介して、あるいは硬膜親水性層を介して
行うことができる。さらにこの場合一般に、下にある表
面又は層がインク受容性であり、露光領域において親水
性表面層と一緒に記録層の全体的除去が可能であれば、
記録層はインク受容性である必要はない。
いずれの場合も、記録層の厚さにかかわらず、硬膜親
水性表面層を介しての露光により得られる印刷乾版は、
より優れた解像度及び鮮鋭さを有することが見いだされ
たので、この方法が好ましい。
本発明の好ましい実施態様に従うと、厚さが0.01μｍ
〜30μｍに記録層が用いられる。
本発明に関連して用いることができる光を熱に変換す
ることができる物質の例は、例えばカーボンブラック、
赤外もしくは近赤外吸収色素又は顔料、Bi、Sn、Teなど
の金属、あるいはこれらの組み合わせである。適した赤
外色素は例えばUS−4833124、EP−321923、US−477458
3、US−4942141、US−4948776、US−4948777、US−4948
778、US−4950639、US−4950640、US−4958552、US−50
24990、US−5023229などに開示されている。適した赤外
顔料は例えばHeubach Langelsheimから入手可能なHEUC
ODOR金属酸化物顔料である。例えばビスマスなどの金属
が熱変換物質として用いられる場合、記録層は真空蒸着
又は蒸着金属層であることが好ましい。
本発明の特定の実施態様に従うと、記録層は真空蒸着
されたアルミニウム層であることができる。しかしその
ようなアルミニウム層の厚さは250Åより薄くなければ
ならず、100Å〜225Åがより好ましい。
しかし光を熱に変換することができる物質は結合剤中
に溶解又は分散することもできる。記録層のためのポリ
マー結合剤は疎水性が好ましく、例えばセルロースエス
テル類、例えばセルロースアセテート、セルロースナイ
トレート、ビニリデンクロリドとアクリロニトリルのコ
ポリマー、ポリ（メタ）アクリレート、ポリビニルクロ
リドなどが好ましい。記録層中のポリマー結合剤は感熱
性であるのが好ましく、例えば硝酸エステル基を含むポ
リマー（例えばGB−1316398及びDE−Ａ−2512038に開示
されている自己酸化結合剤セルロースナイトレート）、
例えばカーボネート基を含むポリマー（例えばポリアル
キレンカーボネート）、例えば共有結合塩素を含むポリ
マー（例えばポリビニリデンクロリド）が好ましい。
本発明に関連して用いられるヒートモード記録材料の
ための適した支持体は、疎水性（インク受容性）表面を
有する非−金属性支持体、例えばポリエステルフィルム
支持体、ポリエチレンなどのポリオレフィンを塗布した
紙、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム
などが好ましい。しかし例えばアルミニウムなどの金属
性支持体も本発明と関連して用いることができる。支持
体の表面が疎水性でないか、又は不十分な疎水性である
場合、中間疎水性下塗りコーティングを設け、その上に
記録層を蒸着させることができる。別の場合記録層が同
時に疎水性層であことができる。
本発明に従い、記録層は可塑剤、架橋剤及び樹脂、記
録層のアブレーションされた画像部分の靭性、印刷耐久
性及び親油表面性を与えるための粒子状材料、例えばポ
リエチレン又はフッ素化ポリマー分散体、湿潤剤、艶消
剤、酸化防止剤などの追加の物質を含むことができる。
記録層はそれが結合剤を含む場合、硬膜されるのが好ま
しい。
任意の下塗り層の組成に関し、いずれのポリマー結合
剤も、それにより記録層と支持体の間の接着が強化され
れば適している。下塗り層が熱に不安定な基（例えば共
有結合クロリド）を有するポリマーを記録層に隣接して
含む場合、EP 92201633.2に開示されている通り記録材
料の速度を促進することができる。
本発明の最も好ましい実施態様に従うと、ヒートモー
ド記録材料の画像形成は親水性表面層を介して行われ
る。この方法で優れた画質（高い鮮鋭さ、優れたコント
ラスト、優れた解像度）及び向上した感度が得られる。
本発明と関連し、種々の硬膜親水性表面層が適してい
る。親水性コーティングは、例えばヒドロキシル、カル
ボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ−プロピル、
アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメ
チルなどを含む遊離の反応性基を有する親水性結合剤
を、例えば親水性有機チタン試薬、アルミノホルミルア
セテート、ジメチロールウレア、メラミン、アルデヒ
ド、加水分解テトラアルキルオルトシリケートなどを含
む適した架橋剤又は修飾剤と共に含む水性組成物からキ
ャストするのが好ましい。
親水性層のための適したポリマーはアラビアゴム、カ
ゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセル
ロース及びそれらのNa塩、セルロースアセテート、アル
ギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー
類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル
酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの
塩、ヒドロキシ−エチレンポリマー類、ポリエチレング
リコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビ
ニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも60
重量％、好ましくは少なくとも80重量％の加水分解ポリ
ビニルアセテートから成る群より選ばれることができ
る。
例えばUS−Ｐ−3476937に開示されているようなポリ
ビニルアルコール又は少なくとも60重量％の程度まで加
水分解されたポリビニルアセテートを含み、テトラアル
キルオルトシリケート、例えばテトラエチルオルトシリ
ケート又はテトラメチルオルトシリケートを用いて硬膜
された親水性層は、それらを本発明のヒートモード記録
材料で用いると優れたリス印刷性を生ずるので、特に好
ましい。
さらに別の適した硬膜親水性表面層はEP 91201227.5
に開示されている。このEP−出願に開示されている親水
性層は、少なくとも１つの遊離の水素を有するアミン又
はアミド官能基を含む（コ）ポリマー（例えばアミノ修
飾デキストラン）及びアルデヒドの硬膜反応生成物を含
む。
本発明に従うと、硬膜親水性表面層は例えば可塑剤、
顔料、色素などの追加の物質を含むことができる。硬膜
親水性表面層は、親水性層の強度及び／又は親水性を増
すために例えばTiO2又はコロイドシリカなどの粒子状材
料も含むことができる。
ここで、以下の実施例を用いて本発明を例示するが、
本発明をそれに制限するものではない。他に特定しなけ
れば、部はすべて重量による。
実施例１ ビニリデンクロリド（88モル％）、メチルアクリレー
ト（10モル％）及びイタコン酸（２モル％）のコポリマ
ーの層を170mg/m2の量で備えたポリエチレンテレフタレ
ート支持体に、記録層としてビスマス層を、その光学濃
度が4.5となるように（約0.30μｍの厚さ）真空蒸着し
た。
次いでこの記録層に、親水性層のための以下のコーテ
ィング分散液を塗布した：脱イオン水中に21.5％のTiO2
（平均粒径0.3〜0.5μｍ）及び2.5％のポリビニルアル
コールを含む82gの分散液に、撹拌しながら続いて639g
の５％ポリビニルアルコール水溶液、77gの水中の加水
分解22％テトラメチルオルトシリケート乳液及び22gの1
0％湿潤剤溶液を加えた。次いでこの混合物に180gの脱
イオン水を加え、pHをpH＝４に調節した。コーティング
分散液を記録層上に0.5μｍの乾燥厚さまで塗布し、親
水性表面層を得た。かくして得られる要素を30℃で乾燥
した後、80℃の温度に数時間供した。
かくして製造したヒートモード記録材料をNd−YLFレ
ーザー（1053nm）を用い、32.8m/sの線状筆記速度（lin
ear writing speed）で、18μｍの点直径（1/e2）、
及び1600mWのヒート記録材料の表面における出力を用
い、親水性表面層を介して画像通りに露光した。画像形
成後、乾燥綿パッドを用いて摩擦することにより親水性
表面層を画像通りに除去し、支持体の疎水性画像部分を
露出した。形成された画像部分の光学濃度は、4.5の光
学濃度を有する非画像形成領域と比較して約0.05に低下
した。画像形成及び非画像形成部分の間のこの光学濃度
の差が乾版上の記録画像の視覚による検査を可能にす
る。
かくして製造した印刷乾版を印刷機ABDick 360上に
載せ、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷
に用いた。達成される画像通りの疎水性−親水性の差は
満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得ら
れた。
実施例２ 実施例１に記載の画像形成されたヒートモード記録材
料を実施例１に記載の通りに画像通り露光し、淡水中で
２分間超音波処理した。
かくして製造した印刷乾版を印刷機ABDick 360上に
載せ、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷
に用いた。画像通りに達成される疎水性−親水性の差は
満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得ら
れた。
実施例３ 実施例１に記載の画像形成されたヒードモード記録材
料を実施例１に記載の通りに画像通りに露光し、次いで
さらに処理することなく印刷機ABDick 360上に載せ
た。記録材料を用い、通常用いられるインク及び給湿溶
液を用いて印刷した。画像通りに達成される疎水性−親
水性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コ
ピーが得られた。
実施例４ ポリエチレンテレフタレート支持体に以下の組成を有
する記録層のための分散液を塗布した:9.5gの低分子量
ニトロセルロースE330（１）、9.5gのカーボンブラック
Special Schwarz 250、0.2gのSolsperse 5000
（２）、0.8gのSolsperse 24000（３）、80gのｎ−ブ
タノン。記録層を約２の光学濃度に対応する約0.5μｍ
の乾燥コーティング厚さまで適用した。
（１）E330は低分子量ニトロセルロース、供給者Wolff
Walsrodeである。
（２）Solsperse 5000はICIからの分散剤である。
（３）Solsperse 24000はICIからの分散剤である。
次いでこの記録層に親水性層のための実施例１からの
コーティング分散液を0.5μｍの乾燥厚さまで塗布し、
親水性表面層を得た。30℃で乾燥した後、かくして得た
要素を80℃の温度に数時間供した。
かくして製造したヒートモード記録材料をNd−YLFレ
ーザー（1053nm）を用い、32.8m/sの線状筆記速度で、1
8μｍの点直径（1/e2）、及び1600mWのヒートモード記
録材料の表面における出力を用い、親水性表面層を介し
て画像通りに露光した。画像形成後、乾燥綿パッドを用
いて摩擦することにより親水性表面層を画像通りに除去
し、残った記録層の疎水性画像部分を露出した。形成さ
れた画像部分の光学濃度は、4.5の光学濃度を有する非
画像形成領域と比較して約１に低下した。画像形成及び
非画像形成部分の間のこの光学濃度の差が乾版上の記録
画像の視覚による検査を可能にする。
かくして製造した印刷乾版を印刷機ABDick 360上に
載せ、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷
に用いた。達成される画像通りの疎水性−親水性の差は
満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得ら
れた。
実施例５ ポリエチレンテレフタレート支持体に実施例４の組成
に従う記録層のための分散液を塗布した。記録層を＞５
の光学濃度に対応する約６μｍの乾燥コーティング厚さ
まで適用した。
次いでこの記録層に親水性層のための実施例１からの
コーティング分散液を0.5μｍの乾燥厚さまで塗布し、
親水性表面層を得た。30℃で乾燥した後、かくして得た
要素を80℃の温度に数時間供した。
かくして製造したヒートモード記録材料をNd−YLFレ
ーザー（1053nm）を用い、32.8m/sの線状筆記速度で、1
8μの点直径（1/e2）、及び1600mWのヒートモード記録
材料の表面における出力を用い、親水性表面層を介して
画像通りに露光した。画像形成後、乾燥綿パッドを用い
て摩擦することにより親水性表面層を画像通りに除去
し、残った記録層の疎水性画像部分を露出した。画像部
分は非画像領域と比較して低下した光学的反射率を示し
た。画像形成及び非画像形成部分の間のこの光学的反射
率の差が乾版上の記録画像の視覚による検査を可能にす
る。
かくして製造した印刷乾版を印刷機ABDick 360上に
載せ、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷
に用いた。達成される画像通りの疎水性−親水性の差は
満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得ら
れた。
実施例６ ポリエチレンテレフタレート支持体に実施例４の組成
に従う記録層のための分散液を塗布した。記録層を約２
の光学濃度に対応する0.5μｍの乾燥コーティング厚さ
まで適用した。
次いでこの記録層に親水性表面層のための以下のコー
ティング組成物を塗布した：適用の前に２％のカルボキ
シ−メチルセルロース（CMC）の溶液に、水中の加水分
解22％テトラメチルオルトシリケート乳液4.5g、及び湿
潤剤の10％溶液2gを加えた。組成物のpHをpH＝４に調節
した。コーティング分散液を記録層に0.5μｍの厚さま
で塗布した。30℃で乾燥した後、かくして得られた要素
を130℃の温度に５分間供した。湿った綿パッドで磨い
た後、厚さが＜0.5μｍの非常に強靭な親水性表面層が
疎水性ニトロセルロース−カーボンブラックベース記録
層の上に得られた。
かくして製造したヒートモード記録材料をNd−YLFレ
ーザー（1053nm）を用い、32.8m/sの線状筆記速度で、1
8μの点直径（1/e2）、及び1600mWのヒートモード記録
材料の表面における出力を用い、親水性上層を介して画
像通りに露光した。画像形成後、乾燥綿パッドを用いて
摩擦することにより親水性表面層を画像通りに除去し、
残った記録層の疎水性画像部分を露出した。画像形成部
分の光学濃度は、２の光学濃度を示す非画像形成領域と
比較して約１であった。画像形成及び非画像形成部分の
間のこの光学濃度の差が乾版上の記録画像の視覚による
検査を可能にする。
かくして製造した印刷乾版を印刷機ABDick 360上に
載せ、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷
に用いた。達成される画像通りの疎水性−親水性の差は
満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得ら
れた。
実施例７ 実施例４、５及び６に従って製造し、露光された画像
形成ヒートモード記録材料を淡水中で２分間超音波処理
した。
かくして製造した印刷乾版を印刷機ABDick 360上に
載せ、通常用いられるインク及び給湿溶液を用いた印刷
に用いた。達成される画像通りの疎水性−親水性の差は
満足できるものであり、優れた品質の印刷コピーが得ら
れた。
実施例８ 実施例４、５及び６に従って製造し、露光された画像
形成ヒートモード記録材料をさらに処理することなく印
刷機ABDick 360上に載せた。
記録材料を、通常用いられるインク及び給湿溶液を用
いた印刷に用いた。達成される画像通りの疎水性−親水
性の差は満足できるものであり、優れた品質の印刷コピ
ーが得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バン・デン・ベルグ，ルドルフ ベルギー・ビー―2640モルトセル・セプ テストラート27・デイアイイー3800・ア グフア―ゲヴエルト・ナームローゼ・フ エンノートシヤツプ内 (72)発明者 ドウ・ムーテ，ステフアーン・カレル ベルギー・ビー―2640モルトセル・セプ テストラート27・デイアイイー3800・ア グフア―ゲヴエルト・ナームローゼ・フ エンノートシヤツプ内 (72)発明者 ベルメールシユ，ジヨアン・トリフオン ベルギー・ビー―2640モルトセル・セプ テストラート27・デイアイイー3800・ア グフア―ゲヴエルト・ナームローゼ・フ エンノートシヤツプ内 (56)参考文献 特開 平３−118154（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−18960（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−102401（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−18960（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−314578（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭51−6568（ＪＰ，Ｂ１)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】インク受容性表面を有するか又はインク受
    容性層が塗布された支持体上に、光を熱に変換すること
    ができる物質及び厚さが３μｍ以下の硬膜親水性表面層
    を有するヒートモード記録材料。
  2. 【請求項２】光を熱に変換することができる該物質が該
    支持体と該硬膜親水性表面層の間の別の記録層中に与え
    られる請求の範囲第１項に記載のヒートモード記録材
    料。
  3. 【請求項３】該記録層が３μｍより厚く、インク受容性
    である請求の範囲第２項に記載のヒートモード記録材
    料。
  4. 【請求項４】該記録層が該硬膜親水性表面層に接続して
    いるか、又は該記録層と該硬膜親水性表面層の間に厚さ
    が0.5μｍ以下の中間層が設けられている請求の範囲第
    ３項に記載のヒートモード記録材料。
  5. 【請求項５】該記録層の厚さが３μｍ以下である請求の
    範囲第２項に記載のヒートモード記録材料。
  6. 【請求項６】該記録層が蒸着又は真空蒸着金属層である
    請求の範囲第５項に記載のヒートモード記録材料。
  7. 【請求項７】該硬膜親水性表面層が親水性ポリマー及び
    加水分解テトラアルキルオルトシリケートの反応生成物
    を含む請求の範囲第１〜６項のいずれかに記載のヒート
    モード記録材料。
  8. 【請求項８】−インク受容性表面を有するか又はインク
    受容性層が塗布された支持体上に、光を熱に変換するこ
    とができる物質及び厚さが３μｍ以下である硬膜親水性
    表面層を有するヒートモード記録材料を画像通りに露光
    し、 −続いてかくして得られる画像通りに露光されたヒート
    モード記録材料の本質的に乾燥条件下における摩擦によ
    り、あるいは水又は水溶液を用いることにより該硬膜親
    水性表面層を露光領域において除去する 段階を含むリス印刷乾版の製造方法。
  9. 【請求項９】光を熱に変換することができる該物質が該
    支持体と該硬膜親水性表面層の間の別の記録層中に与え
    られる請求の範囲第８項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】該記録層が３μｍより厚く、インク受容
    性であり、画像通りの露光が該硬膜親水性表面層を介し
    て行われる請求の範囲第９項に記載の方法。
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