JPS597090B2 - 平版印刷用版の製版方法 - Google Patents

平版印刷用版の製版方法

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JPS597090B2
JPS597090B2 JP9146376A JP9146376A JPS597090B2 JP S597090 B2 JPS597090 B2 JP S597090B2 JP 9146376 A JP9146376 A JP 9146376A JP 9146376 A JP9146376 A JP 9146376A JP S597090 B2 JPS597090 B2 JP S597090B2
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博之 中山
晃 加藤
益男 土屋
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Kansai Paint Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、平面印刷用版の製版方法に関する。
従来、平版印刷用版材料として、たとえば砂目立または
陽極酸化法などにより保水性を付与した金属板に親油性
感光性組成物を塗布したものが一般に使用されていた。
しかし、このような平版印刷用版材料は製造工程が複雑
で、従つて高価であり、さらに製版工程においてもリス
フイルムの作成工程、現像工程などの熟練を要する工程
が多くあり印刷作業を困難にしていた。このような事情
から、製造が容易で、かつ画像を変換して得られる電気
的信号による直接的製版に供し得る平版印刷用版材料お
よびその製版方法が提供されている(例えば特開昭50
=124708)。
すなわち、親油性樹脂類を主成分とする親油性基材の表
面にコロナ放電して該基材表面に親水性層を形成させた
平版印刷用版材料であり、該材料を機械的方法、熱的方
法、電気的方法などによつて画像部にあたる表面の親水
性層を選択的に破壊して直接製版する方法である。該版
材料は製造の容易さ、製版の容易さ、画像の再現性の良
さなど種々の特長を有するが、コロナ放電により得られ
る親油性基材表面の親水性層の親水性が若干不足してい
るため、簡易オフセット印刷用版材料程度の耐刷性(数
千枚以下)しかないこと、使用し得るインキの種類がか
なり限定されることなどの難点を有していた。本発明者
らは、前記と同様の製造の容易さ、製版の容易さ、画像
の再現性の良さなどの特長を有し、かつ親水性層の親水
性が良く、印刷適性のすぐれた平版印刷用版の製版方法
について鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達したもの
である。
すなわち、本発明は、炭素−炭素2重結合および(また
は)第3級炭素に結合した水素基との総量をO、05m
ol/kg以上有する親油性樹脂を主成分とする親油性
基材表面全面を、親水性ラジカル重合性化合物と接触さ
せた系に活性光線を照射して、該表面全面に親水性層を
形成し、ついで前記親水性層を選択的に破壊して親油性
基材本体面を露出せしめて画線部とすることを特徴とす
る平版印刷用版の製版方法に係わるものである。本発明
において用いられる親油性樹脂類としては、印刷時に使
用する平版印刷用インキに対して充分な感脂性を有し、
かつ親水性ラジカル重合性化合物が活性光線の照射によ
り付加し得るものが用いられる。
具体的には、たとえばポリブタジエン、ポリイソプレン
、ポリペンタジエンなどのジエン系単独重合体;ブタジ
エン、イソプレン、ペンタジエンなどのジエン系単量体
を一成分系とするスチレン、(メタ)アクリル酸エステ
ルあるいは(メタ)アクリロニトリルなどとの二元また
は多元共重合体;不飽和ポリエステル:不飽和ポリエポ
キシド;不飽和ポリアミド;不飽和ポリアクリル;高密
度ポリエチレン;などの分子中に炭素炭素2重結合を有
する線状高分子または三次元高分子類、さらに、スチレ
ン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル、アク
リル酸、アクリル酸エステル、アルキルビニルエステル
、ビニルカルバゾールなどの1置換オレフインおよび(
または)マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などの1・
2−ジ置換オレフインの単独あるいは共重合体、該1一
置換オレフインおよび(または)該1、2−ジ置換オレ
フインとメタクリル酸、メタクリル酸エステル、メタク
リロニトリル、イソブテンなどの1・1−ジ置換オレフ
インとの共重合体などの分子中に第3級炭素に結合する
水素を有する線状高分子または三次元高分子類などがあ
げられる。これらの親油性樹脂は、単独または混合して
用いられるが、その際、分子中に含まれる炭素一炭素2
重結合および(または)第3級炭素に結合した水素基と
の総量が0.05m01/Kg以上、好ましくは0.1
m101/K9以上であることが必要である。
この総量が0.05m01/K9未満の親油性樹脂では
、親水性ラジカル重合性化合物の活性光線の照射による
付加量が不足し、表面の親水性が不十分である。これら
の親油性樹脂類には、顔料、充てん剤、硬化剤、可塑剤
、染料などを添加し分散させておくことができる。
親油性樹脂類を用いて定形の親油性基材を製造するには
、通常それらをシート状に成形する。
シート状に成形するには、加熱して軟化、溶融せしめた
状態で、押出し法などで製膜する方法を用いることもで
きるが、一般には適当な溶媒もしくは分散媒または液状
ビニル単量体等に溶解、分散せしめられ液状とされたそ
れらの親油性樹脂類もしくは粉末状の親油性樹脂類をシ
ート状支持体の表面に塗布、散布し必要ならばさらに硬
化架橋処理を施して被膜を形成させる。活性光線の照射
は各種重合体分子間の架橋結合生成をも促進する作用を
有するから、この硬化処理は必らずしも他の目的で適用
されるほど完全ならしめておくことを要しない。支持体
としては、たとえば紙、プラスチツクスシート、金属箔
などが用いられる。皮膜状とするときの親油性樹脂の層
の厚さは、通常5〜300ミクロンとし、好ましくは塗
布もしくは散布による場合は8〜40ミクロン、支持体
を用いないで製膜する場合は50〜200ミクロンの範
囲とする。
支持体を有しないものの場合には、製膜後にシート状の
支持体を積層することもできる。また、本発明で用いら
れる親水性ラジカル重合性化合物とは、単独重合物が水
または電解質水溶液に溶解及び(または)水または電解
質水溶液中にて少なくとも10%以上の膨潤性を示す化
合物であり、さらに単独でまたは光増感剤と共存するこ
とによつてその吸収波長領域の光照射によりラジカル付
加反応を惹起するものである。
例えば、(メタ)アクリル酸類、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ
)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート(ポリエチレングリコールの分子量は30
0以上)、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グ
リセロールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート(ポリエチレングリコ
ールの分子量は300以上)、2−ジメチルアミノエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノ(メタ)
アクリレート、2−スルホエチル(メタ)アクリレート
、3−スルホプロピル(メタ)アクリレート、2−りん
酸エチレン(メタ)アクリレート、2−リン酸−1−ク
ロロメチルエチレン(メタ)アクリレート、などの(メ
タ)アクリル酸エステル類;N−ビニルイミダゾール、
ビニルピリジン、N−ビニルピペリドン、N−ビニルカ
プロラクタム、N−ピニルピロリドンなどのビニル化合
物類:スチレンスルホン酸類、(無水)マレイン酸、メ
チル(無水)マレイン酸、フエニル(無水)マレイン酸
などのマレイン酸類;マレイミド、メチルマレイミド、
フエニルマレイミドなどのマレイミド類;(メタ)アク
リルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)
アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、
N、−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、
N−N−メチレンビス(メタ)アクリルアミド、N−メ
チロール(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルホ
ルモリン、N−プロピルオキシ(メタ)アクリルアミド
、N−N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−N−
ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリル
アミドなどの(メタ)アクリルアミド類があげられる。
これらのうちの1種または2種以上を併用して用いられ
る。親水性ラジカル重合性化合物は次のものと併用する
ことも出来る。
例えば、活性光線による付加を促進するための10重量
%以下の光増感剤、親.水性および共重合性を調節する
ための50重量%以下のスチレン、ビニルトルエン、(
メタ)アクリル酸エステルなどの一般のラジカル重合性
化合物、親油性基材との均一な接触を向上させるための
90重量%以下のアルコール系、エステル系、ケトン系
、エーテル系、芳香族系などの溶剤、増粘剤としての2
0重量%以下のポリビニルアルコール、セルロース誘導
体、などの水溶性高分子などがあげられる。親水性ラジ
カル重合性化合物と上記物質との併用において、親水性
ラジカル重合性化合物は全体の4重量%以上含有するこ
とが必要であり、4重量%未満であると親油性基材の表
面に充分な親水性層を付与できなくなる。本発明で用い
られる光増感剤は、三重項エネルギーが50Kca1/
MOl以上の三重項増感剤または活性光線によつて遊離
ラジカルを生成するものであり、公知のものが用いられ
る。
例えば、ベンゾインエーテル類、アゾビスイソブチロニ
トリル、チウラム化合物などの如く単独で光により遊離
ラジカルを発生するもの、ベンゾフエノン、アセトフエ
ノンなどの如く他分子の活性水素を引き抜くことにより
遊離ラジカルを発生せしむるもの、又は塩化第二鉄など
の光酸化一還元系、ミヒラ−ケトンなどがあげられる。
親油性基材に親水性ラジカル重合性化合物を接触させる
には、公知の方法がらられる。
例えば、親水性ラジカル重合性化合物又はその溶液中に
親油性基材を浸漬するか、親油性基材に親水性ラジカル
重合性化合物又はその溶液を塗布すること、又は塗布し
たものを乾燥することによつて可能である。また、親油
性基材上で親水性ラジカル重合性化合物を溶融させても
よい。さらに、親水性ラジカル重合性化合物蒸気中に親
油性基材を挿入してもよい。ここで、親水性ラジカル重
合性化合物またはその溶液は処理すべき親油性基材を溶
解しないものを用いる。
すなわち、本発明は固相である親油性基材が気相、液相
あるいは固相である親水偏ラジカル重合性化合物層と非
混合的に接触した面において、活性光線に起因するエネ
ルギー移動および(又は)活性種の物質移動が生じて、
親油性基材の表面が親水化するところに大きな特徴があ
る。反応のエネルギー源となる活性光線は250nm〜
700nmの範囲の波長を用いることが望ましく、親油
性基材の劣化を伴なわない波長領域であればさらに望ま
しい。その光源としては、例えば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、けい光ランプ、キセノンランプ、カーボンアークラ
ンプ、タングステン白熱灯、太陽光などの中から選択さ
れたものを用いる。照射は、親油性基材を透して、また
は親水性ラジカル重合性化合物を透して、もしくはその
両方から直接、ないしは透光性の器壁を透して行なう。
光の照射の所要時間は、目的とする親水化度及び使用す
る光源により異なるが、通常数秒〜24時間である。表
面親水化処理された親油性基材は、水、アルコール、ケ
トン、エステル、などの親油性基材の非溶媒で洗浄する
ことにより未反応の親水性ラジカル重合性化合物及び(
または)親油性基材と結合していない重合物と分離する
ことができる。
さらに水、あるいは電解質水溶液との接触時間を長くす
ることによつて、親水性ラジカル重合性化合物の付加物
が脱離することなく、親水性を向上させることも可能で
ある。本発明方法において、画線部にあたる表面の親水
性層を選択的に破壊し、親油性基材の本体を露出ぜしめ
得る方法は、とくに限定されることはなく、たとえば機
械的方法、熱的方法、などによつてこれを行なうことが
できる。
機械的方法としては、具体的にはたとえば親水性層に接
触させた針状の超音波振動子を走査しつつ画線部におい
て超音波振動させることによつて行なうことができる。
熱的方法としては、たとえば熱ペンを接触させ、または
レーザービームにより無接触的に走査することによつて
選択的加熱を行なう。本発明の製版方法による平版印刷
用版は、きわめて簡便に製造されるものであるにかかわ
らず、平版オフセツト印刷用マスター版として充分な画
像の再現性、耐刷性、インキ適性などの印刷適性を有し
ており、さらには、画像を変換して得られる電気的信号
により直接的にマスター版が得られるので製版工程が非
常に簡易であり、かつ電送により遠隔地にも迅速にマス
ター版を作ることが出来るなどの数多くのすぐれた特徴
を有するものである。
つぎに実施例をかかげて、さらに具体的に本発明を説明
するが、これによつて本発明の特許範囲は制限されるも
のではない。
実施例 1 1・4一重合型ポリブタジエン(日本ゼオン(株)製造
、商品名「LCB−150」、数平均分子量約5500
)1007をミネラルスピリツト3007に溶解し、さ
らに金属コバルト0.15f相当のナフテン酸コバルト
を添加して組成物とした。
この組成物を、厚さ0.15mmのアルミニウム板の片
面に、厚さ40ミクロンの層を形成し得るように塗布し
、溶剤の揮発後、170〜180℃、30分間の加熱に
より硬化させて親油性基材Aを得た。親油性基材Aのポ
リブタジエンの面に、アクリルアミド40ク、ベンゾフ
エノン2f7、メタノール607からなる溶液を塗布後
20分間乾燥し、アクリルアミドの層(約2μ)を通し
て5?の距離から高圧水銀灯(200W)で5分間照射
後、水で先滌し、親水性層を有する親水性基材A(版材
料A)を得た。
この版材料Aを30?/Secの速度で移動させながら
、アルゴンレーザー装置(出力2800mW)の波長4
880λのレーザー光を直径2ミクロンに集束して垂直
に照射し、平行直線状の軌跡を描かせ親水性層を破壊し
て刷版とした。
卓上式オフセツト輪転印刷機にこの刷版を装着し、グリ
セリン2重量%含有させた水を湿し水として試刷した結
果、10本/詣の解像性と、30000通しの耐刷性と
が認められた。実施例 2 ABS樹脂(商品名[カネエースS−10」鐘化学工業
(株)製造)507、トルエン4507からなる溶液を
厚さ150μのポリエステルフイルムの片面に塗布し、
溶媒を揮発させて厚さ30μの層を形成し親油性基材B
を得た。
親油性基材Bf)ABS樹脂面にアセトフエノン4yと
N−N−ジメチルアクリルアミド947とからなる溶液
を塗布し、N−N−ジメチルアクリルアミドの層(約3
μ)を通して5?の距離から高圧水銀灯(200W)で
2分間照射後、水で洗滌し、親水性層を有する親水性基
材B(版材料B)を得た。
この版材料Bを実施例1と同様にレーザー装置で製版後
、オフセツト試刷を行なつた結果、実施例1と同様の結
果を得た。
実施例 3 後記方法によつて製造された不飽和性アクリル樹脂溶液
A(樹脂分含量25重量%)4001にα・α−アゾビ
スイソブチロニトリル3yとベンゾフエノン4yとを添
加して得た親油性基材形成用組成物を、厚さ0.15詣
のアルミニウム板の片面に塗布し、110〜120℃、
10分間の加熱により硬化させて厚さ10ミクロンの層
を形成し親油性基材Cを製造した。
親油性基材Cの不飽和アクリル樹脂面に2−りん酸エチ
レンメタクリレート40fとメタノール607からなる
溶液を塗布し、2−りん酸エチレンメタクリレートの層
(約4μ)を通して5CrrLの距離から高圧水銀灯(
400W)で2分間照射後、水とメタノールの1:1混
合溶液で洗滌し、親水性層を有する親水性基材C(版材
料C)を得た。
この版材料Cを実施例1と同様にレーザー装置で製版後
、オフセツト試刷を行なつた結果、実施例1と同様の結
果を得た。不飽和性アクリル樹脂溶液Aの製造方法 反応容器中のトルエン25部(重量部を表わす。
以下同じ)、メチルエチルケトン(MEK)25部の混
合液に、その沸とう温度を維持しながら、窒素ガス気流
中で、メタクリル酸−n−ブチル20部、メタクリル酸
メチル15部、アクリル酸15部、α・α−アゾビスイ
ソブチロニトリル(AIBN)0,5部の混合液を10
0分を費して滴下し、そのまま100分間、さらにAI
BNの5重量%MEK溶液5部を追加してから60分間
重合を進行させた。つぎにハイドロキノン0.1重量部
を含むメタクリル酸グリシジル25部およびテトラエチ
ルアンモニウムブロマイドの20%メタノール溶液25
部を添加し、空気と接触させながら100℃で附加反応
を行なわせ、約2時間を要して樹脂分の酸価が70に至
つたときに急冷して反応を停止させた。最後にトルエン
/MEK等量混合液を用いて樹脂分含量を25重量%に
調整した。実施例 4 厚さ0.1mmのポリプロピレンフイルムを無水マレイ
ン酸の結晶した温箱の穴部にとりつけ、60℃に昇温し
た無水マレイン酸蒸気と接触させ、フイルム面より8?
の温箱の外部から高圧水銀灯(400W)で10分間照
射後、フイルムを24時間上水に浸漬し、親水性を有す
るポリプロピレンフイルム(版材料D)を得た。
この版材料Dを実施例1と同様にレーザー装置により製
版後、オフセツト試刷を行なつた結果、実施例1と同様
の結果を得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 炭素−炭素2重結合および(または)第3級炭素に
    結合した水素基との総量を0.05mol/kg以上有
    する親油性樹脂を主成分とする親油性基材表面全面を、
    親水性ラジカル重合性化合物と接触させた系に活性光線
    を照射して、該表面全面に親水性層を形成し、ついで前
    記親水性層を選択的に破壊して親油性基材本体面を露出
    せしめて画線部とすることを特徴とする平版印刷用版の
    製版方法。
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