JP2000181059A - 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外光に対し、高い感光性を有し、白色灯下
で安定かつ感光液の安定性も良好な感光性組成物、画像
形成材料及び画像形成方法を提供する。 【解決手段】 （ａ）エチレン性不飽和二重結合含有化
合物、（ｂ）増感色素、及び（ｃ）光重合開始剤を含有
する感光性組成物に於いて、（ｂ）増感色素が７５０ｎ
ｍから１２００ｎｍの範囲に吸収極大があるフタロシア
ニン化合物であることを特徴とする感光性組成物、更に
基板上に上記感光性組成物からなる感光層を有する画像
形成材料並びに画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版やプリン
ト基板、ＬＳＩ、ＴＦＴ液晶表示素子、プラズマディス
プレー、ＴＡＢ等の微細加工に使用できる感光性組成
物、画像形成材料及び画像形成方法に関するものであ
る。更に詳しくは、コンピューター等のデジタル信号に
基づいたレーザー走査露光により直接描画が可能で、特
に、半導体レーザー、固体レーザー等の赤外レーザー露
光に適した感光性樹脂組成物である。

【０００２】

【従来の技術】プリント基板、ＬＳＩ、ＴＦＴ液晶表示
素子、プラズマディスプレー、ＴＡＢ等の微細加工には
感光性樹脂を利用したリソグラフィー技術が広く利用さ
れている。このような目的での画像形成はマスクを通し
て像露光し、露光部と未露光部の現像液に対する溶解性
の差を利用してパターン形成する方法が一般的である
が、レーザー光を利用するとコンピューター等のデジタ
ル情報に基づいて直接感光性樹脂を走査像露光でき、生
産性の向上ばかりでなく解像性、位置精度等も向上でき
るためレーザー直接描画法が盛んに研究されている。

【０００３】レーザー光としては遠紫外からマイクロ波
まで種々の光源が知られているが、レーザー出力、安定
性、コスト、感光能力等の観点からリソグラフィーに利
用できるレーザー光はＡｒイオンレーザー、ＹＡＧレー
ザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー等可視
光から赤外光を発するものが有力である。このため、可
視〜赤外光にかけて感光性を有する種々の組成物が検討
されている。

【０００４】このうち、赤外光に選択的に感光し白色灯
にセーフライト性を有するものとしてはノボラック樹脂
の相変化を利用した組成物（特開平９−４３８４７号公
報）や光−熱変換物質による熱反応を利用した組成物と
してブロックイソシアネートの架橋を利用したもの（特
開平６−１０８８号公報、特開平９−４３８４５号公
報）、フェノール性架橋剤を利用したもの（特開平８−
２７６５５８号公報等）が知られているが感度及び安全
性の面で問題を有していた。また、特開昭６２−１４３
０４４号公報、特開昭６２−１５０２４２号公報にはエ
チレン性モノマー、有機ホウ素錯体、カチオン染料を含
む組成物が知られている。しかし可視〜近赤外領域に感
光するため白色灯の取扱に問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、１）
赤外光を発するレーザー光に高い感度を有し、２）赤色
燈等の特別な環境を準備しなくとも白色燈のような環境
下で容易に取り扱え、３）アルカリ水溶液で現像処理可
能で、４）感光液の安定性にも優れたレーザー直接描画
用の感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法を提
供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、特定波長に吸収極大があるフタロシアニン化合物
と光重合開始剤の組み合わせ、特には、有機ホウ素錯体
とを組み合わせた重合系の組成物が驚くべき事に赤外光
だけに選択的に高い感光性を有するため白色灯下でも取
り扱うことができることを見出した。また、感光液とし
て保管しても沈澱等の変化を生じることなく安定であ
り、アルカリ水による現像で画像形成可能であることを
見出した。即ち、本発明の要旨は（ａ）エチレン性不飽
和二重結合含有化合物、（ｂ）増感色素、及び（ｃ）光
重合開始剤を含有する感光性組成物に於いて、（ｂ）増
感色素が７５０ｎｍから１２００ｎｍの範囲に吸収極大
があるフタロシアニン化合物であることを特徴とする感
光性組成物に存する。更に基板上に上記感光性組成物か
らなる感光層を有する画像形成材料並びに画像形成方法
に存する。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施形態を詳細に説
明する。 （ａ）エチレン性不飽和二重結合含有化合物（以下、
「エチレン性不飽和化合物」という。） エチレン性不飽和化合物としては重合可能な不飽和二重
結合を分子内に少なくとも一個有する化合物を挙げるこ
とができ、公知の種々の不飽和化合物を利用することが
できる。なかでも架橋効率、溶解性変化等の観点から分
子内に二重結合を二個以上、就中、感度の点から四個以
上有する低分子量化合物で所謂アクリルモノマーが好ま
しいものである。尚、低分子量化合物としての分子量
は、通常、２０００以下、好ましくは２０〜１０００で
ある。又、本発明に於けるアクリルモノマーとしては、
メタクリルモノマーを含む。

【０００８】アクリルモノマーとしては脂肪族アルコー
ルあるいは芳香族、ヘテロ環ヒドロキシ化合物に不飽和
カルボン酸を縮合させたエステルアクリレート化合物、
脂肪族あるいは芳香族エポキシ化合物に不飽和カルボン
酸を付加させたエポキシアクリレート化合物、イソシア
ネート化合物に不飽和ヒドロキシ化合物を付加させたウ
レタンアクリレート化合物を挙げることができるが必ず
しもこれらだけに限定されるものではない。

【０００９】エステルアクリレート化合物としては、例
えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンメタ
クリレート（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリセリンプ
ロピレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビト
ールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ
（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）ア
クリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。

【００１０】エポキシアクリレート化合物としては、グ
リシジル基あるいは脂環式エポキシ基等のエポキシ環を
有するエポキシ化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付
加反応させた化合物が挙げられる。

【００１１】エポキシ化合物としてはエポキシ環を結合
させている基体骨格としては脂肪族、芳香族、ヘテロ
環、あるいはこれらが種々入り交じった構造の種々のエ
ポキシ化合物であり、芳香族エポキシ化合物としては例
えばフェノールノボラックエポキシ化合物、（ｏ，ｍ，
ｐ）−クレゾールノボラックエポキシ化合物、ビスフェ
ノール−Ａエポキシ化合物、ビスフェノール−Ｆエポキ
シ化合物、あるいはブロム化フェノールノボラックエポ
キシ化合物のようにハロゲン化されたエポキシ化合物等
が挙げられる。これらの化合物は低分子化合物であって
も樹脂となるようなオリゴマー、高分子であってもよ
い。

【００１２】脂肪族エポキシ化合物としては例えばソル
ビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリ
シジルエーテル、（ポリ）グリセロールポリグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエー
テル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、（ポリ）エチ
レングリコールジグリシジルエーテル、（ポリ）プロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、（ポリ）テトラ
メチレングリコールジグリシジルエーテル、（ポリ）ペ
ンタメチレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げ
られる。ヘテロ環構造を有するエポキシ化合物としては
トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリ
ス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等を挙げ
ることができる。

【００１３】脂環式エポキシ化合物としてはダイセル化
学社製のセロキサイド２０２１、２０８０、３０００、
２０００、エポリードＧＴ３００、ＧＴ４００等を挙げ
ることができる。以上挙げたエポキシ化合物にα、β−
不飽和カルボン酸として例えば（メタ）アクリル酸等を
四級アンモニウム塩等を触媒として付加させたエポキシ
アクリレート化合物を好ましく用いることができ、さら
に、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の酸
無水物等でさらに変性させた変性エポキシアクリレート
も好ましく用いることができる。

【００１４】ウレタンアクリレート化合物としてはパラ
フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソ
シアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，
４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン
−１，５−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネー
ト等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチ
レンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ω，ω’
−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環式
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α，
α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジ
ンエステルトリイソシアネート、１，６，１１−ウンデ
カントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−
４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキ
サメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリ
イソシアネート、トリス（イソシアネートフェニルメタ
ン）、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェ
ート等のトリイソシアネート等の分子内に少なくとも二
個のイソシアネート基を有する化合物に、ヒドロキシメ
チル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸アルキレ
ンオキサイド付加ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等
のような水酸基を有するアクリル化合物を反応させた化
合物を挙げることができる。

【００１５】（ｂ）フタロシアニン化合物 ７５０ｎｍから１２００ｎｍの範囲に吸収極大を有する
フタロシアニン化合物は下記式(I) 又は(II)のフタロシ
アニン基本骨格を有する化合物であり、芳香環への置換
基あるいは中心金属の種類等により吸収極大を上記範囲
に制御したものである。

【００１６】

【化３】

【００１７】

【化４】

【００１８】〔式(II)中、Ｍはフタロシアニン錯塩を形
成する金属元素を表し、芳香環は置換基を有していても
よく、該置換基が互いに連結して縮合環を形成していて
もよく、さらに該縮合環は置換基を有していてもよ
い。〕

【００１９】上記中心金属Ｍとしては、アルカリ金属(I
a)、アリカリ土類金属(IIa) 、IIIb族、IVb 族、Vb族、
VIb 族、VIIb族、VIIIb 族、Ib族、IIb 族、IIIa族、IV
a 族、Va族、ランタニド、アクチニドの種々の金属が挙
げられる。芳香環及び縮合環の置換基としてはアルキル
基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、ビニル基、カルボキシル基、ア
クリロイル基、チオエーテル基、シリル基等が挙げら
れ、複数の置換基は同一でも異なっていてもよい。

【００２０】このような化合物としては、例えば、特開
昭６４−６０６６０号公報、特開平１−１００１７１号
公報、特開平３−３１２４７号公報、特開平４−１５２
６３号公報、特開平４−１５２６４号公報、特開平４−
１５２６５号公報、特開平４−１５２６６号公報に記載
のフタロシアニン化合物、特開平２−１３８３８２号公
報に記載のアルキルフタロシアニン化合物、特開平３−
７７８４０号公報、特開平３−１０００６６号公報に記
載のアシロキシフタロシアニン化合物、特開平４−３４
８１６８号公報に記載のアルコキシフタロシアニン化合
物、特開昭６０−２３４５１号公報、特開昭６１−２１
５６６２号公報、特開昭６１−２１５６６３号公報、特
開昭６３−２７０７６５号公報、特開平１−２８７１７
５号公報、特開平２−４３２６９号公報、特開平２−２
９６８８５号公報、特開平３−４３４６１号公報、特開
平３−２６５６６４号公報、特開平３−２６５６６５号
公報に記載のナフタロシアニン化合物、特開平１−１０
８２６４号公報、特開平１−１０８２６５号公報に記載
のジナフタロシアニン化合物等から選択することができ
る。

【００２１】上記のうち、式(II)で表され、中心金属Ｍ
が亜鉛等のIIb 族、錫等のIVb 族、アルミニウム、ガリ
ウム等のIIIb族、銅等のIb族、バナジウム等のVa族の錯
塩が好ましく、中でも、IIb 族、IVb 族の錯塩、特に亜
鉛、又は錫の錯塩が好ましい。又、フタロシアニン化合
物の溶解性の点から、少なくとも一つの芳香環が置換基
を有する化合物が好ましく、その置換基として、炭素数
１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭
素数２〜８のアルコキシアルキル基、又はハロゲン原子
のいずれかを有するか、或いは、置換基が互いに連結し
てナフタロシアニン構造を形成し、かつ、炭素数１〜６
のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２
〜８のアルコキシアルキル基、又はハロゲン原子のいず
れかの置換基を有する化合物が好ましい 。

【００２２】具体的な化学構造を吸収極大（λ_max ）及
び吸収極大（λ_max ）におけるモル吸光係数（ε）と共
に例示するならば例えば以下の化合物が挙げられる。な
お、以下の例示において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエ
チル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれ
ぞれ示す。

【００２３】

【化５】

【００２４】

【化６】

【００２５】

【化７】

【００２６】

【化８】

【００２７】

【化９】

【００２８】

【化１０】

【００２９】

【化１１】

【００３０】

【化１２】

【００３１】

【化１３】

【００３２】

【化１４】

【００３３】

【化１５】

【００３４】なお、吸収極大（λ_max ）は上記化合物を
塗布溶剤として用いる有機溶剤に溶解させて分光光度計
にて測定したものである。このような有機溶剤としては
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラク
ロロエチレン等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、メ
タノール、エタノール、プロパノール等のアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類が挙げられる。

【００３５】以上掲げたフタロシアニン化合物で好まし
いものはレーザー照射波長に対して±５０ｎｍの範囲に
吸収極大を有するものである。また、モル吸光係数
（ε）は１００００以上、好ましくは２００００以上、
より好ましくは３００００以上である。吸収極大（λ
_max ）、吸光係数（ε）が上記範囲からずれた場合には
充分な感度を得られなくなる傾向がある。

【００３６】（ｃ）光重合開始剤 本発明で用いられる光重合開始剤は活性光線の照射によ
り不飽和化合物を重合させることができる活性ラジカル
を生成しうる化合物であればよく、詳細後述する有機ホ
ウ素錯体、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（４−エトキシカルボニルナフチル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロ
メチル化トリアジン化合物、２−トリクロロメチル−５
−（２’−ベンゾフリル）−１，３，４−オキサジアゾ
ール、２−トリクロロメチル−５−［β−（２’−ベン
ゾフリル）ビニル］−１，３，４−オキサジアゾール、
２−トリクロロメチル−５−〔β−（２’−（６’’−
ベンゾフリル）ビニル）〕−１，３，４−オキサジアゾ
ール、２−トリクロロメチル−５−フリル−１，３，４
−オキサジアゾール等のハロメチル化オキサジアゾール
化合物、２−（２’−クロロフェニル）−４，５−ジフ
ェニルイミダゾール２量体、２−（２’−クロロフェニ
ル）−４，５−ビス（３’−メトキシフェニル）イミダ
ゾール２量体、２−（２’−フルオロフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（２’−メト
キシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（４’−メトキシフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾール２量体等のイミダゾール化合物、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル等のベンゾイン化合物、２−メチルアントラ
キノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルア
ントラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラ
キノン化合物、ベンズアンスロン化合物、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−
メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２
−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、
２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合
物、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−２
−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メ
チルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１
−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、
２−メチル−（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−
モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロ
メチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェ
ノン化合物、チオキサントン、２−エチルチオキサント
ン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４
−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチ
オキサントン等のチオキサントン化合物、ｐ−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エ
チル等の安息香酸エステル、９−フェニルアクリジン、
９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン等のアクリジ
ン化合物、９，１０−ジメチルベンズフェナジン等のフ
ェナジン化合物、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ
−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス
−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，
５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオ
ロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ
−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロフェニ−
１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，４−
ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ
−フルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イ
ル等のチタノセン化合物等種々の化合物を利用すること
ができるが、感度の点で有機ホウ素錯体又はハロメチル
化トリアジン化合物が好ましく、更に白色灯下での取扱
い性の点で有機ホウ素錯体が特に好ましい。本発明で用
いられる有機ホウ素錯体は下記式(III) に示される基本
構造を有する化合物である。

【００３７】

【化１６】

【００３８】〔式(III) 中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ
⁴ は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有
していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよ
いアルカリール基、置換基を有していてもよいアルケニ
ル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基
を有していてもよい脂環式基、又は置換基を有していて
もよい複素環基を示し、これらは互いに連結して環状構
造を形成していてもよく、Ｘ⁺ は対カチオンを示す。〕

【００３９】ここで、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴ のア
ルキル基、及び脂環式基としては、炭素数が１〜１０の
ものが、アルケニル基、及びアルキニル基としては、炭
素数が１〜１５のものが、又、アリール基、アラルキル
基、及びアルカリール基としては、炭素数が６〜２０の
ものが、それぞれ好ましく、アリール基としてはフェニ
ル基が特に好ましい。又、それらの置換基としてはアル
キル基、アルコキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、又はハ
ロゲン原子等が挙げられ、ハロゲン原子が特に好まし
い。

【００４０】安定性並びに高重合活性の観点からＲ¹ 〜
Ｒ⁴ の内３個が置換基を有してもよいアリール基、１個
が置換基を有していてもよいアルキル基であるトリアリ
ールアルキルホウ素錯体が好ましい。また、ホウ素と結
合したアリール基同士が下記のように化学結合を有した
ものも好ましい。なお、ここで、Ｒはアルキル基であ
る。

【００４１】

【化１７】

【００４２】これらの有機ホウ素錯体における好ましい
アニオンの具体例としては、例えば、ｎ−ブチル−トリ
フェニルホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メ
チルフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，４，６−トリメチルフェニル）ホウ素アニオン、
ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）ホウ素ア
ニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）ホ
ウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェ
ニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フル
オロフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，６−ジフルオロフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−
ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオロフェニル）
ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロフェニル）ホウ素アニオン、ｎ
−ブチル−トリス（ｍ−トリフルオロメチルフェニル）
ホウ素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（３，５−ジ−ト
リフルオロメチルフェニル）ホウ素アニオン、ｎ−ブチ
ル−トリス（２，６−ジフルオロ−３−ピロリルフェニ
ル）ホウ素アニオン、ｎ−ヘキシル−トリス（ｍ−フル
オロフェニル）ホウ素アニオン等が挙げられる。

【００４３】対カチオンとしては特開昭６２−１４３０
４４号公報、特開昭６２−１５０２４２号公報に記載の
カチオン染料のような可視光領域に吸収のあるものは安
定性の点で劣るため、できるだけ可視光領域に吸収の無
いものが好ましい。例えば、アンモニウム、ホスホニウ
ム、アルソニウム、スチボニウム、オキソニウム、スル
ホニウム、セレノニウム、スタンノニウム、ヨードニウ
ム等のオニウムカチオン基、遷移金属配位カチオン錯体
等を挙げることができる。中でも、アンモニウムカチオ
ンが好ましく、テトラアルキル（炭素数１〜１０）アン
モニウムカチオンが特に好ましい。

【００４４】上記条件を満たす有機ホウ素錯体として
は、例えば、特開平９−１８８６８６号公報、特開平９
−１８８６８５号公報、特開平９−１８８７１０号公
報、特開平９−１０６２４２号公報、特開平８−２１７
８１３号公報に記載の有機ホウ素アンモニウム錯体、特
開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４
号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホ
ウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホ
ニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６
−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム
錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ
素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、
特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８
９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−
２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等
を具体例として挙げることができる。

【００４５】具体的な化学構造を例示するならば、例え
ば、以下の化合物を挙げることができる。なお、以下の
例示において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、
Ｂｕはブチル基をそれぞれ示す。

【００４６】

【化１８】

【００４７】

【化１９】

【００４８】

【化２０】

【００４９】

【化２１】

【００５０】

【化２２】

【００５１】本発明の有機ホウ素錯体の吸収極大は４０
０ｎｍ以下であるのが好ましい。４００ｎｍを越えると
白色灯下での取扱性が劣ることとなる点で不利となる。

【００５２】以上挙げた必須成分の好ましい配合比率は
（ａ）エチレン性不飽和化合物１００重量部に対して
（ｂ）増感色素であるフタロシアニンが０．０１〜３０
重量部、より好ましくは０．０５〜２５重量部、更に好
ましくは５〜２５重量部、（ｃ）光重合開始剤が０．０
１〜３０重量部、より好ましくは０．０５〜２５重量
部、更に好ましくは５〜２５重量部の範囲である。上記
範囲から外れた場合には増感剤、開始剤の結晶化、感度
の低下、塗膜特性の低下等の問題が発生しやすくなる。
又、光重合開始剤は増感色素１重量部に対して０．０５
〜５０重量部、より好ましくは０．１〜４０重量部、更
に好ましくは０．１〜１０重量部使用される。

【００５３】本発明の組成物は上記成分以外に塗膜形成
能向上のための樹脂を含有することができる。中でもア
ルカリ可溶性樹脂は、添加することで現像性、耐熱性、
耐薬品性などが向上するので好ましい。このようなもの
としてカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基を有
する樹脂を挙げることができる。

【００５４】カルボキシル基を有する樹脂としては１）
カルボキシル基を有するモノマーをラジカル重合あるい
はイオン重合させた樹脂、２）酸無水物を有するモノマ
ーをラジカルあるいはイオン重合させ酸無水物ユニット
を加水分解もしくはハーフエステル化させた樹脂、３）
エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変
性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。また、
フェノール性水酸基を有する樹脂としては４）フェノー
ル化合物を付加縮合させたノボラック樹脂、及びレゾー
ル樹脂、５）ビニルフェノール類を重合させた樹脂、を
挙げることができる。

【００５５】具体例としてカルボキシル基を有するビニ
ル樹脂を挙げるならば、カルボキシル基を有するモノマ
ーとして（メタ）アクリル酸、メタクリル酸２−サクシ
ノロイルオキシエチル、メタクリル酸２−マレイノロイ
ルオキシエチル、メタクリル酸２−フタロイルオキシエ
チル、メタクリル酸２−ヘキサヒドロフタロイルオキシ
エチル、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン
酸等の不飽和カルボン酸を単独重合させた樹脂や、これ
らの不飽和カルボン酸をスチレン、α−メチルスチレ
ン、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エ
チル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル
酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、酢酸ビニ
ル、アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、グリ
シジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテ
ル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトン酸グリシジ
ルエーテル、（メタ）アクリル酸クロライド、ベンジル
（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアクリルアミド、Ｎ−メタクリロイルモルホリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリルアミドなど
カルボキシル基を有さないビニルモノマーと共重合させ
た樹脂が挙げられる。

【００５６】また、無水マレイン酸をスチレン、α−メ
チルスチレン等と共重合させ、無水マレイン酸ユニット
部分をメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の一価
アルコールでハーフエステル化あるいは水により加水分
解させた樹脂も好適に使用することができる。

【００５７】さらに、ノボラックエポキシアクリレート
樹脂、ビスフェノールエポキシ樹脂等に（メタ）アクリ
ル酸、メタクリル酸２−サクシノロイルオキシエチル、
メタクリル酸２−マレイノロイルオキシエチル、メタク
リル酸２−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸２−
ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、マレイン酸、フ
マル酸、イタコン酸、クロトン酸、等の不飽和カルボン
酸あるいは酢酸、プロピオン酸、ステアリン酸等の飽和
カルボン酸を付加させた後、無水マレイン酸、無水イタ
コン酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水フタル酸等の
酸無水物で変性させた樹脂も好適である。

【００５８】フェノール性水酸基を有する樹脂としては
フェノール、（ｏ，ｍ，ｐ）−クレゾール、（ｏ，ｍ，
ｐ）−エチルフェノール、キシレノール、（ｏ，ｍ，
ｐ）−プロピルフェノール、（ｏ，ｍ，ｐ）−ブチルフ
ェノール、レゾルシノール、ピロガロール、ヒドロキシ
ベンゾフェノン等のフェノール類を酸性あるいは塩基性
触媒下のもとにホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、アセトン等により付加重合させ
た樹脂が挙げられる。

【００５９】また、（ｏ，ｍ，ｐ）−ビニルフェノール
を単独重合させた樹脂やスチレン、α−メチルスチレ
ン、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エ
チル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル
酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、酢酸ビニ
ル、アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、グリ
シジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテ
ル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトン酸グリシジ
ルエーテル、（メタ）アクリル酸クロライド、ベンジル
（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアクリルアミド、Ｎ−メタクリロイルモルホリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリルアミドを共
重合させた樹脂、フェノール性水酸基の一部をｔ−ＢＯ
Ｃ、ビニルエーテル、シリル基等により一部保護した樹
脂等も好適である。

【００６０】以上のアルカリ可溶性樹脂の中では、現像
性の点から、カルボキシル基を有する樹脂、特に、（メ
タ）アクリル酸を含有する（メタ）アクリル酸（共）重
合樹脂が好ましく、これらの共重合体としては、具体的
には、例えば、特開昭６０−２０８７４８号公報記載の
メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体、特開昭６
０−２１４３５４号公報記載のメタクリル酸メチル／ア
クリル酸メチル／メタクリル酸共重合体、特開平５−３
６５８１号公報記載のメタクリル酸ベンジル／メタクリ
ル酸メチル／メタクリル酸／アクリル酸２−エチルヘキ
シル共重合体、特開平５−３３３５４２号公報記載のメ
タクリル酸メチル／メタクリル酸ｎ−ブチル／アクリル
酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸共重合体、特開平
７−２６１４０７号公報記載のスチレン／メタクリル酸
メチル／アクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体、特
開平１０−１１０００８号公報記載のメタクリル酸メチ
ル／アクリル酸ｎ−ブチル／アクリル酸２−エチルヘキ
シル／メタクリル酸共重合体、特開平１０−１９８０３
１号公報記載のメタクリル酸メチル／アクリル酸ｎ−ブ
チル／アクリル酸２−エチルヘキシル／スチレン／メタ
クリル酸共重合体等を挙げることができる。

【００６１】以上挙げたアルカリ可溶性樹脂は樹脂酸価
が５〜２５０ＫＯＨ・ｍｇ／ｇの範囲のものがアルカリ
現像性の点で好ましい。また、配合量は（ａ）エチレン
性不飽和化合物１００重量部に対してアルカリ可溶性樹
脂を５０００重量部以下、好ましくは５０〜５００重量
部の範囲で加えることが画像形成性の観点から好まし
い。分子量は重量平均で５００〜５００００００、更に
は１０００〜５０００００の範囲が好ましい。

【００６２】本発明の感光性組成物には種々の用途、目
的から前述した必須成分以外にアニオン、カチオン、ノ
ニオン、フッ素系界面活性剤等のような塗布性改良剤、
消泡剤、露光後の可視画性付与剤、着色剤、密着向上
剤、現像改良剤、紫外線吸収剤、重合安定剤、等の添加
剤を好適に配合することができる。

【００６３】本発明の組成物は上記成分を溶剤に溶解さ
せ感光液とした形態、あるいは支持体に塗布し乾燥させ
て支持体上に本発明の感光性組成物からなる層が形成さ
れた感光性平版印刷版、ドライフィルムとした形態等で
良好に使用することができる。

【００６４】感光液とする場合には前述した成分を溶解
あるいは分散可能である溶剤であれば特に限定されない
が、例えば、ジイソプロピルエーテル、ミネラルスピリ
ット、ｎ−ペンタン、アミルエーテル、エチルカプリレ
ート、ｎ−ヘキサン、ジエチルエーテル、イソプレン、
エチルイソブチルエーテル、ブチルステアレート、ｎ−
オクタン、バルソル♯２、アプコ♯１８ソルベント、ジ
イソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、
アプコシンナー、ブチルエーテル、ジイソブチルケト
ン、メチルシクロヘキサン、メチルノニルケトン、プロ
ピルエーテル、ドデカン、Ｓｏｃａｌ ｓｏｌｖｅｎｔ
Ｎｏ．１およびＮｏ．２、アミルホルメート、ジヘキ
シルエーテル、ジイソプロピルケトン、ソルベッソ♯１
５０、酢酸ブチル（ｎ、ｓｅｃ、ｔ）、ヘキセン、シェ
ル ＴＳ２８ ソルベント、ブチルクロライド、エチル
アミルケトン、エチルベンゾネート、アミルクロライ
ド、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルオル
ソホルメート、メトキシメチルペンタノン、メチルブチ
ルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルイソブチレー
ト、ベンゾニトリル、エチルプロピオネート、メチルセ
ロソルブアセテート、メチルイソアミルケトン、メチル
イソブチルケトン、プロピルアセテート、アミルアセテ
ート、アミルホルメート、ビシクロヘキシル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジペンテ
ン、メトキシメチルペンタノール、メチルアミルケト
ン、メチルイソプロピルケトン、プロピルプロピオネー
ト、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、メチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート、カルビトール、シク
ロヘキサノン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール
モノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、３−メトキシプロピオン酸、３−エトキ
シプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸エチル、３
−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオ
ン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−
メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、エチレング
リコールアセテート、エチルカルビトール、ブチルカル
ビトール、エチレングリコールモノブチルエーテル、３
−メチル−３−メトキシブタノール、トリプロピレング
リコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブ
チルアセテート、等の有機溶剤を挙げることができる。
溶剤の使用割合は、感光性組成物の総量に対して、通
常、重量比で１〜２０倍程度の範囲である。

【００６５】次に、本発明の感光性組成物の使用方法に
ついて説明する。感光液として用いるときはブレードコ
ーター、ロッドコーター、ナイフコーター、ロールドコ
ーター、ロールドクターコーター、トランスファロール
コーター、グラビアコーター、キスロールコーター、カ
ーテーンコーター、スピンコーター、ディップコータ
ー、スプレーコーター等により基板に塗布、オーブンあ
るいはホットプレート等により乾燥する。また、ドライ
フィルムの場合には、同様に塗布し乾燥させて得たドラ
イフィルムをラミネーターにより基板にラミネートす
る。

【００６６】基板としては特に制限を受けないが、印刷
版、プリント基板、プラズマディスプレー、カラーフィ
ルター等に通常使用される基板は好適である。例えば、
電解処理されたアルミニウムプレート、銅箔がラミネー
トされたエポキシ、ポリイミド、紙フェノール、ガラス
エポキシ等の樹脂板、ポリカーボネート、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン等のエン
ジニアリングプラスチック、ソーダガラス、石英ガラ
ス、鉛ガラス等のガラス、ＩＴＯ、クロム、金、等が蒸
着、ＣＶＤあるいはスパッタリングされた基板、セラミ
ック基板など種々のものを用いることができる。かかる
基板上に本発明の感光性組成物からなる層を形成するこ
とにより画像形成材料となる。

【００６７】感光性組成物の塗布量は用途により異なる
が、乾燥膜厚として、０．５〜１００μｍの範囲とする
のが好ましく、例えば、平版印刷版の場合には０．５〜
１０μｍ、好ましくは０．５〜５μｍ、更に好ましくは
１〜３μｍ、ドライフィルム等に用いる場合には３〜１
００μｍ、更に好ましくは５〜７０μｍとする。

【００６８】ポバール、ポリビニルピロリドン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等酸素遮断能力がある膜を感光
層の上にさらに一層設けると空気による重合阻害を低減
する効果により感度が向上する。また、この層は酸素遮
断機能だけでなく傷等を抑制し取扱性を向上させる働き
も付与することができるためこのような保護膜を設ける
ことは好ましい。

【００６９】本発明の感光性組成物又は画像形成材料を
用いて画像形成する場合の露光は、近赤外光から赤外光
を発するレーザー露光機が用いられる。照射波長として
好ましい領域は７８０〜１２００ｎｍの範囲のものであ
る。このようなレーザー露光機として現状として半導体
レーザー、ＹＡＧ等の固体レーザーを挙げることができ
る。描画はコンピューターのデジタル情報に基づいて画
像様に走査露光され露光部分を硬化する。中でも、７８
０〜８８０ｎｍの範囲の赤外レーザーによる露光に有利
である。

【００７０】現像は未露光部を溶解可能な液体に接触さ
せることにより行える。このような液体としては前述し
た感光液調製の際に用いたものと同じ有機溶剤も使用可
能であるが、好ましく用いられるのはアルカリ水溶液で
ある。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸
カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウ
ム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸
カリウム等の無機アルカリやトリエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、モノエタノールアミン、トリメタノ
ールアミン、ジメタノールアミン、モノメタノールアミ
ン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシド、ピリジン等の有機アル
カリ等の０．１〜１０重量％程度の水溶液を一例として
挙げることができる。アルカリ水溶液には現像性等の機
能向上のため少量の界面活性剤、有機溶剤、消泡剤等の
添加剤を加えることができる。界面活性剤の添加は解像
性向上、地汚れ改良等に好ましい結果を得る場合が多く
添加するのは好ましい。このような界面活性剤としては
公知のノニオン、アニオン、カチオン、ベタイン系の界
面活性剤を挙げることができる。現像方法としては特に
制限はなくスピン現像、パドル現像、ディップ現像、ス
プレー現像等種々の方法を用いることができる。

【００７１】現像後必要とあらばポストベーク、後露光
等の処理も加えることができる。このような後処理を加
えると架橋密度、密着性が向上し耐刷性や耐エッチング
性を向上させることができる。

【００７２】以下実施例により本発明をさらに詳述する
が、本発明は実施例により限定されるものではない。 合成例−１（アルカリ可溶性樹脂の合成） ベンジルメタクリレート１４０ｇ、メタクリル酸１７
ｇ、エタノール２００ｇ、アゾイソブチロニトリル１．
５ｇを加えオイルバスにより昇温させリフラックス、窒
素雰囲気条件下で８時間反応させた。この反応液を純水
に再沈澱させてベンジルメタクリレート／メタクリル酸
共重合樹脂を得た。ＫＯＨによる中和滴定を行ったとこ
ろ樹脂酸価は７０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであった。また、重
量平均分子量Ｍｗは４００００、数平均分子量Ｍｎは１
００００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは４であった。

【００７３】合成例−２（アルカリ可溶性樹脂の合成） 酸価２００、重量平均分子量５０００のスチレン／アク
リル酸共重合樹脂２０ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．
２ｇ、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド０．
２ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート４０ｇをフラスコに仕込み、３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチルアクリレート７．６ｇを滴下し１００
℃の温度で３０時間反応させた。反応液を水に再沈澱、
乾燥させて、側鎖に二重結合を有するスチレン／アクリ
ル酸共重合樹脂を得た。ＫＯＨによる中和滴定を行った
ところ樹脂酸価は８０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであった。ま
た、重量平均分子量Ｍｗは８０００、数平均分子量Ｍｎ
は３０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．７であった。

【００７４】実施例−１ 以下の割合で成分を配合し感光液組成物を得た。 １）合成例−１の樹脂 １００重量部 ２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１００重量部 ３）増感色素（前記Ｒ−３） ５重量部 ４）光重合開始剤（前記Ｂ−１） ５重量部 ５）シクロヘキサノン １５００重量部 ６）ＦＣ−４３０ ０．１重量部 （住友３Ｍ社製Ｆ系界面活性剤）

【００７５】画像及びセーフライト性評価 上記感光液をワイヤーバーにて厚さ０．２ｍｍ、サイズ
４００×２５０ｍｍの陽極酸化したアルミ基板に塗布し
た。コンベクションオーブンにて７０℃、２分間乾燥し
た。乾燥後の感光層膜厚は約１μであった。感光層膜上
に保護膜としてポリビニルアルコール１０ｗｔ％水溶液
を同様の方法で１μｍの厚さで塗布した。この基板を１
００×５０ｍｍのサイズに切り出し、直径１００ｍｍの
アルミニウムローラーに取り付けた。このアルミニウム
ローラーをモーターにて５ｒｐｍの速度で回転させなが
ら出力４０ｍＷ、照射波長８３０ｎｍ、レーザースポッ
ト径約１０μｍの半導体レーザー光で露光した。基板を
ローラーから取り外し珪酸カリ３ｗｔ％、ペレックスＮ
ＢＬ５ｗｔ％（花王社製界面活性剤）を含有するアルカ
リ現像液で２５℃で１分間ディップ現像を行った後純水
にてリンス、圧空により乾燥した。この基板を倍率６０
倍のルーペにより観察した（画像形成能−１）ところ１
０μｍの鮮明な画像が得られた。なお、以上の操作は黄
色灯下で行った。また、レジストが塗布された基板を蛍
光灯下１時間放置して上記と同様に評価を行なった（セ
ーフライト性）ところ、初期と同様１０μｍの鮮明なパ
ターンが得られ白色灯に対するセーフライト性を有する
ことが確認された。

【００７６】安定性評価 感光液を室温で３日間保管し沈澱の有無を目視観察した
（感光液安定性）ところ沈澱物は皆無であった。また、
この感光液を使用して上記と同様の条件で画像形成を行
った（画像形成能−２）ところ初期と同様１０μｍの鮮
明なパターンが得られ安定性は良好であった。

【００７７】実施例−２ 実施例−１の感光液組成で増感色素を前記Ｒ−１６に変
えた以外は実施例−１と同様に評価を行ったところ、画
像形成能、セーフライト性、感光液安定性何れも実施例
−１と同様な良好な結果が得られた。

【００７８】実施例−３ 実施例−１の感光液組成で光重合開始剤を前記Ｂ−６に
変えた以外は実施例−１と同様に評価を行ったところ、
画像形成能、セーフライト性、感光液安定性何れも実施
例−１と同様な良好な結果が得られた。

【００７９】実施例−４ 実施例−１の感光液組成で増感色素を前記Ｒ−１６、光
重合開始剤を前記Ｂ−６に変えた以外は実施例−１と同
様に評価を行ったところ、画像形成能、セーフライト
性、感光液安定性何れも実施例−１と同様な良好な結果
が得られた。

【００８０】比較例−１ 実施例−１の感光液組成で増感色素をＣＹ−１０（日本
化薬社製 シアニン色素 λ_max ＝７８７ｎｍ）に変え
た以外は実施例−１と同様に評価を行ったところ、露光
部分も現像液に溶解し画像形成不能であった。また、３
日間保管し感光液安定性を評価したところ沈澱物の発生
が認められ安定性も不良であった。

【００８１】比較例−２ 実施例−１の感光液組成で増感色素をＣＹ−１０（日本
化薬社製 シアニン色素 λ_max ＝７８７ｎｍ）、光重
合開始剤をＴＡＺ−１１０（みどり化学社製トリアジン
系開始剤）に変えた以外は実施例−１と同様に評価を行
ったところ、露光部分も現像液に溶解し画像形成不能で
あった。また、３日間保管し感光液安定性を評価したと
ころ沈澱物の発生が認められ安定性も不良であった。

【００８２】比較例−３ 実施例−１の感光液組成で増感色素を下記のＭＩＲ−１
０１（みどり化学社製Ｎｉ錯体系赤外吸収色素 λ_max
＝８５０ｎｍ）に変えた以外は実施例−１と同様に評価
を行ったところ、露光部分も現像液に溶解し画像形成不
能であった。

【００８３】

【化２３】

【００８４】比較例−４ 実施例−１の感光液組成で増感色素を下記のＣＩＲ−９
６０（日本カーリット社製 アミニウム系赤外吸収色素
λ_max ＝９５５ｎｍ）に変えた以外は実施例−１と同
様に評価を行ったところ、露光部分も現像液に溶解し画
像形成不能であった。

【００８５】

【化２４】

【００８６】以上の結果を纏めて表１に示す。

【００８７】

【表１】

【００８８】実施例−５ 以下の割合で成分を配合し感光液組成物を得た。 １）合成例−２の樹脂 １００重量部 ２）ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリト ールトリアクリレートとの反応生成物であるウレタン アクリレート化合物（共栄社製「ＵＡ−３６０Ｈ」） １００重量部 ３）増感色素（前記Ｒ−１１） ５重量部 ４）光重合開始剤（前記Ｂ−１６） １０重量部 ５）シクロヘキサノン １８００重量部

【００８９】上記感光液を用いて実施例−１と同様にし
て作成した画像形成材料を、波長８３０ｎｍの半導体レ
ーザーを光源とする露光装置（Ｃｒｅｏ社製、「Ｔｒｅ
ｎｄＳｅｔｔｅｒ ３２４４Ｔ」）を用いて、１５μｍ
のビームスポット径にて５００ｍｊ／ｃｍ² 以下の各種
の露光エネルギーで走査露光し、次いで、１重量％の炭
酸ナトリウム水溶液に２５℃で３０秒間浸漬することに
より現像して走査線画像を形成させ、以下に示す方法
で、感度、解像性、及びセーフライト性を評価し、結果
を表２に示した。

【００９０】感度 適正な画像が形成される最小露光エネルギー量により評
価した。解像性 得られた画像を１００倍の顕微鏡にて観察し、１５μｍ
の走査線及びその間隔がシャープに形成されているもの
を「○」、そうでないものを「×」として評価した。セーフライト性 前記の画像形成材料を、白色蛍光灯（三菱電機社製３６
Ｗ白色蛍光灯「ネオルミスーパーＦＬＲ４０Ｓ−Ｗ／Ｍ
／３６」）の４００ルクスの光強度照射下に３０分間放
置した後、前記と同様の露光、現像処理を行って現像不
良、カブリ等を観察し、白色蛍光灯下に放置しないで露
光、現像処理を行った場合と比較して変化が認められな
いものを「○」、そうでないものを「×」として評価し
た。

【００９１】実施例６〜１０、比較例５〜６ 増感色素を表２に示すものに変えた外は、実施例−５と
同様にして、画像形成材料を作製し、露光、現像処理を
行い、感度、解像性、及びセーフライト性を評価し、結
果を表２に示した。

【００９２】

【表２】

【００９３】

【発明の効果】本発明の感光性組成物は赤外光に対し高
い感光性を有するため半導体レーザー等の走査露光によ
りマスクを介さず画像形成が可能である。画像形成は有
害性、危険性の少ないアルカリ水で行うことができ、ま
た、赤色灯のような暗室でなく、通常の蛍光灯等の白色
灯のような明るい環境下においてこれらの作業が可能と
なる利点を有する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｃ０８Ｌ 101/00

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）エチレン性不飽和二重結合含有化
   合物、（ｂ）増感色素、及び（ｃ）光重合開始剤を含有
   する感光性組成物に於いて、（ｂ）増感色素が７５０ｎ
   ｍから１２００ｎｍの範囲に吸収極大があるフタロシア
   ニン化合物であることを特徴とする感光性組成物。
2. 【請求項２】 （ｂ）増感色素のフタロシアニン化合物
   の吸収極大におけるモル吸光係数が１００００以上であ
   る請求項１に記載の感光性組成物。
3. 【請求項３】 （ｂ）増感色素のフタロシアニン化合物
   が下記式(II)で表される基本骨格を有する錯塩である請
   求項１又は２に記載の感光性組成物。 【化１】 〔式(II)中、Ｍはフタロシアニン錯塩を形成する中心金
   属を表し、芳香環は置換基を有していてもよく、該置換
   基が互いに連結して縮合環を形成していてもよく、さら
   に該縮合環は置換基を有していてもよい。〕
4. 【請求項４】 式(II)の錯塩の中心金属Ｍが亜鉛又は錫
   である請求項３に記載の感光性組成物。
5. 【請求項５】 （ｃ）光重合開始剤が有機ホウ素錯体で
   ある請求項１〜４のいずれかに記載の感光性組成物。
6. 【請求項６】 有機ホウ素錯体の吸収極大が４００ｎｍ
   以下である請求項５に記載の感光性組成物。
7. 【請求項７】 有機ホウ素錯体が下記一般式(III) で表
   される基本骨格を有するものである請求項５又は６に記
   載の感光性組成物。 【化２】 〔式(III) 中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴ は各々独立
   して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
   有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよ
   いアラルキル基、置換基を有していてもよいアルカリー
   ル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基
   を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していて
   もよい脂環式基、又は置換基を有していてもよい複素環
   基を示し、これらは互いに連結して環状構造を形成して
   いてもよく、Ｘ⁺ は対カチオンを示す。〕
8. 【請求項８】 式(III) の有機ホウ素錯体が、Ｒ¹ 、Ｒ
   ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴のうちの三つが置換基を有していて
   もよいアリール基で、一つが置換基を有していてもよい
   アルキル基のトリアリールアルキルホウ素錯体である請
   求項７に記載の感光性組成物。
9. 【請求項９】 アルカリ可溶性樹脂をさらに含有する請
   求項１〜８のいずれかに記載の感光性組成物。
10. 【請求項１０】 アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基
    を有する樹脂である請求項９に記載の感光性樹脂組成
    物。
11. 【請求項１１】 基板上に請求項１〜１０のいずれかに
    記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴
    とする画像形成材料。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の画像形成材料の感
    光層を７８０〜１２００ｎｍの範囲の赤外レーザーによ
    り露光した後、アルカリ現像液で現像処理することを特
    徴とする画像形成方法。