JPH04113362A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPH04113362A
JPH04113362A JP2232978A JP23297890A JPH04113362A JP H04113362 A JPH04113362 A JP H04113362A JP 2232978 A JP2232978 A JP 2232978A JP 23297890 A JP23297890 A JP 23297890A JP H04113362 A JPH04113362 A JP H04113362A
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JP
Japan
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acid
compd
sulfonic acid
photopolymerizable
photopolymn
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Pending
Application number
JP2232978A
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English (en)
Inventor
Shunichi Kondo
俊一 近藤
Norimasa Aotani
青谷 能昌
Akira Umehara
梅原 明
Tsugio Yamaoka
亜夫 山岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光重合性組成物、更に詳しくは、平版印刷版、
樹脂凸版、プリント基板作製用レジスト又はフォトマス
ク、白黒又はカラーの転写発色用シートもしくは発色シ
ート作製等の用途に用いることのできる、高感度の光重
合性組成物に関する。
〔従来の技術〕
従来、エチレン性不飽和基を含有する硬化性有機成分を
画像形成に用いた種々の写真画像形成システムが知られ
ている。該有機成分は、エチレン性不飽和基で光誘起付
加反応、典型的には重合又は架橋のいずれかの反応を起
こして硬化し、画像の作製が可能になる。
また、その他の写真画像形成システムでは、酸化反応又
は酸との反応により発色するロイコ色素と酸化剤もしく
は酸として機能するラジカル発生剤とを組み合わせた系
も知られている。これらの例はPhot、Sci、 E
ng、 598 (1961) 、米国特許第3、04
2.515号、同第3.615.568号明細書に記載
されている。
これらのエチレン性不飽和基を含有する硬化性有機成分
を含む感光性組成物を用いた画像形成法の中でも、重合
可能なエチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤と、適
当な皮膜形成能を有する線状高分子重合体と、熱重合防
止剤等を含む感光性組成物を用いて写真的手法により画
像複製を行なう方法は現在広く知られる所である。すな
わち特公昭35−5093号公報、特公昭35−849
5号公報等に記載されているように、該感光性組成物は
活性光線の照射により光重合を起こし不溶化することか
ら、感光性組成物を適当な皮膜となし、所望の画像の陰
画を通して活性光線の照射を行い、適当な溶媒により未
露光部分のみを除去する(以下単に現像と呼ぶ。)こと
により、所望の光重合画像を形成させることができる。
このタイプの感光性組成物は、平版印刷版用として極め
て有用である。これらの重合可能なエチレン性不飽和化
合物の光重合開始剤の代表的なものとして、ベンジル、
ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、アンスラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ペンツフェノン、2−エ
チルアンスラキノン等が知られている。しかし、これら
の光重合開始剤は短波長の紫外線には感応するものの感
度が低く、更に長波長の例えばアルゴンイオンレーザ−
のごとき可視光線には殆んど感応せず、重合開始能力が
十分ではなかった。
一方、可視光に感度を有する感光材料の開発も進められ
、例えば特公昭44−20189号に開示されている光
還元性染料と脂肪族アミンの複合系、特開昭48−84
183号に記載されている環状シス−α−ジカルボニル
化合物と染料の複合系、特公昭45−37377号に開
示されているヘキサアリ−ルビイミダソールとラジカル
発生剤及び染料の系、特開昭47−2528号、特開昭
54−155292号に開示されているヘキサアリール
ビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンシリデンテ
トンの系、特開昭54−151024号に開示されてい
る置換トリアジンとメロシアニン色素の系などが提案さ
れている。近年、レーザーを用いて画像を形成する方法
が検討され、レーザーファクシミIJ等が既に実用の段
階にあり、これらに対応する高感度な感光性組成物の開
発が望まれているが、未だ十分な感度を有するものは開
発されていない。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、スペクトルの紫外部及び可視部にわた
る任意、所望の波長に対し高感度であり、良好な熱及び
貯蔵安定性を示す光重合性組成物を提供することにある
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、オニウム化合物の芳香族スルホン酸塩がエチレン性
不飽和結合を有する重合可能な化合物の光重合速度を著
しく増大させることを見出し、本発明に到達した。
本発明は、少なくとも二個の末端エチレン基を含む光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤と、
有機高分子重合体結合剤上からなる光重合性組成物にお
いて、光重合開始剤が、オニウム化合物の芳香族スルホ
ン酸塩であることを特徴とする光重合性組成物である。
ジフェニルヨードニウム化合物やトリフェニルスルホニ
ウム化合物は、カチオン重合の開始剤として知られてい
る[:J、 Polymer Sci、、 Sympo
siumNo、 55.383(1976) 、J、 
Polymer Sci、、 PolymerChem
istry Editior、 Vol、 22.69
−76 (1984) ]。
しかし、これらの化合物をラジカル重合の開始剤として
使用した例は少なく、また本発明のように、オニウム化
合物の芳香族スルホン酸塩を使用することは知られてい
ない。また芳香族スルホン酸塩部位を長波長に吸収を持
つようにすることにより、長波長に感光性をもたせるよ
うに有することも知られていない。
本発明は光重合可能なエチレン性不飽和化合物と、オニ
ウム化合物の芳香族スルホン酸塩と、有機高分子重合体
結合剤とを含む光重合性組成物であり、紫外線、可視光
線、電子ビームまたはX線に対して高感度を有するネガ
型の感光性組成物である。
本発明に使用する光重合可能なエチレン性不飽和化合物
は、少なくとも2個の末端エチレン基を含み、大気圧下
で100℃以上の沸点を有する化合物である。
このような化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー
、すなわち2量体、3量体およびオリコマ−1又はそれ
らめ混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態
をもつものである。モノマーおよびその共重合体の例と
しては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合
物とのエステノペ不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド等があげられる。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの七ツマ−の具体例としては、アルリル酸エステ
ルトシて、エチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、1.3−ブタンジオ
ールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
 (アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチ
ロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジア
クリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ソルビト
ールトリアクリレート、ンルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘ
キサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)
インシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマ
ー等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエステルグリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロ
ールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート、1.3−ブタンジオールジメタクリレ
ート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタク
リレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ソルビト
ールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリ
レート、ビス[:p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロポキシ)フェニルクジメチルメタン、ビス
−[p−(アクリルオシキエトキシ)フェニルクジメチ
ルメタン等がある。
イクコン酸エステルとしては、エチレングリコールシイ
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
.3−ブタンジオールシイタコネート、1,4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンクエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラマレートネート等がある。
インク四トン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジインクロトネート、ペンタエリスリトールジインクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
マレイン酸エステルトシては、エチレングリコールシマ
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげること
ができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸との
アミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、16
−へキサメチレンビス−アクリルアミド、l、6−へキ
サメチレンビス−メククリルアミド、ジエチレントリア
ミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルア
ミド、キンリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭48−41708号中に記
載されている1分子に2個以上のインシアネート基を有
するポリイソシアネート化合・物に、下記一般式(A)
で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せし
めた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビ
ニルウレタン化合物等があげられる。
CH2=C(R)COOCH2CH(R’  )叶  
          (八)(ただし、RおよびR′は
HあるいはC13を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭4864183号、
特公昭49−43191号、特公昭52−30490号
各公報に記載されているようなポリエステルアクリレー
ト類、エポキシ樹脂と(メク)アクリル酸を反応させた
エポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメ
タクリレートをあげることができる。さらに日本接着協
会誌Vo1,20、No、7(1984年)、300〜
308ページに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして
紹介されているものも1吏用することができる。なお、
これらの使用量は、全成分に対して5〜50重量%(以
下%と略称する。)好ましくは、10〜40%である。
次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
本発明において光重合開始剤として用いられるオニウム
化合物の芳香族スルホン酸塩は下記一般式で示される。
R+ ここで式中Ar’、Ar2 は同一でも相異していても
よく、置換又は無置換のアリール基を示す。好ましい置
換基は、アルキル、ハロアルキノペンクロアルキル、ア
リール、アルコキシ、ニトロ、カルボニル、アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシ、メルカプト基及びハロゲン原
子であり、更に好ましくは炭素数1〜8個のアルキノベ
炭素数1〜8個のアルコキシ、ニトロ基及び塩素原子で
ある。
R1、R2、R3は同一でも相異していてもよく、置換
又は無置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましく
は炭素数6〜14個のアリール基、炭素数1〜8個のア
ルキル基及びそれらの置換誘導(本である。
好ましい置換基としては、アリール基に対しては炭素数
1〜8個のアルコキシ、炭素数1〜8個のアルキル、ニ
トロ、カルボニノペヒドロキシ基及びハロゲン原子であ
り、アルキル基に対しては炭素数1〜8個のアルコキシ
、カルボニル、アルコキシカルボニル基である。
またR’ 、R2、R3のうちの2つ及びAr’1、A
r’ はそれぞれ単結合又は置換基を介して結合しても
よい。
X−は芳香族スルホン酸アニオンを示す。具体的ニハ、
ナフタレン−1−スルホン酸、ナフタレン−2−スルホ
ン酸、アントラセン−1−スルホン酸、9−ニトロアン
トラセン−1−スルホン酸、9.10−ジクロロアント
ラセン−2−スルホン酸、9.10−ジメトキシアント
ラ宰ンー2−スルホン酸、9.10−ジエトシキアンド
ラセン2−スルホン酸、アントラセン−2−スルホン酸
、フェナンスレン−2−スルホン酸、9−ブロモフェナ
ンスレン−3−スルホン酸、■−メチルー7−イツブロ
ビルフエナンスレンー3−スルホン酸、ピレン−2−ス
ルホン酸、ベンズ〔a〕アントラセン−4−スルホンL
 トリフェニレン−2−スルホン酸、クリセン−6−ス
ルホン酸、5.6ジクロロアントラセンー3−スルホン
L 6−ニトロアセナフテン−5−スルホン酸、2−t
−ブチルナフタレン−7−スルホン酸等の縮合多核芳香
族スルホン酸アニオン、9.10−ジオキソ9.10−
ジヒドロアントラセン−2−スルホン酸、1−ブロモ−
9,10−ジオキソ−9,10ジヒドロアントラセン−
2−スルホン酸、2クロロ−9,10−ジオキソ−9,
10−ジヒドロアントラセン−2−スルホン酸、9.1
0−ジオキソ−9,10−ジヒドロフェナンスレン−3
スルホン酸等のアントラキノンスルホン酸、フエナント
ラキノンスルホン酸アニオン、1.2−ナフトキノン−
4−スルホン酸、1.2−ナフトキノンジアジド−4−
スルホン酸、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸等のナフトキノンスルホン酸アニオン、2−ヒド
ロキシ−4メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、
フェノールレッド、メチルオレンジ、アリザリンS1イ
ンジゴカルミン、パテントブルー、クロルフェノールレ
ッド、クリソフェニン等のスルホン酸基含有染料などが
挙げられるがこれに限定されるものではない。
これらの化合物の具体例を以下に示す。
SO,− CH3 Cβ υ また本発明に用いられる一般式(2)で示される化合物
の具体例を次に示す。
p C! メーー\ O3 本発明に於いて、用いられるオニウム化合物の芳香族ス
ルホン酸塩の量は、光重合可能なエチレン性不飽和化合
物100部に対し、重量比で0.01〜50、特に好ま
しくは0.1〜20の範囲である。
−儀式(1) 、(2)で示される上記化合物は、例え
ば、J、 W、 Knapczykら著、J、 Am、
 Chem、 Soc、。
第91巻、第145頁(1969年) 、A、 L。
Maycockら著、J、Org、 Chem、、第3
5巻、第2532頁(1970年) 、E、 Goet
halsら著、Bull、 Soc。
Chem、 Be1g、、第73巻、第546頁(19
64年)、N、 M、 Leicester著、J、 
Am、 Chem、Sac、、第51巻、第3587頁
(1929年) 、J、 V、Cr1vell。
ら著、J、 Polym、 Soc、 Polym、 
Chem、 Ed、、第18巻、第2677頁(198
0年)、米国特許第2.807,648号及び同第4,
247.473号明細書、F、 M。
Beringerら著、J、 Am、 Chem、 S
oc、、第75巻、第2705頁(1953年)、特開
昭53−101,331号公報などに示された手順によ
り製造されたオニウム化合物のハロゲン、ビサルフェー
トあるいは過ハロゲン酸塩の水溶液あるいはアルコール
溶液に芳香族スルホン酸またはナトリウム塩水溶液ある
いはアルコール溶液を添加し、生成した沈澱を濾取する
ことによって得られる。
また本発明の光重合性組成物に、必要に応じてN−フェ
ニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、N、
N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素供与
性化合物を加えることによって更に光重合開始能力を高
めることができる。
このような水素供与性化合物は、本発明の光重合性組成
物の総重量に対して1〜30%添加することが好ましい
本発明に使用される有機高分子重合体結合剤は、線状有
機高分子重合体であり、光重合可能なエチレン性不飽和
化合物と相溶性を有しいるものの中より任意に選択して
使用することができる。
望ましくは水現像或は弱アルカリ水現像を可能とする水
あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機
高分子重合体を選択すべきである。
線状有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤として
だけでなく、水、弱アルカリ水或は有機溶剤現像剤とし
ての用途に応じて使用される。例えば、水可溶性有機高
分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様な線
状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有す
る付加重合体、例えば特開昭59−44615号、特公
昭5434327号、特公昭58−12577号、特公
昭54.−25957号、特開昭54−92723号、
特開昭59−53836号、特開昭5971、048号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン
酸を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸
基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたもの
などが有用である。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ
)アクリレ−I・/(メタ)アクリル酸/必要に応じて
その他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔ア
リル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要
に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体
が好適である。
この他に水溶性線状有機高分子重合体として、ポリビニ
ルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である
。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性
ナイロンや22−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロパンとエビクロロヒドリンのポリエーテル等も有用で
ある。これらの線状有機高分子重合体は全組成中に任意
な量を混和させることができる。しかし90%を越える
場合は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与え
ない。好ましくは30〜85%である。
また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と線状有機高
分子重合体は、重量比で179〜7/3の範囲とするの
が好ましい。より好ましい範囲は377〜515である
また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノ
ール、ジーtブチルーp−グレゾール、ピロガロール、
tブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビ
ス(3−メチル−(,1−ブチルフェノール)、2.2
′−メヂレンビス(4−メチル−6−tブチルフェノー
ル)、2−メルカプトベンゾイミダゾール、N−ニトロ
ソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等があげら
れる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対し
て約0101%〜約5%が好ましい。また必要に応じて
、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘ
ン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して感光
層の表面に浮かせてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約0.5%〜約IO%が好ましい。さら
に、感光層の着色を目的として染料もしくば顔料を添加
してもよい。染料および顔料の添加量は全組成物の約0
.5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を
改良するために無機充填剤や、その他の公知の添加剤を
加えてもよい。
本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布する際には種
々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テ1−ラヒドロフラン、トルエン、エチレング
リコール千ツメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ンクリコールモノエチルエーテル、アセデルアセトン、
シクロヘキサン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテ−1〜、エチレングリ
コールエチルエーテルアセテ−1・、エチレングリコー
ルモノイソプロビルエーテル、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパツール
、メトキシメトキシエタノール、ジエヂレングリコール
千ツメチルエテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングア リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、3−メト、キ
シプロピルアセテート、N、N−ジメチルボルムアミド
、ジメチルスルホキシド、γブチロラクトン、乳酸メチ
ル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独ある
いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液
中の固形分の濃度は、2〜50%が適当である。
その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/n(〜約10
g/−の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5
 g / %である。
上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、鋼などのよ
うな金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−183
27号に記載されているようなポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合
体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭47−5125号に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上記
陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸
等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸
またはそれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種
以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極と
して電流を流すことにより実施される。
また、米国特許箱3,658,662号に記載されてい
るようなシリケート電着も有効である。
更に、特公昭46−27481号、特開昭52−586
02号、特開昭52−30503号に開示されているよ
うな電解ダレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である
また、特開昭56−28893号に開示されているよう
な機械的粗面化、化学的エツチング、電解ダレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たと
えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアルリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐた緬、かつ感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、空
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール特にケン化度99%以上のポリビ
ニルアルコーノベ酸性セルロース類などのような酸素遮
断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。
この様な保護層の塗布方法については、例えば米国特許
箱3、458.311号、特公昭55−49729号に
詳しく記載されている。
また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使用
できる。さらに、印刷版、プリント基板等作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar= レー
ザー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好
な効果が得られる。
本発明の光重合性組成物を用いた感光材料は画像露光し
、現像液で感光層の未露光部を除去し、画(象を得る。
これらの光重合性組成物を平版印刷版として使用する際
の好ましい現像液としては、特公昭57−7427号に
記載されているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリ
ン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸
アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエ
タノールアミン又はジェタノールアミンなどのような有
機アルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ溶液の
濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量
%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むこと
ができる。例えば、米国特許筒3,375,171号お
よび同第3.615.480号に記載されているものを
挙げることができる。
更に、特開昭50〜26601号、同585434、1
号、特公昭5.6−39.1.64号、同56−428
60号の各公報に記載されている現像液も優れている。
〔発明の効果〕
本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高感度を有する。
従って光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀
灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、
メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ
、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用できる
〔実施例〕
以下実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
実施例1〜14、比較例1〜5 厚さ0.30 mmのアルミニウム板をナイロンプラン
と400メツシユのパミストンの水懸濁液とを用いその
表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングし
た後、流水で水洗し、その後20%硝酸で中和洗浄し、
次いで水洗した。これを電圧12.7 Vの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中、160
ク一ロン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。
その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)
であった。ひきつづいて30%の硫酸水溶液中に浸漬し
55℃で2分間デスマットした後、20%硫酸水溶液中
、電流密度2A/dm2において厚さが2.7g/m’
になるように2分間陽極酸化処理した。
このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の
感光液を乾燥塗布重量が1.5g/m’となるように塗
布し、80℃2分間乾燥させ、感光層を形成させた。
感光液 開始剤 銅フタロシアニン顔料 g 0.2g メチルエチルケトン 0g この感光層の上にポリビニルアルコール(ケン化度86
5〜89モル%、重合度1000)の3重量%の水溶液
を乾燥塗布重量が2 g / m’となるように塗布し
、100℃/2分間乾燥させた。
感光性試験はアイロータリー露光機(光源:メタハロゲ
ンランプ)を用いて評価した。感度測定には富士PSス
テップガイド(富士写真フィルム株式会社製、初段の透
過光学濃度が0.05で順次0.15増えていき、15
段まであるステソプタプレソト)を使用して行った。感
材膜面部の照度が200 luxで20秒露光した時の
PSステップガイドのクリアー段数で示した。
現像は下記の現像液に25℃、1分間浸漬して行った。
現像液 1にケイ酸カリウム         30g水酸化カ
リウム           15g表1 水 000g 光重合開始剤の種類及び量を変えた時の感度の結果を表
1に示す。
15〜 8、     6、 実施例1のアルミニウム基板の作成において、20%硫
酸水溶液中で陽極酸化処理する代りに5%りん酸水溶液
中で電流密度2A/dm2において厚さが0.8g/−
になるように2分間陽極酸化処理した後、3%のケイ酸
ナトリウム水溶液で70℃、10秒間処理して基板を作
成した。この基板上に次の感光液を塗布し乾燥層を形成
させた。
感光液 た。そして実施例1と同様にこの感光層上にポリビニル
アルコールからなる酸素遮断層を設け、実施例1と同様
に露光し、現像は特公昭56−42860号公報記載の
下記の現像液で25℃、1分間浸漬して行った。
現像液 亜硫酸ナトリウム           3gベンジル
アルコール         30gトリエタノールア
ミン         20gモノエタノールアミン 
         5g開始剤 銅フタロシアニン顔料 0.1g 0.2g 水                       1
000g開始剤を変えた時の感度結果を表2に示す。
メチルエチルケトン 0g 表 平成 1、事件の表示 平成2年特許願第232978号 2、発明の名称 光重合性組成物 表1、表2より明らかなように、本発明の開始剤は比較
例に比較して著しく高感度であることを示している。
3補正をする者 事件との関係 富士写真フィルム株式会社 4、代 5、補正命令の日付 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 (1)明細書第7頁第14〜15行のパアルリル酸エス
テル″を「アクリル酸エステル」と訂正する。
(4)同書第34頁第14行のパ有し”の後に「て」を
挿入する。
(5)同書第38頁第16行の“メトキシメトキシエタ
ノール″を「メトキシエタノール」と訂正する。
(6)同書第49頁第12行の゛ベンシメルメタアクリ
レートパを「ベンジルメタアクリレート」七訂正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少なくとも二個の末端エチレン基を含む光重合可能なエ
    チレン性不飽和化合物と、光重合開始剤と、有機高分子
    重合体結合剤とを含む光重合性組成物において、光重合
    開始剤が、オニウム化合物の芳香族スルホン酸塩である
    ことを特徴とする光重合性組成物。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0536690B1 (en) * 1991-10-07 1998-09-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition
JPH08101498A (ja) * 1994-08-03 1996-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
GB9827798D0 (en) 1998-12-17 1999-02-10 Agency Ind Science Techn Electron beam resist
JP4098483B2 (ja) * 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US20030087178A1 (en) * 2001-04-20 2003-05-08 Adrian Lungu Photopolymerizable element for use as a flexographic printing plate and a process for preparing the plate from the element
US6890701B2 (en) * 2001-09-11 2005-05-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
WO2006106049A2 (en) * 2005-04-05 2006-10-12 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Additive mixtures for agricultural articles
JP5887300B2 (ja) * 2012-07-24 2016-03-16 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4069054A (en) * 1975-09-02 1978-01-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4423136A (en) * 1977-08-05 1983-12-27 General Electric Company Free radical curable resin compositions containing triarylsulfonium salt
US4245029A (en) * 1979-08-20 1981-01-13 General Electric Company Photocurable compositions using triarylsulfonium salts
GB2139369B (en) * 1983-05-06 1987-01-21 Sericol Group Ltd Photosensitive systems showing visible indication of exposure
JPH01238656A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Nippon Paint Co Ltd 高感度光重合性組成物
US4954416A (en) * 1988-12-21 1990-09-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Tethered sulfonium salt photoinitiators for free radical polymerization

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