JPS62115150A - 感光性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感光性平版印刷版の製造に適した感光性組成物
に関するものである。更に詳しくは製版時の酸素の影響
を低減させた新規な光重合性感光性組成物に関するもの
である。
に関するものである。更に詳しくは製版時の酸素の影響
を低減させた新規な光重合性感光性組成物に関するもの
である。
光重合性組成物を感光性平版印刷版に適した感光性画像
形成層として用いる試みが行われている。
形成層として用いる試みが行われている。
たとえば特公昭46−32714号明細書には、有機溶
媒可溶性重合体、エチレン性不飽和付加重合性化合物と
光重合開始剤からなる基本組成が開示され、特公昭49
−34041号明細書には、不飽和二重結合を有機溶媒
可溶性重合体中に導入し、硬化効率を改善した組成が開
示されている。
媒可溶性重合体、エチレン性不飽和付加重合性化合物と
光重合開始剤からなる基本組成が開示され、特公昭49
−34041号明細書には、不飽和二重結合を有機溶媒
可溶性重合体中に導入し、硬化効率を改善した組成が開
示されている。
又特公昭48−38403号、特公昭53−27605
号及び英国特許第1388492号各明細書に記載新規
な光重合開始剤を用いた組成等が記載されており、一部
で実用に供されているが、いずれの感光性組成物も平版
印刷版の感光層として用いると、画像露光時に酸素によ
る重合阻害を著しく受けるという欠点があり、感光層表
面に水溶性樹脂からなる酸素しゃ断層を設けなければな
らなかった。そこで、この酸素による重合阻害の影響を
低減させるために上記の光重合性組成にネガ作用を有す
るジアゾ樹脂を添加する試みが行なわれている。このジ
アゾ樹脂を添加する技術は、たとえば特開昭59−20
6825号、特開昭59−53836号、特開昭59−
178449号、特開昭57−196230号、及び米
国特許第4316949号各明細書に記載されているが
、これらとて未だ十分な効果を有しているとはいえなか
った。
号及び英国特許第1388492号各明細書に記載新規
な光重合開始剤を用いた組成等が記載されており、一部
で実用に供されているが、いずれの感光性組成物も平版
印刷版の感光層として用いると、画像露光時に酸素によ
る重合阻害を著しく受けるという欠点があり、感光層表
面に水溶性樹脂からなる酸素しゃ断層を設けなければな
らなかった。そこで、この酸素による重合阻害の影響を
低減させるために上記の光重合性組成にネガ作用を有す
るジアゾ樹脂を添加する試みが行なわれている。このジ
アゾ樹脂を添加する技術は、たとえば特開昭59−20
6825号、特開昭59−53836号、特開昭59−
178449号、特開昭57−196230号、及び米
国特許第4316949号各明細書に記載されているが
、これらとて未だ十分な効果を有しているとはいえなか
った。
さらに、特開昭59−53885号明細書には、(i)
エチレン性不飽和重合性化合物、(iilアリル基を側
鎖に有するビニル共重合体、(iiil光重合開始剤、
およびIMネガ作用ジアゾ樹脂からなる感光性組成物が
開示されているが、これとて十分な効果を有していると
はいえなかった。
エチレン性不飽和重合性化合物、(iilアリル基を側
鎖に有するビニル共重合体、(iiil光重合開始剤、
およびIMネガ作用ジアゾ樹脂からなる感光性組成物が
開示されているが、これとて十分な効果を有していると
はいえなかった。
従って本発明は、感光層表面に酸素遮断層を設けなくと
も画像露光時の酸素の影響を有効に防止でき、かつ平版
印刷版において高耐刷力が得られる感光性組成物を得る
ことを目的とする。
も画像露光時の酸素の影響を有効に防止でき、かつ平版
印刷版において高耐刷力が得られる感光性組成物を得る
ことを目的とする。
本発明は、特開昭59−53835号明細書に開示され
た感光性組成物において、成分1iii1の光重合開始
剤として特定のトリアジン系光重合開始剤を用いると、
この組成物独自の特異的効果により画像露光時の酸素の
影響を大幅に防止でき、かっこの組成物を用いると高耐
刷力を有する平版印刷版が得られるとの知見に基づいて
なされたものである。
た感光性組成物において、成分1iii1の光重合開始
剤として特定のトリアジン系光重合開始剤を用いると、
この組成物独自の特異的効果により画像露光時の酸素の
影響を大幅に防止でき、かっこの組成物を用いると高耐
刷力を有する平版印刷版が得られるとの知見に基づいて
なされたものである。
すなわち、本発明は、(1)エチレン性不飽和重合性化
合物、(2)アルカリ水可溶性又は膨潤性でかつフィル
ム形成可能な重合体、(3) ) !Iアジン系先光重
合開始剤び(4)ジアゾ樹脂を含有する感光性組成物に
おいて、成分(3)の光重合開始剤が、一般式(): (R’は、水素原子、C1,Dr、アルキル基又はアル
コキシル基を示す。)で示される基であり、XはCpま
たはSrである。) で表わされるS−)リアジントリハロメチル化合物であ
ることを特徴とする感光性組成物を提供する。
合物、(2)アルカリ水可溶性又は膨潤性でかつフィル
ム形成可能な重合体、(3) ) !Iアジン系先光重
合開始剤び(4)ジアゾ樹脂を含有する感光性組成物に
おいて、成分(3)の光重合開始剤が、一般式(): (R’は、水素原子、C1,Dr、アルキル基又はアル
コキシル基を示す。)で示される基であり、XはCpま
たはSrである。) で表わされるS−)リアジントリハロメチル化合物であ
ることを特徴とする感光性組成物を提供する。
本発明の成分(I)であるエチレン性不飽和重合性化合
物としては常圧で沸点100℃以上であり、かつ少なく
とも1分子中に1個の付加重合可能な不飽和基を有する
分子量10.000以下のモノマー又はオリゴマーが好
ましい。このようなモノマーはオリゴマーとして具体的
には、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能
のアクリレートやメタクリレート;ポリプロレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ
)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート
、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、グリセリ
ンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレ
ンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(
メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−4170
8号、特公昭5〇−6034号、特開昭51−3719
3号各明細記載記載されているようなウレタンアクリレ
ート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43
191号、特公昭52−30490号各明細杏仁記載さ
れているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸反応させたエポキシアクリレート類
等の多官能のアクリレートやメタクリレートが例示され
る。さらに詳細には日本接着協会跡Vol、 20、N
(L 7.300〜308頁に光硬化性モノマー及びオ
リゴマーとして紹介されている重合性化合物を用いるこ
ともできる。
物としては常圧で沸点100℃以上であり、かつ少なく
とも1分子中に1個の付加重合可能な不飽和基を有する
分子量10.000以下のモノマー又はオリゴマーが好
ましい。このようなモノマーはオリゴマーとして具体的
には、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能
のアクリレートやメタクリレート;ポリプロレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ
)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート
、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、グリセリ
ンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレ
ンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(
メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−4170
8号、特公昭5〇−6034号、特開昭51−3719
3号各明細記載記載されているようなウレタンアクリレ
ート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43
191号、特公昭52−30490号各明細杏仁記載さ
れているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸反応させたエポキシアクリレート類
等の多官能のアクリレートやメタクリレートが例示され
る。さらに詳細には日本接着協会跡Vol、 20、N
(L 7.300〜308頁に光硬化性モノマー及びオ
リゴマーとして紹介されている重合性化合物を用いるこ
ともできる。
成分(1)の使用量は、全組成に対して5〜50重量%
(以下%と略称する。)、好ましくは10〜40%であ
る。
(以下%と略称する。)、好ましくは10〜40%であ
る。
本発明で用いる成分(2)のアルカリ水可溶性又は膨潤
性でフィルム形成可能な重合体としては、特公昭59−
44615号明細書に記載されているようなベンジル(
メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じ
てその他の付加重合性ビニルモノマー共重合体;特公昭
54−34327号明細書に記載されているようなメタ
クリル酸/メタクリル酸メチル又はエステル/メタクリ
ル酸アルキル共重合体;その他特公昭58−12577
号、特公昭54−25957号、特開昭54−9272
3号各明細記載記載されているような(メタ)アクリル
酸共重合体;特開昭59−53836号明細書に記載さ
れているようなアリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモ
ノマー共重合体、特開昭59−71048号明細書に記
載される無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリトー
ルトリアクリレートを半エステル化で付加させたもの等
の重合体中に−COOH,−PO3H2、−3O3H。
性でフィルム形成可能な重合体としては、特公昭59−
44615号明細書に記載されているようなベンジル(
メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じ
てその他の付加重合性ビニルモノマー共重合体;特公昭
54−34327号明細書に記載されているようなメタ
クリル酸/メタクリル酸メチル又はエステル/メタクリ
ル酸アルキル共重合体;その他特公昭58−12577
号、特公昭54−25957号、特開昭54−9272
3号各明細記載記載されているような(メタ)アクリル
酸共重合体;特開昭59−53836号明細書に記載さ
れているようなアリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモ
ノマー共重合体、特開昭59−71048号明細書に記
載される無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリトー
ルトリアクリレートを半エステル化で付加させたもの等
の重合体中に−COOH,−PO3H2、−3O3H。
S O2N H2、S Ox N HCO−基を有し、
酸価50〜200の酸性ビニル共重合体をあげることが
出来る。
酸価50〜200の酸性ビニル共重合体をあげることが
出来る。
特にこれらの中でベンジル(メタ)アクリレ−ト/(メ
タ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニ
ルモノマー共重合体及びアリル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性
ビニルモノマー共重合体が好適である。成分(2)の使
用量は全組成に対して10%〜90%、好ましくは30
〜85%である。又、成分(1)と成分(2)は、重量
比で0.579.5〜515の範囲とするのが好ましく
、更に好ましい範囲は179〜3/7である。
タ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニ
ルモノマー共重合体及びアリル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性
ビニルモノマー共重合体が好適である。成分(2)の使
用量は全組成に対して10%〜90%、好ましくは30
〜85%である。又、成分(1)と成分(2)は、重量
比で0.579.5〜515の範囲とするのが好ましく
、更に好ましい範囲は179〜3/7である。
本発明の成分(3)としては、上記一般式(1)で表わ
されるS−トリアジントリハロメチル化合物を光重合開
始剤として用いることが重要である。
されるS−トリアジントリハロメチル化合物を光重合開
始剤として用いることが重要である。
この光重合開始剤として、具体的には、CCZ。
Br3
CR3
CCp。
CCp。
等をあげることができる。尚、一般式(I)におけるア
ルキル基、アルコキシル基としては、炭素数が1〜12
のものが用いられる。又、一般式(1)の化合物として
は、特に が好ましい。これらの光重合開始剤の添加量は全組成物
に対して約℃、5〜15%、より好ましくは2〜10%
である。
ルキル基、アルコキシル基としては、炭素数が1〜12
のものが用いられる。又、一般式(1)の化合物として
は、特に が好ましい。これらの光重合開始剤の添加量は全組成物
に対して約℃、5〜15%、より好ましくは2〜10%
である。
本発明の成分(4)であるジアゾ樹脂としては、ネガ作
用を有し、実質的に水不溶性で有機溶媒可溶性のものが
適している。このようなジアゾ樹脂としては4−ジアゾ
−ジフェニルアミン、1〜シア7’−4−N、N−ジメ
チルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N、N−ジエチ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N〜
ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N
−メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−
ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−ベンゾイルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン
、1〜ジアゾ−4−N、N−ジメチルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジメトキシ−4−P−トリルメルカプトベンゼ
ン、1−ジアゾ−2−エトキシ−4−N、N−ジメチル
アミノベンゼン、P−ジアゾ−ジメチルアニリン、1−
ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルフォリノベンゼ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−モルフォリ
ノベンゼン、■−ジアゾー2.5−ジメトキシー4−モ
ルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ
−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
ェトキシ−4−P−トリルメルカプトベンゼン、1−ジ
アゾ−3−エトキシ−4−N〜メチル−N−ベンジルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−N、N−
ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−メチル−4
−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−4−
N、N−ジメチルアミノ−5−メトキシベンゼン、1−
ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベンゼン、3−
メトキシ−4−シアゾジフエニルアミン、3−エトキシ
−゛4−ジアゾジフェニルアミン、3−(n−プロポキ
シ)−4−ジアゾジフェニルアミン、3−(インプロポ
キシ)−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジアゾモ
ノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアル
デヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合剤をモル
比で各々1:1〜1 : 0.5、好ましくは1 :
D、 8〜1 : 0.6を通常の方法で縮合して得ら
れた縮合物と陰イオンとの反応生成物である。陰イオン
として四フッ化ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸、5−二トロオルトートルエン
スルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチル
ベンゼンスルホン酸、2,4.6−)IJメチルベンゼ
ンスルホン酸、2−二トロベンゼンスルホン酸、3−ク
ロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン
酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホ
ン酸、2−メトキシ−4−ヒトワキシー5−ベンゾイル
−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等
をあげることができる。これらの中でも特に六フッ化燐
やトリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2.5−ジ
メチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スル
ホン酸が好適である。これらのジアゾ樹脂の全組成物に
対する添加量は1〜30%であり、より好ましくは3〜
15%である。
用を有し、実質的に水不溶性で有機溶媒可溶性のものが
適している。このようなジアゾ樹脂としては4−ジアゾ
−ジフェニルアミン、1〜シア7’−4−N、N−ジメ
チルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N、N−ジエチ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N〜
ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N
−メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−
ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−ベンゾイルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン
、1〜ジアゾ−4−N、N−ジメチルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジメトキシ−4−P−トリルメルカプトベンゼ
ン、1−ジアゾ−2−エトキシ−4−N、N−ジメチル
アミノベンゼン、P−ジアゾ−ジメチルアニリン、1−
ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルフォリノベンゼ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−モルフォリ
ノベンゼン、■−ジアゾー2.5−ジメトキシー4−モ
ルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ
−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
ェトキシ−4−P−トリルメルカプトベンゼン、1−ジ
アゾ−3−エトキシ−4−N〜メチル−N−ベンジルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−N、N−
ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−メチル−4
−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−4−
N、N−ジメチルアミノ−5−メトキシベンゼン、1−
ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベンゼン、3−
メトキシ−4−シアゾジフエニルアミン、3−エトキシ
−゛4−ジアゾジフェニルアミン、3−(n−プロポキ
シ)−4−ジアゾジフェニルアミン、3−(インプロポ
キシ)−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジアゾモ
ノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアル
デヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合剤をモル
比で各々1:1〜1 : 0.5、好ましくは1 :
D、 8〜1 : 0.6を通常の方法で縮合して得ら
れた縮合物と陰イオンとの反応生成物である。陰イオン
として四フッ化ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸、5−二トロオルトートルエン
スルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチル
ベンゼンスルホン酸、2,4.6−)IJメチルベンゼ
ンスルホン酸、2−二トロベンゼンスルホン酸、3−ク
ロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン
酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホ
ン酸、2−メトキシ−4−ヒトワキシー5−ベンゾイル
−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等
をあげることができる。これらの中でも特に六フッ化燐
やトリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2.5−ジ
メチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スル
ホン酸が好適である。これらのジアゾ樹脂の全組成物に
対する添加量は1〜30%であり、より好ましくは3〜
15%である。
一般に、ネガ作用ジアゾ樹脂を含有する光重合性組成物
はジアゾ樹脂なしの光重合性組成物に比べて、空気中の
酸素による重合阻害を受けにくいといわれている。これ
は多分露光時にジアゾ樹脂が重合に対して不活性なチッ
素ガスを発生する為であろうと考えられるが、ジアゾ樹
脂を添加するだけでは酸素の影響を完全に排除すること
は難かしい。しかしながら本発明に従い、ジアゾ樹脂を
添加し、酸素の影響を低減させた光重合組成物に、一般
式(I)であられされるS−)リアジントリハロメチル
化合物を光重合開始剤として用いると、酸素の影響は著
しく低減し、実質的には感光層上に酸素遮断層を設ける
ことなしに、画像形成が可能となり、高耐刷力の平版印
刷版を得ることが出来るのである。この理論的根拠は明
確には分っていないが、多分特定のS−トリアジントリ
ハロメチル化合物の光分解によって発生する光重合開始
ラジカル数が系中に存在する酸素分子数より圧倒的に多
く存在する為に、モノマーの生長ラジカルと衝突する酸
素分子数の割合が減少し、酸素による重合阻害が低減す
るものと推定される。
はジアゾ樹脂なしの光重合性組成物に比べて、空気中の
酸素による重合阻害を受けにくいといわれている。これ
は多分露光時にジアゾ樹脂が重合に対して不活性なチッ
素ガスを発生する為であろうと考えられるが、ジアゾ樹
脂を添加するだけでは酸素の影響を完全に排除すること
は難かしい。しかしながら本発明に従い、ジアゾ樹脂を
添加し、酸素の影響を低減させた光重合組成物に、一般
式(I)であられされるS−)リアジントリハロメチル
化合物を光重合開始剤として用いると、酸素の影響は著
しく低減し、実質的には感光層上に酸素遮断層を設ける
ことなしに、画像形成が可能となり、高耐刷力の平版印
刷版を得ることが出来るのである。この理論的根拠は明
確には分っていないが、多分特定のS−トリアジントリ
ハロメチル化合物の光分解によって発生する光重合開始
ラジカル数が系中に存在する酸素分子数より圧倒的に多
く存在する為に、モノマーの生長ラジカルと衝突する酸
素分子数の割合が減少し、酸素による重合阻害が低減す
るものと推定される。
本発明では以上の基本成分の他に更に熱重合防止剤を加
えておくことが好ましく、例えばハイドロキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール
、ピロガロール、t−”jfルカテコール、ベンゾキノ
ン、4.4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2.2′−メチレンビス(4−メチル−
6−を−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール等が有用であり、また場合によっては感光層
の着色を目的として染料もしくは顔料や焼出剤としてP
H指示薬等を添加することもできる。
えておくことが好ましく、例えばハイドロキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール
、ピロガロール、t−”jfルカテコール、ベンゾキノ
ン、4.4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2.2′−メチレンビス(4−メチル−
6−を−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール等が有用であり、また場合によっては感光層
の着色を目的として染料もしくは顔料や焼出剤としてP
H指示薬等を添加することもできる。
更にジアゾ樹脂の安定化剤として、りん酸、亜リン酸、
酒石酸、クエン酸、りんご酸、ジピコリン酸、多核芳香
族スルホン酸およびその塩、スルホサリチル酸等を必要
に応じて添加することができる。更に高級脂肪酸のごと
きワックスを添加することも有用である。
酒石酸、クエン酸、りんご酸、ジピコリン酸、多核芳香
族スルホン酸およびその塩、スルホサリチル酸等を必要
に応じて添加することができる。更に高級脂肪酸のごと
きワックスを添加することも有用である。
本発明の感光性組成物は、例えば、2−メトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、3−メトキシブロバノール
、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケト
ン、エチレンジクロライドなどの適当な溶剤の単独また
はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解して支持体上
に設けることができる。その被覆量は乾燥後の重量で約
0.1g/m’〜約10 g / m’の範囲が適当で
あり、より好ましくは0.5〜5 g / m’である
。
ール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、3−メトキシブロバノール
、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケト
ン、エチレンジクロライドなどの適当な溶剤の単独また
はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解して支持体上
に設けることができる。その被覆量は乾燥後の重量で約
0.1g/m’〜約10 g / m’の範囲が適当で
あり、より好ましくは0.5〜5 g / m’である
。
上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。このような寸度的に安定な板状物としては、従来印
刷版の支持体として使用されたものが含まれ、それらを
好適に使用することができ2す る。かかる支持体としては、紙、プラスチックス(例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)
がラミネートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む。)亜鉛、銅などのような金属の板、例
えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチック
のフィルム、上記の如き金属がう、ミネートもしくは蒸
着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれ
る。これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい
。更に、特公昭48−18327号公報に記されている
ようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミ
ニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
る。このような寸度的に安定な板状物としては、従来印
刷版の支持体として使用されたものが含まれ、それらを
好適に使用することができ2す る。かかる支持体としては、紙、プラスチックス(例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)
がラミネートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む。)亜鉛、銅などのような金属の板、例
えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチック
のフィルム、上記の如き金属がう、ミネートもしくは蒸
着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれ
る。これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい
。更に、特公昭48−18327号公報に記されている
ようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミ
ニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する指持体の場
合には、砂目室て処理、珪酸ソーダ、弗 a 化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、米国特許第2.714.0
66号明細書に記載されている如く、砂目立てしたのち
に珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム
板、特公昭47−5125号公報に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。
合には、砂目室て処理、珪酸ソーダ、弗 a 化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、米国特許第2.714.0
66号明細書に記載されている如く、砂目立てしたのち
に珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム
板、特公昭47−5125号公報に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。
上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、
硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の
有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又
は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を
陽極として電流を流すことにより実施される。
硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の
有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又
は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を
陽極として電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
れているようなシリケート電着も有効である。
更には特公昭46−27481号公報、特開昭52−5
8602号公報、特開昭52−30503号公報に開示
されているような電解ダレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。
8602号公報、特開昭52−30503号公報に開示
されているような電解ダレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。
更には、特開昭56−28893号公報に開示されてい
るような、ブラシダレイン、電解ダレイン、陽極酸化処
理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である
。
るような、ブラシダレイン、電解ダレイン、陽極酸化処
理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である
。
更にこれらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえ
ばポリビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
ばポリビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
の有害な反応を防ぐため、更には感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
の有害な反応を防ぐため、更には感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
支持体上に設けられた感光性組成物の層の上には、空気
中の酸素による重合禁止作用を完全に防止するため、例
えばポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのよ
うな酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設け
てもよい。この様な保護層の塗布方法については、例え
ば米国特許第3、458.311号、特公昭55−49
729号明細書に詳しく記載されている。
中の酸素による重合禁止作用を完全に防止するため、例
えばポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのよ
うな酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設け
てもよい。この様な保護層の塗布方法については、例え
ば米国特許第3、458.311号、特公昭55−49
729号明細書に詳しく記載されている。
本発明の感光性組成物を支持体上に設けた感光性プレー
トをメタルハライドランプ、高圧水銀灯などのような紫
外線に富んだ光源を用いて画像露光し、現像液で処理し
て感光層の未露光部を除去し、最後にガム液を塗布する
ことにより平版印刷版とする。上記現像液として好まし
いものは、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノ
ール、2−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量
含むアルカリ水溶液であり、例えば米国特許第3、47
5.171号および同3.615.480号に記載され
ているものを挙げることができる。更に、特開昭50−
26601号、特公昭56−39464号、同56−4
2860号の各公報に記載されている現像液も本発明の
感光性印刷版の現像液として優れている。
トをメタルハライドランプ、高圧水銀灯などのような紫
外線に富んだ光源を用いて画像露光し、現像液で処理し
て感光層の未露光部を除去し、最後にガム液を塗布する
ことにより平版印刷版とする。上記現像液として好まし
いものは、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノ
ール、2−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量
含むアルカリ水溶液であり、例えば米国特許第3、47
5.171号および同3.615.480号に記載され
ているものを挙げることができる。更に、特開昭50−
26601号、特公昭56−39464号、同56−4
2860号の各公報に記載されている現像液も本発明の
感光性印刷版の現像液として優れている。
本発明の感光性組成物を用いると酸素の影響をE
はとんど受けない感光性プレートを得ることができるの
で、酸素遮断層なしで十分実用的に使用できる。従って
、本発明の感光性組成物は、各種印刷版及び画像形成用
に広く用いることができ、これらのうちでも特に感光性
平版印刷版用に好適に用いることができる。
で、酸素遮断層なしで十分実用的に使用できる。従って
、本発明の感光性組成物は、各種印刷版及び画像形成用
に広く用いることができ、これらのうちでも特に感光性
平版印刷版用に好適に用いることができる。
以下、実施例に基づいて更に詳細に説明する。
実施例1
特開昭56−28893号公報に開示された方法により
基板を得た。即ち、厚さ0.30のアルミニウム板をナ
イロンブラシと400メツシユのバミストンの水懸濁液
を用いその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
基板を得た。即ち、厚さ0.30のアルミニウム板をナ
イロンブラシと400メツシユのバミストンの水懸濁液
を用いその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬して、
エツチングした後、流水で水洗後20%HNO,で中和
洗浄、水洗した。これをV、=12.7Vの条件で正弦
波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160ク
ロ一ン/dm2 の陽極特電気量の電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%のH2SO,水溶
液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%
H,So、、水溶液中、電流密度2、A/dm” にお
いて厚さが2.7 g / m’になるように2分間陽
極酸化処理した。その後70℃のケイ酸ソーダ2.5%
水溶液に1分間浸漬水洗乾燥させた。
エツチングした後、流水で水洗後20%HNO,で中和
洗浄、水洗した。これをV、=12.7Vの条件で正弦
波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160ク
ロ一ン/dm2 の陽極特電気量の電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%のH2SO,水溶
液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%
H,So、、水溶液中、電流密度2、A/dm” にお
いて厚さが2.7 g / m’になるように2分間陽
極酸化処理した。その後70℃のケイ酸ソーダ2.5%
水溶液に1分間浸漬水洗乾燥させた。
次に下記の感光液Iを調製した。
感光液■
トリメチロールプロパン 20gトリアク
リレート 下記構造の光重合開始剤 2gccp。
リレート 下記構造の光重合開始剤 2gccp。
7オ
イルプル
(オリエント化学工業■製)
ベヘン酸 1.5gエチ
レングリコールモノメチル 500gエーテル メチルアルコール 150gメチルエ
チルケトン 300g比較例として、感
光液Iの光重合開始剤のみを下記化合物 に代えて感光液■を碍た。
レングリコールモノメチル 500gエーテル メチルアルコール 150gメチルエ
チルケトン 300g比較例として、感
光液Iの光重合開始剤のみを下記化合物 に代えて感光液■を碍た。
これら感光液■、■を濾過後、先の基板の上に回転塗布
機を用いて、乾燥後の重量にして2.0g/ m 2
となるように塗布した。乾燥は80℃で2分間行なった
。
機を用いて、乾燥後の重量にして2.0g/ m 2
となるように塗布した。乾燥は80℃で2分間行なった
。
これらのサンプルを透明陰画に密着させ、バーキープリ
ンター〔バーキーテクニカル製 光源;2KWのメタル
ハライドランプ〕で十分吸引した後露光し、次に示す現
像液にて50秒間浸漬し表面を軽くこすり未露光部を除
去し、印刷版とした。
ンター〔バーキーテクニカル製 光源;2KWのメタル
ハライドランプ〕で十分吸引した後露光し、次に示す現
像液にて50秒間浸漬し表面を軽くこすり未露光部を除
去し、印刷版とした。
ベンジルアルコール 30g炭酸ナ
トリウム 5gアルキルナフタ
レン 12gスルホン酸ソーダ 亜硫酸ナトリウム 5g純
水 10
00g更にこれらの印刷版をハイデルベルグ社製印刷機
KORを用いて耐刷テストを行ったところ感光液■を用
いた印刷版は、感光液■を用いた印刷版に比べ、約1.
3倍の耐剛力を有していた。又、これらのプレートの上
に富士PSステップガイド(富士写真フィルム(株)製
、ΔD=0.15で不連続に透過濃度が変化するグレー
スケール)を載せて、露光器によって真空引きを行った
場合と、真空引きを行なわない場合のステップガイドの
感度差を比較すると、感光液■のプレートは、表1に示
すように感度差が0.5段に対し、感光液■のプレート
では、1段あり、又、感度も感光液Iの方が高かった。
トリウム 5gアルキルナフタ
レン 12gスルホン酸ソーダ 亜硫酸ナトリウム 5g純
水 10
00g更にこれらの印刷版をハイデルベルグ社製印刷機
KORを用いて耐刷テストを行ったところ感光液■を用
いた印刷版は、感光液■を用いた印刷版に比べ、約1.
3倍の耐剛力を有していた。又、これらのプレートの上
に富士PSステップガイド(富士写真フィルム(株)製
、ΔD=0.15で不連続に透過濃度が変化するグレー
スケール)を載せて、露光器によって真空引きを行った
場合と、真空引きを行なわない場合のステップガイドの
感度差を比較すると、感光液■のプレートは、表1に示
すように感度差が0.5段に対し、感光液■のプレート
では、1段あり、又、感度も感光液Iの方が高かった。
このように感光液Iを用いたプレートは感光液■を用い
たプレートに比べ、耐刷力がすぐれ、真空度の影響が少
なかった。
たプレートに比べ、耐刷力がすぐれ、真空度の影響が少
なかった。
表1. 真空度依存性(スf)liJ4t’段数)実施
例2。
例2。
実施例1.と同様にして得た基板に、次の感光液■を塗
布した。
布した。
感光液■
話′0艶′
下記構造の光重合開始剤 2g亜リン酸(
50%水溶液) 0.5 gベヘン酸
1.5gメチルアルコール
150gメチルエチルケトン
300g得られたプレートは、画像露光後、実
施例1と同様の現像液にて処理した。
50%水溶液) 0.5 gベヘン酸
1.5gメチルアルコール
150gメチルエチルケトン
300g得られたプレートは、画像露光後、実
施例1と同様の現像液にて処理した。
比較例として、感光液■の光重合開始剤のみをロフィン
ダイマー/ミヒラーズケン(2g/2g)に変更して感
光液■とし、後は実施例2と同様に、画像露光、現像処
理した。
ダイマー/ミヒラーズケン(2g/2g)に変更して感
光液■とし、後は実施例2と同様に、画像露光、現像処
理した。
感光液■を塗布したプレートは、感光液■を塗布したプ
レートに比べて、感度(グレースケールステップガイド
段数)で2段高く、真空度依存性も少なく、も1.5倍
の耐刷力を有していた。
レートに比べて、感度(グレースケールステップガイド
段数)で2段高く、真空度依存性も少なく、も1.5倍
の耐刷力を有していた。
実施例3
実施例1の光重合開始剤の代りに下記構造の光重合開始
剤を用いた。
剤を用いた。
実施例1と同様にして画像露光、現像して印刷版を得た
。この印刷版を実施例1と同様に耐刷テストを行ったと
ころほぼ実施例1と同じ耐刷力を有していた。
。この印刷版を実施例1と同様に耐刷テストを行ったと
ころほぼ実施例1と同じ耐刷力を有していた。
実施例4
実施例1の光重合開始剤の代りに下記構造の2つの組合
せからなる光重合開始剤を用いた。
せからなる光重合開始剤を用いた。
実施例1と同様に画像露光、現像して印刷版を得た。こ
の印刷版の耐刷力はほぼ実施例1の印刷版と同等であっ
た。
の印刷版の耐刷力はほぼ実施例1の印刷版と同等であっ
た。
Claims (1)
- (1)エチレン性不飽和重合性化合物、(2)アルカリ
水可溶性又は膨潤性でかつフィルム形成可能な重合体、
(3)光重合開始剤及び(4)ジアゾ樹脂を含有する感
光性組成物において、成分(3)の光重合開始剤が、一
般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼………( I ) (式中、Rは▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (R′は、水素原子、Cl、Br、アルキル基又はアル
コキシル基を示す。)で示される基であり、XはClま
たはBrである。) で表わされるS−トリアジントリハロメチル化合物であ
ることを特徴とする感光性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14494485 | 1985-07-02 | ||
JP60-144944 | 1985-07-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62115150A true JPS62115150A (ja) | 1987-05-26 |
JPH0766186B2 JPH0766186B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=15373815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61149087A Expired - Fee Related JPH0766186B2 (ja) | 1985-07-02 | 1986-06-25 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0766186B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6258460A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モ−タ制御装置 |
JPH032867A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPH04274429A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
KR100361730B1 (ko) * | 1998-08-18 | 2003-02-05 | 주식회사 엘지화학 | 플루오레닐트리아진계화합물및이를유효성분으로하는광중합개시제 |
WO2008073223A3 (en) * | 2006-12-07 | 2008-08-07 | Eastman Kodak Co | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4836281A (ja) * | 1971-09-03 | 1973-05-28 | ||
JPS53133428A (en) * | 1977-04-25 | 1978-11-21 | Hoechst Ag | Radiation sensitive copying constitute |
JPS5651735A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Photoreactive composition |
JPS57195250A (en) * | 1981-05-13 | 1982-11-30 | Hoechst Ag | Manufacture of printing plate |
JPS60105667A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-06-11 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | トリクロルメチル基を有する感光性化合物及びその製法 |
JPS60239736A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS61144640A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-07-02 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 光重合性組成物および写真部材 |
JPS61201234A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-05 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 放射重合性組成物及び写真材料 |
JPS6258241A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS62212401A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP61149087A patent/JPH0766186B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4836281A (ja) * | 1971-09-03 | 1973-05-28 | ||
JPS5685746A (en) * | 1971-09-03 | 1981-07-13 | Minnesota Mining & Mfg | Image forming composition |
JPS53133428A (en) * | 1977-04-25 | 1978-11-21 | Hoechst Ag | Radiation sensitive copying constitute |
JPS5651735A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Photoreactive composition |
JPS57195250A (en) * | 1981-05-13 | 1982-11-30 | Hoechst Ag | Manufacture of printing plate |
JPS60105667A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-06-11 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | トリクロルメチル基を有する感光性化合物及びその製法 |
JPS60239736A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS61144640A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-07-02 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 光重合性組成物および写真部材 |
JPS61201234A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-05 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 放射重合性組成物及び写真材料 |
JPS6258241A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS62212401A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6258460A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モ−タ制御装置 |
JPH032867A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPH04274429A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
KR100361730B1 (ko) * | 1998-08-18 | 2003-02-05 | 주식회사 엘지화학 | 플루오레닐트리아진계화합물및이를유효성분으로하는광중합개시제 |
WO2008073223A3 (en) * | 2006-12-07 | 2008-08-07 | Eastman Kodak Co | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
CN101548239B (zh) | 2006-12-07 | 2012-07-04 | 伊斯曼柯达公司 | 负性辐射敏感性组合物和可成像材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0766186B2 (ja) | 1995-07-19 |
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JPH052228B2 (ja) |
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