JP2000347398A - 感光性樹脂積層体及びネガ画像形成方法 - Google Patents

感光性樹脂積層体及びネガ画像形成方法

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JP2000347398A
JP2000347398A JP11154793A JP15479399A JP2000347398A JP 2000347398 A JP2000347398 A JP 2000347398A JP 11154793 A JP11154793 A JP 11154793A JP 15479399 A JP15479399 A JP 15479399A JP 2000347398 A JP2000347398 A JP 2000347398A
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photosensitive resin
resin laminate
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bis
acrylate
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Ryuichiro Takasaki
龍一郎 高崎
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Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線領域の光に対して高感度であり、現像
性、解像性が良好で且つ、白色灯に対してセーフライト
性を示す感光性樹脂積層体を提供することができる。 【解決手段】 支持体上に、エチレン性不飽和二重結合
含有化合物、重合開始剤及び赤外吸収色素を含有する感
光層並びに保護層を順次積層してなる感光性樹脂積層体
において、赤外吸収色素がフタロシアニン系赤外吸収色
素であり、保護層の酸素透過率が1×10-15 {cm3
(STP)・cm/cm2 ・sec・cmHg}以上で
あることを特徴とする感光性樹脂積層体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平板印刷版やプリン
ト基板、LSI、TFT液晶表示素子、プラズマディス
プレー、TAB等の微細加工に使用できる感光性樹脂積
層体に関するものである。更に詳しくは、コンピュータ
ー等のデジタル信号に基づいたレーザー走査露光により
直接描画が可能で、特に、半導体レーザー、固体レーザ
ー等の赤外レーザー露光に適し、白色灯のような明るい
作業環境下でも扱える感光性樹脂積層体に関する。
【0002】
【従来の技術】平板印刷版、プリント基板、LSI、T
FT液晶表示素子、プラズマディスプレー、TAB等の
微細加工には感光性樹脂を利用したリソグラフィー技術
が広く利用されている。このような目的での画像形成は
マスクを通して像露光し、露光部と未露光部の現像液に
対する溶解性の差を利用してパターン形成する手法が一
般的であるが、レーザー光を利用するとコンピューター
等のデジタル情報に基づいて直接感光性樹脂を走査像露
光でき、生産性の向上ばかりでなく解像性、位置精度等
も向上できるためレーザー直接描画法が盛んに研究され
ている。
【0003】レーザー光としては遠紫外からマイクロ波
まで種々の光源が知られているが、レーザー出力、安定
性、コスト、感光能力等の観点からリソグラフィーに利
用できるレーザー光はArイオンレーザー、YAGレー
ザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー等可視
光から赤外光を発するものが有力である。このため、可
視〜赤外光にかけて感光性を有する種々の組成物が検討
されている。
【0004】赤外光に感光性を有する光重合性組成物と
してはカチオン染料とボレート錯体を組み合わせたもの
(特開平6−59450号公報、特開平5−21622
7号公報、特開平5−265204号公報、特開平5−
247110号公報、特開平6−332175号公
報)、光熱変換物質とオニウム塩を組み合わせたもの
(特開平9−34110号公報、特開平9−13400
9号公報)、有機イオン染料とアゾビス化合物を組み合
わせたもの等が知られている。これらの光重合性組成物
は、酸素による重合禁止作用が顕著なため、高酸素遮断
性の保護層を感光層の上層に設けることが通常必須であ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、何れの
光重合性組成物も充分な感度を得ることができず、ま
た、安定性の面でも充分でない。特に、赤外吸収色素と
重合開始剤を組み合わせた光重合性組成物では高出力の
レーザーが必須であるため、コスト、製造装置面でも問
題があった。さらに、赤外吸収色素と重合開始剤を含
み、赤外領域での露光に適用しうる光重合性組成物であ
っても、通常赤外光に限らず可視光領域にも感光するた
め、取扱は赤色燈のような暗室とする必要があり作業面
においても課題を残している。
【0006】本発明の目的は、1)赤外光を発するレー
ザー光に高い感度を有し、2)赤色燈等の特別な環境を
準備しなくとも白色燈のような環境下で容易に取り扱
え、3)好ましくはアルカリ水溶液で現像処理可能なレ
ーザー直接描画に適した感光性樹脂積層体及びこれを用
いた画像形成方法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、光重合性組成物の保護層として常識的な高酸素遮
断性ではなく、むしろ低酸素遮断性の保護層を特定の赤
外感光性光重合性層に積層した感光性樹脂積層体が、感
度、安定性に優れるばかりでなく、驚くべき事に白色灯
等の明室においても取扱が可能であることを見出し本発
明を完成するに至った。即ち、本発明の要旨は、支持体
上に、エチレン性不飽和二重結合含有化合物、重合開始
剤及び赤外吸収色素を含有する感光層並びに保護層を順
次積層してなる感光性樹脂積層体において、赤外吸収色
素がフタロシアニン系赤外吸収色素であり、保護層の酸
素透過率が1×10-15 {cm3 (STP)・cm/c
2 ・sec・cmHg}以上であることを特徴とする
感光性樹脂積層体に存する。他の要旨は、該感光性樹脂
積層体を画像様露光及びアルカリ現像することによりネ
ガ画像を形成する方法に存する。
【0008】
【発明の実施形態】次に本発明の実施形態を詳細に説明
する。支持体としては、寸法的に安定な板状物が用いら
れる。このような材料としては、紙、プラスチック板又
はプラスチックシート(例えばポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、PET、ポリカーボネート、ナ
イロン、セルロースなど)、金属板(アルミニウム、亜
鉛、銅)、セラミック板(酸化アルミ、ガラス等)、複
合材(ガラス繊維強化されたエポキシ樹脂板、ポリイミ
ド樹脂板)、さらに、上記に金属箔がラミネートもしく
は金属が蒸着された板もしくはシートなどがあげられ
る。これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に
著しく安定であり、しかも安価であるので好ましく、プ
ラスチックシートは軽量であり、可とう性に優れるため
好ましい。
【0009】感光性樹脂積層体が感光性平板印刷版であ
る場合、支持体はアルミニウム支持体が好ましく、その
表面への感光層の形成に先立ち、通常、感光性平板印刷
版のアルミニウム支持体の処理方法として公知の脱脂処
理、粗面化処理(砂目立て処理)、陽極酸化処理、及び
水洗浄処理等の表面処理が施されたものが用いられ、そ
の厚さは、通常、0.01〜10mm、好ましくは0.
05〜1mm程度であり、表面の粗さとしては、JIS
B0601に規定される平均粗さRa で、通常、0.
3〜1.0μm、好ましくは0.4〜0.8μm程度の
ものである。また、プリント配線板、プラズマディスプ
レー等の加工に用いるドライフィルムとしては厚さ10
〜200μmのポリオレフィン、PET等のプラスチッ
クシートが支持体として特に好ましいものである。
【0010】次に支持体上に形成される感光層(光重合
性層)を構成する成分について説明する。感光層に含有
されるエチレン性不飽和二重結合含有化合物(以下「エ
チレン性不飽和化合物」という)としては、重合可能な
エチレン性不飽和二重結合を分子内に1つ以上有する化
合物であり、公知の種々の不飽和化合物を利用すること
ができる。なかでも架橋効率、溶解性変化等の観点から
分子内に二重結合を二個以上有する化合物で低分子量の
モノマー及びオリゴマーを含むが、所謂アクリルモノマ
ーが好ましいものである。尚、本明細書に於けるアクリ
ルモノマーとしては、狭義のアクリルモノマーと、メタ
クリルモノマーを含む。
【0011】アクリルモノマーとしては脂肪族アルコー
ルあるいは芳香族ヒドロキシ化合物に不飽和カルボン酸
を縮合させたエステルアクリレート化合物、脂肪族ある
いは芳香族エポキシ化合物に不飽和カルボン酸を付加さ
せたエポキシアクリレート化合物、イソシネート化合物
に不飽和ヒドロキシ化合物を付加させたウレタンアクリ
レート化合物、(メタ)アクリロイル基を有するリン酸
エステル等を挙げることができるが必ずしもこれらだけ
に限定されるものではない。
【0012】エステルアクリレート化合物としては、例
えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンメタ
クリレート(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ(メタ)アクリレート、グリセリンプ
ロピレンオキサイド付加トリ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)
アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)クリレー
ト、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
のジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
【0013】エポキシアクリレート化合物としては、グ
リシジル基あるいは脂環式エポキシ基等のエポキシ環を
有するエポキシ化合物にα,β−不飽和カルボン酸を付
加反応させた化合物が挙げられる。エポキシ化合物とし
てはエポキシ環を結合させている基体骨格としては脂肪
族、芳香族、ヘテロ環、あるいはこれらが種々入り交じ
った構造の種々のエポキシ化合物であり、芳香族エポキ
シ化合物としては例えばフェノールノボラックエポキシ
化合物、(o,m,p)−クレゾールノボラックエポキ
シ化合物、ビスフェノール−Aエポキシ化合物、ビスフ
ェノール−Fエポキシ化合物、あるいはブロム化フェノ
ールノボラックエポキシ化合物のようにハロゲン化され
たエポキシ化合物等が挙げられる。これらの化合物は低
分子化合物であっても樹脂となるようなオリゴマー、高
分子であってもよい。
【0014】脂肪族エポキシ化合物としては例えばソル
ビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリ
シジルエーテル、(ポリ)グリセロールポリグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエー
テル、ネオペンチルジグリシジルエーテル、ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、(ポリ)エチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、(ポリ)プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、(ポリ)テトラメチレング
リコールジグリシジルエーテル、(ポリ)ペンタメチレ
ングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。ヘ
テロ環構造を有するエポキシ化合物としてはトリグリシ
ジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒ
ドロキシエチル)イソシアヌレート等を挙げることがで
きる。
【0015】脂環式エポキシ化合物としてはダイセル化
学社製のセロキサイド2021、2080、3000、
2000、エポリードGT300、GT400等を挙げ
ることができる。以上挙げたエポキシ化合物にα、β−
不飽和カルボン酸として例えば(メタ)アクリル酸等を
四級アンモニウム塩等を触媒として付加させたエポキシ
アクリレート化合物を好ましく用いることができ、さら
に、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の酸
無水物等でさらに変性させた変性エポキシアクリレート
も好ましく用いることができる
【0016】ウレタンアクリレート化合物としてはパラ
フェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソ
シアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,
4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン
−1,5−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネー
ト等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、
2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチ
レンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、ω,ω′
−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α,
α,α′,α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジ
ンエステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデ
カントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−
4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキ
サメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリ
イソシアネート、トリス(イソシアネートフェニルメタ
ン)、トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェ
ート等のトリイソシアネートにヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート等のような水酸基を有するアクリル化合物を反応さ
せた化合物を挙げることができる。リン酸エステルとし
ては、メタアクリルオキシエチルフォスフェート、ビス
(メタアクリルオキシエチル)フォスフェート、メタア
クリルオキシエチレングリコールフォスフェート等のリ
ン酸の水酸基の一部がエステル化された構造であり(メ
タ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられる。
【0017】重合開始剤としては、活性光線照射により
直接又は増感色素との相互作用により、ラジカルを発生
するラジカル発生剤であって、例えば、特開昭53−1
33428号公報、英国特許1388492号明細書、
若林等;Bull.Chem.Soc.Japan;42,2924(1969)、F.C.Scha
efer等;J.Org.Chem.;29,1527(1964)等に記載されるハロ
ゲン化炭化水素誘導体、特開昭59−152396号、
特開昭61−151197号、特開昭63−41484
号、特開平2−249号、特開平2−4705号、特開
平5−83588号各公報等に記載されるチタノセン化
合物、特公平6−29285号公報等に記載されるヘキ
サアリールビイミダゾール化合物、有機硼素錯体、カル
ボニル化合物、及び有機過酸化物等が挙げられる。
【0018】ここで、ハロゲン化炭化水素誘導体として
は、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−n−
プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリク
ロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェ
ニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’,
4’−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,
4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
チルスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロ
ロメチル−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオ
キシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メ
トキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(4−エトキシナフチル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−〔4−(2−エトキシエチル)ナフチル〕−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4,7−ジメトキシナフチル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−アセナフチル−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ
−4−メチル−6−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−ト
リアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチ
ル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス
(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−アミノ−
4−メチル−6−トリブロモメチル−s−トリアジン等
のs−トリアジン化合物類が挙げられ、中で、ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン化合物が好ましい。
【0019】又、チタノセン化合物としては、具体的に
は、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロ
ライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニ
ル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,4−
ジフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニ
ウムビス(2,6−ジフルオロフェニル)、ジシクロペ
ンタジエニルチタニウムビス(2,4,6−トリフルオ
ロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)、ジシク
ロペンタジエニルチタニウムビス(2,3,4,5,6
−ペンタフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムビス(2,6−ジフルオロフェニ
ル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビ
ス(2,4,6−トリフルオロフェニル)、ジ(メチル
シクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,3,5,
6−テトラフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペン
タジエニル)チタニウムビス(2,3,4,5,6−ペ
ンタフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタ
ニウムビス(2,6−ジフルオロ−3−(1−ピロリ
ル)フェニル)等が挙げられる。
【0020】又、ヘキサアリールビイミダゾール化合物
としては、具体的には、例えば、2,2’−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−クロロフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロ
ロフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ク
ロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−フ
ルオロフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o
−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
(o,p−ジブロモフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラ(p−クロロナフチル)ビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)
ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)
ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−ヨードフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o−クロロ−p
−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイ
ミダゾール等が挙げられる。
【0021】又、有機硼素錯体としては、例えば、特開
平8−217813号、特開平9−106242号公
報、特開平9−188685号、特開平9−18868
6号、特開平9−188710号各、及び、Kunz,Marti
n “Rad Tech'98.Proceeding April 19-22,1998,Chicag
o ”等に記載の有機硼素アンモニウム錯体、特開平6−
1576232号公報、特開平6−175561号公
報、特開平6−175564号各公報等に記載の有機硼
素スルホニウム錯体或いは有機硼素オキソスルホニウム
錯体、特開平6−175553号、特開平6−1755
54号各公報等に記載の有機硼素ヨードニウム錯体、特
開平9−188710号公報等に記載の有機硼素ホスホ
ニウム錯体、特開平6−348011号、特開平7−1
28785号、特開平7−140589号、特開平7−
292014号、特開平7−306527号各公報等に
記載の有機硼素遷移金属配位錯体等がある。具体的には
下記式(III) に示される基本構造を有する有機ホウ素錯
体が挙げられる。
【0022】
【化1】
【0023】R1 〜R4 はそれぞれ独立に置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール
基、置換基を有してもよいアルカリール基、置換基を有
してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキ
ニル基、置換基を有してもよい脂環基及び置換基を有し
てもよい複素環基を表し、R1 〜R4 が連結して環を形
成してもよく、X+ はカチオン基を表す。
【0024】安定性並びに高重合活性の観点からR1
4 の内3個が置換基を有してもよいアリール基、1個
がアルキルのトリアリールアルキルボレート錯体が好ま
しい。アリール基は好ましくはフェニル基であり、アル
キル基はC1 〜C10のアルキル基が好ましい。また、ホ
ウ素と結合したアリール基同士が下記のように化学結合
を有したものも好ましい。
【0025】
【化2】
【0026】(ここでRはアルキル基を示す) カチオン基としては特開昭62−143044号公報、
特開昭62−150242号公報に記載のカチオン染料
のような可視光領域に吸収のあるものは安定性の観点か
ら好ましくなく、できるだけ可視光領域に吸収の無いも
のが好ましい。例えば、アンモニウム、ホスホニウム、
アルソニウム、スチボニウム、オキソニウム、スルホニ
ウム、セレノニウム、スタンノニウム、ヨードニウム等
のオニウムカチオン基、遷移金属配位カチオン錯体等を
挙げることができる。具体的な化学構造を例示するなら
ば、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【0027】
【化3】
【0028】
【化4】
【0029】
【化5】
【0030】
【化6】
【0031】
【化7】
【0032】
【化8】
【0033】本発明の有機ホウ素錯体の吸収極大は40
0nm以下であるのが白色灯下での取扱い性の点でより
好ましい。又、カルボニル化合物としては、具体的に
は、例えば、ベンゾフェノン、2−メチルベンゾフェノ
ン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェ
ノン、2−カルボキシベンゾフェノン、2−クロロベン
ゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン等のベンゾフェノン誘導体類、2,2−ジエトキシア
セトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセ
トフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)
ケトン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イ
ソプロピルフェニル)ケトン、1−トリクロロメチル−
(p−ブチルフェニル)ケトン、α−ヒドロキシ−2−
メチルフェニルプロパノン、2−メチル−(4’−(メ
チルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノ
ン等のアセトフェノン誘導体類、チオキサントン、2−
エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチ
ルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサン
トン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン誘
導体類、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエ
チルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体
類等が挙げられる。
【0034】又、有機過酸化物としては、具体的には、
例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサ
イド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、3,
3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド等
のケトンパーオキサイド類、3,5,5−トリメチルヘ
キサノイルパーオキサイド、スクシニックアシッドパー
オキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジク
ロロベンゾイルパーオキサイド、m−トルオイルパーオ
キサイド等のジアシルパーオキサイド類、t−ブチルハ
イドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、
p−メンタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチ
ルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,
1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイ
ド等のハイドロパーオキサイド類、ジ−t−ブチルパー
オキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、1,3(又は1,4)−ビス(t−
ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジ
メチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキシン−3等のジアルキルパーオキサイド類、
1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,
5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブ
チルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類、t
−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ
オクトエート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−
ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオ
キシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブ
チルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベン
ゾエート等のアルキルパーエステル類、ジ−2−エチル
ヘキシルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパ
ーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパー
オキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオ
キシジカーボネート、ビス(3−メチル−3−メトキシ
ブチル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオ
キシイソプロピルカーボネート等のパーオキシカーボネ
ート類、及び、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,
4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t
−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3’,4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ
(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(アミノパー
オキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルビス
(t−ブチルパーオキシ2水素2フタレート)、カルボ
ニルビス(t−ヘキシルパーオキシ2水素2フタレー
ト)等が挙げられる。
【0035】以上挙げた重合開始剤の中でも有機硼素錯
体が好ましいものであり、中でも有機ホウ素アンモニウ
ム錯体が特に好ましい重合開始剤として挙げることがで
きる。本発明では、赤外吸収色素がフタロシアニン系赤
外吸収色素である必要がある。フタロシアニン系赤外吸
収色素以外では感度が劣り好ましくない。
【0036】フタロシアニン系赤外吸収色素としては、
特開昭64−60660号公報、特開平1−10017
1号公報、特開平3−31247号公報、特開平4−1
5263、特開平4−15264号公報、特開平4−1
5265号公報、特開平4−15266号公報、特開平
2−138382号公報特開平3−77840号公報、
特開平3−100066号公報、特開平4−34816
8号公報特開昭60−23451号公報、特開昭61−
215662号公報、特開昭61−215663号公
報、特開昭63−270765号公報、特開平1−28
7175号公報、特開平2−43269号公報、特開平
2−296885号公報、特開平3−43461号公
報、特開平3−265664号公報、特開平3−265
665号公報、特開平1−108264号公報、特開平
1−108265号公報、特開平10−182995号
公報、特開平10−120927号公報、特開平9−2
02860号公報、特開平8−325468号公報、特
開平8−225751号公報、特開平8−120186
号公報に記載のフタロシアニン、ナフタロシアニン化合
物が挙げられる。
【0037】本発明の感光性樹脂積層体が特に700n
m以上の波長の光での露光に有利であることから、フタ
ロシアニン系化合物は、750nmから1200nmの
範囲に吸収極大を有するのが好ましい。具体的には下記
式(I)又は(II)のフタロシアニン基本骨格を有する
化合物であり、芳香環への置換基あるいは中心金属の種
類等により吸収極大を上記範囲に制御したものである。
【0038】
【化9】
【0039】
【化10】
【0040】中心金属Mとしてはアルカリ金属(I
a)、アルカリ土類金属(IIa)、IIIb、IVb族、V
b族、VIb族、VII b族、VIIIb族、Ib族、IIb族、
III a族、IVa族、Va族、ランタニド、アクチニドの
種々の金属が挙げられる。置換基としてはアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、ビニル
基、カルボキシル基、アクリロイル基、チオエーテル基
等が挙げられ、これらの置換基が縮合して環を形成して
いてもよい。具体的は化学構造を吸収極大(λmax )と
共に例示するならば例えば以下の化合物が挙げられる。
【0041】
【化11】
【0042】
【化12】
【0043】
【化13】
【0044】
【化14】
【0045】
【化15】
【0046】
【化16】
【0047】以上説明した感光層を構成するエチレン性
不飽和化合物、重合開始剤、フタロシアニン系赤外吸収
色素の好ましい配合割合はエチレン性不飽和化合物10
0重量部に対して重合開始剤5〜40重量部、好ましく
は5〜30重量部、フタロシアニン系赤外吸収色素が2
〜30重量部、好ましくは5〜25重量部の範囲であ
る。
【0048】本発明では上述した感光層に結合材として
アルカリ可溶性の樹脂を含有させることもできる。アル
カリ可溶性樹脂を含有させることで塗膜性、現像性等が
向上するので含有させるのは好ましい。このようなアル
カリ可溶性樹脂としてはカルボキシル基を有するビニル
樹脂やフェノール性水酸基を有するフェノール樹脂等が
挙げられる。
【0049】カルボキシル基を有するビニル樹脂として
は(メタ)アクリル酸や無水マレイン酸、クロトン酸等
のカルボキシル基を有するビニルモノマーとスチレン、
α−メチルスチレン、ビニルフェノール、(メタ)アク
リル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエス
テル、(メタ)アクリル酸プロピルエステル、(メタ)
アクリル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸ペンチ
ルエステル、(メタ)アクリル酸ヘキシルエステル、
(メタ)アクリル酸ドデシルエステル、(メタ)アクリ
ル酸ベンジルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチル
ヘキシルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシメチ
ルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルエス
テル、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、(メタ)アクリル
酸グリシジルエステル等を共重合させた樹脂が好ましく
用いられる。
【0050】カルボキシル基を有するビニル樹脂として
は(メタ)アクリル酸を必須成分として含有する(メ
タ)アクリル樹脂が特に好ましいものであり、現像性、
塗膜特性等の観点から樹脂酸価が30〜250KOH・
mg/g、分子量がゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分
子量で1000〜300000、より好ましくは150
0〜200000の範囲のものである。
【0051】また、上記ビニル樹脂は特開平4−345
609号公報、特開平6−138659号、特開平5−
19467号公報、特開平6−11831号公報等に記
載の如く、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチルアクリレート等のようなエチレ
ン性不飽和二重結合含有エポキシ化合物をカルボキシル
基に付加させ樹脂側鎖に不飽和基を導入してもよい。樹
脂側鎖に不飽和基を導入することで耐熱性、耐薬品性、
耐刷性、感度、密着性等を向上させることができるた
め、このような樹脂は好ましいものである。特に、3,
4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートに代表
されるようなエチレン性脂環式エポキシ化合物はその効
果が大きく好ましいものである。
【0052】フェノール性水酸基を有するフェノール樹
脂としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5
−キシレノール、o−エチルフェノール、m−エチルフ
ェノール、p−エチルフェノール、プロピルフェノー
ル、n−ブチルフェノール、t−ブチルフェノール、1
−ナフトール、2−ナフトール、4,4’−ビフェニル
ジオール、ビスフェノール−A、ピロカテコール、レゾ
ルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、1,2,
4−ベンゼントリオール、フロログルシノール等のフェ
ノール類の少なくとも1種を、酸性触媒下、例えば、ホ
ルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、パラアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類、又は、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン類、の少なくとも1種と重縮合させたノボラ
ック樹脂、前記ノボラック樹脂の重縮合における酸触媒
に代えてアルカリ触媒を用いる以外は同様にして重縮合
させたレゾール樹脂、及び、例えば、o−ヒドロキシス
チレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチ
レン、ジヒドロキシスチレン、トリヒドロキシスチレ
ン、テトラヒドロキシスチレン、ペンタヒドロキシスチ
レン、2−(o−ヒドロキシフェニル)プロピレン、2
−(m−ヒドロキシフェニル)プロピレン、2−(p−
ヒドロキシフェニル)プロピレン等のヒドロキシスチレ
ン類の単独又は2種以上を、ラジカル重合開始剤又はカ
チオン重合開始剤の存在下で重合させたポリビニルフェ
ノール樹脂等が挙げられ、これらは、重量平均分子量が
1,500〜50,000であるのが好ましい。
【0053】以上、説明したアルカリ可溶性樹脂を感光
層に配合させる場合にはエチレン性不飽和化合物100
重量部に対してアルカリ可溶性樹脂50〜500重量部
である。本発明の大きな特徴は、低酸素遮断性の保護層
をフタロシアニン系赤外吸収色素を含有する感光層上に
設けることにある。従来、光重合系の組成物はラジカル
重合により硬化が進むため、重合禁止剤となる酸素の影
響を極力排除するため高酸素遮断性の保護層が必要とさ
れていた。驚くべき事に、本発明の感光層は基本的にラ
ジカル重合で硬化が進行すると考えられるにも係わら
ず、酸素による重合禁止作用が極めて小さく、低酸素遮
断性の保護層であっても充分高い感度が得られ、しかも
低酸素遮断性の保護層を用いた場合には可視光が照射さ
れる状況にあってもカブリ(弱い硬化反応による現像
残)等が生じず、白色灯下での取扱も可能となることを
見出した。これは、可視光照射で生じる微量の重合ラジ
カルを保護層から透過する大気中の酸素が効果的にクエ
ンチングするため、カブリ等に繋がる硬化反応を抑制
し、感光層を安定化するためと推定される。
【0054】感光層上に設けられる保護層の低酸素遮断
性の指標の1つが酸素透過率であり、本発明の保護層は
1×10-15 (cm3(STP) ・cm/cm2 ・sec・
cmHg)以上の物性値を有するものである。なお、こ
の酸素透過率(P)はPOLYMER HANDBOOK (J.BRNDRUP
編)等に記載されている公知の物性値であり、下記式に
より定義されたものである。
【0055】
【数1】P=(Q×L)/(△P×A×t) Q;酸素透過量(cm3(STP)) L;膜厚(cm) A;膜面積(cm2 ) t;時間(sec) △P;差圧(供給側分圧−透過側分圧) (cmHg)
【0056】本発明の保護層の酸素透過率は、好ましく
は1×10-13 以上(cm3(STP) ・cm/cm2 ・se
c・cmHg)、より好ましくは1×10-12 (cm
3(STP) ・cm/cm2 ・sec・cmHg)であり、
上限は特に限定されないが、好ましくは1×10
-12 (cm3(STP) ・cm/cm2 ・sec・cmH
g)以下、より好ましくは1×10-3(cm3(STP) ・
cm/cm2 ・sec・cmHg)以下である。
【0057】本発明の保護層の低酸素遮断性の他の指標
は、その酸素透過性がポリビニルアルコールより高いこ
とである(但し、膜厚同一)。即ち、ポリビニルアルコ
ールは酸素遮断性の高い有機高分子化合物であるが、こ
れより酸素透過性が高い有機高分子により形成される膜
であればよい。本発明の保護層としては上記酸素透過性
を有するものであれば特に材質的に制限を受けることは
無く、例えば、セルロース、ポリビニルピロリドン、ゼ
ラチン、ポリアクリル酸、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、
ポリアクリルアミド、ビニルピロリドン/酢酸ビニル共
重合体等の水溶性高分子化合物、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ナイロン、ポリアミド、シリコ
ーン等の非水溶性高分子化合物を挙げることができる。
【0058】また、ポリビニルアルコールのように高酸
素遮断性の高分子化合物の場合には、高分子化合物の酸
素透過性を向上させる機能を有する有機化合物、無機化
合物等をブレンドすることや、放射線等を用いて微小な
ポアを形成し酸素透過性を向上させる手法も有用であ
る。
【0059】酸素透過性を向上させる有機化合物の具体
例としてはポリビニルピロリドン、ゼラチン、ポリアク
リル酸、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミ
ド等の水溶性高分子やグリセリン、ペンタエリスリトー
ル、アルギン酸等の低分子化合物等が挙げられ、無機化
合物の具体例としては硫酸バリウム、炭酸バリウム、シ
リカ、炭酸カルシウム、タルク、アルミナ等が挙げられ
るが、必ずしもこれらに限定されない。
【0060】上述した保護層の材質としては、ポリビニ
ルピロリドン、部分ケン化ポリ酢酸ビニル又はポリビニ
ルアルコールと、ポリビニルアルコールの酸素透過性を
向上する機能を有する化合物の混合物が画像形成後の現
像時に除去できる点及び密着性等の観点から好ましく、
また、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテ
レフタレートは安価である点好ましい。
【0061】本発明の感光性樹脂積層体は、感光層成分
を溶媒に溶解させた感光液を支持体上に塗布、乾燥した
後、保護層となるフィルムを感光層上にラミネートする
ことで製造することができる。また、保護層を感光液と
同様、塗布、乾燥することで形成することも可能であ
る。
【0062】ここで、その溶媒としては、使用成分に対
して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるもので
あれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル等のプロピレングリコール系溶媒、酢酸ブチル、酢酸
アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレー
ト、ピルビン酸エチル、エチル−2−ヒドロキシブチレ
ート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、3−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
媒、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピロリドン等の高極性溶媒、或いはこれらの混合溶
媒、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。溶媒の使用割合は、感光層の構成成分の総
量に対して、通常、重量比で1〜20倍程度の範囲であ
る。
【0063】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚として、0.1〜100g/
m2 の範囲とするのが好ましく、0.5〜70g/m2
の範囲とするのが更に好ましい。尚、その際の乾燥温度
としては、例えば、30〜150℃程度、好ましくは4
0〜110℃程度、乾燥時間としては、例えば、5秒〜
60分間程度、好ましくは10秒〜30分間程度が採ら
れる。
【0064】支持体上に設けられる感光層の厚みは0.
5〜100μmの範囲が好ましく、平板印刷版の場合に
は0.5〜5μ、好ましくは1〜3μmであり、ドライ
フィルム等に用いる場合には3〜100μm、好ましく
は5〜70μm、より好ましくは7〜50μmの範囲で
ある。
【0065】保護層の厚みとしては上記酸素透過率を満
たす範囲から適宜選択すればよいが、0.5〜50μm
の範囲が好ましく、現像可能な水溶性高分子を用いる場
合には0.5〜5μm、より好ましくは1〜3μmの範
囲であり、ポリオレフィン等の非水溶性高分子の場合は
10〜50μm、より好ましくは15〜45μmの範囲
である。保護層を塗布乾燥して形成する場合には、水溶
性高分子化合物水溶液又は非水溶性高分子化合物を上記
の如き溶媒に溶解した溶液を感光層に準じて塗布、乾燥
することで形成することができる。
【0066】本発明の感光性樹脂積層体を画像様露光す
る光源としては、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タング
ステンランプ、ハロゲンランプ、HeNeレーザー、ア
ルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、HeCdレー
ザー、半導体レーザー、ルビーレーザー等のレーザー光
源が挙げられるが、特に、700nm以上の近赤外線レ
ーザー光線を発生する光源中でも750〜1200nm
の光が好ましく、例えば、ルビーレーザー、YAGレー
ザー、半導体レーザー等の固体レーザーを挙げることが
でき、特に、小型で長寿命な半導体レーザーやYAGレ
ーザーが好ましい。これらの光源により、通常、走査露
光した後、現像液にて現像し画像が形成される。
【0067】画像露光した感光性樹脂積層体の現像に用
いる現像液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カ
リウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナ
トリウム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三
燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アン
モニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモ
ニウム等の無機アルカリ塩、又は、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、モノブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン等の有機アミン化合物等の0.1
〜10重量%程度の水溶液からなるアルカリ現像液が用
いられる。尚、現像液には、必要に応じてノニオン性、
アニオン性、カチオン性、両性等の界面活性剤や、アル
コール等の有機溶媒が加えられてもよい。尚、現像は、
浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等に
より、通常、好ましくは10〜60℃程度、更に好まし
くは15〜45℃程度の温度でなされる。
【0068】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
【0069】実施例−1 砂目立て処理及び陽極酸化処理を施したアルミニウム板
(厚さ0.24mm)を支持体として用い、該アルミニ
ウム板支持体表面に、エチレン性不飽和化合物としてウ
レタンアクリレート(共栄(株)製 UA−306
H);20重量部、エステルアクリレート(新中村化学
(株)製 A−BPE−4);20重量部、燐酸アクリ
レート(日本化薬(株)製 PM−2);10量部、重
合開始剤として前記S−1で表されるボレートアンモニ
ウム錯体;10重量部、フタロシアニン系赤外吸収色素
としてR−12;5重量部、結合材としてメタクリル酸
メチル/メタクリル酸共重合体(共重合モル比7/3
重量平均分子量50000);50重量部をシクロヘキ
サノン;850重量部に室温で撹拌して調液した塗布液
をワイヤーバーを用いて塗布し、70℃で1分間乾燥さ
せて膜厚2μmの光重合性組成物層を形成した。この上
に25μmのポリエチレンフィルムをラミネートし保護
層を設け、光重合性平版印刷版を作製した。
【0070】得られた光重合性平版印刷版を、直径10
cmのステンレス製回転ドラムに、保護層が外側になる
ように固定した後、該ドラムを5rpm、50rpm、
100rpm、及び200rpmの4段階の回転速度で
回転させながら、波長830nm、出力40mWの半導
体レーザー(日立製作所社製「HL8325C」)を用
いて30μmに集光したビームスポットで走査露光し
た。保護層を剥離した後、1重量%の珪酸ナトリウム水
溶液に25℃で60秒間浸漬することにより現像し走査
線画像を形成させた。
【0071】その際、線画像が形成されるドラムの最高
回転数により感度を評価し、更に、その最高回転数での
画像のエッジ部分を100倍の顕微鏡で観察し、エッジ
がシャープに形成されているものを「良」、そうでない
ものを「不良」として解像性を、又、その最高回転数で
の非画像部(非露光部)を同様に観察し、地汚れが全く
認められないものを「良」、何らかの汚れが認められる
ものを「不良」として現像性を、それぞれ評価した。さ
らに、白色蛍光灯で照明された室内に光重合性平板印刷
版を1時間放置した後に同様にして画像形成を行ないセ
ーフライト性を評価した。白色灯下で保管しても感度、
エッジのシャープさ、現像性が不変であるものをセーフ
ライト性「良」、そうでないものを「不良」とした。
【0072】実施例−2 実施例1の光重合性平板印刷版の保護層を25μmのポ
リプロピレンフィルムに変えた以外は実施例1と同様に
して光重合性平版印刷版を作成し、評価した。
【0073】実施例−3 実施例1の光重合性平板印刷版の保護層を25μmのポ
リエチレンテレフタレートフィルムに変えた以外は実施
例1と同様にして光重合性平版印刷版を作成し、評価し
た。
【0074】実施例−4 実施例1の光重合性平板印刷版の保護層を、10wt%
のポリビニルピロリドン(水溶液をワイヤーバーにて塗
布、70℃で2分間乾燥して形成した厚さ3μmの厚さ
の保護層とし、保護層を剥離することなく現像した以外
は実施例1と同様にして光重合性平版印刷版を作成し、
評価した。
【0075】実施例−5 実施例4の光重合性平板印刷版の保護層を、10wt%
のビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体(共重合モル
比7/3)を用いて形成した以外は実施例4と同様にし
て光重合性平版印刷版を作成し、評価した。
【0076】実施例−6 実施例4の光重合性平板印刷版の保護層を、ビニルピロ
リドン/酢酸ビニル共重合体(共重合モル比7/3)と
ポリビニルアルコールを5:5(重量比)でブレンドし
た10wt%水溶液を用いて形成した以外は実施例4と
同様にして光重合性平版印刷版を作成し、評価した。
【0077】比較例−1 実施例4の光重合性平板印刷版の保護層を、10wt%
のポリビニルアルコールを用いて形成した以外は実施例
4と同様にして光重合性平版印刷版を作成し、評価し
た。
【0078】比較例−2 比較例−1の光重合性平板印刷版の光重合性組成物層の
赤外吸収色素をカチオン性色素(NK−4432 日本
感光色素(株)製 シアニン色素)(λmax 830n
m)に変えた以外は実施例4と同様にして光重合性平版
印刷版を作成し、評価した。
【0079】比較例−3 比較例2の光重合性平板印刷版の保護層を、10wt%
のビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体(共重合モル
比7/3)を用いて形成した以外は実施例4と同様にし
て光重合性平版印刷版を作成し、評価した。
【0080】比較例−4 実施例−3の光重合性平板印刷版の光重合性組成物層の
赤外吸収色素を下記のインドアニリン系化合物(λmax
800nm)に変えた以外は実施例4と同様にして光重
合性平版印刷版を作成し、評価した。
【0081】
【化17】
【0082】以上の結果をまとめて表1に示す。
【0083】
【表1】
【0084】
【発明の効果】本発明によれば、赤外線領域の光に対し
て高感度であり、現像性、解像性が良好で且つ、白色灯
に対してセーフライト性を示す感光性樹脂積層体を提供
することができる。従って、本発明の感光性樹脂積層体
によれば、低出力の半導体レーザーやYAGレーザー等
によってもコンピューターのデジタル情報から直接画像
を得るレーザー直接描画が可能であり、且つ、明るい作
業環境での取扱が可能となる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H05K 3/02 H05K 3/02 B 3/10 3/10 C Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA02 AA04 AB03 AB15 AB17 AB20 AC08 AD01 BC12 BC14 BC31 BC34 BC43 BC51 CA00 CA39 CB52 CC11 CC13 DA03 FA10 FA17 2H096 AA06 AA26 AA27 AA28 BA05 EA04 GA08 5E339 BB02 BC10 BD14 BE05 CC10 DD02 DD03 5E343 AA02 AA11 BB60 DD68 GG08

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に、エチレン性不飽和二重結合
    含有化合物、重合開始剤及び赤外吸収色素を含有する感
    光層並びに保護層を順次積層してなる感光性樹脂積層体
    において、赤外吸収色素がフタロシアニン系赤外吸収色
    素であり、保護層の酸素透過率が1×10-15 {cm3
    (STP)・cm/cm2 ・sec・cmHg}以上で
    あることを特徴とする感光性樹脂積層体。
  2. 【請求項2】 支持体上に、エチレン性不飽和二重結合
    含有化合物、重合開始剤及び赤外吸収色素を含有する感
    光層並びに保護層を順次積層してなる感光性樹脂積層体
    において、赤外吸収色素がフタロシアニン系赤外吸収色
    素であり、保護層がポリビニルアルコールより高い酸素
    透過性の有機高分子膜であることを特徴とする感光性樹
    脂積層体。
  3. 【請求項3】 フタロシアニン系赤外吸収色素が750
    nmから1200nmの範囲に最大吸収波長を有するフ
    タロシアニン化合物である請求項1又は2に記載の感光
    性樹脂積層体。
  4. 【請求項4】 感光層がアルカリ可溶性樹脂を含有する
    請求項1〜3のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
  5. 【請求項5】 重合開始剤が有機硼素錯体である請求項
    1〜4のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
  6. 【請求項6】 請求項4又は5に記載の感光性樹脂積層
    体を画像様露光及びアルカリ現像することによりネガ画
    像を形成する方法。
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