JP2000305262A - 感光性組成物及び感光性印刷版 - Google Patents
感光性組成物及び感光性印刷版Info
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- JP2000305262A JP2000305262A JP36059299A JP36059299A JP2000305262A JP 2000305262 A JP2000305262 A JP 2000305262A JP 36059299 A JP36059299 A JP 36059299A JP 36059299 A JP36059299 A JP 36059299A JP 2000305262 A JP2000305262 A JP 2000305262A
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Abstract
れ、半導体レーザー等の赤外光を用いて直描が可能で、
且つ白色灯のような明室下でも取扱可能な感光性組成物
及び感光性印刷版の提供。 【解決手段】 1.エチレン性不飽和二重結合化合物、
赤外吸収色素及び重合開始剤を含有してなる感光性組成
物において、赤外吸収色素がフタロシアニン化合物であ
り、且つエチレン性不飽和二重結合化合物が少なくとも
(メタ)アクリロイルオキシアルキル基含有アミン化合
物又は/及び(メタ)アクリロイルオキシアルキル基含
有ホスフェート化合物を含有することを特徴とする感光
性組成物。2.陽極酸化されたアルミニウム支持体上に
前記感光性組成物からなる層を有する感光性印刷版。
Description
感光性印刷版に関する。詳しくは、赤外吸収色素として
フタロシアニン化合物を含有する感光性組成物の改良及
びそれを用いた感光性印刷版に関する。本発明の感光性
組成物は、半導体レーザーやYAGレーザー等の赤外光
に対して高い感受性を有し、保存安定性に優れ、白色灯
下でのセーフライト性を有し、更に支持体に対する高い
密着性及び現像性を有するので、特に感光性印刷版とし
て有用である。
づき銀塩フィルム等のマスクを介せずレーザーの走査露
光により直接画像形成可能なレーザー感光材料が求めら
れている。特に、半導体レーザーに代表される赤外レー
ザーは出力、コスト、寸法、安定性に優れているため、
このような赤外光に感光する材料が強く求められてい
る。このような光重合性組成物として、例えば増感色素
/不飽和二重結合化合物をシアニン色素/芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物や多価アルコールのポリエステル(メ
タ)アクリレート(特開平2−189548号公報)或
いは増感色素をスクアリリウム色素としたもの(特開平
2−306247号公報)等が提案されている。
の組成物については、感光波長領域は可視光から近赤外
光まで幅広く、取扱は赤色燈のような暗室下とする必要
があるため作業性に問題があり、且つ、保存安定性につ
いても不十分であるため実用化は困難であった。特に、
感光層の支持体に対する接着性が経時によって促進さ
れ、それにより、画像露光後の現像処理時に未露光部の
除去が不十分となり残渣が生じる問題の解決は困難であ
った。本発明の目的は、解像性、現像性、密着性、保存
安定性に優れ、半導体レーザー等の赤外光を用いて直描
が可能で且つ白色灯のような明室下でも取扱可能な新規
な感光性組成物及び感光性印刷版を提供することにあ
る。
情に鑑み鋭意検討した結果、特定の赤外吸収色素及び特
定のエチレン性不飽和二重結合化合物を含有する感光性
組成物が従来の問題点を解決し得ることを見出し、本発
明を完成するに至った。
二重結合化合物、赤外吸収色素及び重合開始剤を含有し
てなる感光性組成物において、赤外吸収色素がフタロシ
アニン化合物であり、且つエチレン性不飽和二重結合化
合物が少なくとも(メタ)アクリロイルオキシアルキル
基含有アミン化合物又は/及び(メタ)アクリロイルオ
キシアルキル基含有ホスフェート化合物を含有すること
を特徴とする感光性組成物及び陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体上に前記感光性組成物からなる層を有する感
光性印刷版にある。
ン性不飽和二重結合化合物として(メタ)アクリロイル
オキシアルキル基含有アミン化合物又は/及び(メタ)
アクリロイルオキシアルキル基含有ホスフェート化合
物、赤外吸収色素として特定のフタロシアニン化合物を
含有する点に特徴を有する。これら特定の赤外吸収色素
とエチレン性不飽和二重結合化合物を組み合わせること
により赤外光に対して選択的に高い感光性を有し、白色
灯等に対するセーフライト性の付与が可能となり、ま
た、経時による感光層の密着変化がなく地汚れ等、印刷
時に特に問題となる欠点を解消することができる。以下
にこれらの成分等につき詳述する。尚、本発明におい
て、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及びメタクリ
ルを意味するものとする。
オキシアルキル基含有アミン化合物とは、(メタ)アク
リロイルオキシアルキル部分構造を有するアミン化合物
をいい、この中、アルキルアミン構造を基本骨格とし、
(メタ)アクリロイルオキシアルキル部分構造を有する
ものが好ましく、その具体例としては、例えば、特開昭
49−36614号公報、特開昭50−129214号
公報、特開昭61−151197号公報、特開平6−6
5218号公報、特開平6−35189号公報、特許第
2700168号公報、西独特許第3710281号明
細書等に記載のものを挙げることができる。これらの
中、特に下記一般式(I) で表されるものが好ましい。
し、Qは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有し
てもよいアルキル基又は置換基を有してもよいカルバモ
イル基を示し、該アルキル基は互いに直接又は窒素原子
を介して連結してもよく、iは1〜12の整数であり、
jは0〜5の整数であり、kは2〜12の整数であり、
mは0又は1であり、nは0又は1であり、oは1〜5
の整数であり、且つpは1〜3の整数である。但し、p
=1のとき、残る二つのQの少なくとも一つは、(メ
タ)アクリロイルオキシアルキル基を有するアルキル基
又は(メタ)アクリロイルオキシアルキル基を有するカ
ルバモイル基であり、また、p=2のときは、残る一つ
のQは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基
若しくは置換基を有してもよいカルバモイル基を示す)
いアルキル基である場合、その炭素数は、通常、1〜1
5、好ましくは1〜5であり、その具体例としては、メ
チル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、アセトキシエ
チル基、N−(メタ)アクリロイルオキシエチル−カル
バモイル−オキシメチル基、N−(メタ)アクリロイル
オキシエチル−カルバモイル−オキシエチル基、N−
(メタ)アクリロイルオキシエチル−カルバモイル−オ
キシプロピル基等が挙げられる。
を介して連結する場合、環としては、ピペリジル環又は
ピペラジル環を形成するのが好ましい。また、Qが置換
基を有してもよいカルバモイル基である場合、その具体
例としては、例えばN−(メタ)アクリロイルオキシエ
チル−カルバモイル基等が挙げられる。なお、iは好ま
しくは1〜3、jは好ましくは0又は1、oは好ましく
は1〜3、kは好ましくは2〜6である。そして、式
(I) の化合物の具体例としては、例えば下記のA−1〜
A−14の化合物を例示することができる。なお、各具
体例におけるR0 は水素原子又はメチル基を示す。
オキシアルキル基含有ホスフェート化合物とは、(メ
タ)アクリロイルオキシアルキル部分構造を有するホス
フェート化合物をいい、特に、下記一般式(II)で表され
るものが好ましい。
し、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、水素原子又は
アルキル基を示し、dは1〜25の整数であり、且つe
は1又は2である)
ル基である場合、その炭素数は、通常、1〜15、好ま
しくは1〜5であるが、水素原子であるのが好ましく、
dは1〜10の範囲が好ましく、これらの化合物の具体
例としては、メタアクリロイルオキシエチルホスフェー
ト、ビス(メタアクリロイルオキシエチル)ホスフェー
ト等が挙げられる。
エチレン性不飽和二重結合化合物以外に、例えば、下記
に挙げるモノマーを併用することもできる。他種のモノ
マーを併用することでタック性等の特性を改善すること
ができ、併用することは望ましい。併用可能なモノマー
を具体例として示すならば、例えば、不飽和カルボン酸
(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と脂肪族、
芳香族、脂環式、ヘテロ環等の多価アルコール化合物と
のエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族、芳香族等の多
価アミン化合物とのアミド、不飽和アルコールと脂肪
族、芳香族、脂環式等のイソシアネート化合物とのウレ
タン、不飽和カルボン酸と脂肪族、芳香族、脂環式、ヘ
テロ環等のエポキシ化合物とのエステル等を挙げること
ができる。
とのエステルの具体例としては、アクリル酸エステルと
して、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(ア
クリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロール
エタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレ
ート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソ
シアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等
を挙げることができる。
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕
ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリロイルオキシエ
トキシ)フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることがで
きる。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、テ
トラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリス
リトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネ
ート等を挙げることができる。
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラクロトネート等がある。イソクロト
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロ
トネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、
ソルビトールテトライソクロトネート等を挙げることが
できる。
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。更に、前述のエステルモノマー
の混合物も挙げることができる。
アミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,
6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘ
キサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリ
アミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリル
アミド、キシリレンビスメタクリルアミド等を挙げるこ
とができる。
ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネー
ト、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン−1,5
−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳
香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,
4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイ
マー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス
(シクロヘキシルイソシアネート)、ω,ω’−ジイソ
シアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環式ジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、α,α,
α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート
等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエ
ステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカン
トリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−
イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメ
チレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソ
シアネート、トリス(イソシアネートフェニルメタ
ン)、トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェ
ート等のトリイソシアネートにヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−アクリロイルオキシプロピル
(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキ
サイド付加ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールジ(メタ)アクリレートモノステアレート等のよう
な水酸基を有するアクリル化合物を反応させた化合物を
挙げることができる。
テルとしては、グリシジル基或いは脂環式エポキシ基等
のエポキシ環を有するエポキシ化合物にα、β−不飽和
カルボン酸を付加反応させた化合物が挙げられる。エポ
キシ化合物としては、エポキシ環を結合させている基体
骨格としては脂肪族、芳香族、ヘテロ環、或いはこれら
が種々入り交じった構造の種々のエポキシ化合物であ
り、芳香族エポキシ化合物としては、例えばフェノール
ノボラックエポキシ化合物、(o,m,p)−クレゾー
ルノボラックエポキシ化合物、ビスフェノール−Aエポ
キシ化合物、ビスフェノール−Fエポキシ化合物、或い
はブロム化フェノールノボラックエポキシ化合物のよう
にハロゲン化されたエポキシ化合物等が挙げられる。こ
れらの化合物は低分子化合物であっても、樹脂となるよ
うなオリゴマー、高分子であってもよい。
ルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグ
リシジルエーテル、(ポリ)グリセロールポリグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、(ポリ)
エチレングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)プ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)テ
トラメチレングリコールジグリシジルエーテル、(ポ
リ)ペンタメチレングリコールジグリシジルエーテル等
が挙げられる。ヘテロ環構造を有するエポキシ化合物と
しては、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシ
ジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
等を挙げることができる。脂環式エポキシ化合物として
は、ダイセル化学社製のセロキサイド2021、208
0、3000、2000、エポリードGT300、GT
400等を挙げることができる。更に、無水マレイン
酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物等で更に変
性させた変性エポキシアクリレートも好ましく用いるこ
とができる。
化合物は650nmから1300nm、より好ましくは
750nmから1200nmの範囲に吸収極大を有する
化合物であり、下記式(III) 又は(IV)で表されるフタロ
シアニン基本骨格を有する化合物である。光吸収特性並
びに溶解性向上のため、下記基本骨格の芳香環へ置換基
導入が行われたフタロシアニン化合物である。
る金属元素を表し、芳香環は置換基を有してもよく、該
置換基が互いに連結して縮合環を形成してもよく、さら
に該縮合環は置換基を有してもよい。〕
a)、アリカリ土類金属(IIa) 、IIIb族、IVb 族、Vb族、
VIb 族、VIIb族、VIIIb 族、Ib族、IIb 族、IIIa族、IV
a 族、Va族、ランタニド、アクチニドの種々の金属が挙
げられる。芳香環及び縮合環の置換基としてはアルキル
基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、ビニル基、カルボキシル基、ア
クリロイル基、チオエーテル基等が挙げられ、複数の置
換基は同一でも異なっていてもよい。
昭64−60660号公報、特開平1−100171号
公報、特開平3−31247号公報、特開平4−152
63号公報、特開平4−15264号公報、特開平4−
15265号公報、特開平4−15266号公報に記載
のフタロシアニン化合物、特開平2−138382号公
報に記載のアルキルフタロシアニン化合物、特開平3−
77840号公報、特開平3−100066号公報に記
載のアシロキシフタロシアニン化合物、特開平4−34
8168号公報に記載のアルコキシフタロシアニン化合
物、特開昭60−23451号公報、特開昭61−21
5662号公報、特開昭61−215663号公報、特
開昭63−270765号公報、特開平1−28717
5号公報、特開平2−43269号公報、特開平2−2
96885号公報、特開平3−43461号公報、特開
平3−265664号公報、特開平3−265665号
公報に記載のナフタロシアニン化合物、特開平1−10
8264号公報、特開平1−108265号公報に記載
のジナフタロシアニン化合物、特開平10−18299
5号公報、特開平10−120927号公報、特開平9
−202860号公報、特開平8−325468号公
報、特開平8−225751号公報、特開平8−120
186号公報に記載の含ハロゲンフタロシアニン化合物
等から選択することができる。
が亜鉛等のIIb 族、錫等のIVb 族、アルミニウム、ガリ
ウム等のIIIb族、銅等のIb族、バナジウム等のVa族の錯
塩が好ましく、中でも、IIb 族、IVb 族の錯塩、特に亜
鉛、又は錫の錯塩が好ましい。又、フタロシアニン化合
物の溶解性の点から、少なくとも一つの芳香環が置換基
を有する化合物が好ましく、その置換基として、炭素数
1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭
素数2〜8のアルコキシアルキル基、又はハロゲン原子
のいずれかを有するか、或いは、置換基が互いに連結し
てナフタロシアニン構造を形成し、かつ、炭素数1〜6
のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2
〜8のアルコキシアルキル基、又はハロゲン原子のいず
れかの置換基を有する化合物が好ましい。
び吸収極大(λmax )におけるモル吸光係数(ε)と共
に例示するならば、例えば、下記のR−1〜R−21の
化合物を挙げることができる。なお、以下の例示におい
て、Meはメチル基を、Etはエチル基を、Buはブチ
ル基を、Phはフェニル基をそれぞれ示す。
塗布溶剤として用いる有機溶剤に溶解させて分光光度計
にて測定したものである。このような有機溶剤としては
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラク
ロロエチレン等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、メ
タノール、エタノール、プロパノール等のアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類が挙げられる。
いものはレーザー照射波長に対して±50nmの範囲に
吸収極大を有するものである。また、モル吸光係数
(ε)は10000以上、好ましくは20000以上、
より好ましくは30000以上である。吸収極大(λ
max )、吸光係数(ε)が上記範囲からずれた場合には
充分な感度を得られなくなる傾向がある。
不飽和二重結合化合物を重合させることのできるラジカ
ル種を生成できる化合物であれば特に制限を受けない。
このような化合物としては例えば、 (a)炭素ハロゲン結合を有する化合物 (b)カルボニル化合物 (c)有機過酸化物化合物 (d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物 (e)ボレート化合物 (f)メタロセン化合物 等を挙げることができる。
好ましいものは、ハロメチル基を有するトリアジンであ
る。例えば、若林等,Bull.Chem.Soc.Japan,42,29
24(1969)記載の化合物、例えば、2−フェニル
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’,4’
−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−n−ノ
ニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が挙げ
られる。その他、英国特許第1388492号明細書記
載の化合物、例えば、2−スチリル−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メチル
スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p
−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロロメ
チル−s−トリアジン等、特開昭53−133428号
公報記載の化合物、例えば、2−(4−メトキシ−ナフ
ト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)ナフト−1−
イル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(4,7−ジメトキシナフト−1−イル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン等、また、F.C.Scha
efer等,J.Org.Chem.,29,1527(1964)記載
の化合物、例えば、2−メチル−4,6−ビス(トリブ
ロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス
(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,5−
トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2−アミ
ノ−4−メチル−6−トリブロモメチル−s−トリアジ
ン、2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロロメチル
−s−トリアジン等を挙げることができる。
ン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−
メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2
−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、
2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導
体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−2
−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メ
チルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1
−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、
2−メチル−(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−
モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロ
メチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェ
ノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサント
ン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオ
キサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4
−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチ
オキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エ
チル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができ
る。
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチル
パーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘ
キサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタ
ン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロ
パーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイ
ド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパ
ーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハ
イドロパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイ
ド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド、ビス(tert−ブチルパーオキシイソプロピ
ル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−
ブチルパーオキシ)ヘキサン、過酸化こはく酸、過酸化
ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、m−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパー
オキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオ
キシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキ
シジカーボネート、ビス(3−メチル−3−メトキシブ
チル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオ
キシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、
tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチ
ルパーオキシオクトエート、tert−ブチルパーオキシ−
3,5,5−トリメチルヘキサノエート、tert−ブチル
パーオキシラウレート、3,3’,4,4’−テトラ
(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3’,4,4’−テトラ(アミノパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ
(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3’,4,4’−テトラ(t−オクチルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’
−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3’,4,4’−テトラ(p−イソプロピルク
ミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニ
ルビス(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、
カルボニルビス(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタ
レート)等を挙げることができる。
ては、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−
メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−フルオロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙
げられる。
8686号公報、特開平9−188685号公報、特開
平9−188710号公報、特開平9−106242号
公報、特開平8−217813号公報に記載の有機ホウ
素アンモニウム錯体、特開平6−157623号公報、
特開平6−175564号公報、特開平6−17556
1号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有
機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−1755
54号公報、特開平6−175553号公報に記載の有
機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号
公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−
348011号公報、特開平7−128785号公報、
特開平7−140589号公報、特開平7−30652
7号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ
素遷移金属配位錯体等を具体例として挙げることがで
き、具体的な構造としては例えば下記のものを挙げるこ
とができる。好ましい有機ホウ素錯体は下記式(V) に示
される基本構造を有する化合物である。
れぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換
基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいア
ラルキル基、置換基を有してもよいアルカリール基、置
換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよ
いアルキニル基、置換基を有してもよい脂環式基、又は
置換基を有してもよい複素環基を表し、これらは互いに
連結して環状構造を形成していてもよく、X+ は対カチ
オン基を表す)
キル基、及び脂環式基としては、炭素数が1〜10のも
のが、アルケニル基、及びアルキニル基としては、炭素
数が1〜15のものが、又、アリール基、アラルキル
基、及びアルカリール基としては、炭素数が6〜20の
ものが、それぞれ好ましく、アリール基としてはフェニ
ル基が特に好ましい。又、それらの置換基としてはアル
キル基、アルコキシ基、カルボキシ基、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、又はハ
ロゲン原子等が挙げられ、ハロゲン原子が特に好まし
い。
R4 、R5 及びR6 の内3個が置換基を有してもよいア
リール基、1個が置換基を有してもよいアルキル基であ
るトリアリールアルキルホウ素錯体が好ましい。また、
ホウ素と結合したアリール基同士が下記のように化学結
合を有したものも好ましい。なお、ここで、Rはアルキ
ル基である。
アニオンの具体例としては、例えば、n−ブチル−トリ
フェニルホウ素アニオン、n−ブチル−トリス(p−メ
チルフェニル)ホウ素アニオン、n−ブチル−トリス
(2,4,6−トリメチルフェニル)ホウ素アニオン、
n−ブチル−トリス(p−メトキシフェニル)ホウ素ア
ニオン、n−ブチル−トリス(m−クロロフェニル)ホ
ウ素アニオン、n−ブチル−トリス(p−クロロフェニ
ル)ホウ素アニオン、n−ブチル−トリス(m−フルオ
ロフェニル)ホウ素アニオン、n−ブチル−トリス(p
−フルオロフェニル)ホウ素アニオン、n−ブチル−ト
リス(2,6−ジフルオロフェニル)ホウ素アニオン、
n−ブチル−トリス(2,4,6−トリフルオロフェニ
ル)ホウ素アニオン、n−ブチル−トリス(2,3,
4,5,6−ペンタフルオロフェニル)ホウ素アニオ
ン、n−ブチル−トリス(m−トリフルオロメチルフェ
ニル)ホウ素アニオン、n−ブチル−トリス(3,5−
ジ−トリフルオロメチルフェニル)ホウ素アニオン、n
−ブチル−トリス(2,6−ジフルオロ−3−ピロリル
フェニル)ホウ素アニオン、n−ヘキシル−トリス(m
−フルオロフェニル)ホウ素アニオン等が挙げられる。
044号公報、特開昭62−150242号公報に記載
のカチオン染料のような可視光領域に吸収のあるものは
安定性の観点で劣るため、できるだけ可視光領域に吸収
の無いものが好ましい。例えば、アンモニウム、ホスホ
ニウム、アルソニウム、スチボニウム、オキソニウム、
スルホニウム、セレノニウム、スタンノニウム、ヨード
ニウム等のオニウムカチオン基、遷移金属配位カチオン
錯体等を挙げることができる。中でも、アンモニウムカ
チオンが好ましく、テトラアルキル(炭素数1〜10)
アンモニウムカチオンが特に好ましい。
下の化合物を挙げることができる。なお、以下の例示に
おいて、Meはメチル基を、Etはエチル基を、Buは
ブチル基をそれぞれ示す。
152396号公報、特開昭61−151197号公
報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249
号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−835
88号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えばジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス(2,6−ジフルオロ
フェニ−1−イル)、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス(2,4−ジフルオロフェニ−1−イル)、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス(2,4,6−トリ
フルオロフェニ−1−イル)、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェ
ニ−1−イル)、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−
イル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビ
ス(2,6−ジフルオロフェニ−1−イル)、ジ(メチ
ルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス(2,4,6−
トリフルオロフェニ−1−イル)、ジ(メチルシクロペ
ンタジエニル)−Ti−ビス(2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニ−1−イル)、ジ(メチルシクロペンタ
ジエニル)−Ti−ビス(2,3,4,5,6−ペンタ
フルオロフェニ−1−イル)等を挙げることができる。
また、特開平1−304453号公報、特開平1−15
2109号公報記載の鉄−アレーン錯体も好適である。
以上掲げた光重合開始剤の中で特に好ましいものは炭素
ハロゲン結合を有する化合物並びにボレート化合物であ
る。特にボレート化合物が好ましい。
脂としてアルカリ可溶性樹脂を含有させることがアルカ
リ現像性、塗膜特性の点で好ましい。アルカリ可溶性樹
脂は水には不溶であり、希アルカリ水溶液には可溶な樹
脂であり、このような性質を有するものとしてフェノー
ル性水酸基、アルボキシル基を有する樹脂を挙げること
ができる。フェノール性水酸基を有する樹脂としてはフ
ェノール誘導体を酸性或いはアルカリ性の条件下、ホル
ムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、アセトン等で縮重合させたフェノール樹脂、ノボラ
ック樹脂、レゾール樹脂或いはフェノール性水酸基とエ
チレン性不飽和基を併せ持つモノマーをラジカル又はイ
オン重合させたポリビニルフェノール樹脂を挙げること
ができる。
(o,m,p−)クレゾール、キシレノール、レゾー
ル、ピロガロール、ビスフェノール等種々のものを用い
ることができる。一方、カルボキシル基を有する樹脂と
しては不飽和カルボン酸を単独或いは他の共重合モノマ
ーとラジカル或いはイオン重合させた樹脂、不飽和基を
有する酸無水物を重合させ、酸無水物の部分をハーフエ
ステル化させた樹脂、エポキシアクリレート等のOH基
部分に酸無水物を付加させることによりカルボキシル基
を付与した樹脂等を挙げることができる。
カルボキシル基を有する樹脂が好ましく、中でも不飽和
カルボン酸を重合させた樹脂が合成の容易さ、コスト等
の観点から好ましい。不飽和カルボン酸としては(メ
タ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン
酸、フマル酸等を挙げることができるが、中でも(メ
タ)アクリル酸を含有するアクリル樹脂が好ましいもの
である。単独重合させた樹脂を用いることも可能である
が、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルフェノー
ル、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アク
リル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸プロピルエ
ステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)
アクリル酸ペンチルエステル、(メタ)アクリル酸ヘキ
シルエステル、(メタ)アクリル酸ドデシルエステル、
(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、(メタ)アクリ
ル酸2−エチルヘキシルエステル、(メタ)アクリル酸
ヒドロキシメチルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロ
キシエチルエステル、アクリロニトリル、酢酸ビニル、
アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、(メ
タ)アクリル酸グリシジルエステル等のモノマーを共重
合させたアクリル共重合樹脂がより好適である。
昭60−208748号公報記載のメタクリル酸メチル
/メタクリル酸共重合体、特開昭60−214354号
公報記載のメタクリル酸メチル/アクリル酸メチル/メ
タクリル酸共重合体、特開平5−36581号公報記載
のベンジルメタクリレート/メタクリル酸メチル/メタ
クリル酸/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体、特
開平5−333542号公報記載のメタクリル酸メチル
/メタクリル酸n−ブチル/アクリル酸2−エチルヘキ
シル/メタクリル酸共重合体、特開平7−261407
号公報記載のスチレン/メタクリル酸メチル/アクリル
酸メチル/メタクリル酸共重合体、特開平10−110
008号公報記載のメタクリル酸メチル/アクリル酸n
−ブチル/アクリル酸2−エチルヘキシル/メタクリル
酸共重合体、特開平10−198031号公報記載のメ
タクリル酸メチル/アクリル酸n−ブチル/アクリル酸
2−エチルヘキシル/スチレン/メタクリル酸共重合体
等を挙げることができる。
ては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量で1
000〜400000の範囲である。また、樹脂中に含
有されるフェノール性水酸基、カルボキシル基等の酸性
基の好ましい含有量は苛性カリによる中和滴定で求めら
れる酸価で20〜500mg・KOH/gの範囲であ
る。この範囲から外れた場合には、現像性や塗布特性の
点で問題を生じる場合がある。
合は、エチレン性不飽和二重結合化合物100重量部に
対して、赤外吸収色素が0.01〜30重量部、より好
ましくは0.05〜25重量部、重合開始剤が0.01
〜30重量部、より好ましくは0.05〜25重量部の
範囲である。また、赤外吸収色素と重合開始剤の配合比
率は赤外吸収色素1重量部に対して重合開始剤0.1〜
10重量部の範囲にするとよい。
有アミン化合物又は/及び(メタ)アクリロイルオキシ
アルキル基含有ホスフェート化合物はエチレン性不飽和
化合物中1〜100重量%、好ましくは2〜90重量
%、更に好ましくは3〜80重量%の範囲にするとよ
い。更に、アルカリ可溶性樹脂を含有させる場合には5
0〜600重量部、より好ましくは50〜500重量部
の範囲にするとよい。
る。感光性印刷版は前述した感光性組成物を有機溶剤に
溶解させた感光液をアルミニウム支持体上に塗布、乾燥
させればよい。塗布方法としては特に制限されないが、
例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗
布、静電エアースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗
布及びカーテン塗布等公知の塗布方法を用いることがで
きる。
メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロ
パノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、ヘキサ
ノール等の脂肪族アルコール類、アリルアルコール、ベ
ンジルアルコール、アニソール、フェネトール、n−ヘ
キサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナ
ン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンアルコール、3
−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタ
ノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ
−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−3−エ
チル−1−ペンタノール、4−エトキシ−1−ペンタノ
ール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケト
ン、メチルヘキシルケトン、エチルブチルケトン、ジブ
チルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メ
チルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、3−ヒド
ロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ブタノ
ン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−ヒドロキシ
−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、
6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メチル−3−ヒ
ドロキシ−2−ペンタノン等のケトン類、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類及びそのアセテート(M
C、EC、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコー
ルジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエー
テル、MCアセテート、ECアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類及びそのアセテート
(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエチ
ルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテル
類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、トリ
エチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチルエ
ーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエ
チルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレン
グリコールアルキルエーテル類及びそのアセテート(モ
ノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロピル
エーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、モノメチルエーテルアセテート、モノ
エチルエーテルアセテート等)、ジプロピレングリコー
ルアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、モノエチ
ルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチルエーテ
ル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、ギ酸エチ
ル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオ
ン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エ
チル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メチル、安
息香酸エチル、炭酸プロピレン等を挙げることができ
る。これらの溶媒は、単独或いは二種以上を混合して使
用できる。
ルミニウム及びアルミニウム合金が好適に使用できる。
アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例え
ば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、
鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の
金属とアルミニウムの合金が用いられる。
処理、陽極酸化処理等の前処理を施すことが好ましい。
脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用
いる脱脂処理、ケロシンとトリエタノール等のエマルジ
ョンを用いたエマルジョン脱脂処理、苛性ソーダ等のア
ルカリの水溶液による脱脂処理等を挙げることができ
る。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用い
た場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化
皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等
のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマ
ットが生成するので、この場合には燐酸、硝酸、硫酸、
クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬してデスマ
ット処理を施すことが好ましい。
粗面化する、いわゆる機械的粗面化法と、電気化学的に
表面を粗面化する、いわゆる電気化学的粗面化法と、ア
ルカリ又は酸或いはそれらの混合物からなるエッチング
剤で表面を粗面化する、いわゆる化学的粗面化法があ
る。また、これらを組み合わせた方法も利用することが
できる。
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホーニング
研磨等の方法がある。この中でも、ブラシ研磨、ホーニ
ング研磨が好ましい。電気化学的粗面化法には、例え
ば、塩酸又は硝酸等を含む電解液中で交流或いは直流に
よって支持体を電解処理する方法である。この内いずれ
か一つ、若しくは二つ以上の方法を併用することによ
り、支持体を粗面化することができる。電気化学的粗面
化法については、例えば、特公昭48−28123号公
報、英国特許第896563号明細書、特開昭53−6
7507号公報に記載されている方法を用いることがで
きる。電気化学的粗面化において印加される電圧は、1
〜50Vが好ましく、5〜30Vが更に好ましい。電流
密度は、10〜200A/dm2 が好ましく、20〜1
50A/dm2 が更に好ましい。電気量は、100〜2
000C/dm2 、好ましくは200〜1500C/d
m2 、より好ましくは200〜1000C/dm2 であ
る。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜45℃が
更に好ましい。塩酸又は硝酸濃度は0.1〜5重量%が
好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、
アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、蓚酸等を加えることができる。
は、各処理の間に酸又はアルカリの水溶液に浸漬して表
面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例え
ば、硫酸、過硫酸、弗素、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。これらの酸又はアルカリの
0.05〜40重量%水溶液を用い、40〜100℃の
液温において5〜300秒処理する。上記をアルカリの
水溶液で浸漬処理を行った場合、支持体の表面にはスマ
ットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫
酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬し、デ
スマット処理を施すことが好ましい。
ム支持体の表面粗さをJIS B0601−1982で
規定された中心線平均粗さRa値で0.1〜1.2μm
に制御する。表面粗さが上記範囲から外れると赤外線感
光性層と支持体との密着、現像ムラ、耐刷性、解像性、
安定性に問題を生じることがある。
次いで陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理に用いら
れる電解液としては、多孔質酸化皮膜を形成するものな
らば、いかなるものでも使用でき、一般に硫酸、燐酸、
蓚酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸
等或いはこれらの二種類以上を組み合わせた混酸が用い
られる。陽極酸化の処理条件は、使用する電解液により
種々変化するので一概に特定し得ないが、一般的には、
電解液の濃度が1〜80重量%、温度5〜70℃、電流
密度1〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲が適当である。好ましいのは硫酸法
で、通常、直流電流で処理が行われるが、交流を用いる
こともできる。硫酸の濃度は10〜50重量%、温度2
0〜50℃、電流密度1〜20A/dm2 で20〜25
0秒間電解処理されるのが好ましい。電解液中にはアル
ミニウムイオンが含まれているほうが好ましい。
後、封孔処理を施してもよい。封孔処理としては、熱水
処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重ク
ロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモン処理
等が挙げられる。また、場合により更にアルミニウム支
持体は、陽極酸化処理後(封孔処理を施した場合は更に
その後)、親水化処理を施すこともできる。親水化処理
としては、米国特許第3,181,461号明細書に記
載のアルカリ金属珪酸塩、米国特許第1,860,42
6号明細書に記載の親水性セルロース、特開昭60−1
49491号公報、同63−165183号公報に記載
のアミノ酸及びその塩、特開昭60−232998号公
報に記載の水酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭
62−19494号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−
101651号公報に記載のスルホ基を有するモノマー
単位を含む高分子化合物等による処理が挙げられる。
光性層への擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液
中へのアルミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭5
0−151136号公報、同57−63293号公報、
同60−73538号公報、同61−67863号公
報、特開平6−35174号公報等に記載されている、
支持体裏面に保護層を設ける処理を行うことができる。
支持体の裏面には、意匠を具現化するための任意の模
様、図形、文字等及びバーコード等を、インクジェット
方式や印刷方式等により形成してもよい。
0.3〜10μmの範囲が好ましい。より好ましくは
0.5〜8μmの範囲である。感光性層の厚みが上記範
囲から外れた場合には、塗膜の均一性、現像性、コスト
等の点で問題が生じる場合が多い。
設けることができる。保護膜は感光性層の保護ばかりで
なく感度の向上や感光性層の安定化にも寄与するため、
このような保護膜を設けることは好ましい。保護膜とし
てはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、
ポリビニルブチラール等のフィルム或いはシートを感光
性層上にラミネートすることやポリビニルアルコール、
部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ゼ
ラチン、セルロース等の水溶性樹脂を塗布することで設
けることができる。これらの保護膜の中では現像時に剥
離する必要のない水溶性樹脂が好ましいものである。保
護膜の厚さは0.3〜100μmのものを好ましく用い
ることができる。
源としては赤外光を発するものであれば特に制限を受け
ない。好ましいものとしては、半導体レーザーやYAG
レーザー等のレーザーが挙げられる。レーザー光として
特に好ましいものは、赤外光の波長が780〜1200
nmの範囲のものである。
走査露光を行った後、アルカリを含有する水溶液を用い
て現像すれば、支持体上に画像を形成することができ
る。この現像液には、更に、界面活性剤、有機溶剤、緩
衝剤、染料又は顔料を含有することができる。適当なア
ルカリ剤としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、ケイ酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、メタ
ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナト
リウム等の無機アルカリ剤及びトリメチルアミン、ジエ
チルアミン、モノイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン等の有機アミン化合物が挙げられ、こ
れらは単独若しくは組み合わせて、0.1〜10重量%
程度の水溶液として使用できる。現像液に界面活性剤を
添加するのは好ましく、例えば、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、
ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキ
ルエステル類等のノニオン界面活性剤、アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スル
ホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤、アル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両面界面活性剤が使用
可能である。また、有機溶剤としては、例えば、イソプ
ロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピ
レングリコール、ジアセトングリコール等を必要により
含有させることができる。
具体的に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限
り、これらの実施例により限定されるものではない。 実施例−1アルカリ可溶性樹脂の合成 酸価200、重量平均分子量5000のスチレン・アク
リル酸共重合樹脂20g、p−メトキシフェノール0.
2g、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド0.2
g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト(PGMEA)40gをフラスコに仕込み、(3,4
−エポキシシクロヘキシル)メチルアクリレート7.6
gを滴下し100℃の温度で30時間反応させた。反応
液を水に再沈澱、乾燥させて樹脂を得た。水酸化カリウ
ムによる中和滴定を行ったところ樹脂酸価は80mg・
KOH/gであった。また、GPCにより分子量測定を
行った結果、重量平均分子量Mwは8000、数平均分
子量Mnは3000、分子量分布Mw/Mnは2.7で
あった。
3%水酸化ナトリウムにて脱脂し、これを11.5g/
l塩酸浴中で25℃、80A/dm2 の電流密度で11
秒電解エッチングし、水洗後30%硫酸浴中で30℃、
11.5A/dm2 の条件で15秒間陽極酸化した。得
られた支持体の中心線平均粗さRaを表面粗さ計(サー
フコーダー SE−30H 小坂研究所製)にて測定し
たところ0.6μmであった。この支持体上に、下記の
感光性組成物塗布液をバーコーターを用いて乾燥膜厚2
μmとなるように塗布、乾燥した。更にこの上に、ポリ
ビニルアルコール水溶液をバーコーターを用いて乾燥膜
厚3μmとなるように塗布、乾燥し感光性平版印刷版を
作製した。
の回転ドラムに取り付け、感光性層が外側になるよう固
定した後、波長830nm、出力40mWの半導体レー
ザー(日立製作所製「HL8325C」)で感光性層表
面を30μのビームスポット径にてドラムを回転させな
がら露光した。回転速度は5rpmに設定した。現像は
珪酸カリ3重量%、ペレックスNBL5重量%(花王社
製界面活性剤)を含有するアルカリ現像液で25℃で1
分間ディップして行った。得られた画像を倍率100倍
のルーペにて観察したところ、線幅30μのエッジのシ
ャープな画像が得られた。一方、非画像部の地汚れは反
射吸光度を、フィルターなしの反射濃度計(マクベス社
製「RD−514」)を用いて測定し、この値から、感
光性組成物塗布前の支持体表面の反射吸光度の値を差し
引いた値より、以下の基準で支持体上に残存する地汚れ
量を評価した。
を示した。
置した後に前記と同様の条件で露光、現像したところ、
白色灯によるカブリは全く見られず、30μのシャープ
なエッジを有する画像を得ることができ、セーフライト
性が良好であることが判った。また、非画像部の地汚れ
も皆無であった。
の条件で露光、現像したところ線幅30μのエッジのシ
ャープな画像が得られ、また、地汚れも皆無であった。
ン化合物をR−11に変えた以外は実施例−1と同様に
して画像特性、セーフライト性、安定性を評価した。画
像特性は30μのシャープなエッジを有する画像が得ら
れ、非画像部の地汚れもAランクであり良好であった。
更にセーフライト性、安定性についても良好であった。
飽和二重結合化合物をヘキサメチレンビス〔トリス(ア
クリロイルオキシメチル)エチルウレタン〕;80重量
部、メタクリロイルオキシエチルホスフェートとビス
(メタクリロイルオキシエチル)ホスフェートとの1:
1混合物;20重量部に変えた以外は実施例−1と同様
にして画像特性、セーフライト性、安定性を評価した。
画像特性は30μのシャープなエッジを有する画像が得
られ、非画像部の地汚れもAランクであり良好であっ
た。更にセーフライト性、安定性についても良好であっ
た。
ン化合物をR−11に変えた以外は実施例−1と同様に
して画像特性、セーフライト性、安定性を評価した。画
像特性は30μのシャープなエッジを有する画像が得ら
れ、非画像部の地汚れもAランクであり良好であった。
更にセーフライト性、安定性についても良好であった。
(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
エチル)−s−トリアジンに変えた以外は実施例−1と
同様にして画像特性、セーフライト性、安定性を評価し
た。画像特性は30μのシャープなエッジを有する画像
が得られ、非画像部の地汚れもAランクであり良好であ
った。更にセーフライト性、安定性についても良好であ
った。
ン化合物をシアニン色素(日本化薬社製「CY−1
7」)に変えた以外は実施例−1と同じ条件にて感光性
印刷版を作製し、実施例−1と同じ評価を行ったところ
画像部が現像液に流されてしまい画像は得られなかっ
た。
ン化合物をシアニン色素(日本化薬社製「CY−1
0」)に変えた以外は実施例−1と同じ条件にて感光性
印刷版を作製し、実施例−1と同じ評価を行ったところ
画像部が現像液に流されてしまい画像は得られなかっ
た。
飽和二重結合化合物をエチレングリコールジアクリレー
ト(新中村化学社製「9G」)に変えた以外は実施例−
1と同じ条件にて感光性印刷版を作製し、実施例−1と
同じ評価を行ったところ30μのシャープなエッジを有
する画像が形成された。非画像部の地汚れはCランクで
あり不良であった。また、セーフライトテスト、安定性
テストにおいて地汚れがDランクへと更に悪化した。
い感光性を有するため半導体レーザー、YAGレーザー
等の赤外レーザーにて直接描画可能である。得られる画
像の解像性は高く、現像性にも優れ地汚れ等を生じない
ため印刷版へ応用した場合には高品質の印刷物が得られ
る。露光作業は白色灯等の明室下で行えるため作業性に
も優れる。
Claims (6)
- 【請求項1】 エチレン性不飽和二重結合化合物、赤外
吸収色素及び重合開始剤を含有してなる感光性組成物に
おいて、赤外吸収色素がフタロシアニン化合物であり、
且つエチレン性不飽和二重結合化合物が少なくとも(メ
タ)アクリロイルオキシアルキル基含有アミン化合物又
は/及び(メタ)アクリロイルオキシアルキル基含有ホ
スフェート化合物を含有することを特徴とする感光性組
成物。 - 【請求項2】 (メタ)アクリロイルオキシアルキル基
含有アミン化合物が下記一般式(I) で表される化合物で
ある請求項1に記載の感光性組成物。 【化1】 (式中、R0 は水素原子又はメチル基を示し、Qは、そ
れぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアル
キル基又は置換基を有してもよいカルバモイル基を示
し、該アルキル基は互いに直接又は窒素原子を介して連
結してもよく、iは1〜12の整数であり、jは0〜5
の整数であり、kは2〜12の整数であり、mは0又は
1であり、nは0又は1であり、oは1〜5の整数であ
り、且つpは1〜3の整数である。但し、p=1のと
き、残る二つのQの少なくとも一つは、(メタ)アクリ
ロイルオキシアルキル基を有するアルキル基又は(メ
タ)アクリロイルオキシアルキル基を有するカルバモイ
ル基であり、また、p=2のときは、残る一つのQは、
水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基若しくは
置換基を有してもよいカルバモイル基を示す) - 【請求項3】 (メタ)アクリロイルオキシアルキル基
含有ホスフェート化合物が下記一般式(II)で表される化
合物である請求項1又は2に記載の感光性組成物。 【化2】 (式中、R0 は水素原子又はメチル基を示し、R1 及び
R2 は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を
示し、dは1〜25の整数であり、且つeは1又は2で
ある) - 【請求項4】 フタロシアニン化合物が650〜130
0nmの範囲に吸収極大を有する化合物である請求項1
ないし3のいずれかに記載の感光性組成物。 - 【請求項5】 重合開始剤が有機ホウ素錯体又はハロメ
チル化トリアジン化合物である請求項1ないし4のいず
れかに記載の感光性組成物。 - 【請求項6】 陽極酸化されたアルミニウム支持体上に
請求項1ないし5のいずれかに記載の感光性組成物から
なる層を有する感光性印刷版。
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---|---|---|---|
JP36059299A JP4382225B2 (ja) | 1999-02-19 | 1999-12-20 | 感光性組成物及び感光性印刷版 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4166799 | 1999-02-19 | ||
JP11-41667 | 1999-02-19 | ||
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP36059299A Expired - Lifetime JP4382225B2 (ja) | 1999-02-19 | 1999-12-20 | 感光性組成物及び感光性印刷版 |
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---|---|
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269416A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-10-05 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム |
US9005491B2 (en) | 2011-06-29 | 2015-04-14 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same |
US9127157B2 (en) | 2010-11-05 | 2015-09-08 | Cheil Industries Inc. | Flame-retardant and scratch-resistant polycarbonate resin composition |
US9340670B2 (en) | 2010-12-14 | 2016-05-17 | Cheil Industries Inc. | Flame-retardant polycarbonate resin composition with scratch resistance |
US9587058B2 (en) | 2010-07-28 | 2017-03-07 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Transparent thermoplastic resin composition |
US9864272B2 (en) | 2012-12-07 | 2018-01-09 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for color filter, and color filter using the same |
-
1999
- 1999-12-20 JP JP36059299A patent/JP4382225B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269416A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-10-05 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム |
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US9127157B2 (en) | 2010-11-05 | 2015-09-08 | Cheil Industries Inc. | Flame-retardant and scratch-resistant polycarbonate resin composition |
US9340670B2 (en) | 2010-12-14 | 2016-05-17 | Cheil Industries Inc. | Flame-retardant polycarbonate resin composition with scratch resistance |
US9005491B2 (en) | 2011-06-29 | 2015-04-14 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same |
US9864272B2 (en) | 2012-12-07 | 2018-01-09 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for color filter, and color filter using the same |
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