JP2002287380A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 支持体表面に光重合性組成物からなる感光性
層が形成された画像形成材を３９０〜４３０ｎｍの波長
域のレーザー光により走査露光し画像を形成するにおい
て、得られる画像に十分な画像強度を与えることができ
ると共に、走査露光時の必要露光量の低減化を図ること
ができる画像形成方法を提供する。 【構成】 支持体表面に光重合性組成物からなる感光性
層が形成された光重合性画像形成材を、３９０〜４３０
ｎｍの波長域のレーザー光により走査露光し、現像処理
して画像を形成した後、画像形成面での光強度を２０ｍ
Ｗ／ｃｍ² 以上として全面後露光する画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性画像形成
材を３９０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光により露
光し画像を形成する画像形成方法に関し、特に、平版印
刷版の作製に好適に用いられる画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、光重合性画像形成材の露光に
よる画像形成方法として、エチレン性不飽和化合物を含
有する光重合性組成物からなる感光性層を支持体表面に
形成した画像形成材の該感光性層を、露光して露光部の
光重合性組成物中のエチレン性不飽和化合物を重合、硬
化させた後、非露光部を溶解除去することにより画像を
形成する方法が汎用されているが、近年、その露光方法
として、生産性の大幅な効率化が図れるアルゴンイオン
レーザー、ＦＤ−ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、Ｙ
ＡＧレーザー等のレーザー光による走査露光が注目さ
れ、中で、３９０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光を
発振する半導体レーザー（通称、バイオレットレーザー
又はブルーレーザー）が有望視されている。

【０００３】しかしながら、バイオレットレーザーは、
現時点では、出力が従来のレーザーに較べて小さいとい
う弱点があり、それに対して、このレーザー走査露光に
対応した光重合性組成物の高感度化も盛んに研究されて
いるが、このレーザー光による高速走査露光では、未だ
感度が不十分で、十分な強度を有する画像の形成は困難
であり、一方、従来のレーザーにおいて、レーザー走査
露光後の処理によって画像強度を改良せんとする研究も
なされ、例えば、レーザー走査露光後、現像処理前に加
熱処理を行う方法、現像処理後に更に全面後露光する方
法等が提案されている。

【０００４】しかしながら、この現像処理後に更に全面
後露光することによる画像強度改良の効果は、形成され
た画像に与えられる総露光量が多くなることから容易に
予測されるものの、従来は、総露光量が重視され、被露
光面での光強度（単位時間当たりの露光量）については
着目されておらず、又、一般的な全面後露光光源の光強
度や光源からの被露光面の距離等の関係からして、被露
光面での光強度は比較的低くなっていると考えられ、バ
イオレットレーザーの走査露光による画像形成において
は、これらの露光後の処理によっても、市場の要求を十
分に満足できる画像強度には達し得ないことが、本発明
者による検討で判明した。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光重合性画
像形成材を３９０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光に
より走査露光し画像を形成するにおける前述の従来技術
に鑑みてなされたもので、従って、本発明は、支持体表
面に光重合性組成物からなる感光性層が形成された画像
形成材を３９０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光によ
り走査露光し画像を形成するにおいて、得られる画像に
十分な画像強度を与えることができると共に、走査露光
時の必要露光量の低減化を図ることができる画像形成方
法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、後露光時の画像形成面で
の光強度を特定の範囲に規定することによって、前記目
的を達成し得ることを見出し本発明を完成したものであ
り、即ち、本発明は、支持体表面に光重合性組成物から
なる感光性層が形成された光重合性画像形成材を、３９
０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光により走査露光
し、現像処理して画像を形成した後、画像形成面での光
強度を２０ｍＷ／ｃｍ² 以上として全面後露光する画像
形成方法、を要旨とする。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明における光重合性画像形成
材の感光層としての光重合性組成物としては、下記の
（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有するものであるのが好まし
い。 （Ａ）エチレン性不飽和化合物 （Ｂ）３９０〜４３０ｎｍの波長域の光を吸収する増感
剤 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）高分子結合材

【０００８】本発明において好ましいとする光重合性組
成物を構成する（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物
は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けたときに、
後述する（Ｃ）成分の光重合開始剤を含む光重合開始系
の作用により付加重合し、場合により架橋、硬化するよ
うなラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に
少なくとも１個有する化合物である。

【０００９】そのエチレン性不飽和化合物としては、エ
チレン性不飽和結合を分子内に１個有する化合物、具体
的には、例えば、（メタ）アクリル酸〔尚、ここで、
「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを
意味するものとし、以降も同様とする。〕、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラ
コン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステ
ル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミ
ド、スチレン等、であってもよいが、重合性、架橋性、
及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異
を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子
内に２個以上有する化合物であるのが好ましく、又、そ
の不飽和結合が（メタ）アクリロイルオキシ基に由来す
るアクリレート化合物が好ましい。

【００１０】エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上
有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸
とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、ヒドロキシ
（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合
物とのウレタン（メタ）アクリレート類、（メタ）アク
リル酸又はヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポ
リエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート
類、及び、（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェ
ート類等が挙げられる。

【００１１】そのエステル類としては、具体的には、例
えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ノナメチレングリコー
ル、トリメチロールエタン、テトラメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、及
びそれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキ
サイド付加物、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体
的には、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサメチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ノナメチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタント
リ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタントリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリセロール
ジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）ア
クリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加ト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペン
タ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）
アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロト
ネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等
が挙げられる。

【００１２】更に、そのエステル類として、前記の如き
不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロ
ガロール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ等の芳
香族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例
えば、ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシ
ンジ（メタ）アクリレート、ピロガロールトリ（メタ）
アクリレート等、又、前記の如き不飽和カルボン酸と、
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の
複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的に
は、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アク
リレート等、又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸と
ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例え
ば、（メタ）アクリル酸とフタル酸とエチレングリコー
ルとの縮合物、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とジエ
チレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とテ
レフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、（メ
タ）アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセ
リンとの縮合物等が挙げられる。

【００１３】又、そのウレタン（メタ）アクリレート類
としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート等のヒドロキシ
（メタ）アクリレート化合物と、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネー
ト、リジンメチルエステルトリイソシアネート、ダイマ
ー酸ジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカトリイ
ソシアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシ
アネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネ
ートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサ
ンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロ
ヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネー
ト、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポ
リイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、
２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネ
ート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリス
（イソシアネートフェニルメタン）、トリス（イソシア
ネートフェニル）チオホスフェート等の芳香族ポリイソ
シアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソシ
アネート、等のポリイソシアネート化合物との反応物等
が挙げられる。

【００１４】又、そのエポキシ（メタ）アクリレート類
としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、
又は前記の如きヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物
と、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジルエーテ
ル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジルエー
テル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグリシジ
ルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポリグ
リシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコールポ
リグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレングリコ
ールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロール
プロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリセロー
ルポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトールポリ
グリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フ
ェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェ
ノールノボラックポリエポキシ化合物、（ｏ−，ｍ−，
ｐ−）クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビス
フェノールＡポリエポキシ化合物、ビスフェノールＦポ
リエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソル
ビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシ
アヌレート、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合
物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられ
る。

【００１５】又、その（メタ）アクリロイルオキシ基含
有ホスフェート類としては、具体的には、下記一般式(I
a)又は(Ib)で表されるものが好ましい。

【００１６】

【化１】

【００１７】〔式(Ia)及び(Ib)中、Ｒ¹ は水素原子又は
メチル基を示し、ｎは１〜２５の整数、ｍは１、２、又
は３である。〕

【００１８】ここで、ｎは１〜１０、特に１〜４である
のが好ましく、これらの具体例としては、例えば、（メ
タ）アクリロイルオキシエチルホスフェート、ビス
〔（メタ）アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、
（メタ）アクリロイルオキシエチレングリコールホスフ
ェート等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で用いても
混合物として用いてもよい。

【００１９】又、その他のエチレン性不飽和化合物とし
て、前記以外に、例えば、エチレンビス（メタ）アクリ
ルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、フタル酸ジア
リル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビ
ニル基含有化合物類等が挙げられる。以上のエチレン性
不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても２種以上
が併用されてもよい。

【００２０】本発明においては、感光性層としての露光
感度、耐刷性、及び現像性等の面から、（Ａ）成分のエ
チレン性不飽和化合物として前記（メタ）アクリロイル
オキシ基含有ホスフェート類を含有するのが好ましく、
（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物全体に占める該ホ
スフェート類の含有量は、１〜６０重量％であるのが好
ましく、５〜５０重量％であるのが更に好ましい。

【００２１】又、本発明において好ましいとする光重合
性組成物を構成する（Ｂ）成分の増感剤は、３９０〜４
３０ｎｍの波長域の光を効率よく吸収すると共に、その
光励起エネルギーを後述する（Ｃ）成分の光重合開始剤
に伝え、該光重合開始剤を分解し、前記（Ａ）成分のエ
チレン性不飽和化合物の重合を誘起する活性ラジカルを
発生させる増感機能を増長させる化合物である。

【００２２】本発明において、その増感剤としては、ジ
アルキルアミノベンゼン系化合物が好ましく、その中で
も、ジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、及び、
ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複
素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン
系化合物が好ましい。

【００２３】そのジアルキルアミノベンゾフェノン系化
合物としては、下記一般式(II)で表されるものが好まし
い。

【００２４】

【化２】

【００２５】〔式(II)中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、及びＲ⁵
は各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
Ｒ⁸ 、及びＲ⁹ は各々独立して、アルキル基、又は水素
原子を示し、Ｒ² とＲ³ 、Ｒ⁴ とＲ⁵ 、Ｒ² とＲ⁶ 、Ｒ
³ とＲ⁷ 、Ｒ⁴ とＲ⁸ 、及びＲ⁵とＲ⁹ とは各々独立し
て、含窒素複素環を形成していてもよい。〕

【００２６】ここで、式(II)中のＲ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、及
びＲ⁵ のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ
⁸ 、及びＲ⁹ がアルキル基であるときの炭素数は１〜６
であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場
合、５又は６員環であるのが好ましく、６員環が特に好
ましい。

【００２７】前記一般式(II)で表される化合物の具体例
としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベ
ンゾフェノン、及び、下記構造の化合物が挙げられる。

【００２８】

【化３】

【００２９】又、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−
位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキ
ルアミノベンゼン系化合物における複素環基としては、
窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む５又は６員環
のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する５員環が特
に好ましく、ジアルキルアミノベンゼン系化合物として
は下記一般式(III) で表されるものが特に好ましい。

【００３０】

【化４】

【００３１】〔式(III) 中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は各々独立し
て、アルキル基を示し、Ｒ¹²及びＲ ¹³は各々独立して、
アルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ¹⁰とＲ¹¹、Ｒ¹⁰と
Ｒ¹²、及びＲ¹¹とＲ¹³とは各々独立して、含窒素複素環
を形成していてもよい。Ｙは、酸素原子、硫黄原子、ジ
アルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ基
を示し、該Ｙを含む複素環に縮合するベンゼン環は置換
基を有していてもよい。〕

【００３２】ここで、式(III) 中のＲ¹⁰及びＲ¹¹のアル
キル基の炭素数、並びに、Ｒ¹²及びＲ¹³がアルキル基で
あるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含
窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好
ましく、６員環が特に好ましい。又、Ｙがジアルキルメ
チレン基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であ
るのが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキ
ル基の炭素数は１〜６であるのが好ましい。

【００３３】前記一般式(III) で表される化合物の具体
例としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフ
ェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミ
ノフェニル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾール、２
−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，７〕ベ
ンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフ
ェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジエチルアミ
ノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジメチル
アミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドー
ル、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−３，３−ジ
メチル−３Ｈ−インドール、及び、下記構造の化合物が
挙げられる。

【００３４】

【化５】

【００３５】又、前記一般式(III) で表される化合物以
外の、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原
子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベ
ンゼン系化合物としては、例えば、２−（ｐ−ジメチル
アミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）キノリン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）キ
ノリン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリミジ
ン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリミジン、
２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチ
ルアミノフェニル）−１，３，４−チアジアゾール等が
挙げられる。

【００３６】又、本発明において好ましいとする光重合
性組成物を構成する（Ｃ）成分の光重合開始剤は、前記
（Ｂ）成分の増感剤等との共存下で光照射されたとき
に、増感剤の光励起エネルギーを受け取って活性ラジカ
ルを発生し、前記（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物
を重合に到らしめるラジカル発生剤であって、例えば、
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、チタノセン系
化合物、ハロゲン化炭化水素誘導体、ジアリールヨード
ニウム塩、及び有機過酸化物等が挙げられる。中で、光
重合性組成物としての感度、支持体に対する密着性、及
び保存安定性等の面から、ヘキサアリールビイミダゾー
ル系化合物、及びチタノセン系化合物が好ましく、ヘキ
サアリールビイミダゾール系化合物が特に好ましい。

【００３７】そのヘキサアリールビイミダゾール系化合
物としては、具体的には、例えば、２，２’−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェ
ニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メチルフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メトキシ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−エト
キシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−
ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラ（ｐ−クロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブ
ロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−
ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，
ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラ（ｐ−ヨードフェニル）ビイミダゾール、２，２’−
ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラ（ｏ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）ビイミ
ダゾール等が挙げられる。中で、ヘキサフェニルビイミ
ダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の
２，２’−位に結合したベンゼン環のｏ−位がハロゲン
原子で置換されたものが更に好ましく、そのイミダゾー
ル環上の４，４’，５，５’−位に結合したベンゼン環
が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシカルボ
ニル基で置換されたものが特に好ましい。尚、これらの
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、例えば、Bu
ll.Chem.Soc.Japan;33,565(1960)、J.Org.Chem.;36,226
2(1971) 等に開示されている方法により合成されるビイ
ミダゾール系化合物と併用して用いられてもよい。

【００３８】又、そのチタノセン系化合物としては、具
体的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウム
ジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
フェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
（２，４−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエ
ニルチタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、
ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６−
トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタ
ニウムビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニ
ル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチ
ルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，６−ジ
フルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニ
ル）チタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフル
オロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビ
ス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニ
ル〕等が挙げられる。中で、ジシクロペンタジエニル構
造とビフェニル構造を有するチタン化合物が好ましく、
ビフェニル環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたもの
が特に好ましい。

【００３９】又、本発明において好ましいとする光重合
性組成物を構成する（Ｄ）成分の高分子結合材として
は、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸
エステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリ
ルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビ
ニリデン、マレイミド等の単独又は共重合体、並びに、
ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタ
ン、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポ
リエチレンオキサイド、アセチルセルロース等が挙げら
れるが、中で、アルカリ現像性の面から、カルボキシル
基含有重合体が好適であり、具体的には、（メタ）アク
リル酸と（メタ）アクリル酸アルキル（炭素数１〜１
０）エステルを共重合成分として含有する共重合体が好
ましく、このカルボキシル基含有重合体の酸価は１０〜
２５０、重量平均分子量は０．５〜１００万であるのが
好ましい。

【００４０】更に、高分子結合材として、側鎖にエチレ
ン性不飽和結合を有するものが好適であり、そのエチレ
ン性不飽和結合として、特に、下記一般式(IVa) 、(IV
b) 、又は(IVc) で表されるものが好ましい。

【００４１】

【化６】

【００４２】〔式(IVa) 、(IVb) 、及び(IVc) 中、Ｒ¹⁴
は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ
¹⁸、及びＲ¹⁹は各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ
基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよ
いアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキ
シ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ基、置
換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換基を有
していてもよいアルキルスルホニル基、又は置換基を有
していてもよいアリールスルホニル基を示し、Ｚは酸素
原子、硫黄原子、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示
す。〕

【００４３】ここで、Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁹におけるアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基の置換基としては、例えば、
アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アミノ基、ジ
アルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルキルチオ
基、及びハロゲン原子等が挙げられる。

【００４４】前記一般式(IVa) で表されるエチレン性不
飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、カルボキシル
基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジ
ル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メ
タ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジ
ルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、
イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマ
ル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸
モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキ
シ基含有不飽和化合物、又は、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキ
シ基含有不飽和化合物等を、８０〜１２０℃程度の温
度、１〜５０時間程度の時間で、カルボキシル基含有重
合体の有するカルボキシル基の５〜９０モル％、好まし
くは３０〜７０モル％程度を反応させることにより得ら
れる。

【００４５】又、前記一般式(IVb) で表されるエチレン
性不飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、アリル
（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メ
タ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、
メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メ
タ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化
合物と、又、前記一般式(IVc) で表されるエチレン性不
飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、ビニル（メ
タ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレ
ート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−
プロペニル（メタ）アクリレート、ビニルクロトネー
ト、ビニル（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽
和基を有する化合物と、それぞれ、（メタ）アクリル酸
等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エス
テルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占め
る割合を１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル
％程度となるように共重合させることにより得られる。

【００４６】本発明において好ましいとする光重合性組
成物を構成する、（Ａ）成分の前記エチレン性不飽和化
合物、（Ｂ）成分の前記増感剤、（Ｃ）成分の前記光重
合開始剤、及び（Ｄ）成分の前記高分子結合材の含有割
合は、（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物１００重量
部に対して、（Ｂ）成分の増感剤が、好ましくは０．０
１〜２０重量部、更に好ましくは０．０５〜１０重量
部、（Ｃ）成分の光重合開始剤が、好ましくは０．１〜
８０重量部、更に好ましくは０．５〜６０重量部、
（Ｄ）成分の高分子結合材が、好ましくは１０〜４００
重量部、更に好ましくは２０〜２００重量部の範囲であ
る。

【００４７】尚、本発明における光重合性組成物として
は、前記各成分の他に、光重合開始能力を高めるための
重合加速剤として、例えば、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メル
カプトベンズオキサゾール、３−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール等のメルカプト基含有化合物類、Ｎ，
Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸エステル、Ｎ−フェニル
グリシン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の
塩、そのエステル等の誘導体、Ｎ−フェニルアラニン、
又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、そのエス
テル等の誘導体等のＮ−アリール−α−アミノ酸又はそ
の誘導体類等の水素供与性化合物を、前記（Ａ）成分の
エチレン性不飽和化合物１００重量部に対して、好まし
くは０．１〜８０重量部、更に好ましくは０．５〜６０
重量部の範囲で含有していてもよい。

【００４８】更に、本発明における前記光重合性組成物
としては、各種添加剤、例えば、ハイドロキノン、ｐ−
メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール等の熱重合防止剤を、前記（Ａ）成分のエチレ
ン性不飽和化合物１００重量部に対して２重量部以下、
有機又は無機の染顔料からなる着色剤を同じく２０重量
部以下、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレー
ト、トリクレジルホスフェート等の可塑剤を同じく４０
重量部以下、三級アミンやチオール等の感度特性改善
剤、フッ素系等の界面活性剤等の塗布性改良剤や現像促
進剤を１０重量部以下、色素前駆体を同じく３０重量部
以下、の各割合で含有していてもよい。

【００４９】本発明において、前記光重合性組成物は、
３９０〜４３０ｎｍの波長域に分光感度の極大ピークを
有するものであるのが好ましい。尚、ここで、分光感度
の極大ピークとは、例えば、「フォトポリマー・テクノ
ロジー」（山岡亜夫著、昭和６３年日刊工業新聞社発
行、第２６２頁）等に詳述されているように、支持体表
面に光重合性組成物からなる感光層を形成した光重合性
画像形成材試料を、分光感度測定装置を用い、キセノン
ランプ又はタングステンランプ等の光源から分光した光
を、横軸方向に露光波長が直線的に、縦軸方向に露光強
度が対数的に変化するように設定して照射して露光し、
現像することにより、各露光波長の感度に応じたレジス
ト画像が分光感度曲線として得られ、その分光感度曲線
における感度の極大ピークを示す露光波長を指す。

【００５０】又、本発明の前記光重合性組成物は、波長
４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ₄₅₀
（μＪ／ｃｍ² ）〕に対する波長４１０ｎｍにおける画
像形成可能な最小露光量〔Ｓ₄₁₀ （μＪ／ｃｍ² ）〕の
比〔Ｓ₄₁₀ ／Ｓ₄₅₀ 〕が０．１以下のものであるのが好
ましい。

【００５１】本発明の画像形成方法における光重合性画
像形成材は、前記光重合性組成物を、通常、前記各成分
を適当な溶媒に溶解又は分散させた塗布液として支持体
表面に塗布した後、加熱、乾燥させることにより、支持
体表面に該光重合性組成物からなる感光性層を形成する
ことにより作製される。本発明において、その画像形成
材としては平版印刷版が好ましい。

【００５２】本発明における画像形成材の支持体として
は、金属板や合成樹脂フィルム等、画像形成材分野で用
いられる種々の支持体を用いることができるが、画像形
成材が平版印刷版である場合はアルミニウム板が好適に
用いられる。

【００５３】そのアルミニウム板支持体としては、アル
ミニウム、又は、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、
クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等とのアルミニ
ウム合金からなるものが好ましく、その板としての厚さ
は、通常、０．０５〜１ｍｍ程度である。又、アルミニ
ウム板は、通常、表面を粗面化処理した後、陽極酸化処
理したものが用いられる。

【００５４】その粗面化処理（砂目立て処理）は、ブラ
シ研磨法、ボール研磨法、ブラスト研磨法、液体ホーニ
ング研磨法、バフ研磨法等の機械的処理方法、或いは、
電解エッチング法、化学エッチング法等の常法を用い得
るが、中で、ブラシ研磨法、ボール研磨法、液体ホーニ
ング研磨法、電解エッチング法、化学エッチング法等に
よるのが好ましく、特に、塩酸又は硝酸電解液中で交流
又は直流により電解を行う電解エッチング法が好まし
く、その際、０．５〜５重量％程度の酸濃度、２０〜２
００Ａ／ｄｍ² 程度の電流密度、１０〜４０Ｖ程度の電
圧として、２０〜５０℃程度の温度で処理するのが好ま
しい。又、粗面化処理した後、必要に応じて、酸又はア
ルカリ水溶液にてデスマット処理する。

【００５５】又、その陽極酸化処理は、通常、硫酸単
独、又は硫酸を主体とし、修酸、燐酸、クロム酸、マロ
ン酸等を含む水溶液を電解液とし、アルミニウム板を陽
極として電解を行うことによりなされ、その際、５〜５
０重量％程度、好ましくは１５〜３０重量％程度の酸濃
度、１〜６０Ａ／ｄｍ² 程度の電流密度、１〜１５０Ｖ
程度の電圧として、５〜５０℃程度、好ましくは１５〜
３５℃程度の温度、５〜６０秒程度の電解時間で処理す
るのが好ましい。

【００５６】又、更に必要に応じて、珪酸ナトリウム等
の珪酸アルカリや熱水による処理、カチオン性４級アン
モニウム塩基を有する樹脂やポリビニルスルホン酸等の
水溶性高分子化合物の水溶液への浸漬処理等が施され
る。

【００５７】前記支持体表面に前記光重合性組成物を塗
布液として塗布する際の溶媒としては、使用成分に対し
て十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであ
れば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル
等のプロピレングリコール系溶媒、酢酸ブチル、酢酸ア
ミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレー
ト、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレ
ート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
媒、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶媒、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン等の高極性溶媒、或いはこれらの混合溶
媒、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。溶媒の使用割合は、光重合性組成物の総量
に対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲であ
る。

【００５８】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、ディップ塗布、スピナー塗布、スプレー塗
布、ロール塗布、コーティングロッド等を用いることが
できる。塗布量は用途により異なるが、乾燥膜厚とし
て、０．１〜１０ｇ／ｍ² の範囲とするのが好ましく、
０．５〜５ｇ／ｍ² の範囲とするのが更に好ましい。

【００５９】本発明における光重合性画像形成材は、前
述の如くして前記支持体表面に形成された前記光重合性
組成物の感光性層上に、光重合性組成物の酸素による重
合禁止作用を防止するための酸素遮断層が形成されたも
のであるのが好ましい。

【００６０】その酸素遮断層を構成するものとしては、
水、又は、水と、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソノニルアルコール等のアルコールやテトラヒド
ロフラン等の水混和性有機溶剤との混合溶媒に可溶のポ
リマーであって、具体的には、例えば、ポリビニルアル
コール、及びその部分アセタール化物、４級アンモニウ
ム塩等によるそのカチオン変性物、スルホン酸ナトリウ
ム等によるそのアニオン変性物等の誘導体、ポリピニル
ピロリドン、ポリエチレンオキサイド、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン、
アラビアゴム、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸
共重合体、ポリアクリル酸エステル部分ケン化物、及
び、ビニルピロリドン、（メタ）アクリル酸、イタコン
酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等のカルボキシ
ル基含有化合物、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルア
ミド等のヒドロキシ基含有化合物等を共重合成分とする
共重合体等が挙げられる。

【００６１】それらの中で、酸素遮断性等の面からポリ
ビニルアルコール及びその誘導体が好ましく、又、その
鹸化度が、７０〜９９モル％、更には８５〜９５モル％
で、その重量平均分子量が、０．２〜５０万、更には
０．４〜１０万であるものが好ましい。

【００６２】更に、感光性層との密着性の面から、ポリ
ビニルピロリドンやビニルピロリドン−酢酸ビニル共重
合体等のビニルピロリドン系重合体、アクリル系重合体
エマルジョン、ジイソシアネート化合物、ｐ−トルエン
スルホン酸、ヒドロキシ酢酸等を含有するのが好まし
く、これらを、前記ポリビニルアルコール及びその誘導
体１００重量部に対して、０．１〜６０重量部、更には
１〜５０重量部含有するのが好ましい。

【００６３】更に又、保存性付与の面から、琥珀酸等の
有機酸やエチレンジアミンテトラ酢酸等の有機酸塩等を
含有するのが好ましく、又、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテル等のノニオン性、ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム等のアニオン性、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライド等のカチオン性等の界面活
性剤、消泡剤、色素、可塑剤、ｐＨ調整剤等を、前記ポ
リビニルアルコール及びその誘導体１００重量部に対し
て１０重量部以下の割合で含有していてもよい。

【００６４】前記酸素遮断層は、水又は水と水混和性有
機溶剤との混合溶媒の溶液として、前述の感光性層と同
様の塗布法によって形成され、その塗布量は、乾燥膜厚
として、１〜１０ｇ／ｍ² の範囲とするのが好ましく、
１．５〜７ｇ／ｍ² の範囲とするのが更に好ましい。

【００６５】本発明の画像形成方法は、前記光重合性画
像形成材を、３９０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光
により走査露光し、現像処理した後、更に全面後露光す
るものである。

【００６６】そのレーザー露光光源としては、３９０〜
４３０ｎｍの波長域のレーザー光を発振するものであれ
ば特に限定されないが、ＧａＮ等によって構成される半
導体レーザーが挙げられる。又、走査方法としては、内
面ドラム方式或いは外面ドラム方式、平面走査方式等の
いずれであってもよいが、内面ドラム方式、又は平面走
査方式が好ましい。又、版面におけるレーザー強度は、
０．０１〜３０ｍＷ／ｃｍ² とするのが好ましく、０．
１〜２０ｍＷ／ｃｍ² とするのが特に好ましい。

【００６７】又、現像処理における現像液としては、例
えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、
珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐
酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナトリウ
ム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等の無機アルカリ
塩、又は、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、モノブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン等の有
機アミン化合物等の０．１〜１０重量％程度の水溶液か
らなるアルカリ現像液が用いられる。

【００６８】又、前記現像液には、画質向上、現像時間
の短縮等を目的として、必要に応じて、例えば、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノ
グリセリドアルキルエステル類等のノニオン性、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホ
ン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩
類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン性、アル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性の界面活性剤、イ
ソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プ
ロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の水溶性
有機溶剤等を添加することができる。現像液のｐＨは、
９〜１４とするのが好ましい。

【００６９】尚、現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブ
ラシ現像、超音波現像等の公知の現像法により、通常、
好ましくは１０〜６０℃程度、更に好ましくは１５〜４
５℃程度の温度で、５秒〜１０分程度の時間でなされ
る。その際、酸素遮断層は、予め水等で除去しておいて
もよいし、現像時に除去することとしてもよい。

【００７０】本発明の画像形成方法は、前記現像処理後
に、画像形成面での光強度を２０ｍＷ／ｃｍ² 以上とし
て全面後露光することを必須とし、その光強度を３０〜
５００ｍＷ／ｃｍ² とするのが好ましい。光強度が前記
範囲未満では、十分な画像強度を得ることが困難とな
り、一方、前記範囲超過では、画像強度改良効果が飽和
し経済的に不利を招くこととなる。

【００７１】尚、ここで、後露光光源としては、カーボ
ンアーク、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、デ
ィープＵＶランプ、キセノンランプ、メタルハライドラ
ンプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンラン
プ、エキシマーＵＶランプ等が用いられる。中で、本発
明においては、紫外線領域の輝線の半値幅が３０ｎｍ以
下となるものが好適であり、このような輝線を有する光
源として好ましいのは、１７２ｎｍ、２２２ｎｍ、３０
８ｎｍをそれぞれ出力するエキシマーＵＶランプ、３６
５ｎｍを主に２５４ｎｍ、３０３ｎｍ、３１３ｎｍを出
力する水銀灯等が挙げられる。

【００７２】これらの後露光光源により、画像形成面で
の光強度を２０ｍＷ／ｃｍ² とするには、用いる光源の
出力を大きくするとか、棒状タイプの光源の場合は単位
長さ当たりの出力を大きくする等して、光源の出力
（Ｗ）を上げて露光する方法、或いは、画像形成面を光
源に接近させて露光する方法等によることができる。

【００７３】又、その露光方法としては、画像を停止さ
せて行っても、画像を連続的に移動させながら行っても
よく、その露光量は、１０ｍＪ／ｃｍ² 〜１０Ｊ／ｃｍ
² の範囲とするのが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ² 〜５Ｊ
／ｃｍ² の範囲とするのが更に好ましい。

【００７４】又、本発明において、前記後露光時に、後
露光光源の輻射熱、ホットプレート、ドライヤー、或い
はセラミックヒーター等による加熱によって、画像形成
面の温度を４０〜３００℃とするのが好ましく、５０〜
２００℃とするのが更に好ましい。特に、後露光光源の
輻射熱によって加熱するのが簡便で好ましい。尚、必要
に応じて、前記レーザー走査露光後、現像処理前に、同
様の加熱工程を設けることも有効である。

【００７５】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。

【００７６】実施例１〜４、比較例１〜３ 下記のアルミニウム板支持体表面に、下記の（Ａ）成分
のエチレン性不飽和化合物、（Ｂ）成分の増感剤、
（Ｃ）成分の光重合開始剤、（Ｄ）成分の高分子結合
材、及びその他成分、並びに溶媒からなる光重合性組成
物塗布液をバーコーターを用いて乾燥膜厚が２．０ｇ／
ｍ² となるように塗布し、乾燥して光重合性組成物から
なる感光性層を形成し、更にその上に、ポリビニルアル
コールとポリビニルピロリドンの混合水溶液（ポリビニ
ルアルコール：ポリビニルピロリドン＝７０重量％：３
０重量％）をバーコーターを用いて乾燥膜厚が３ｇ／ｍ
² となるように塗布し、乾燥して酸素遮断層を形成する
ことにより、光重合性画像形成材としての感光性平版印
刷版を作製した。

【００７７】支持体 アルミニウム板（厚さ０．２４ｍｍ）を３重量％水酸化
ナトリウム水溶液で脱脂した後、１８ｇ／リットル硝酸
浴中で、２５℃、９０Ａ／ｄｍ² の電流密度で１１秒
間、電解エッチングし、次いで、３０℃の４．５重量％
水酸化ナトリウム水溶液で２秒間デスマット処理した
後、２５℃の１０重量％硝酸水溶液で５秒間中和し、水
洗後、３０重量％硫酸浴中で、３０℃、１０Ａ／ｄｍ²
の電流密度で１６秒間、陽極酸化処理し、水洗、乾燥し
て得たアルミニウム板支持体。

【００７８】（Ａ）エチレン性不飽和化合物 下記の化合物（Ａ−１）；２２重量部 下記の化合物（Ａ−２）；２２重量部 下記の化合物（Ａ−３）； ６重量部 下記の化合物（Ａ−４）；１１重量部

【００７９】

【化７】

【００８０】（Ｂ）増感剤 ４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン；９
重量部（Ｃ）光重合開始剤 ２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール；１５重量部（Ｄ）高分子結合材 メチルメタクリレート（８０モル％）／メタクリル酸
（２０モル％）共重合体（重量平均分子量５万）に、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートを
反応させて得られた反応生成物（酸価５３、メタクリル
酸成分のカルボキシル基の５０モル％が反応）；４５重
量部

【００８１】その他成分 ２−メルカプトベンゾチアゾール；５重量部 Ｎ−フェニルグリシンベンジルエステル；３重量部 トリベンジルアミン；９重量部 フタロシアニン顔料；４重量部 分散剤（ビックケミー社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６
１」）；２重量部 界面活性剤（花王社製「エマルゲン１０４Ｐ」）；２重
量部 界面活性剤（旭硝子社製「Ｓ−３８１」）；０．３重量
部溶媒 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート；
４００重量部 シクロヘキサノン；７４０重量部

【００８２】得られた感光性平版印刷版の感光性層であ
る光重合性組成物について、以下に示す方法で分光感度
の極大ピークを測定したところ、４１０ｎｍであった。
又、以下に示す方法で、波長４５０ｎｍにおける画像形
成可能な最小露光量〔Ｓ₄₅₀（μＪ／ｃｍ² ）〕に対す
る波長４１０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量
〔Ｓ₄₁₀ （μＪ／ｃｍ² ）〕の比〔Ｓ₄₁₀ ／Ｓ₄₅₀ 〕を
測定したところ、Ｓ₄₁₀＝１９μＪ／ｃｍ² 、Ｓ₄₅₀ ＝
５６０μＪ／ｃｍ² であり、Ｓ₄₁₀ ／Ｓ₄₅₀ ＝０．０３
４であった。

【００８３】分光感度の極大ピーク 感光性平版印刷版を５０×６０ｍｍの大きさに切り出し
たサンプルを、回折分光照射装置（ナルミ社製「ＲＭ−
２３」）を用い、キセノンランプ（ウシオ電機社製「Ｕ
Ｉ−５０１Ｃ」）を光源として３５０〜６５０ｎｍの波
長域で分光した光を、横軸方向に露光波長が直線的に、
縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して
照射して露光し、次いで、珪酸カリウム３重量％及びア
ニオン性界面活性剤（花王社製「ペレックスＮＢＬ」）
５重量％を含む水溶液に、２５℃で３０秒間浸漬した
後、スポンジで１回擦ることにより現像することによ
り、各露光波長の感度に応じたレジスト画像を分光感度
曲線として得、その分光感度曲線における感度の極大ピ
ークを示す露光波長を求めた。

【００８４】Ｓ₄₁₀ ／Ｓ₄₅₀ 前記と同様にして３５０〜６５０ｎｍの波長域で波長を
変化させて露光し、現像したときの、波長４１０ｎｍに
おける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ₄₁₀ （μＪ／ｃｍ
² ）〕と波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露
光量〔Ｓ₄₅₀ （μＪ／ｃｍ² ）〕をそれぞれ求め、その
比〔Ｓ₄₁₀ ／Ｓ₄₅₀ 〕を算出した。

【００８５】一方、得られた感光性平版印刷版を、バイ
オレットレーザー露光機（Ｅｓｃｈｅｒ−Ｇｒａｄ社製
「Ｃｏｂａｌｔ８」）を用いて、露光量４０μＪ／ｃｍ
² で１００％画像を走査露光した後、酸素遮断層を水洗
後、珪酸カリウム３重量％及びアニオン性界面活性剤
（花王社製「ペレックスＮＢＬ」）５重量％を含む水溶
液に、２５℃で３０秒間浸漬した後、スポンジで１回擦
ることにより現像処理を行った。

【００８６】引き続いて、後露光光源にメタルハライド
ランプ（ウシオ社製「ＧＬ−３０２０１ＢＦ」）、又
は、高圧水銀灯（アイグラフィックス社製水銀ランプ
「Ｈ０３−Ｌ３１」）を用い、画像形成面での光強度、
総露光量、及び画像形成面での温度を表１の如くして、
全面後露光処理し、処理後の平版印刷版について、以下
の方法で摩耗試験を行って画像強度を評価し、結果を表
１に示した。

【００８７】摩耗試験 摩耗試験機（スガ試験機社製「ＦＲ−２」）を用いて、
画像形成面と直接擦れる部分には印刷用羅紗を使用し、
１５０ｇ／ｃｍ² の荷重下に１００往復させ、その際、
２ｍｌの湿し水（ＭＣＩ社製「ＯＣ−ＲＡＮＧＥ」）の
１０倍水溶液を画像形成面上に滴下し、画像膜の耐摩耗
性を以下の基準で評価した。 ○；膜に全く変化なし。 △；膜に摩耗が認められる。 ×；膜の殆どが剥離。

【００８８】

【表１】

【００８９】

【発明の効果】本発明によれば、支持体表面に光重合性
組成物からなる感光性層が形成された画像形成材を３９
０〜４３０ｎｍの波長域のレーザー光により走査露光し
画像を形成するにおいて、得られる画像に十分な画像強
度を与えることができると共に、走査露光時の必要露光
量の低減化を図ることができる画像形成方法を提供する
ことができる。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体表面に光重合性組成物からなる感
   光性層が形成された光重合性画像形成材を、３９０〜４
   ３０ｎｍの波長域のレーザー光により走査露光し、現像
   処理して画像を形成した後、画像形成面での光強度を２
   ０ｍＷ／ｃｍ ² 以上として全面後露光することを特徴と
   する画像形成方法。
2. 【請求項２】 全面後露光時の画像形成面での光強度を
   ３０〜５００ｍＷ／ｃｍ² とする請求項１に記載の画像
   形成方法。
3. 【請求項３】 全面後露光時の画像形成面の温度を４０
   〜３００℃とする請求項１又は２に記載の画像形成方
   法。
4. 【請求項４】 全面後露光の光源を水銀灯とする請求項
   １乃至３のいずれかに記載の画像形成方法。
5. 【請求項５】 感光性層の光重合性組成物が、３９０〜
   ４３０ｎｍの波長域に分光感度の極大ピークを有するも
   のである請求項１乃至４のいずれかに記載の画像形成方
   法。
6. 【請求項６】 感光性層の光重合性組成物が、波長４５
   ０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ₄₅₀ （Ｊ
   ／ｃｍ² ）〕に対する波長４１０ｎｍにおける画像形成
   可能な最小露光量〔Ｓ₄₁₀ （Ｊ／ｃｍ² ）〕の比〔Ｓ
   ₄₁₀ ／Ｓ₄₅₀ 〕が０．１以下のものである請求項５に記
   載の画像形成方法。
7. 【請求項７】 感光性層の光重合性組成物が、下記の
   （Ａ）〜（Ｄ）成分を含有するものである請求項１乃至
   ６のいずれかに記載の画像形成方法。 （Ａ）エチレン性不飽和化合物 （Ｂ）３９０〜４３０ｎｍの波長域の光を吸収する増感
   剤 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）高分子結合材
8. 【請求項８】 光重合性組成物における（Ａ）成分のエ
   チレン性不飽和化合物が、アクリロイルオキシ基又はメ
   タクリロイルオキシ基含有ホスフェート類を含有する請
   求項７に記載の画像形成方法。
9. 【請求項９】 光重合性組成物における（Ｂ）成分の増
   感剤が、ジアルキルアミノベンゼン系化合物を含有する
   請求項７又は８に記載の画像形成方法。
10. 【請求項１０】 光重合性組成物における（Ｃ）成分の
    光重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合
    物を含有する請求項７乃至９のいずれかに記載の画像形
    成方法。
11. 【請求項１１】 光重合性組成物における（Ｄ）成分の
    高分子結合材が、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する
    重合体を含有する請求項７乃至１０のいずれかに記載の
    画像形成方法。
12. 【請求項１２】 支持体がアルミニウム板であり、画像
    形成材が平版印刷版である請求項１乃至１１のいずれか
    に記載の画像形成方法。