WO2005031463A1

WO2005031463A1 - ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法

Info

Publication number: WO2005031463A1
Application number: PCT/JP2004/014299
Authority: WO
Inventors: Junji Mizukami; Yasuhiro Kameyama; Eriko Toshimitsu; Yuji Mizuho
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corporation
Priority date: 2003-09-25
Filing date: 2004-09-22
Publication date: 2005-04-07
Also published as: KR100970357B1; KR20060065576A; KR20070119098A; TW200821754A; TWI354864B; TW200521624A; KR100998459B1

Description

ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法

技術分野

本発明は、プリント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、大規模集積回路、薄型卜ランジス夕、半導体パッケージ、カラ一フィルター、有機エレクト口ルミネッセンス等における導体回路や明電極加工基板等の形成のためのエッチングレジストゃメツキレジスト等に使用されるネガ型青紫色レーザー感光性組成物であつ田

て、特に、 3 9 0〜4 3 0 nmの波長域の青紫色レーザ一光による直接描画に好適に用いられるネガ型青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法に関する。

景技術

従来より、プリント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、

回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ、カラーフィルター、有機エレクト口ルミネッセンス等における導体回路や電極加工基板等の形成に用いられる感光性組成物として、次の 2つのタイプがある。即ち、ネガ型感光性組成物としては、代表的には、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、及び力ルポキシル基含有樹脂等のアルカリ可溶性樹脂からなり、光照射によりエチレン性不飽和化合物が重合、硬化してアル力リ現像液に不溶性となる組成物、ポリビニルフエノ一ル樹脂等のフェノール性水酸基含有樹脂と該樹脂の架橋剤、或いは、エポキシ基含有レゾール樹脂等の酸架橋性基含有樹脂と、ハロメチル化 s —トリアジン誘導体等の光酸発生剤とからなり、光照射により光酸発生剤の発生する酸により架橋してアル力リ現像液に不溶性となる組成物、等が知られている。また、ポジ型感光性組成物としては、代表的には、アルコキシ基等の酸分解性基含有ポリビニルフエノール樹脂等の酸分解性基含有樹脂と、ハロメチル化 s —トリアジン誘導体等の光酸発生剤とからなり、光照射による光酸発生剤の発生する酸により分解してアルカリ現像液に可溶性となる組成物等が知られている。

そして、導体回路や電極加工基板等の形成には、（1 ) これらの感光性組成物からなる層を仮支持フィルム上に形成し、その感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆ったドライフィルムレジスト材を、その被覆フィルムを剥離して被加工基板上に積層した画像形成材、又は、被加工基板上に直接に感光性組成物層を形成して必要に応じてその上に保護層を設けた画像形成材、のその感光性組成物層を、回路ゃ電極パターンが描かれたマスクフィルムを通して画像露光する；（2 ) 次いで、マスクフィルムを剥離する；（3 ) 更に仮支持フィルム、又は保護層が設けられている場合にはその保護層、等を剥離する；（4 ) ネガ型においては非画像部としての非露光部を、ポジ型においては非画像部としての露光部を、アルカリ現像液により溶解除去することにより回路パターンに対応したレジスト画像を形成する；（5 ) このレジスト画像をレジストとして被加工基板をエッチング加工或いはメツキ加工等した後、レジスト画像を除去することにより、被加工基板にマスクフィルムに描かれた回路や電極パ夕一ンを形成するリソグラフィ一法、が広く用いられている。更に、近年、露光光源にレーザ一光を用いることにより、マスクフィルムを用いずに、コンピュータ一等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから注目されるに到り、それに伴い、リソグラフィ一法においてもレ一ザ一光の利用が盛んに研究されている。そのレーザー光としては、紫外から赤外領域までの種々の光源が知られているが、画像露光に利用できるレーザー光としては、出力、安定性、感光能力、及びコスト等の点から、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザ一、 YA Gレーザー、及び半導体レーザー等の可視から赤外領域の光を発するものが主力となっている。例えば、波長 4 8 8 n mのアルゴンイオンレーザー、波長 5 3 2 nm の F D _ Y A Gレーザーを用いたリソグラフィ一法は既に実用化に到っており、また、プリント配線基板用途で 3 6 5 n mの UVレーザーに対応する材料も市販されている。

しかしながら、従来の感光性組成物は、レーザ一光による直接描画法においては、未だ感度が必ずしも充分とは言えず、また、可視レーザー光においては、感光性組成物は、黄色灯下でのセーフライト性に劣り、赤色灯照明のような暗室環境下での作業が必要であるという制約がある。これに対して、近年のレーザー技術の著しい進歩により、黄色灯照明のような明室環境下での作業が可能な、青紫色領域で安定的に発振できる半導体レーザーが利用できるようになった。しかし、その出力は他の可視領域等に比して低いこともあって、感光性組成物の感度面での改良の余地が残るばかり力、特に感光性組成物層の膜厚が厚い状態で用いられるレジスト材においては得られる画像の高解像性、矩形性等に対応し得てはおらず、直接描画法においてはもとよりリソグラフィ一法においても実用化できるレベルには達していないのが現状である。

一方、感光性組成物として、例えば、青紫色領域における感度等の向上を企図して、芳香環に少なくとも 1つのビニル基を有し、その o—位及び p—位の少なくとも 1つが硫黄原子で置換されている化合物を増感剤とし、重合開始剤としてのチタノセン系化合物とを組み合わせた平版印刷版用の光重合性組成物（例えば、特開 2 0 0 2 - 1 6 9 2 8 2号公報参照。）等も提案されている。しかし、これら感光性組成物も、レジスト材としては、特にドライフィルムレジスト材を経て被加工基板上に形成された感光性組成物層においては膜厚が 1 0 /xm以上と厚い。更に、プリント配線板などの製造工程であるメツキ工程においては、近年の配線線幅の微小化に伴い、メツキ厚を厚くすることが求められていることもあって、青紫色領域における感度は、依然として改良の余地を残すものである。一方、高感度とすると黄色灯下でのセーフライト性が低下するという問題があった。また、前述の UVレーザーに対応する材料を青紫色レーザー光に適用することも試みたものの、高感度タイプのものでは得られる画像の解像性及び矩形性に劣り、高解像度タイプのものでは感度に劣るという結果であった。

発明の開示

本発明は、前述の従来技術に鑑みてなされたものであって、青紫色領域のレーザ一光に対して高感度であり、また、黄色灯下でのセーフライト性に優れると共に、得られる画像の解像性及び矩形性に優れ、特に、ドライフィルムレジスト材の感光層として有用であり、また、青紫色レーザ一光による直接描画に好適に用いられるネガ型青紫色レーザー感光性組成物を提供することを目的とする。更に、それを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供することを目的とする。本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、青紫色レーザー光による露光量と残膜率、或いは、同露光量と現像速度、とが特定の関係を有する感光性組成物が、前記目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は、青紫色レーザー光による露光によって残膜率が 90%以上となる最小露光量が 40 m J / c m²以下であつて、青紫色レーザー光による露光量の対数 U o gE (mJ/cm²) 〕に対して露光部の残膜率〔t (%) 〕をプロットした残膜率一露光量曲線における残膜率の 1 5%の点と 80%の点とを結ぶ下記式（1) の直線のァ値が 4. 0 X 1 0²以上であるネガ型青紫色レーザー感光性組成物、を要旨とする。

t = r 1 o gE+ δ (1)

また、本発明は、青紫色レーザー光による露光によって残膜率が 90%以上となる最小露光量が 4 OmJ/cm²以下であって、青紫色レーザー光による露光量の対数〔1 o gE (mJ/cm²) 〕に対して、露光部の残膜率〔t (%) 〕から算出される溶解膜率〔1 0 0— t (%) 〕を現像時間〔T (s e c) 〕で除した現像速度〔 s = { 1 00 - t } /Ύ (%/s e c) 〕をプロットした現像速度—露光量曲線における最大現像速度の 80 %の点と 20 %の点とを結ぶ下記式（2) の直線の 0L 値が 1 2以上であるネガ型青紫色レーザ一感光性組成物、を要旨とする。

s =- 1 o gE + j3 (2)

そして、かかる感光性組成物は、エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を基本組成とするネガ型の感光性組成物（以下、光重合性組成物と称することがある）であって、該組成物中の重合禁止剤が特定の少量であることにより、更に好ましくは特定の吸収波長域に吸収極大を有する化合物を増感剤として使用することにより達成されることを見出した。即ち、本発明の好ましい態様は、上記感光性組成物がエチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を基本組成とするネガ型であり、該感光性組成物における重合禁止剤の含有量が、 5〜6 0 p pmであるものである。また、他の好ましい態様は、上記感光性組成物が増感剤として 3 3 0〜450 nmの波長域に吸収極大を有する化合物を含むものである。

ちなみに、光重合性組成物には、光重合性組成物において必須成分とされるェチレン性不飽和化合物にはその製造時の重合防止或いは製品の保存安定性付与等のために重合禁止剤が含有されている。また、光重合性組成物層形成性付与等のために用いられる高分子結合材にも、その製造時に必要に応じて重合禁止剤が添加されており、更に、光重合性組成物としての熱的な重合、或いは経時的な重合等を防止する目的で、エチレン性不飽和化合物や高分子結合材に添加されている重合禁止剤の外に、それらの量見合いで、光重合性組成物の安定性確保等の目的で組成物調製時に更に添加される重合禁止剤が、合計量として、通常 1 0 0 p p m以上含有されている。従って、光重合性組成物中の重合禁止剤の含有量を比較的少量にコントロールすることは、当業者の常識と反することである。

また、本発明は、仮支持フィルム上に、前記ネガ型青紫色レーザ一感光性組成物の層が形成されてなるネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料、及び、被加工基板上に、該ネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料がそのネガ型青紫色レーザー感光性組成物層側で積層されてなるネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材、並びに、該ネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材のネガ型青紫色レーザー感光性組成物層を、波長 3 9 0〜4 3 0 n mのレーザー光により走査露光し、現像処理して画像を現出させる画像形成方法、を要旨とする。

発明の効果

本発明は、青紫色領域のレーザ一光に対して高感度であり、また、黄色灯下でのセーフライト性に優れると共に、得られる画像の解像性及び矩形性に優れる。特に、ドライフィルムレジスト材の感光層として有用であり、また青紫色レーザー光による直接描画に好適に用いられるネガ型青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供することができる。図面の簡単な説明図 1は、本発明の実施例 1〜 2、及び比較例 1〜3の青紫色レーザー感光性組成物の残膜率一露光量曲線である。

図 2は、本発明の実施例 1〜 2、及び比較例 1〜3の青紫色レーザー感光性組成物の現像速度 -露光量曲線である。

発明を実施するための最良の形態

く最小露光量 >

本発明のネガ型青紫色レーザー感光性組成物（以下、本発明のネガ型青紫色レーザ一感光性組成物を、単に青紫色レーザ一感光性組成物と称することがある）は、青紫色レーザー光による露光によって残膜率が 9 0 %以上となる最小露光量が 4 0 m J / c m²以下であるものであり、最小露光量が 2 0 m J / c m²以下であるのが好ましく、 1 OmJZcm²以下であるのが特に好ましい。なお、ここで、残膜率が 90%以上となる最小露光量は、支持体上に形成した、 0. 5 cmX0. 5 cmの大きさで、膜厚が 5〜100 mの感光性組成物層を、 400〜410 nmの波長域の青紫色レーザ一光により露光量を振らしてベ夕で露光した後、 0. 7重量％炭酸ナトリゥム水溶液を現像液として 25°Cで 0. 15MP aで吹き付けて、未露光の感光性組成物層が同条件の現像で完全に溶解するまでの時間（ブレークボイント）の 1. 5倍の時間で現像したときに、残膜率が 90%以上となる最小露光量として求めたものである。なお、最小露光量の下限は特に限定されず、小さいほど好ましいが、通常 lm JZcm²以上である。

ぐ残膜率一露光量曲線と τ値>

また、本発明の青紫色レーザ一感光性組成物は、残膜率が 90%以上となる最小露光量が 40 m J Z c m²以下であると共に、青紫色レーザー光による露光量の対数〔1 o gE (mJ/cm²) 〕に対して露光部の残膜率〔t (%) 〕をプロットした残膜率—露光量曲線における残膜率の 15%の点と 80%の点とを結ぶ下記式（1) の直線のァ値が 4. 0 X 10²以上であることを必須とする。ァ値が 4. 5X 10²以上であるのが好ましく、 5. 0 X 10²以上であるのが特に好ましく、 5. 5X10 ²以上であるのが最も好ましい。なお、下記式（1) の直線において、 1 ogE==0 のときの tとしての δ値は、本発明においては特に意味のある値ではない。

t =r 1 o gE+ δ (1)

ァ値が前記範囲未満では、得られる画像の解像性、矩形性が劣ることとなる。また、ァ値が大きければ大きい程、得られる画像の解像性、矩形性が優れたものとなるが、上限は通常 1. 0X 10⁴程度である。なお、ここで、青紫色レーザ一光による露光量の対数〔1 ogE (mJ/Zcm²) 〕に対して露光部の残膜率〔t ( ) 〕をプロットした残膜率一露光量曲線は、理想的には、不十分な露光量領域では残膜率が 0%に近いほぼ一定値を示し、残膜率が 90%以上となる最小露光量以上の領域では残膜率は 90%以上のほぼ一定値を示し、その中間の露光量領域では、 90% 以上の残膜率により画像を形成するには不十分であるがある程度の残膜率を残す限界露光量以上の領域であって、右上がりの直線的な傾きを示す。そして、本発明においては、残膜率一露光量曲線における中間の露光量領域のこの直線的な傾きを、残膜率の 15 %の点と 80 %の点とを結ぶ前記式（ 1 )の直線の勾配 γとして捉え、特定の値以上に規定するものである。即ち、露光部に隣接する部分には、少なからず漏れ光が照射され、この漏れ光は当然ながら最小露光量以下であるが限界露光量以上であることから、本来露光されるべきでない部分に膜が形成されることとなつて矩形性を悪化させるのに対して、露光部に隣接する部分に限界露光量以上の漏れ光が照射される中間の露光量領域を小さくし、露光部に隣接する部分における漏れ光による膜の形成を抑制しているのである。

<現像速度一露光量曲線と α値 > また、本発明の青紫色レーザー感光性組成物は、残膜率が 90%以上となる最小露光量が 4 OmJ/cm²以下であると共に、青紫色レーザ一光による露光量の対数〔1 o gE (mJZcm²) 〕に対して、露光部の残膜率〔t (%) ) から算出される溶解膜率〔100— t (%) 〕を現像時間〔T (s e c) ] で除した現像速度〔s = {100— t} /T (%Xs e c) 〕をプロットした現像速度—露光量曲線における最大現像速度の 80%の点と 20%の点とを結ぶ下記式（2) の直線の α値が 12以上であることを必須とし、値が 1 3以上であるのが好ましく、 14以上であるのが更に好ましい。なお、下記式（2) の直線において、 l ogE=0のときの sとしての i3値は、本発明においては特に意味のある値ではない。

s =- 1 o gE + j3 (2)

α値が前記範囲未満では、得られる画像の解像性、矩形性が劣ることとなる。また、 α値が大きければ大きい程、得られる画像の解像性、矩形性が優れたものとなるが、上限は通常 100程度である。なお、ここで、青紫色レーザー光による露光量の対数〔1 ogE (mJ/cm²) ) に対して、露光部の残膜率〔t (%；) 〕から算出される溶解膜率〔100— t (%) 〕を現像時間〔T (s e c) 〕で除した現像速度〔 s = { 100— t } /Ύ {%/ s e c) 〕をプロットした現像速度一露光量曲線も、理想的には、不十分な露光量領域では溶解膜率が 100%に近く現像速度は高いレベルでほぼ一定値を示し、溶解膜率が 10 %以下となる露光量以上の領域では現像速度は低いレベルでほぼ一定値を示し、その中間の露光量領域では、溶解膜率が 10 %以下となるには不十分であるがある程度の溶解膜率を示す限界露光量以上の領域であって、右下がりの直線的な傾きを示す。そして、本発明においては、現像速度一露光量曲線における中間の露光量領域のこの直線的な傾きを、最大現像速度（下記現像を行った際に溶解膜率〔100_ t (%) 〕 =0となるときの現像速度）の 80%の点と 20%の点とを結ぶ前記式 (2) の直線の勾配として捉え、特定の値以上に規定するものである。ここで、最大現像速度とは、下記条件で現像を行った際に溶解膜率〔100— t (%) 〕 =100%となるときの現像速度とする。

なお、ここで、前記残膜率一露光量曲線、及び前記現像速度一露光量曲線は、次のようにして作成したものである。（1) 0. 5 cmX0. 5 cmの大きさで、膜厚が 5〜 100 mの感光性組成物層を、 400〜410 nmの波長域の青紫色レ一ザ一光により露光量を振らしてベ夕で露光する；（2) その後、 0. 7重量％炭酸ナトリゥム水溶液を現像液として 25 で 0. 1 5MP aで吹き付けて、未露光の感光性組成物層が同条件の現像で完全に溶解するまでの時間（ブレークポイント）の 1. 5倍の時間で現像したときの残膜率を測定する；（ 3— 1) 前記残膜率一露光量曲線においては、露光量の対数〔1 o gE (mJZcm²)〕に対して露光部の残膜率〔t (%) 〕をプロットする；又は（3— 2) 前記現像速度一露光量曲線においては、露光量の対数〔 1 o g E (m J / c m² )〕に対して、露光部の残膜率〔 t

(%) 〕から算出される溶解膜率〔100— t ）〕を現像時間〔T (s e c) 〕で除した現像速度〔s = {100- t} /T (%/s e c) 〕をプロッ卜する。 <増感剤 >

本発明の青紫色レーザー感光性組成物は、前記残膜率一露光量特性、又は、前記現像速度一露光量特性、及び前記最小露光量を効果的に発現するために、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、その光励起エネルギーを後述する光重合開始剤、光酸発生剤等の活性化合物に伝え、該活性化合物を分解し、ラジカル、酸等の活性種を発生させる増感機能を有する増感剤として、 330〜450 nmの波長域に吸収極大を有する化合物を含むのが好ましい。

その増感剤としては、例えば、（i) 特開 2000— 10277号公報、特願 20 02-362326号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするジァミノべンゾフエノン系化合物、 (ii)特開 2004— 198446号公報等に記載の下記式を基本骨格とするアミノフエ二ルーベンゾイミダゾール /ベンゾォキサゾ一ル/ベンゾチァゾ一ル系化合物、（i i i) 特願 2004— 424180号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするスルホ二ルイミノ系化合物、（iv)特願 2003— 392404号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするアミノカルボスチリル系化合物、（V) 特開 2002— 169282号公報、特開 2004— 191938号公報等に記載の下記式を基本骨格とするメロシアニン系化合物、（vi)特開 2002-268239 号公報等に記載の下記式を基本骨格とするチアゾリデンケトン系化合物、（vii) 特願 2003— 291606号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするイミド系化合物、 (viii)下記式を基本骨格とするベンゾイミダゾール /ベンゾォキサゾールベンゾチアゾール系化合物、 (ix)下記式を基本骨格とするトリァゾール系化合物、 (X) 下記式を基本骨格とするシァノスチリル系化合物、（xi)下記式を基本骨格とするスチルベン系化合物、 (xii) 下記式を基本骨格とするォキサジァゾール/チアジァゾール系化合物、（xiii)下記式を基本骨格とするピラゾリン系化合物、（xiv) 下記式を基本骨格とするクマリン系化合物、（XV)特願 2004— 218915号明細書等に記載の下記式を基本骨格とする卜リフエニルァミン系化合物、（xvi) 下記式を基本骨格とするァクリドン系化合物等が挙げられる。

なお、下記式において、 X及び Zは各々独立して、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、又は C一 Rを表し、 Yは任意の連結基を表し、 nは 0以上の整数である。また、基本骨格を示す下記式の化合物はそれぞれ、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ァリール基、ァリールォキシ基、ァラルキル基、アルケニルォキシ基、アルケニルチオ基、ァシル基、ァシルォキシ基、アミノ基、ァシルァミノ基、力ルポキシル基、力ルポン酸エステル基、カーバメート基、力ルバモイル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、飽和若しくは不飽和の複素環基等の置換基を有していてもよく、これらの置換基は更に置換基を有していてもよく、また、複数の置換基同士が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 n

〈〇 -CH=CH-CN

O II

(iii) HS— =CH₂

II ² (XI) 〈〇)~CH=CH 〇ノ O

本発明の感光性組成物における増感剤としては、これらのなかでも、その構造中にジアルキルァミノべンゼン構造を有するジアルキルァミノベンゼン系化合物及びその構造中にトリフエニル構造を有するトリフエニルアミン系化合物が好ましい。特に、前者としては、ジアルキルァミノべンゾフエノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対して P—位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルァミノベンゼン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対して p—位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルァミノベンゼン系化合物、及び力ルポスチリル骨格を形成したジアルキルァミノベンゼン系化合物が好ましい。

ェノン系化合物としては、下記一般式 (I) で表されるものが好ましい。

〔式（I) 中、 R'、 R²、 R⁵、及び R⁶は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、 R³、 R⁴、 R⁷、及び R⁸は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、 R ¹と R²、 R⁵と R⁶、 R¹と R³、 R²と R⁴、 R⁵と R⁷、及び R⁶と R^sとは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕

ここで、式（I) 中の R R²、 R⁵、及び R⁶のアルキル基の炭素数、並びに、 R ³、 R⁴、 R⁷、及ぴ R⁸がアルキル基であるときの炭素数は 1〜 6であるのが好ましい。また、含窒素複素環を形成する場合、 5又は 6員環であるのが好ましく、と R³、 R²と R⁴、 R⁵と R⁷、又は R⁶と R⁸が 6員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、 R ¹と R²と R³と R⁴、又は/及び、 R⁵と R⁶と R⁷と R⁸ がジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、 2位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。

前記一般式（I) で表される化合物の具体例としては、例えば、 4 , 4 ' —ビス（ジメチルァミノ）ベンゾフエノン、 4， 4，一ビス（ジェチルァミノ) ベンゾフエノン、及び、下記構造の化合物が挙げられる。

また、ベンゼン環上のアミノ基に対して P—位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルァミノベンゼン系化合物における複素環基としては、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む 5又は 6員環のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する 5員環が特に好ましく、下記一般式（I I)で表されるものが好ましい。

(II)

〔式（II)中、 R¹及び R²は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、 R³及び R⁴は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、 R¹と、 R¹と R³、及び R²ととは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、 Xは、酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、複素環に縮合するベンゼン環は置換基を有していてもよい。〕

ここで、式（II)中の R¹及び R²のアルキル基の炭素数、並びに、 R³及び R⁴がァルキル基であるときの炭素数は 1〜6であるのが好ましく、また、含窒素複素環を形成する場合、 5又は 6員環であるのが好ましく、 R¹と、 R²と R⁴、 R⁵と、又は R⁶と R⁸が 6員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、 R ¹とと R³と、又は Z及び、 R⁵と R⁶と R⁷と R⁸がジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、 2位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。また、 Xがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基の炭素数は 1〜 6であるのが好ましく、アルキルィミノ基であるときのアルキル基の炭素数は 1〜 6であるのが好ましい。

前記一般式（I I)で表される化合物の具体例としては、例えば、 2— （p—ジメチルァミノフエニル）ベンゾォキサゾール、 2― ( p—ジェチルァミノフエニル) ベンゾォキサゾ一ル、 2— ( p—ジメチルァミノフエニル）ベンゾ〔4， 5〕ベンゾォキサゾール、 2— （p—ジメチルァミノフエニル）ベンゾ〔6， 7〕ベンゾォキサゾ一ル、 2 - ( p—ジメチルァミノフエニル) ベンゾチアゾ一ル、 2— ( p—ジェチルァミノフエニル）ベンゾチアゾール、 2一 ( p—ジメチルァミノフエニル）ベンゾイミダゾ一ル、 2— （p—ジェチルァミノフエニル）ベンゾイミダゾール、 2― ( p—ジメチルァミノフエニル）一 3， 3ージメチル— 3 H—インドール、 2 一 ( p—ジェチルァミノフエニル）― 3 , 3一ジメチルー 3 H _インドール、及び、下記構造の化合物が挙げられる。

また、前記一般式（Π)で表される化合物以外の、ベンゼン環上のアミノ基に対して P—位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルァミノベンゼン系化合物としては、例えば、 2- ( 一ジメチルアミノフエニル) ピリジン、 2— （p —ジェチルァミノフエニル）ピリジン、 2 - (p—ジメチルァミノフエニル）キノリン、 2― (p—ジェチルァミノフエニル）キノリン、 2- (p—ジメチルァミノフエニル）ピリミジン、 2一 ( p -ジェチルァミノフエニル) ピリミジン、 2, 5 —ビス ( 一ジェチルァミノフエニル) — 1, 3， 4一ォキサジァゾール、 2, 5 —ビス ( p—ジェチルァミノフエニル) _ 1， 3, 4 _チアジァゾ一ル等が挙げられる。

また、ベンゼン環上のアミノ基に対して p 位の炭素原子にスルホ二ルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルァ系化合物としては、下記一般式 (III) で表されるものが好ましい。

〔式（III) 中、 R ¹及び R²は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、及び R⁴は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、 R¹と R²、 R¹と、及び R²ととは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、 R⁹は 1価基、又は水素原子を示し、 R¹⁽¹は 1価基を示す。〕

ここで、式（III) 中の R¹及び R²のアルキル基の炭素数、並びに、 R³及び R⁴がアルキル基であるときの炭素数は 1〜6であるのが好ましく、また、含窒素複素環を形成する場合、 5又は 6員環であるのが好ましいが、 R³及び R⁴は水素原子であるのが好ましい。また、 R⁹及び R^1Dの 1価基としては、例えば、アルキル基、シク口アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルォキシ基、ァシル基、ァシルォキシ基、ァリール基、ァリールォキシ基、ァラルキル基、ァリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、力ルバモイル基、アミノ基、ァシルァミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、ァルキルチオ基、イミノ基、シァノ基、及び複素環基等が挙げられる。これらのなかでも、 R⁹としては水素原子が、また、 R^1Dとしてはァリール基が好ましい。

また、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルァミノベンゼン系化合物としては、下記一般式 (IV)で表されるものが好ましい。

〔式（IV)中、 R¹ R²、及び R¹¹は各々独立して、置換基を有していてもよいァルキル基を示し、 R³及び R⁴は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、 R¹と R²、 R ¹と R³、及び R²と R⁴とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、 R¹²は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいァリール基、又は水素原子を示す。〕

ここで、式 (IV)中の R R²、及び R¹¹のアルキル基の炭素数、並びに、 R³、 R ⁴、及び R¹²がアルキル基であるときの炭素数は 1〜6であるのが好ましく、また、含窒素複素環を形成する場合、 5又は 6員環であるのが好ましいが、 R³及び R⁴は水素原子であるのが好ましい。また、 R¹²としてはフエニル基であるのが好ましい。以上のジアルキルァミノベンゼン系化合物からなる増感剤のなかでも、本発明においては、前記一般式（I) で表されるジアルキルァミノべンゾフエノン系化合物、前記一般式（III) で表される、ベンゼン環上のアミノ基に対して p—位の炭素原子にスルホ二ルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルァミノべンゼン系化合物、又は、前記一般式（IV)で表される、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物が特に好ましい。

更に、好ましい本発明の増感剤としては、下記一般式（X I ) 〜（XIII) で表される、少なくとも 2ケの芳香族環が窒素原子に結合した構造を有する化合物が挙げられる（なお、下記一般式（X I )は前記トリフエニルアミン系化合物を包含する）。

F

N— R •(ΧΠ) i G

(上記一般式（X I ) 〜（ΧΠΙ) において、環 A〜Gはそれぞれ独立に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を基本骨格とするものであり、環 Aと環 B、環 Dと環 E、環 Fと環 Gは互いに結合して Nを含む結合環を形成していてもよい。上記一般式（X II) において、連結基 Lは、芳香族炭化水素環及び Z又は芳香族複素環を含む連結基を表し、連結基 Lと Nとは該芳香族炭化水素環又は芳香族複素環で結合しており、 nは 2以上の整数を表す。一般式（XIII) において、 Rは置換基を有していてもよいアルキル基を表す。なお、環 A〜G及び連結基 Lは置換基を有していても良く、これらの置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。）

上記一般式（X I ) 〜（XIII) において、環 A〜Gで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ夕レン環、アントラセン環、フエナントレン環、ァズレン環、フルオレン環、ァセナフチレン環、インデン環などが挙げられる。また、環 A〜Gで表される芳香族複素環としては、フラン環、チォフェン環、ピロール環、ォキサゾ一ル環、イソォキサゾール環、チアゾ一ル環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリァゾール環、ピラン環、チアジゾール環、ォキサジァゾ一ル環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環などが挙げられる。環 A〜 Gの芳香族炭化水素環として好ましいのはべンゼン環、ナフ夕レン環、アントラセン環であり、より好ましいのはベンゼン環である。また、環 A〜Gの芳香族複素環として好ましいのはフラン環、チォフェン環、ピロール環、ピリジン環、ォキサゾ一ル環、チアゾ一ル環であり、より好ましいのはフラン環、チォフェン環、ピロ一ル環である。

また、環 A、環 B、環 D、環 E、環 F、環 G、及び連結基 Lに含まれる環は互いに結合して Nを含む縮合環を結合していても良く、この場合の例としては、各環が結合する N原子を含むカルバゾ一ル環を形成する例が挙げられる。力ルバゾール環を形成する場合は、 A〜Gの環のいずれかが例外的に環構造ではなく、任意の置換基であってもよいが、その場合は好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基である。

環 A〜Gはいずれも任意の箇所に任意の置換基を有していても良く、これらの置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。

上記一般式（XII) において、連結基 Lは、芳香族炭化水素環及び/又は芳香族複素環を 1個又は 2個以上含む連結基であり、 Nはこの連結基 Lの芳香族炭化水素環又は芳香族複素環と直接結合している。

連結基 Lに含まれる芳香族炭化水素環、芳香族複素環としては、環 A〜Gの芳香族炭化水素環、芳香族複素環として例示したものと同様のものが挙げられる。連結基 Lに含まれる芳香族炭化水素環として好ましいのはベンゼン環、ナフ夕レン環、アントラセン環であり、より好ましいのはベンゼン環である。また、連結基 Lに含まれる芳香族複素環として好ましいのはフラン環、チォフェン環、ピロ一ル環、ピリジン環、ォキサゾール環、チアゾ一ル環、チアジゾール環、ォキサジァゾール環であり、より好ましいのはフラン環、チォフェン環、ピロール環である。

連結基 Lが、芳香族炭化水素環及び Z又は芳香族複素環を 2個以上含む場合、これらの環は直接連結していても良く、また、 2価以上の連結基（なお、この連結基は、 2価以上の基に限らず、 2価以上の原子を含む。）を介して結合してもよい。この場合、 2価以上の連結基としては公知のものが挙げられるが、例えば、下式のアルキレン基、

し

(mは 1以上の整数）

、アミン基、 o原子、 s原子、ケトン基、チオケトン基、 — c (=o) o—、アミド基、 S e、 T e、 P、 A s、 S b、 B i、 S i、 Bなどの金属原子、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基（不飽和複素環基）、非芳香族複素環基（飽和複素環基）、及びこれらの任意の組み合わせなどを挙げることができる。

連結基 Lに含まれる芳香族炭化水素環及び Z又は芳香族複素環の間に挟まれ得る連結基として好ましいものは、下式のアルキレン基、

ノ- _m

(mは 1以上の整数）

、アミン基、 O原子、 S原子、ケトン基、 —C (=〇） o—、アミド基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、一 C = N—、一 C = N_N=、飽和もしくは不飽和の複素環基であり、さらに好ましいのは炭素数が 1〜3のアルキレン基、 _ O C H ₂ 〇一、一 O C H₂ C H₂〇一、一O—、ケトン基、ベンゼン環基、フラン環基、チォフェン環基、ピロール環基である。また、前記一般式（XII) において、 nは好ましくは 2〜5である。

連結基 Lにおいては、芳香族炭化水素環あるいは芳香族複素環と不飽和連結基の組み合せの調整により 3 5 0〜4 3 0 n mの波長域に吸収極大及び適度な吸収をもたせることが望ましい。

連結基 Lに含まれる環、環同士を連結する連結基は任意の箇所に任意の置換基を有していても良く、これらの置換基が互いに連結して環を形成していてもよい。環 A〜G及び連結基 Lが有し得る任意の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子； 7K酸基；ニトロ基；シァノ基； 1価の有機基などを挙げることができ、その 1価の有機基としては、次のようなものが挙げられる。

メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、 i s o—プロピル基、 n—ブチル基、 i s o—プチル基、 t e r t—プチル基、アミル基、 t e r t—ァミル基、 n—へキシル基、 n—へプチル基、 n—才クチル基、 t e r t—ォクチル基等の炭素数 1〜 1 8の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロべンチル基、シクロへキシル基、ァダマンチル基等の炭素数 3〜1 8のシクロアルキル基；ビニル基、プロぺニル基、へキセニル基等の炭素数 2〜1 8の直鎖又は分岐のアルケニル基；シク口ペンテニル基、シク口へキセニル基等の炭素数 3〜 1 8のシクロアルケニル基；メトキシ基、エトキシ基、 n—プロポキシ基、 i s o—プロポキシ基、 n—ブトキシ基、 s e c一ブトキシ基、 t e r t一ブトキシ基、ァミルォキシ基、 t e r t—ァミルォキシ基、 n—へキシルォキシ基、 n—へプチルォキシ基、 n—才クチルォキシ基、 t e r t—ォクチルォキシ基等の炭素数 1〜 1 8の直鎖又は分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、ェチルチオ基、 n—プロピルチオ基、 i s o—プロピルチオ基、 n—プチルチオ基、 s e c一プチルチオ基、 t e r t— プチルチオ基、アミルチオ基、 t e r t一アミルチオ基、 n—へキシルチオ基、 n 一へプチルチオ基、 n—才クチルチオ基、 t e r t一才クチルチオ基等の炭素数 1 〜1 8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基；フエニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数 6〜 1 8のァリール基；ベンジル基、フエネチル基等の炭素数 7〜 1 8のァラルキル基；ピニルォキシ基、プロぺニルォキシ基、へキセニルォキシ基等の炭素数 2〜 1 8の直鎖又は分岐のアルケニルォキシ基；ビニルチオ基、プ口べ二ルチオ基、へキセニルチオ基等の炭素数 2〜1 8の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基；—C O R²¹で表されるァシル基；カルボキシル基；一 O C O R²²で表されるァシルォキシ基； _NR²³R²⁴で表されるアミノ基；— NH C O R²⁵で表されるァシルァミノ基；— NH C O O R²⁶で表されるカーバメート基；— C〇N R²⁷R²⁸で表される力ルバモイル基；一 C〇〇R²⁹で表されるカルボン酸エステル基；— S〇₃N R^MR³¹で表されるスルファモイル基；一 S 0₃R³²で表されるスルホン酸エステル基；一 C = N R³³で表される基；一 C =N— N R³⁴R³⁵で表される基； 2—チェニル基、 2—ピリジル基、フリル基、ォキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチォフェンジォキサイド基等の飽和もしくは不飽和の複素環基。

なお、 R²¹〜R³⁵はそれぞれ独立に水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいァリール基、又は置換されていてもよいァラルキル基を表す。上記置換基群において、アルキル基、シク口アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ァリール基、ァラルキル基、アルケニルォキシ基、アルケニルチオ基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基の、環 A〜G、連結基 Lにおける置換位置には特に制限はなく、また、複数の置換基を有する場合、これらは同種のものであっても良く、異なるものであってもよい。

環 A〜G、連結基 Lは、無置換であるか、或いは、置換基としてハロゲン原子、シァノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいァリール基、置換されていてもよいァラルキル基、置換されていてもよいアルケニルォキシ基、置換されていてもよいアルケニルチオ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいァシル基、力ルポキシル基、一 C =NR³³で表される基、一 C = N— N R³⁴R³⁵で表される基、飽和もしくは不飽和の複素環基で置換されていることが好ましく、置換基を有する場合のより好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シァノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいァリール基、置換されていてもよぃァラルキル基、置換されていてもよいアミノ基、一 C = NR³³で表される基、一 C = N— N R ³⁴ R ³⁵で表される基、飽和もしくは不飽和の複素環基である。

環 A〜G、及び連結基 Lが有し得る上記の任意の置換基が、更に任意の置換基で置換されている場合、この置換基の好ましい例としては、メトキシ基、エトキシ基、 n—プロポキシ基、 i s o—プロポキシ基、 n—ブトキシ基、 s e c—ブトキシ基、 t e r t—ブトキシ基等の炭素数 1〜1 0のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロボキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロボキシエトキシ基、メトキシブトキシ基等の炭素数 2〜1 2のアルコキシアルコキシ基；メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシェトキシ基、メトキシェトキシメトキシ基、エトキシメトキシメトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基等の炭素数 3〜1 5のアルコキシアルコキシアルコキシ基；フエニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数 6〜1 2のァリール基（これらは置換基で更に置換されていてもよい。 ) ；フエノキシ基、トリルォキシ基、キシリルォキシ基、ナフチルォキシ基等の炭素数 6〜1 2のァリールォキシ基；ビニルォキシ基、ァリルォキシ基等の炭素数 2〜1 2のアルケニルォキシ基；ァセチル基、プロピオニル基などのァシル基；シァノ基；ニトロ基；ヒドロキシル基；テトラヒドロフリル基；アミノ基； N， N ージメチルァミノ基、 N， N—ジェチルァミノ基等の炭素数 1〜1 0のアルキルァミノ基；メチルスルホニルァミノ基、ェチルスルホニルァミノ基、 n—プロピルスルホニルァミノ基等の炭素数 1〜6のアルキルスルホニルァミノ基；フッ素原子、塩素原子、臭.素原子等のハロゲン原子；メ卜キシカルポニル基、エトキシカルボ二ル基、 n—プロポキシカルポニル基、 i s o—プロポキシカルボ二ル基、 n—ブトキシカルポニル基等の炭素数 2〜 7のアルコキシカルボニル基；メチルカルポニルォキシ基、ェチルカルポニルォキシ基、 n—プロピルカルポニルォキシ基、 i s o —プロピルカルボニルォキシ基、 n—プチルカルポニルォキシ基等の炭素数 2〜 7 のアルキルカルボニルォキシ基；メトキシカルボニルォキシ基、エトキシカルポ二ルォキシ基、 n—プロポキシカルポニルォキシ基、 i s o—プロポキシカルボニルォキシ基、 n—プトキシカルボニルォキシ基、 t e r t一ブトキシカルボ二ルォキシ基などの炭素数 2〜 7のアルコキシカルボニルォキシ基；ビニル基、プロぺニル基、へキセニル基等の炭素数 2〜 18の直鎖又は分岐のアルケニル基；等が挙げられる。

本発明で用いられる前記一般式（XI) 〜（ΧΙΠ)で表される増感剤は、 390 〜430 nmの波長域に適度な吸収を有することから、 330~450 nm、好ましくは 350〜 430 nmの波長域に吸収極大をもつことが好ましレ^そのために、分子中に 4個以上の芳香族炭ィヒ水素環及び Z又は芳香族複素環を有することが好ましく、 5個以上の芳香族炭化水素環及び Z又は芳香族複素環を有することがさらに好ましい。

前記一般式（XI) 〜（XIII)で表される増感剤の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。

前記一般式（X I ) の増感剤の例

OCH'

(f-IX)

N— N

(1-IX)

(¾-IX) ヽ

ノ

ヽノ

\l ひ請 OOZdf/ェ:) d C9MC0/S00Z OAV ⁴¹

广

R⁴¹, R⁴², R⁴³はそれぞれ独立に以下の基を表す c

ノ

(XI— m)

前記一般式（XII) の増感剤の例

(ΧΠ-d)

H₃C

(上記 (XE_g)において、結合位置は、末端の 2つのフエニル基又は末端の 2つのトリル基のうちのいずれか 2つめベンゼン環上である。 )

51

、

66Zn0/t00Zd£/∑Jd C9MC0/S00Z OAV 前記一般式（XIII) の增感剤の例

CH 3

(ΧΠ-d)

2^π5 C₂H₅

なお、増感剤は 1種を単独で用いても良く、 2種以上を併用してもよい。

ぐ重合禁止剤 >

本発明の青紫色レーザ一感光性組成物の組成の詳細は後述するが、エチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤とを基本組成とするネガ型感光性組成物（N が好ましい。特に前記残膜率一露光量特性、又は、前記現像速度一露光量特性、及び前記最小露光量を効果的に発現するために、前述の如き特定波長域に吸収極大を有する化合物を増感剤として使用すると共に、感光性組成物における重合禁止剤の含有量が 5〜6 0 p p mであるのが好ましい。重合禁止剤の含有量の上限は特に好ましくは 5 0 p p mであり、下限は特に好ましくは 1 0 p p mである。

即ち、前述の通り、光重合性組成物において必須成分とされるエチレン性不飽和化合物には製造時の重合防止又は製品の保存安定性付与等のために重合禁止剤が添加されている。また、光重合性層形成性付与等のために用いられる高分子結合材にもその製造時に必要に応じて重合禁止剤が添加されている。更に、光重合性組成物としての熱的な重合、或いは経時的な重合等を防止する目的で、エチレン性不飽和化合物や高分子結合材に添加されている重合禁止剤の外に、それらの量見合いで、光重合性組成物の安定性確保等の目的で組成物調製時に更に添加される重合禁止剤が、合計量として、通常 1 0 0 p p m以上含有されているのに対して、本発明の好ましい態様においては、その重合禁止剤の含有量を低減化している。

前記ネガ型感光性組成物（Ν, ) における重合禁止剤の含有量が、少なすぎると、後述のレジス卜画像形成材の製造時における感光性組成物塗布液としての保存安定性が不良となってゲルイ匕が生じることとなつたり、ネガ型感光性組成物層としての熱的な重合、或いは経時的な重合を防止することが困難となる。一方、重合禁止剤の含有量が多すぎる場合、得られるレジスト画像のパターンが丸みを帯びたり、裾部の切れが不十分で裾引きと呼ばれる現象が生じる等、解像性が劣る傾向となる。なお、本発明において、感光性組成物における重合禁止剤の含有量を前記の範囲にコントロールするには、（i) エチレン性不飽和化合物に含有される重合禁止剤の含有量については、その添加量を制限するとか、その含有量の少ないエチレン性不飽和化合物を用いる等により、抑える方法、（i i)高分子結合材に含有される重合禁止剤の含有量については、その添加量を制限するとか、その含有量の少ない高分子結合材を用いる等により、抑える方法、（i i i) レジスト画像形成材の製造時における感光性組成物塗布液の乾燥条件を、例えば高温、長時間にする等により、重合禁止剤を消費する方法、 (iv)レジスト画像形成材の製造において、加熱する等により、重合禁止剤を消費する工程を設ける方法、等が挙げられる。なかでも、光重合性組成物としての変性の回避、及び生産性等の点から、前記（i) 又は（i i)の方法によるのが好ましい。

また、本発明において、重合禁止剤としては、通常この種光重合性組成物において重合禁止剤と称して用いられるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、ハイドロキノン、メチル八ィドロキノン、 t一ブチルハイドロキノン、 2 , 5 _ジ— t一プチルハイドロキノン、 p—メトキシフエノ一ル等ぞの構造中にハイドキノン構造を有するイドロキノン誘導体類、 p—ベンゾキノン、メチルー P—べンゾキノン、 t一ブチル _ p—ベンゾキノン、 2 , 5—ジフエニル一 p—べンゾキノン等その構造中に p—べンゾキノン構造を有する p—べンゾキノン誘導体類等が挙げられ、なかでも、ハイドロキノン誘導体類が好ましく、 p—メトキシフエノ一ルが特に好ましい。

なお、本発明において、感光性組成物中の重合禁止剤の含有量は、ガスクロマトダラフィ一によつてァセトン標準溶液で作成した検量線に基づき、感光性組成物の塗布液を仮支持体に塗布、乾燥して得られたレジスト画像形成材の感光性組成物層の 1 0重量％溶液についてのガスクロマトグラフィーによる測定値から定量したものである。

本発明の青紫色レーザー感光性組成物は、好ましくは増感剤として前記化合物を含むネガ型感光性組成物であるが、ネガ型感光性組成物としては、下記の（Ν, ) 〜 (Ν₃) が挙げられ、なかでも（N_t ) が好ましい。

ぐネガ型感光性組成物（N, ) >

本発明の青紫色レーザ一感光性組成物のなかでも、ネガ型感光性組成物としては、例えば、増感剤として前記化合物を含み、エチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤とを基本組成とするネガ型感光性組成物（N が挙げられる。

本発明において、ネガ型感光性組成物を構成するエチレン性不飽和化合物は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する光重合開始剤を含む光重合開始系の作用により付加重合し、場合により架橋、硬化するようなラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に少なくとも 1個有する化合物である。本発明におけるェチレン性不飽和化合物としては、ェチレン性不飽和結合を分子内に 1個有する化合物、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸〔なお、本発明において、 Γ (メタ) アクリル」とは、「アクリル」又は Z及び「メタクリル」を意味するものとする。〕、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、ィタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル、（メタ）ァクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、スチレン等、であってもよい。なかでも、重合性、架橋性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に 2個以上有する化合物であるのが好ましく、また、その不飽和結合が（メタ）ァクリロイルォキシ基に由来するァクリレート化合物が特に好ましい。

エチレン性不飽和結合を分子内に 2個以上有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、（メタ）ァクリロイルォキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシ（メタ）ァクリレー卜化合物とポリイソシァネート化合物とのウレタン (メタ) ァクリレート類、及び、（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）ァクリレー卜化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ (メタ）ァクリレート類等が挙げられる。

そのエステル類としては、具体的には、例えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（付加数 2〜1 4 ) 、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（付加数 2〜1 4 ) 、トリメチレングリコ一ル、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、へキサメチレングリコール、ノナメチレングリコール、トリメチ口一ルェタン、テトラメチロールェタン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペン夕エリスリトール、ジペン夕エリスリ！ル、ソルビトール、及びそれらのエチレンォキサイド付加物、プロピレン才キサイド付加物、ジエタノールァミン、トリェタノールァミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、エチレングリコ一ルジ（メタ）ァクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ァクリレート、トリエチレングリコ —ルジ (メタ) ァクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）ァクリレート、ノナエチレングリコールジ (メタ) ァクリレート、プロピレングリコールジ (メタ) ァクリレート、トリプロピレングリコ一ルジ (メタ) ァクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）ァクリレー卜、ネオペンチルダリコールジ (メタ) ァクリレート、へキサメチレングリコールジ（メタ）ァクリレート、ノナメチレングリコ —ルジ (メタ) ァクリレート、トリメチロールェ夕ントリ（メタ）ァクリレート、テトラメチロールェ夕ントリ (メタ）ァクリレート、トリメチロールプロパンジ（メ夕）ァクリレー卜、卜リメチロールプロパントリ (メタ) ァクリレー卜、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド付加トリ (メタ) ァクリレート、グリセロールジ（メタ）ァクリレー卜、グリセロールトリ（メタ）ァクリレート、グリセロールプロピレンォキサイド付加トリ (メタ) ァクリレート、ペン夕エリスリトールジ（メ夕）ァクリレート、ペン夕エリスリトールトリ（メタ）ァクリレー卜、ペン夕エリスリ！ルテトラ (メタ) ァクリレー卜、ジペン夕エリスリトールジ (メタ) ァクリレート、ジペン夕エリスリ ] ^一ルトリ（メタ）ァクリレート、ジペン夕エリスリ ] ルテトラ（メタ）ァクリレー卜、ジペン夕エリスリ！ ^一ルペン夕（メタ）ァクリレート、ジペン夕エリスリトールへキサ (メタ) ァクリレ一卜、ソルビ! ルトリ (メタ) ァクリレー卜、ソルビトールテトラ (メタ) ァクリレート、ソルビトールペン夕（メタ）ァクリレート、ソルピトールへキサ (メタ) ァクリレート等、及び同様のクロトネ一ト、イソクロトネ一ト、マレエート、イタコネート、シトラコネート等が挙げられる。更に、そのエステル類として、前記の如き不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガロール、ビスフエノール F、ビスフエノール A等の芳香族ポリヒドロキシ化合物、或いはそれらのエチレンォキサイド付加物やグリシジル基含有化合物付加物との反応物、具体的には、例えば、ヒドロキノンジ（メタ）ァクリレート、レゾルシンジ (メタ) ァクリレート、ピロガロールトリ (メタ) ァクリレート、ビスフエノール Aジ (メタ) ァクリレート、ビスフエノール Aビス〔ォキシェチレン (メタ) ァクリレート〕、ビスフエノール Aビス〔トリオキシエチレン (メ夕) ァクリレー卜〕、■ ビスフエノール Aビス〔ペン夕ォキシエチレン (メタ）ァクリレート〕、ビスフエノール Aビス〔へキサォキシエチレン (メタ）ァクリレート〕、ビスフエノール Aビス〔グリシジルェ一テル（メタ）ァクリレート〕等、また、前記の如き不飽和カルボン酸と、卜リス（2—ヒドロキシェチル）イソシァヌレート等の複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、トリス（2 ーヒドロキシェチル）イソシァヌレートのジ（メタ）ァクリレート、トリ（メタ）ァクリレ一ト等、また、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸とフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とテレフタル酸とペン夕エリスリトールとの縮合物、

(メタ）アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセリンとの縮合物等が挙げられる。

また、その（メタ）ァクリロイルォキシ基含有ホスフェート類としては、（メタ）ァクリロイルォキシ基を含有するホスフエ一ト化合物であれば特に限定されないが、なかでも、下記一般式 (Va)又は (Vb)で表されるものが好ましい。

R¹³0 O

〔CH₂ =C-C-0- (CH₂ ) _n—0〕 _m— P— (OH) ₃ (½)

R¹³0 O

〔CH₂ =C-C-0- (CH₂ CH₂ O) _n〕 _m— P— (OH) ₃ (Vb)

〔式 (Va)及び (Vb)中、 R¹³は水素原子又はメチル基を示し、 nは 1〜 2 5の整数、 mは 1、 2、又は 3である。〕

ここで、 nは 1〜1 0、特に 1〜4であるのが好ましく、これらの具体例としては、例えば、（メタ）ァクリロイルォキシェチルホスフェート、ビス〔 (メタ) ァクリロイルォキシェチル〕ホスフェート、（メタ）ァクリロイルォキシエチレングリコ一ルホスフェート等が挙げられ、これらはそれぞれが単独で用いられても混合物として用いられてもよい。

また、そのウレタン（メタ）ァクリレート類としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル (メタ) ァクリレー卜、ヒドロキシェチル（メタ）ァクリレート、グリセロールジ (メタ) ァクリレート、ペン夕エリスリトールトリ (メタ) ァクリレート、テトラメチロ一ルェタントリ (メタ) ァクリレート等のヒドロキシ (メタ) ァクリレート化合物と、

卜、 2 , 4 , 4—卜リメチ

卜、ダイマ一酸ジイソシァネート、 1 6，

—ト、 1， 8—ジイソシァネート一 4一イソシァネ一トメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシァネート、シクロへキサンジイソシァネート、ジメチルシクロへキサンジイソシァネート、 4 , 4，ーメチレンビス (シクロへキシルイソシァネート) 、リイソシァネー卜、 ρ—フエ二レンジイソシァネート、 2 , 4ー卜リレンジイソシァネート、 2 , 6—トリレンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネート、テトラメチルキシリレンジイソシァネ一卜、 4 4，ージフエニルメタンジイソシァス (イソシァネ一卜フエニルメタン) 、トリス (イソシァネー卜フエニル) チォホスフト等の芳香族ポリィソシァネ一ト、イソシァヌレート等の複素環式ポリィソシァネート、等のポリイソシァネート化合物との反応物等が挙げられる。

なかでも、ウレタン (メタ) ァクリレート類としては、 1分子中に 4個以上のゥレタン結合〔一 NH— C O— O—〕及び 4個以上の（メタ）ァクリロイルォキシ基を有する化合物が好ましい。該化合物は、例えば、ペン夕エリスリトール、ポリグリセリン等の 1分子中に 4個以上の水酸基を有する化合物に、へキサメチレンジィソシァネート、トリメチルへキサメチレンジイソシァネー卜、イソホロンジイソシァネー卜、トリレンジィソシァネ一ト等のジィソシァネー卜化合物を反応させて得られた化合物 ( i - 1 ) 、或いは、エチレングリコール等の 1分子中に 2個以上の水酸基を有する化合物に、旭化成工業社製「デユラネート 2 4 A— 1 0 0」、同「デユラネート 2 2 A— 7 5 P X」、同「デユラネート 2 1 S— 7 5 E」、同「デユラネ一卜 1 8 H—7 0 B」等ピウレツトタイプ、同「デユラネート P— 3 0 1 - 7 5 E」、同「デユラネート E— 4 0 2— 9 0 T」、同「デユラネート Ε— 4 0 5 _ 8 0 Τ」等のァダクトタイプ等の 1分子中に 3個以上のイソシァネート基を有する化合物を反応させて得られた化合物 ( i - 2 ) 、或いは、イソシァネートェチル（メ夕）ァクリレート等を重合若しくは共重合させて得られた化合物（i— 3 ) 等の、 1分子中に 4個以上、好ましくは 6個以上のィソシァネート基を有する化合物等、具体的には、例えば、旭化成工業社製「デユラネート ME 2 0— 1 0 0」（i ) と、ペンタエリスリ！ ^一ルジ（メタ）ァクリレート、ペン夕エリスリトールトリ (メタ) ァクリレート、ジペンタエリスリ！ ^一ルジ (メタ) ァクリレー卜、ジペンタエリスリトールトリ (メタ) ァクリレー卜、ジペン夕エリスリトールテトラ (メタ) ァクリレート、ジペン夕エリスリトールペン夕 (メタ) ァクリレート等の、 1分子中に 1個以上の水酸基及び 2個以上、好ましくは 3個以上の（メタ）ァクリロイルォキシ基を有する化合物（i i ) とを、反応させることにより得ることができる。

ここで、前記化合物（ i ) の重量平均分子量は、 5 0 0 2 0 0 0 0 0であるのが好ましく、 1 0 0 0 1 5 0 0 0 0であるのが特に好しい。また、前記のようなウレタン（メタ）ァクリレート類の重量平均分子量は、 6 0 0 1 5 0 , 000であるのが好ましい。また、ウレタン結合を 6個以上有するのが好ましく、 8偭以上有するのが特に好ましく、（メタ）ァクリロイルォキシ基を 6個以上有するのが好ましく、 8個以上有するのが特に好ましい。

なお、このようなウレタン（メタ）ァクリレート類は、例えば、前記化合物（i) と前記化合物（i i) とを、トルエンや酢酸ェチル等の有機溶媒中で、前者のイソシァネート基と後者の水酸基とのモル比を 1Z10〜10/1の割合として、必要に応じてジラウリン酸 n—ブチル錫等の触媒を用いて、 10〜150°Cで 5分〜 3 時間程度反応させる方法により製造することができる。

本発明において、前記ウレタン（メタ）ァクリレー卜類のなかでも、下記一般式 (VI)で表されるものが特に好ましい。

(VT)

〔式 (VI)中、 R aはアルキレンォキシ基又はァリーレンォキシ基の繰り返し構造を有し、且つ Rbと結合し得るォキシ基を 4〜20個有する基を示し、 Rb及び R cは各々独立して炭素数が 1〜10のアルキレン基を示し、 Rdは（メタ）ァクリロイルォキシ基を 1〜10個有する有機残基を示し、 Ra、 Rb、 Rc、及び R d は置換基を有していてもよく、 Xは 4〜20の整数、 yは 0〜15の整数、 zは 1 〜15の整数である。〕

ここで、式 (VI)中の R aのアルキレンォキシ基の繰り返し構造としては、例えば、プロピレントリオール、グリセリン、ペン夕エリスリ 1 ^一ル等に由来するものが、また、ァリーレンォキシ基の繰り返し構造としては、例えば、ピロガロール、 1, 3， 5—ベンゼントリオール等に由来するものが、それぞれ挙げられる。また、 R b及び R cのアルキレン基の炭素数は、各々独立して 1〜 5であるのが好ましく、また、 Rdにおける（メタ）ァクリロイルォキシ基は 1〜7個であるのが好ましい。また、 Xは 4：〜 15、 yは:！〜 10、 zは：！〜 10であるのが、それぞれ好ましい。更に、 Raとしては下記式〔なお、式中、 kは 2〜10の整数である。〕であるのが、また、 Rb及び Rcとしては各々独立して、ジメチレン基、モノメチルジメチレン基、又は、トリメチレン基であるのが、また、 Rdとしては下記式であるのが、それぞれ特に好ましい。 Ra 十 0~CH₂ - f H-~CH₂-。"^

0

R d； H₂一 O - Q

一 ff 、

■0-CH₂-CH— {CH₂-0-Q 2 (但し、 Q は C一 CH=CH₂ ) また、そのエポキシ（メタ）ァクリレート類としては、具体的には、例えば、（メ夕）アクリル酸、又は前記の如きヒドロキシ（メタ）ァクリレート化合物と、（ポ. リ）エチレングリコ一ルポリグリシジルエーテル、 (ポリ) プロピレングリコールポリグリシジルエーテル、 (ポリ) テトラメチレングリコ一ルポリグリシジルェ一テル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポリグリシジルェ一テル、（ポリ）ネオペンチルグリコールポリグリシジルェ一テル、（ポリ）へキサメチレングリコールポリダリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロールプロパンポリダリシジルエーテル、（ポリ）グリセ口一ルポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フエノールノポラックポリェポキシ化合物、ブロム化フエノールノポラックポリエポキシ化合物、（o—， m—， P—）クレゾールノポラックポリエポキシ化合物、ビスフエノール Aポリエポキシ化合物、ビスフエノール Fポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソルビタンボリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシァヌレート、トリグリシジルトリス（2—ヒドロキシェチル）イソシァヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられる。

また、その他のエチレン性不飽和化合物として、前記以外に、例えば、エチレンビス（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、フタル酸ジァリル等のァリルエステル類、ジビニルフ夕レート等のピニル基含有化合物類等が挙げられる。以上のエチレン性不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても 2種以上が併用されてもよい。以上のエチレン性不飽和化合物として、本発明においては、エステル（メタ）ァクリレート類、（メタ）ァクリロイルォキシ基含有ホスフェート類、又は、ウレ夕ン (メタ) ァクリレート類が好ましく、エステル（メタ）ァクリレート類が特に好ましく、そのエステル (メタ) ァクリレート類のなかでも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ一ル、或いはビスフエノール Aのポリエチレンォキサイド付加物等のポリオキシアルキレン基を含み、（メタ）ァクリロイルォキシ基を 2 個以上含むエステル（メタ）ァクリレート類が殊更好ましい。

また、本発明において、ネガ型感光性組成物（N を構成する光重合開始剤は、前記増感剤との共存下で光照射されたときに、増感剤の光励起エネルギーを受け取つて活性種としてのラジカルを発生し、前記エチレン性不飽和化合物を重合に到らしめる活性化合物であって、例えば、へキサァリールビイミダゾール系化合物、チタノセン系化合物、ハロゲン化炭化水素誘導体、ョードニゥム塩、及び有機硼素酸塩等が挙げられる。なかでも、感光性組成物としての感度、基板に対する密着性、及び保存安定性等の面から、へキサァリ一ルビィミダゾール系化合物、チ夕ノセン系化合物、及び有機硼素酸塩が好ましく、黄色灯下におけるセーフライト性の面から、へキサァリ一ルビィミダゾ一ル系化合物が特に好ましい。

そのへキサァリ一ルビィミダゾ一ル系化合物としては、具体的には、例えば、 2 , 2， —ビス (o—クロ口フエニル) —4, 4， , 5, 5，ーテトラフエ二ルビイミダゾール、 2， 2， —ビス (o—クロ口フエニル) 一 4, 4， , 5， 5，ーテトラ

(P—メチルフエニル）ビイミダゾ一ル、 2, 2，一ビス (o—クロ口フエニル) —4， 4' , 5， 5，一テトラ (p—メトキシフエ二ル) ビイミダゾ一ル、 2， 2，一ビス (o， p—ジクロ口フエニル) 一 4， 4 ' , 5， 5 ' —テトラ（p—メトキシフエニル）ビイミダゾ一ル、 2, 2，一ビス (o_クロ口フエニル) 一 4， 4， , 5， 5， —テトラ（p—エトキシカルポニルフエニル）ビイミダゾ一ル、 2, 2， —ビス（o—クロ口フエニル）一4， 4，， 5， 5，一テトラ（p—クロ口フエ二ル）ピイミダゾ一ル、 2， 2，一ビス (o—クロ口フエニル) -4, 4，， 5, 5，ーテトラ (o， p—ジクロロフエニル) ビイミダゾール、 2, 2， —ビス (o, p ——ジクロ口フエニル) —4, 4， , 5， 5，一テトラ (o, p—ジクロロフエニル) ビィミダゾール、 2， 2， —ビス (o—クロ口フエニル) —4， 4，， 5， 5， — テトラ (P—フルオロフェニル) ビイミダゾール、 2, 2， —ビス（o—クロロフェニル）一 4， 4，， 5, 5 ' ーテトラ（o， p—ジブロモフエニル）ビイミダゾール、 2, 2， —ビス (o—ブロモフエニル) _4， 4，， 5, 5，ーテトラ（o, p—ジクロロフエニル）ビイミダゾ一ル、 2， 2，一ビス (o—ブロモフエニル) 一 4， 4，， 5， 5， —テトラ（p—ョ一ドフエニル）ビイミダゾ一ル、 2, 2， —ビス (0—ブロモフエニル) 一 4， 4，， 5, 5，ーテトラ（o—クロ口— p— メトキシフエ二ル）ビィミダゾール、 2, 2，一ビス (o—クロ口フエニル) 一 4, 4' ， 5, 5 ' —テトラ（p—クロ口ナフチル）ビイミダゾール等が挙げられる。なかでも、へキサフエ二ルビイミダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の 2, 2 ' 一位に結合したベンゼン環の o—位がハロゲン原子で置換されたものが更に好ましく、そのイミダゾール環上の 4， 4' , 5， 5 ' —位に結合したベンゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシカルボニル基で置換されたものが特に好ましい。

なお、感光性組成物における光重合開始剤として従来知られているへキサァリ一ルビィミダゾール系化合物は、融点が 1 90 以上、例えば 196~202 程度であり、且つ、波長 1. 54 Aの X線回折スペクトルにおいてブラッグ角（20士 0. 2° ) 9. 925° に最大回折ピークを有するものである。本発明におけるへキサァリ一ルビイミダゾ一ル化合物としては、塗布溶剤に対する溶解性、及び感光性組成物中での分散安定性等の面から、融点が 1 80°C以下、更には 175°C以下であり、且つ、波長 1. 54Aの X線回折スペクトルにおいてブラッグ角（20土 0. 2° ) 21. 16° に最大回折ピークを有するものであるのが最適である。その最適なへキサァリールビイミダゾール系化合物としては、例えば、 2, 2 ' ービス（o—クロ口フエニル）ー4， 4，， 5, 5，一テトラフエ二ルビイミダゾール、 2, 2， —ビス (o, p—ジクロロフエニル）一 4， 4，， 5, 5，ーテトラフエ二ルビイミダゾール、 2, 2，一ビス（o—ブロモフエニル） —4， 4，， 5， 5，ーテトラフエ二ルビイミダゾール、 2, 2，一ビス（o， p—ジクロロフエニル） —4, 4，， 5, 5，ーテトラ (p—メトキシフエニル) ビィミダゾール等が挙げられ、なかでも、 2, 2， —ビス (o—クロ口フエニル) —4, 4，， 5, 5，一テトラフエニルビィミダゾール、 2， 2，一ビス（o, p—ジクロロフエニル）一 4， 4，， 5， 5' —テ卜ラ（p—メトキシフエ二ル）ビイミダゾ一ルが特に好ましい。

また、そのチ夕ノセン系化合物としては、具体的には、例えば、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムジクロライド、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビスフエ二ル、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビス (2, 4—ジフルオロフェニル) 、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビス (2, 6ージフルオロフェニル) 、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビス (2, 4, 6—卜リフルオロフェニル) 、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビス (2, 3， 5, 6ーテトラフルオロフェニル) 、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビス (2, 3， 4, 5, 6一ペン夕フルオロフェニル）、ジ (メチルシクロペン夕ジェニル) チタニウムビス（2， 6—ジフルォロフエニル）、ジ (メチルシクロペン夕ジェニル) チタニウムビス（2， 3， 4， 5， 6一ペン夕フルオロフェニル) 、ジシクロペン夕ジェニルチタニウムビス〔2, 6 —ジフルオロー 3— (1—ピロリル）フエニル〕等が挙げられる。なかでも、ジシクロペン夕ジェニル構造とビフエ二ル構造を有するチタン化合物が好ましく、ビフェニル環の o_位がハロゲン原子で置換されたものが特に好ましい。

また、その八ロゲン化炭化水素誘導体としては、ハロゲン化アルカン、ハロメチルイ匕 s—トリアジン誘導体、及び、八ロメチル化 1, 3， 4一ォキサジァゾール誘導体等が挙げられ、そのハロゲン化アルカンとしては、具体的には、例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、 1 , 2—ジクロロェタン、 1 , 2ージプロモエタン等が挙げられる。

また、そのハロメチル化 s—トリアジン誘導体としては、具体的には、例えば、 2, 4, 6—卜リス (モノクロロメチル) 一 s—卜リアジン、 2, 4, 6—トリス (ジクロロメチル）一 s—トリアジン、 2, 4， 6—トリス（トリクロロメチル）一 s—卜リアジン、 2 _メチル—4， 6一ビス (トリクロロメチル） — s—トリアジン、 2— n—プロピル一 4, 6一ビス (トリクロロメチル） ― s一卜リアジン、 2一 ( , , β—トリクロロェチル) —4， 6—ビス (トリクロロメチル) 一 s 一トリアジン、 2—フエ二ルー 4， 6一ビス (トリクロロメチル）一 s—トリアジン、 2— (p—メトキシフエニル) -4, 6—ビス（トリクロロメチル） — s—トリアジン、 2— （3， 4一エポキシフエニル）一 4, 6_ビス（トリクロロメチル）一 s一卜リアジン、 2一 (p—クロ口フエニル) -4, 6 ビス (トリクロロメチル） — s—卜リアジン、 2— 〔1— (p—メトキシフエニル) -2, 4ーブ夕ジェ二ル〕 — 4， 6—ビス（トリクロロメチル） ― s—トリァジン、 2—スチリルー 4， 6—ビス (トリクロロメチル) 一 s一卜リアジン、 2— (p—メトキシスチリル) ー4， 6—ビス (トリクロロメチル）一 s一卜リアジン、 2 - (p—メトキシー m ーヒドロキシスチリル) —4, 6—ビス (トリクロロメチル) - sートリアジン、 2 - (p— i—プロピルォキシスチリル) —4， 6—ビス (トリクロロメチル) 一 s -卜リアジン、 2— (p—トリル） -4, 6—ビス (トリクロロメチル）一 s— トリアジン、 2― (p—メトキシナフチル) -4, 6—ビス (トリクロロメチル) 一 s—卜リアジン、 2 - (p—エトキシナフチル) -4, 6—ビス（トリクロロメチル）一 s一卜リアジン、 2 - (p—ェ卜キシカルボニルナフチル) 一 4, 6—ビス (トリクロロメチル) 一 s一卜リアジン、 2—フエ二ルチオ一 4， 6—ビス (トリク口ロメチル） ― s—卜リアジン、 2一べンジルチオ一 4， 6—ビス (トリクロロメチル）一 s—卜リアジン、 2, 4， 6—トリス (ジブロモメチル) 一 s—卜リァジン、 2, 4， 6—トリス (トリプロモメチル) 一 s一卜リアジン、 2—メチル —4， 6—ビス (トリブロモメチル）一 s—卜リアジン、 2—メトキシー 4, 6 - ビス（トリプロモメチル）一 s—トリアジン等が挙げられる。なかでも、ビス (トリハロメチル） — s—トリァジンが好ましく、 2—メチルー 4， 6—ビス (トリク口ロメチル）一 s—卜リアジン、 2—フエニル—4, 6—ビス (トリクロロメチル) 一 s一卜リアジン、 2— (p—メトキシフエニル）一 4, 6 -ビス (トリクロロメチル） - s一卜リアジン、 2 - (3, 4一エポキシフエニル) _4， 6 -ビス (トリク口ロメチル） ― s一卜リアジン、 2— 〔1一（p—メトキシフエニル） -2, 4ーブ夕ジェニル〕 -4, 6—ビス（トリクロロメチル） - s一卜リアジン、 2- (P—メトキシスチリル）一 4， 6—ビス (トリクロロメチル) —s—トリアジン、 2― (P—メトキシ一 m—ヒドロキシスチリル) —4， 6 -ビス (トリクロロメチル）一 s一卜リアジン、 2- (p- i一プロピルォキシスチリル) —4, 6—ビス (トリクロロメチル）一 s—トリアジン等が特に好ましい。また、そのハロメチル化ォキサジァゾ一ル誘導体としては、具体的には、例えば、 2- (p—メトキシフエニル）一5—卜リクロロメチルー 1， 3, 4—ォキサジァゾ一ル、 2— (p—メトキシスチリル）一 5—トリクロロメチルー 1, 3， 4一才キサジァゾール、 2- (o—ベンゾフリル) —5—トリクロロメチル— 1, 3, 4 一ォキサジァゾール、 2— 〔)3— （o—べンゾフリル）ビニル〕一 5—トリクロ口メチルー 1 , 3， 4ーォキサジァゾール等が挙げられる。

また、そのョードニゥム塩としては、具体的には、例えば、ジフエ二ルョードニゥムへキサフルォロアルセネート、ジフエ二ルョードニゥムテトラフルォロポレート、ジフエ二ルョードニゥム p—トルエンスルホネート、ジフエ二ルョードニゥムカンファ一スルホネート等のジァリールョードニゥム塩、ジシクロへキシルョードニゥムへキサフルォロアルセネート、ジシク口へキシルョードニゥムテトラフルォロボレート、ジシクロへキシルョ一ドニゥム p—トルエンスルホネート、ジシクロへキシルョードニゥムカンファースルホネート等のジシクロアルキルョ一ドニゥム塩等が挙げられ、なかでも、ジァリールョ一ドニゥム塩が好ましい。

また、その有機硼素酸塩としては、例えば、有機硼素アンモニゥム錯体、有機硼素ホスホニゥム錯体、有機硼素スルホ二ゥム錯体、有機硼素ォキソスルホ二ゥム錯体、有機硼素ョ一ドニゥム錯体、有機硼素遷移金属配位錯体等が挙げられる。その有機硼素ァニオンとしては、例えば、 n _プチルートリフエニル硼素ァニオン、 n 一プチルートリス ( 2 , 4， 6—トリメチルフエニル) 硼素ァニオン、 n—ブチルートリス ( P—メトキシフエニル) 硼素ァニオン、 n _プチルートリス ( p—フルオロフェニル）硼素ァニオン、 n—プチルートリス（m—フルオロフェニル）硼素ァニオン、 n—プチルートリス ( 3—フルオロー 4一メチルフエニル) 硼素ァニォン、 n—プチルートリス ( 2 , 6ージフルオロフェニル) 硼素ァニオン、 n—プチルートリス ( 2 , 4， 6—トリフルオロフェニル) 硼素ァニオン、 n—プチルー卜リス ( 2 , 3 , 4， 5 , 6一ペン夕フルオロフェニル) 硼素ァニオン、 n—ブチルートリス（p—クロ口フエニル）硼素ァニオン、 n—ブチルートリス（2， 6—ジフルオロー 3—ピロリルフエ二ル）一硼素ァニオン等のアルキル一トリフエニル硼素ァニオンが好ましく、また、対カチオンとしては、アンモニゥムカチオン、ホスホニゥムカチオン、スルホニゥムカチオン、ョ一ドニゥムカチオン等のォニゥム化合物が好ましく、テトラアルキルァンモニゥム等の有機ァンモニゥムカチオンが特に好ましい。

本発明の青紫色レーザー感光性組成物において、ネガ型感光性組成物（N! )を構成する前記増感剤、前記エチレン性不飽和化合物、及び前記光重合開始剤の各含有割合は、ネガ型感光性組成物（N の全量に対して、前記増感剤が 0 . 0 5〜2 0 重量％、前記エチレン性不飽和化合物が 1 0〜9 0重量％、前記光重合開始剤が 0 . 5 ~ 5 0重量％であるのが好ましく、前記増感剤が 0 . 1〜1 0重量％、前記ェチレン性不飽和化合物が 2 0〜 7 0重量％、前記光重合開始剤が 1〜 3 0重量％であるのが特に好ましい。

本発明におけるネガ型感光性組成物は、前記増感剤、前記エチレン性不飽和化合物、及び前記光重合開始剤以外に、基板上への感光性組成物層としての形成性、及び現像性等の向上を目的として、更に、アルカリ可溶性樹脂を含有するのが好ましく、そのアルカリ可溶性樹脂としては、フエノール性水酸基含有樹脂、及び、力ルポキシル基含有ビニル系樹脂等が挙げられるが、ここでのネガ型感光性組成物

(Ν, ) においては、力ルポキシル基含有ビニル系樹脂が好ましい。そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、ーメチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル (メタ) ァクリレート、ェチル (メタ) ァクリレート、プロピル（メタ）ァクリレー卜、ブチル (メタ) ァクリレート、ペンチル (メタ) ァクリレート、へキシル (メタ) ァクリレート、ドデシル (メタ) ァクリレート、 2—ェチルへキシル (メタ）ァクリレ一卜、ヒドロキシメチル (メタ) ァクリレート、ヒドロキシェチル (メタ) ァクリレート、グリシジル（メタ）ァクリレート、ベンジル (メタ) ァクリレー卜、 N, N—ジメチルアミノエチル (メタ）ァクリレ一卜、 N— (メタ) ァクリロイルモルホリン、 (メタ) アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、 N—メチロール（メタ）アクリルアミド、 N， N—ジメチル（メ夕）アクリルアミド、 N, N—ジメチルアミノエチル (メタ) アクリルアミド、酢酸ビニル等の他のビニル化合物との共重合体等が挙げられる。これら力ルポキシル基含有ビニル系樹脂は、酸価が 5 0 - 3 0 O KO H 'm g/ gであるのが好ましく、 1 0 0〜2 5 0 KO H · m gZ gであるのが特に好ましい。また、ポリスチレン換算の重量平均分子量が 1 0， 0 0 0〜 2 0 0， 0 0 0であるのが好ましく、 2 0， 0 0 0〜1 0 0， 0 0 0であるのが特に好ましい。

これらのなかでも、本発明におけるネガ型感光性組成物（N! ) に含有されるアルカリ可溶性樹脂としては、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体、及び（メタ）アクリル酸の各単量体に由来する構成繰返し単位を含む共重合体であるのが好ましい。その共重合体としては、スチレン系単量体、（メタ）ァクリル酸エステル系単量体、及び（メタ）アクリル酸の各単量体に由来する構成繰返し単位を、各々、 3〜3 0モル％、 1 0〜8 0モル％、及び 1 0〜6 0モル％の割合で含むのが好ましく、各々、 5〜2 5モル％、 2 0 - 8 0モル％、及び 1 5〜 5 5 モル％の割合で含むのが特に好ましい。

ここで、前記共重合体におけるスチレン系単量体としては、具体的には、例えば、スチレン、 α—メチルスチレン、 0：—ェチルスチレン等の a一置換アルキルスチレン、 o—メチルスチレン、 m—メチルスチレン、 p—メチルスチレン、 2 , 5 _ジメチルスチレン等の核置換アルキルスチレン、 o—ヒドロキシスチレン、 m—ヒドロキシスチレン、 p—ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン等の核置換ヒドロキシスチレン、 p一クロロスチレン、 p—ブロモスチレン、ジブ口モスチレン等の核置換ハロゲン化スチレン等が挙げられる。また、アクリル酸エステル系単量体としては、具体的には、例えば、メチル (メタ) ァクリレート、ェチル (メタ) 7 クリレート、プロピル（メタ）ァクリレート、 n—プチル（メタ）ァクリレート、 i 一ブチル (メタ) ァクリレー卜、へキシル（メタ）ァクリレート、 2 _ェチルへキシル（メタ）ァクリレー卜、ォクチル（メタ）ァクリレート等の (メタ) ァクリル酸の、好ましくは炭素数 1〜1 2、更に好ましくは炭素数 1〜8のアルキルエステル、及び、ヒドロキシメチル（メタ）ァクリレート、ヒドロキシェチル (メタ) ァクリレート、グリシジル (メタ) ァクリレート、ベンジル (メタ) ァクリレート、アミノエチル (メタ) ァクリレート、 N, N—ジメチルアミノエチル (メタ) ァク W 200

40

リレート等の置換アルキルエステル等が挙げられる。なお、前記共重合体としては、前記スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体、及び（メタ）アクリル酸の各単量体に由来する構成繰返し単位の外に、更に、例えば、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、ィタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸や、（メタ）アクリロニトリル、 (メタ) アクリルアミド、 N—メチロール (メタ) アクリルアミド、 N , N—ジメチル（メタ）アクリルアミド、 N, N—ジメチルアミノエチル (メタ) アクリルァミド等の（メタ）アクリル酸誘導体、及び、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル化合物等の共重合可能な他単量体に由来する構成繰返し単位を含有していてもよく、これらの他単量体に由来する構成繰返し単位の含有量は、共重合体全体の 1 0モル％以下であるのが好ましい。

また、その他の力ルポキシル基含有ビニル系樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する力ルポキシル基含有ビニル系樹脂が挙げられる。そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、具体的には、例えば、カルボキシル基含有重合体に、ァリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）ァクリレート、 α—ェチルダリシジル（メタ）ァクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネ一ト、クロトニルグリシジルエーテル、ィタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、 3 , 4—ェポキシシクロへキシルメチル（メタ）ァクリレート、 2 , 3—エポキシシクロペンチルメチル（メタ）ァクリレート、 7， 8—エポキシ〔トリシクロ [ 5 . 2 . 1 . 0 ] デシ一 2—ィル〕ォキシメチル（メタ）ァクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、力ルポキシル基含有重合体の有するカルボキシル基の 5〜 9 0 モル％、好ましくは 3 0〜7 0モル％程度を反応させて得られた反応生成物、及び、ァリル（メタ）ァクリレー卜、 3—ァリルォキシ一 2—ヒドロキシプロピル（メタ）ァクリレート、シンナミル (メタ) ァクリレート、クロトニル (メタ) ァクリレート、メタリル (メタ) ァクリレート、 Ν , Ν—ジァリル (メタ) アクリルアミド等の 2種以上の不飽和基を有する化合物、又は、ビニル（メタ）ァクリレート、 1一クロロビニル（メタ）ァクリレー卜、 2一フエ二ルビニル (メタ）ァクリレー卜、 1一プロぺニル (メタ) ァクリレート、ピニルクロトネ一ト、ビニル (メタ) ァクリルアミド等の 2種以上の不飽和基を有する化合物と、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を 1 0〜9 0モル％、好ましくは 3 0〜 8 0モル％程度となるように共重合させて得られた反応生成物等が挙げられる。

更に、その他の力ルポキシル基含有ビニル系樹脂として、エポキシ樹脂の α , β 一不飽和モノ力ルポン酸付加体に、多価力ルポン酸若しくはその無水物が付加された、不飽和基及び力ルポキシル基含有エポキシ樹脂が挙げられる。この不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂は、具体的には、エポキシ樹脂のエポキシ基に α , 一不飽和モノカルボン酸のカルボキシル基が開環付加されて形成されたエステル結合（一 C O O—) を介してエチレン性不飽和結合が付加されていると共に、その際生じた水酸基に多価カルボン酸若しくはその無水物のカルボキシル基が反応して形成されたエステル結合を介して残存するカルボキシル基が付加されたものである。

ここで、そのエポキシ樹脂としては、具体的には、例えば、ビスフエノール Aェポキシ樹脂、ビスフエノール Fエポキシ樹脂、ビスフエノール Sエポキシ樹脂、フエノールノポラックエポキシ樹脂、クレゾ一ルノポラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂等が挙げられ、なかでも、フエノールノポラックエポキシ樹脂、又はクレゾ一ルノポラックエポキシ樹脂が特に好ましい。また、その α， β— 不飽和モノカルボン酸としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ィタコン酸、シトラコン酸等が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。また、その多価カルボン酸若しくはその無水物としては、具体的には、例えば、琥珀酸、マレイン酸、ィタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフ夕ル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフ夕ル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフ夕ル酸、へキサヒドロフタル酸、メチルへキサヒドロフタル酸、及びそれらの無水物等が挙げられ、なかでも、マレイン酸無水物、テトラヒドロフ夕ル酸無水物、又はへキサヒドロフタル酸無水物が好ましく、テトラヒドロフ夕ル酸無水物が特に好ましい。

これらの不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂のなかでは、感光性組成物としての感度、解像性、及び基板に対する密着性等の面から、エポキシ樹脂がフェノールノポラックエポキシ樹脂、又はクレゾールノポラックェポキシ樹脂であり、 , j3 _不飽和モノカルボン酸が（メタ）アクリル酸であり、多価カルボン酸若しくはその無水物がテトラヒドロフ夕ル酸無水物であるものが特に好ましい。また、酸価が 2 0〜2 0 O m g · KO H/ g、重量平均分子量が 2， 0 0 0〜2 0 0， 0 0 0であるのが好ましい。

本発明の青紫色レーザー感光性組成物において、ネガ型感光性組成物（N に含有される前記アルカリ可溶性樹脂の含有割合は、ネガ型感光性組成物（Ν, )の全量に対して、 0〜8 0重量％であるのが好ましく、 1 0〜7 0重量％であるのが特に好ましい。

また、本発明におけるネガ型感光性組成物（Ν は、更に、重合加速剤を含有していてもよく、その重合加速剤として、アミノ酸のエステル又は双極イオン化合物を含むのが好ましい。そのアミノ酸のエステル又は双極イオン化合物としては、下記一般式 (Vila)又は (Vl lb)で表されるものが好ましい。

〔式 (Vila)及び (Vllb)中、 R¹⁴及び R¹⁵は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいァリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は水素原子を示し、 R¹⁶及び R¹⁷は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、 R¹⁸は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、又は置換基を有していてもよいァリール基を示し、 R¹⁹は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよぃァリール基、又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、 pは 0〜1 0の整数である。〕

ここで、式 (Vila)及び (Vllb)中の R¹⁴、 R¹⁵、 R¹⁶、 R¹⁷、 R¹⁸、及び R¹⁹のアルキル基としては、炭素数が 1〜 8であるのが好ましく、 1〜 4であるのが更に好ましい。また、 R ¹⁸のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、ァリル基、イソプロぺニルまた、 R¹⁴、 R¹⁵、 R¹⁸、及ぴ R¹³のァリール基としては、例えば、フエニルナフチル基等が、また、 R¹⁴、 R¹⁵、及び R¹⁹の複素環基としては、例えば、フリル基、フラニル基、ピロリル基、ピリジル基等が、それぞれ挙げられる。

また、それらのアルキル基、及びアルケニル基における置換基としては、例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボ二ル基、アルケニルォキシ基、アルケニルォキシカルボ二ル基、フエニル基、ハロゲン原子等が、また、それらのァリール基、複素環基における置換基としては、例えば、更にアルコキシ基やフエニル基等の置換基を有していてもよいアルキル基、同じくアルコキシ基、同じくアルケニル基、同じくアルケニルォキシ基、同じくァシル基、同じくァシルォキシ基、同じくアルコキシカルポエル基、同じくフエノキシ基、同じくアルキルチオ基、同じくアルキルスルホニル基、及び、アルデヒド基、力ルポキシル基、ヒドロキシル基、スルホ基、ニトロ基、シァノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。

本発明において、以上の前記一般式 (Vila)又は (VI lb)で表されるアミノ酸のエステル又は双極イオン化合物のなかでも、式 (Vila)中の R^M及び R¹⁵の一方が水素原子で他方が置換基を有していてもよいフエニル基であり、 R¹⁶及び R¹⁷が共に水素原子であり、 R¹⁸が置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいフエニル基であり、 pが 0、 1、又は 2であるアミノ酸エステル、又は、式 (Vllb) 中の R¹⁴及び R¹⁵が共に水素原子であるか、或いは一方が置換基を有していてもよいアルキル基であり、 R¹⁶及び R¹⁷が共に水素原子であり、 R¹⁹が置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいフエニル基であり、 pが 0、 1、又は 2であるァミノ酸双極イオン化合物であるのが好ましく、前記一般式 (Vila)において pが 0、 R ¹⁴及び R¹⁵の一方が水素原子で他方がフエニル基、 R¹⁶及び R¹⁷が共に水素原子である N—フエニルダリシンのエステル、就中、 R¹⁸がべンジル基である N—フエニルダリシンべンジルエステル、又は、前記一般式 (VI lb)において pが 0、 R¹⁴、 R¹⁵、 R¹⁶、及び R¹⁷のいずれもが水素原子であり、 R¹⁹がフエニル基である N 一フエニルダリシンの双極ィォン化合物が特に好ましい。

また、重合加速剤としては、ァミン化合物も挙げられ、そのアミン化合物としては、脂肪族、脂環式、又は芳香族ァミンのいずれでもよく、また、モノアミンに限定されず、ジァミン、トリアミン等のポリアミンであってもよく、また、第 1アミン、第 2ァミン、第 3ァミンのいずれであってもよいが、 p K bが 7以下であるものが好ましい。そのアミン化合物としては、具体的には、例えば、プチルァミン、ジブチルァミン、トリプチルァミン、アミルァミン、ジアミルァミン、卜リアミルァミン、へキシルァミン、ジへキシルァミン、トリへキシルァミン、ァリルァミン、ジァリルァミン、トリアリルァミン、トリエタノールァミン、ベンジルァミン、ジベンジルァミン、トリベンジルァミン等の、水酸基又はフエニル基で置換されていてもよい脂肪族ァミンが挙げられる。なかでも、本発明においては、トリべンジルァミンが特に好ましい。

更に、重合加速剤としては、例えば、 2—メルカプトべンゾチアゾール、 2—メルカプトベンゾィミダゾ一ル、 2—メルカプトベンゾォキサゾ一ル、 3—メルカプトー 1 , 2 , 4一トリァゾ一ル、 2—メルカプト一 4 ( 3 H) 一キナゾリン、 β— メルカプトナフ夕レン、エチレングリコールジチォプロピオネート、トリメチ口一ルプロパン卜リスチォプロピオネート、ペン夕エリスリトールテトラキスチォプロピオネート等のメルカプト基含有化合物類、へキサンジチオール、トリメチロールプロパントリスチォグリコネート、ペン夕エリスリ 1 ^一ルテトラキスチォプロピオネート等の多官能チオール化合物類、 Ν, Ν—ジアルキルアミノ安息香酸エステル、 Ν—フエニルダリシン、又はそのアンモニゥムゃナトリゥム塩等の塩等の誘導体、フエ二ルァラニン、又はそのアンモニゥムゃナトリウム塩等の塩、エステル等の誘導体等の芳香族環を有するアミノ酸又はその誘導体類等が挙げられる。なかでも、本発明においては、メルカプト基含有化合物類、及ぴ、 Ν—フエニルダリシン、又はそのアンモニゥムゃナトリゥム塩等の塩等の誘導体が特に好ましい。

本発明の青紫色レーザー感光性組成物において、ネガ型感光性組成物（Ν, ) に含有される前記重合加速剤の含有割合は、ネガ型感光性組成物（Ν, )の全量に対して、 3 0重量％以下であるのが好ましく、 2 0重量％以下であるのが特に好ましい。また、本発明におけるネガ型感光性組成物（Ν, ) は、基板上への感光性組成物の層形成時における塗布性、及び感光性組成物層の現像性の向上等を目的として、更に、ノニオン性、ァニオン性、カチオン性、両性、及び弗素系等の界面活性剤を含有していてもよく、具体的には、例えば、そのノニオン性界面活性剤としては、ポリォキシェチレンアルキルエーテル類、ポリォキシェチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフエ二ルェ一テル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ポリォキシエチレンペン夕エリスリット脂肪酸エステル類、ソルビ夕ン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビ夕ン脂肪酸エステル類、ソルビット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルピット脂肪酸エステル類等が、また、そのァニオン性界面活性剤としては、アルキルスルホン酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸ェステル塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルェ一テル硫酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフエ二ルェ一テル硫酸塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリォキシェチレンアルキルフエニルエーテル燐酸塩類等が、また、そのカチオン性界面活性剤としては、第 4級アンモニゥム塩類、イミダゾリン誘導体類、ァミン塩類等が、また、両性界面活性剤としては、ベタイン型化合物類、イミダゾリウム塩類、イミダゾリン類、アミノ酸類等が、それぞれ挙げられる。

本発明の青紫色レーザー感光性組成物において、ネガ型感光性組成物（N に含有される前記界面活性剤の含有割合は、ネガ型感光性組成物（N, )の全量に対して、 1 0重量％以下であるのが好ましく、 5重量％以下であるのが特に好ましい。

更に、本発明におけるネガ型感光性組成物（Ν, ) は、例えば、 2 , 6—ジー t一ブチルフエノール、 2， 6ージー tーブチルー ρ—クレゾール、 2， 4 , 6—トリ一 t—ブチルフエノール、 4 , 4， —メチレンビス（2 , 6ージー t—ブチルフエノール等の酸化防止剤を、ネガ型感光性組成物（Ni )の全量に対して 2重量％以下、有機又は無機の染顔料からなる着色剤を同じく 2 0重量％以下、ジォクチルフタレ一卜、ジドデシルフ夕レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤を同じく 4 0 重量％以下、三級アミンゃチオール等の感度特性改善剤を同じく 1 0重量％以下、色素前駆体を同じく 3 0重量％以下、の割合で含有していてもよい。

また、本発明の青紫色レーザー感光性組成物のなかでも、ネガ型感光性組成物としては、例えば、前記増感剤を含有し、アルカリ可溶性樹脂と、該樹脂の架橋剤と、光酸発生剤を基本組成とするネガ型感光性組成物（N₂ ) が挙げられる。

<ネガ型感光性組成物（N₂ ) >

本発明において、ネガ型感光性組成物（N₂ ) を構成するアルカリ可溶性樹脂は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、前記増感剤の作用により後述する光酸発生剤に酸を発生きせ、その酸により後述する架橋剤で架橋構造を形成する樹脂であり、このアルカリ可溶性樹脂としては、フエノール性水酸基含有樹脂、及び、カルボキシル基含有ビニル系樹脂等が挙げられる。ここでのネガ型感光性組成物（N ₂ ) においては、例えば、ポリビエルフエノール榭脂、及び、ノポラック樹脂、レゾ —ル樹脂等のフエノール樹脂、並びに、フエノール性水酸基を有するアクリル酸誘導体の共重合体樹脂、フエノール性水酸基を有するポリビニルァセ夕一ル樹脂等のフエノール性水酸基含有樹脂が好ましい。これらのなかでも、ポリビニルフエノール樹脂、及び、ノポラック樹脂、レゾール樹脂等のフエノール樹脂が更に好ましく、ポリピニルフエノール樹脂、及びノポラック樹脂が特に好ましい。

そのポリビニルフエノール樹脂としては、例えば、 o—ヒドロキシ（α—メチル）スチレン〔ここで、 Γ ( α—メチル）スチレン」とは、「スチレン」又は/及び f a ーメチルスチレン」を意味するものとし、以降も同様とする。〕、 m—ヒドロキシ (ひーメチル）スチレン、 p—ヒドロキシ ( α—メチル) スチレン、ジヒドロキシ ( a—メチル) スチレン、トリヒドロキシ（α—メチル）スチレン、テトラヒドロキシ ( α—メチル) スチレン、ペン夕ヒドロキシ ( α—メチル) スチレン等のヒドロキシ（α—メチル）スチレン類の単独又は 2種以上を、又は、更に、（ —メチル）スチレン、アルコキシ基、ァシル基、ァシルォキシ基、ァリルォキシ基、ァリ —ルォキシ基、ハロゲン原子等のヒドロキシル基以外の置換基を有する（α—メチル）スチレン、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、マレイン酸、マレイン酸イミド等の他のビニル系化合物を、ラジカル重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合若しくは共重合させるか、或いは、これらのヒドロキシ（α ーメチル）スチレン類のヒドロキシル基を保護したスチレン誘導体類を同様に重合若しくは共重合させた後、保護基を解離させたものが挙げられる。

また、ノポラック樹脂としては、例えば、フエノール、 ο—クレゾ一ル、 m—クレゾ一ル、 ρ—クレゾール、 2 , 5—キシレノール、 3， 5—キシレノール、 0 - ェチルフエノール、 m—ェチルフエノール、 p—ェチルフエノール、プロピルフエノール、 n—ブチルフエノール、 t一プチルフエノール、 1—ナフ！ ^一ル、 2—ナフ 1 ル、 4 , 4，ービフエニルジオール、ビスフエノールー A、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、 1 , 2 , 4—ベンゼントリオ一ル、フロログルシノール等のフエノール類の少なくとも 1種を、酸触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ァセトアルデヒド、パラアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類、又は、アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、の少なくとも 1種と重縮合させたものが、また、レゾール樹脂としては、前記ノポラック樹脂の重縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外は同様にして重縮合させたものが、それぞれ挙げられる。

なお、これらのフエノール性水酸基含有樹脂は、重量平均分子量が 1， 5 0 0〜 5 0， 0 0 0であるのが好ましい。

また、このネガ型感光性組成物（N₂ ) において、架橋剤は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、前記アル力リ可溶性樹脂に架橋構造を形成せしめるものであり、この架橋剤としては、代表的には、官能基としてメチロール基、それをアルコール縮合変性したアルコキシメチル基ゃァセトキシメチル基等を少なくとも 2個有するァミノ化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたメラミン樹脂、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたベンゾグァナミン樹脂、グリコールゥリルとホルムアルデヒドとを重縮合させたダリコールゥリル樹脂、尿素とホルムアルデヒドとを重縮合させた尿素樹脂、メラミン、ベンゾグアナミン、グリコールゥリル、又は尿素等の 2種以上とホルムアルデヒドとを共重縮合させた樹脂、及び、それら樹脂のメチロール基をアルコール縮合変性した変性樹脂等が挙げられる。これらは、例えば、三井サイテック社より「サイメル」、三和ケミカル社より「二力ラック」の商標名で市販されている。

また、架橋剤として、更に、エポキシ基含有化合物も挙げられ、そのエポキシ基含有化合物としては、所謂エポキシ樹脂の繰返し単位を構成する、ポリヒドロキシ化合物とェピクロルヒドリンを反応させて得られるポリダリシジルエーテル化合物、ポリ力ルポン酸化合物とェピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエステル化合物、及び、ポリアミン化合物とェピクロルヒドリンを反応させて得られるポリダリシジルァミン化合物等の、低分子量物から高分子量物にわたる化合物が挙げられる。

これらのポリダリシジルエーテル化合物として、具体的には、例えば、ポリェチレングリコールのジグリシジルエーテル型エポキシ、ビス（4—ヒドロキシフエ二ル）のジグリシジルエーテル型エポキシ、ビス（3 , 5—ジメチル— 4ーヒドロキシフエニル）のジグリシジルエーテル型エポキシ、ビスフエノール Fのジグリシジルエーテル型エポキシ、ビスフエノール Aのジグリシジルエーテル型エポキシ、テトラメチルビスフエノール Aのジグリシジルェ一テル型エポキシ、ェチレンォキシド付加ビスフエノール Aのジグリシジルェ一テル型エポキシ、フエノールノボラック型エポキシ、クレゾールノポラック型エポキシ等が挙げられる。これらのポリグリシジルエーテル化合物には、残存するヒドロキシル基に酸無水物や 2価の酸化合物を反応させ力ルポキシル基を導入することもできる。また、ポリグリシジルエステル化合物として、具体的には、例えば、へキサヒドロフタル酸のジグリシジルェステル型エポキシ、フ夕ル酸のジグリシジルエステル型エポキシ等が、また、ポリグリシジルァミン化合物として、具体的には、例えば、ビス（4ーァミノフエニル）型エポキシ等が、それぞれ挙げられる。

また、本発明において、ネガ型感光性組成物（N₂ ) を構成する光酸発生剤は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、前記増感剤の作用により活性種としての酸を発生する活性化合物であって、この光酸発生剤としては、例えば、ハロゲン置換アル力ン、ハロメチル化 s—トリアジン誘導体等のハ口ゲン含有化合物類、ォニゥム塩類、及ぴスルホン化合物類等が挙げられ、なかでも、スルホン酸を発生するスルホン化合物類が特に好ましい。

ここで、そのハロゲン含有化合物類としてのハロゲン置換アルカン、及び、ハロメチル化 s—トリアジン誘導体としては、前記ネガ型感光性組成物（N において光重合開始剤として挙げたと同様のものが挙げられる。

また、そのォニゥム塩類としては、テトラメチルアンモニゥムブロマイド、テトラエチルアンモニゥムブロマイド等のアンモニゥム塩、ジフエ二ルョードニゥムへキサフルォロアルセネート、ジフエ二ルョードニゥムテトラフルォロボレート、ジフエ二ルョードニゥム P—トルエンスルホネート、ジフエ二ルョ一ドニゥムカンフアースルホネート、ジシクロへキシルョ一ドニゥムへキサフルォロアルセネー卜、ジシクロへキシルョードニゥムテトラフルォロボレート、ジシクロへキシルョードニゥム p—トルエンスルホネート、ジシクロへキシルョードニゥムカンファースルホネート等のョードニゥム塩、トリフエニルスルホニゥムへキサフルォロアルセネ —ト、卜リフエニルスルホニゥムテトラフルォロボレ一ト、トリフエニルスルホニゥム p _トルエンスルホネート、トリフエニルスルホニゥムカンファースルホネート、トリシクロへキシルスルホニゥムへキサフルォロアルセネート、トリシクロへキシルスルホニゥムテトラフルォロボレ一ト、トリシク口へキシルスルホニゥム p 一トルエンスルホネー卜、卜リシクロへキシルスルホニゥムカンファースルホネート等のスルホ二ゥム塩等が挙げられる。また、そのスルホン化合物類としては、具体的には、例えば、ビス（フエニルスルホニル）メタン、ビス（p—ヒドロキシフヱニルスルホニル）メタン、ビス（p —メトキシフエニルスルホニル)メタン、ビス（α—ナフチルスルホニル）メタン、ビス ( /3—ナフチルスルホニル) メタン、ビス (シクロへキシルスルホニル) メタン、ビス ( t一プチルスルホニル) メタン、フエニルスルホニル（シクロへキシルスルホニル) メタン等のビス (スルホニル) メタン化合物、フエ二ルカルポニル（フェニルスルホニル）メタン、ナフチルカルポニル (フエニルスルホニル) メタン、フエ二ルカルポニル (ナフチルスルホニル)メタン、シクロへキシルカルポニル（フェニルスルホニル)メタン、 t一プチルカルポニル（フエニルスルホニル)メタン、フエ二ルカルポニル (シク口へキシルスルホニル)メタン、フエ二ルカルポニル ( t 一プチルカルポニル) メタン等のカルボニル (スルホニル) メタン化合物、ビス（フェニルスルホニル) ジァゾメタン、ビス ( p—ヒドロキシフエニルスルホニル) ジァゾメタン、ビス（p—メトキシフエニルスルホニル）ジァゾメタン、ビス ( - ナフチルスルホニル) ジァゾメタン、ビス（j3—ナフチルスルホニル）ジァゾメタン、ビス (シク口へキシルスルホニル) ジァゾメタン、ビス（t一プチルスルホニル）ジァゾメタン、フエニルスルホニル (シク口へキシルスルホニル) ジァゾメタン、ビス (スルホニル) ジァゾメタン化合物、フエニルカルボニル (フエニルスルホニル)ジァゾメタン、ナフチルカルポニル (フエニルスルホニル)ジァゾメタン、フエ二ルカルポニル (ナフチルスルホニル) ジァゾメタン、シクロへキシルカルポニル (フエニルスルホニル) ジァゾメタン、 t一プチルカルポニル (フエニルスルホニル) ジァゾメタン、フエ二ルカルポニル (シク口へキシルスルホニル) ジァゾメタン、フエ二ルカルポニル（t一プチルカルポニル）ジァゾメタン等の力ルポ二ル (スルホニル) ジァゾメ夕ン化合物等が挙げられる。

本発明の青紫色レーザー感光性組成物において、ネガ型感光性組成物（N₂ ) を構成する前記増感剤、前記アルカリ可溶性樹脂、前記架橋剤、及び前記光酸発生剤の各含有割合は、前記アルカリ可溶性樹脂 1 0 0重量部に対して、前記増感剤が 0 . 1〜 3 0重量部、前記架橋剤が 1〜 8 0重量部、及び前記光酸発生剤が 0 . 0 0 1 〜 3 0重量部であるのが好ましく、前記増感剤が 0 . 5〜2 0重量部、前記架橋剤が 5〜 6 0重量部、及び前記光酸発生剤が 0 . 0 0 5〜 1 0重量部であるのが特に好ましい。

また、本発明の青紫色レーザー感光性組成物のなかでも、ネガ型感光性組成物としては、例えば、前記増感剤を含有し、酸架橋性基含有樹脂と、光酸発生剤を基本組成とするネガ型感光性組成物（N₃ ) が挙げられる。

<ネガ型感光性組成物（N₃ ) >

本発明において、ネガ型感光性組成物（N₃ ) を構成する酸架橋性基含有樹脂は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する光酸発生剤の作用により架橋構造を形成する樹脂である。その酸架橋性基としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、ビニルエーテル基、及びエポキシ基等が挙げられる。これらの酸架橋性基を含有する酸架橋性基含有樹脂としては、これらの酸架橋性基を分子内に 2個以上有する樹脂であれば特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、前記ネガ型感光性組成物（N₂ ) において挙げたアル力リ可溶性樹脂としての、ノポラック樹脂、レゾ一ル樹脂等のフエノール樹脂、及ぴポリビニルフエノール樹脂等のフエノ一ル性水酸基含有樹脂、のフエノ一ル性水酸基の少なくとも一部をエーテル化或いはエステル化して前記酸架橋性基を導入した樹脂、及び、前記ネガ型感光性組成物（Ν, ) において挙げたアルカリ可溶性樹脂としてのカルボキシル基含有ビニル系樹脂、の力ルポキシル基の少なくとも一部をェステル化して前記酸架橋性基を導入した樹脂、又は、前記酸架橋性基を有するビニル系単量体を重合或いは共重合させて前記酸架橋性基を導入した樹脂等が挙げられる。なかでも、ノポラック樹脂、又はポリビニルフエノール樹脂をべ一スとするものが好ましく、ノポラック樹脂をベースとするものが特に好ましい。なお、ここで、酸架橋性基含有樹脂とは、酸架橋性基を導入した樹脂と未導入の樹脂との混合物をも含むものとする。

また、本発明において、ネガ型感光性組成物（Ν₃ ) を構成する光酸発生剤としては、前記ネガ型感光性組成物（Ν₂ ) において挙げた光酸発生剤と同様のものが挙げられる。

本発明の青紫色レーザ一感光性組成物において、ネガ型感光性組成物（Ν₃ ) を構成する前記増感剤、前記酸架橋性基含有樹脂、及び光酸発生剤の各含有割合は、前記酸架橋性基含有樹脂 1 0 0重量部に対して、前記増感剤が 0 . 1〜3 0重量部、及び前記光酸発生剤が 0 . 0 0 1〜3 0重量部であるのが好ましく、前記増感剤が 0. 5 ~ 2 0重量部、及び前記光酸発生剤が 0. 0 0 5〜； L 0重量部であるのが特に好ましい。

なお、本発明における前記ネガ型感光性組成物（N 、前記ネガ型感光性組成物 (N₂ ) 、及び前記ネガ型感光性組成物（N₃ ) には、必要に応じて、例えば、塗布性改良剤、密着性改良剤、感度改良剤、感脂化剤、着色剤、現像性改良剤等の感光性組成物に通常用いられる各種の添加剤が更に含有されていてもよい。

ぐ感光性組成物の前記以外の物性 >

本発明の青紫色レーザー感光性組成物は、 3 9 0〜4 3 0 nmの波長域に分光感度の極大ピークを有するのが好ましく、 4 0 0〜4 2 0 nmの波長域に分光感度の極大ピークを有するのが更に好ましい。分光感度の極大ピークを前記範囲未満の波長域に有する場合には、感光性組成物として波長 3 9 0〜4 3 0 nmのレーザー光に対する感度が劣る傾向となり、一方、前記範囲超過の波長域に有する場合には、黄色灯下でのセ一フライト性が劣る傾向となる。

なお、本発明において、分光感度の極大ピークとは、例えば、

テクノロジー」（山岡亜夫著、昭和 6 3年日刊工業新聞社発行、第 2 6 2頁）等に詳述されているように、基板表面に感光性組成物層を形成した感光性画像形成材試料を、分光感度測定装置を用い、キセノンランプ又はタングステンランプ等の光源から分光した光を、横軸方向に露光波長が直線的に、縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して照射して露光した後、現像処理することにより、各露光波長の感度に応じた画像が得られ、その画像高さから画像形成可能な露光エネルギ —を算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることにより得られる分光感度曲線における極大ピークを指す。

また、本発明の青紫色レーザ一感光性組成物は、波長 4 1 O nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S _41Q〕の波長 4 5 0 n mにおける画像形成可能な最小露光量

CS ₄₅₀ (m J X c m² ) 〕に対する比〔S_41Q ZS_45fl〕が 0 . 1以下であるのが好ましく、 0 . 0 5以下であるのが更に好ましい。この比〔S _41fl /S _45D〕が前記範囲超過では、青紫色レーザー感光性と黄色灯下でのセーフライト性を両立させることが困難な傾向となる。

なお、前記波長 4 1 0 n mにおける画像形成可能な最小露光量〔S_41fl〕、及び、波長 4 5 0 nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S_45Q〕は、前述した分光感度測定装置を用いての分光感度の極大ピークの測定において、得られる画像高さから算出される画像形成可能な露光エネルギーとして求められ、その際の、現像液の種類、現像温度、現像時間等の現像条件を変化させて決定される最適現像条件で画像を形成し得る最小露光量を意味し、その最適現像条件としては、通常、 ρ Η 1 1〜 1 4のアルカリ現像液に温度 2 5 °Cで 0. 5〜 3分浸漬する条件が採られる。

ぐ画像形成材料（A) 及び画像形成材（B ) > 本発明のネガ型青紫色レーザー感光性組成物は、本発明のネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料（A) (以下、単に画像形成材料（A) と称することがある）を形成するのに用いることができる。画像形成材料（A) は、通常、前記各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液として、仮支持フィルム上に塗布し乾燥させ、必要に応じて、形成された感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことにより形成される。この様な画像形成材料（A) としては、例えばドライフィルムレジスト材等が挙げられる。

また、上記画像形成材料 (A) は、更に本発明のネガ型青紫色レ一ザ一感光性画像形成材（B ) (以下、単に画像形成材（B) と称することがある）'を形成するのに用いることができる。画像形成材（B ) は、通常、 2タイプの作成方法がある。一つは、画像形成材料（A) の感光性組成物層側を、被覆フィルムで覆われている場合にはその被覆フィルムを剥離して、被加工基板上に積層することにより作成される。もう一つは、以下の（1 ) 〜（3 ) の手順で作成される。（1 ) 前記のネガ型青紫色レーザ一感光性組成物の各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液とする；（2 ) 被加工基板上に直接に塗布し乾燥させる；（3 ) 被加工基板上に本発明のネガ型青紫色レーザー感光性組成物の層が形成される。

画像形成材（B) は、以下の画像形成方法に好適に用いられる。即ち、画像形成材（B ) の感光性組成物層を、波長 3 9 0〜4 3 0 nmのレーザ一光により走査露光し、現像処理して画像を現出させる。

ドライフィルムレジスト材等としての画像形成材料（A) として用いられる場合における仮支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフ夕レートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。その際、それらのフィルムが画像形成材料（A) の作製時に必要な耐溶剤性や耐熱性等を有しているものであるときは、それらの仮支持フィルム上に直接に感光性組成物塗布液を塗布し乾燥させて本発明の画像形成材料（A) を作製することができ、また、それらのフィルムが耐溶剤性や耐熱性等の低いものであっても、例えば、ポリテトラフルォロェチレンフィルムや離型フィルム等の離型性を有するフィルム上に先ず感光性組成物層を形成した後、その層上に耐溶剤性や耐熱性等の低い仮支持フィルムを積層する。しかる後、離型性を有するフィルムを剥離することにより、本発明の画像形成材料 (A) を作製することもできる。なお、特に高解像力を追求する場合には、仮支持体フィルムのヘイズ値は 0 . 0 1〜1 . 8 %であることが好ましく、また仮支持フイルムの厚みとしては 1 0 ~ 3 0 mであることが好ましい。

また、塗布液に用いられる溶剤としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はない。例えば、メチルセ口ソルプ、ェチルセ口ソルブ、メチルセ口ソルブアセテート、ェチルセ口ソルブアセテート等のセロソルプ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレンダリコ一ルモノェチルエーテル、プロピレングリコールモノプチルェ一テル、プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテ一ト、プロピレングリコ一ルモノェチルェ一テルアセテート、プロピレングリコールモノプチルェ一テルアセテート、ジプロピレンダリコールジメチルエーテル等のプロピレンダリコール系溶剤、酢酸プチル、酢酸アミル、酪酸ェチル、酪酸プチル、ジェチルォキサレート、ピルビン酸ェチル、ェチル— 2—ヒドロキシプチレート、ェチルァセトアセテート、乳酸メチル、乳酸ェチル、 · 3—メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、ヘプ夕ノール、へキサノ一ル、ジァセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、シク口へキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、 Ν—メチルピロリドン等の高極性溶剤、 '及びこれらの混合溶剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。溶剤の使用割合は、感光性組成物の総量に対して、通常、重量比で 1〜2 0倍程度の範囲である。

また、その塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤ一バ —塗布、スプレー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、スクリーン塗布、及びカーテン塗布等を用いることができる。その際の塗布量は、後述する画像形成、及びそれに引き続くエッチングゃメツキ等の加工性等の面から、乾燥膜厚として 0 . 1 m以上であるのが好ましく、 1 0 zm以上であるのが更に好ましく、また、感度等の面から、 2 0 0 m以下であるのが好ましく、 1 0 0 m以下であるのが更に好ましい。なお、その際の乾燥温度としては、例えば、 3 0〜 1 5 0 程度、好ましくは 4 0〜 1 1 0 °C程度、乾燥時間としては、例えば、 5秒〜 6 0分間程度、好ましくは 1 0秒〜 3 0分間程度が採られる。なお、特に高解像力を追求する場合は、被覆フィルムの表面粗さが感光性組成物と接触する面の R aが 0 . 1 5 m以下、 Rmaxが 1 . 5 ^ m以下であることが好ましく、また被覆フィルム中に含まれる直径 8 0 ^i m以上のフィッシュアイの個数が 5個/ m²以下であることが好ましい。

また、ドライフィルムレジスト材等としての画像形成材料（A) として用いられる場合には、その画像形成材料（A) が被加工基板に積層されるまでの間、形成された感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことが好ましく、その被覆フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリテトラフルォロェチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。

また、前記画像形成材料（A) の感光性組成物層側を、被覆フィルムで覆われている場合にはその被覆フィルムを剥離して、加熱、加圧等して積層することにより、又は、前記感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより、本発明の画像形成材（B) を作製するにおける被加工基板は、その上に形成される感光性組成物層をレーザー光等により露光し現像処理することによって現出されたネガ画像をレジストとしてエッチング加工或いはメツキ加工等することにより、その表面に回路ゃ電極等のパターンが形成されるものであり、銅、アルミニウム、金、銀、クロム、亜鉛、錫、鉛、ニッケル等の金属板そのものであってもよい。通常、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フエノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリ力 —ボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフイン樹脂、弗素樹脂等の熱可塑性樹脂等の樹脂、紙、ガラス、及び、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等の無機物、又は、ガラス布基材エポキシ樹脂、ガラス不織布基材エポキシ樹脂、紙基材エポキシ樹脂、紙基材フエノ一ル樹脂等の複合材料等からなり、その厚さが 0 . 0 2〜； L 0 mm程度の絶縁性支持体表面に、前記金属或いは酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウムドープ酸化錫等の金属酸化物等の金属箔を加熱、圧着ラミネ一トするか、金属をスパッタリング、蒸着、メツキする等の方法により、その厚さが 1〜1 0 0 i m程度の導電層を形成した金属張積層板が、好ましく用いられる。なお、前記感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより、本発明の画像形成材（B) を作製した場合には、前述の如くして前記被加工基板上に形成された前記感光性組成物層上に、感光性組成物の酸素による重合禁止作用を防止するための酸素遮断層、或いは、感度の波長領域を調整するための光透過性調整層等の保護層が形成されてもよい。

その酸素遮断層を構成するものとしては、水、又は、水とアルコールゃテトラヒドロフラン等の水混和性有機溶剤との混合溶剤に可溶の水溶性高分子であって、具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、及びその部分ァセタール化物、 4級ァンモニゥム塩等によるそのカチオン変性物、スルホン酸ナトリウム等によるそのァ二オン変性物等の誘導体、ポリピニルピロリドン、ボリエチレンオキサイド、メチルセルロース、カルポキシメチルセルロース、ヒドロキシェチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げられる。それらのなかでも、酸素遮断性等の面から、ポリビニルアルコール及びその誘導体が好ましく、また、感光性組成物層との密着性等の面から、ポリビニルピロリドンやビニルピロリドン—酢酸ビニル共重合体等のビニルピロリドン系重合体が好ましく、酸素遮断層としては、ポリビニルアルコール或いはその誘導体 1 0 0重量部に対して、ポリビニルピロリドン系重合体を、好ましくは 1〜2 0重量部、更に好ましくは 3〜1 5重量部混合した混合物として用いるのが好ましい。

また、酸素遮断層としては、保存性付与等の面から、琥珀酸等の有機酸ゃェチレンジアミンテトラ酢酸等の有機酸塩等を含有するのが好ましく、また、ポリオキシェチレンアルキルフェニルエーテル等のノ二オン性、ドデシルべンゼンスルホン酸ナトリゥム等のァニオン性、アルキルトリメチルアンモニゥムクロライド等のカチオン性等の界面活性剤、消泡剤、色素、可塑剤、 p H調整剤等を含有していてもよレ^ それらの合計含有割合は、 1 0重量％以下であるのが好ましく、 5重量％以下であるのが更に好ましい。

前記酸素遮断層は、水又は水と水混和性有機溶剤との混合溶剤の溶液として、前述の感光性組成物層と同様の塗布法によって形成され、その塗布量は、乾燥膜厚として、 1〜1 0 g/m²の範囲とするのが好ましく、 1 . 5〜7 g /m²の範囲とするのが更に好ましい。また、光透過性調整層を構成するものとしては、高分子結合材に、例えば、クマリン系色素等の可視領域の光吸収色素を含有させたものが挙げられるが、その際の高分子結合材を前記酸素遮断層に挙げたポリビニルアルコール或いはその誘導体やポリビニルピロリドン系重合体とすることにより、酸素遮断能と光透過性調整能とを有する保護層とすることができる。

以上により作製される、本発明の青紫色レーザー感光性組成物層を被加工基板上に有する本発明の画像形成材（B) としては、前記ネガ型感光性組成物からなる感光性組成物層を有するものが好ましく、その場合、前記残膜率一露光量特性、又は、前記現像速度一露光量特性を効果的に発現させるためには、感光性組成物層を構成する前記ネガ型感光性組成物（Ν, )における重合禁止剤の含有量が 5〜 6 0 p p mであるのが好ましく、重合禁止剤の含有量の下限は特に好ましくは 1 0 p p mであり、上限は 5 O p p mである。

ぐ画像形成方法 >

そして、本発明の青紫色レーザー感光性組成物層を被加工基板上に有する本発明の前記画像形成材（B) は、前記画像形成材料（A) により感光性組成物層が形成されている場合には仮支持フィルムを剥離した後、又は、感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより感光性組成物層が形成されている場合であって、前記保護層等を有する場合にはその保護層等を剥離した後、その感光性組成物層を、レーザー光を露光光源として走査露光した後、現像処理することにより、前記被加ェ基板上にネガ画像が形成される。

そのレーザ一光源としては、例えば、 H e N eレーザ一、アルゴンイオンレーザ一、 Y AGレーザー、 H e C dレーザー、半導体レーザ一、ルビ一レーザ一等が挙げられるが、特に、波長域 3 9 0〜4 3 0 n mの青紫領域のレーザー光を発生する光源が好ましく、特に限定されるものではないが、具体的には、 4 1 0 nmを発振する窒化インジウムガリウム半導体レーザー等が挙げられる。

また、レーザ一光源による走査露光方法も、特に限定されるものではないが、例えば、平面走査露光方式、外面ドラム走査露光方式、内面ドラム走査露光方式等が挙げられ、レーザ一の出力光強度を、好ましくは 1〜1 0 0 mW、更に好ましくは 3〜7 0 mW、発振波長を、好ましくは 3 9 0〜4 3 0 n m、更に好ましくは 4 0 0〜4 2 0 n m、ビームスポット径を、好ましくは 0 . 5〜3 0 ^m、更に好ましくは l〜2 0 m、走査速度を、好ましくは 5 0〜5 0 O mZ秒、更に好ましくは 1 0 0〜4 0 O m/秒、走査密度を、好ましくは 2， 0 0 0 d p i以上、更に好ましくは 4 , 0 0 O d p i以上として、走査露光する。

また、前記レーザ一走査露光後の現像処理は、好ましくはアルカリ成分と界面活性剤とを含有する水性現像液を用いてなされる。そのアルカリ成分としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニゥム、メ夕珪酸ナトリウム、メ夕珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチゥム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモニゥム、第三燐酸アンモニゥム、硼酸ナトリゥム、硼酸カリウム、硼酸アンモニゥム等の無機アルカリ塩、モノメチルァミン、ジメチルァミン、トリメチルァミン、モノェチルァミン、ジェチルァミン、トリエチルァミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルァミン、モノブチルァミン、モノエタノールァミン、ジエタノールァミン、トリエタノールァミン、モノイソプロパノールァミン、ジィソプロパノールァミン等の有機アミン化合物等が挙げられ、その 0 . 1〜 5重量％程度の濃度で用いられる。

また、界面活性剤としては、前記感光性組成物において挙げたと同様の界面活性剤が挙げられ、なかでも、ノニオン性、ァニオン性、又は両性界面活性剤が好ましく、特に両性界面活性剤、就中、ベタイン型化合物類が好ましい。なお、前記界面活性剤は、好ましくは 0 . 0 0 0 1〜2 0重量％、更に好ましくは 0 . 0 0 0 5〜 1 0重量％、特に好ましくは 0 . 0 0 1〜5重量％の濃度で用いられる。

更に、現像液には、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、ェチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、フエ二ルセ口ソルブ、プロピレングリコール、ジァセトンアルコール等の有機溶剤を必要に応じて含有させることができる。また、現像液の p Hは、 9〜1 4とするのが好ましく、 1 1〜1 4とするのが更に好ましい。

なお、現像は、通常、前記現像液に画像形成材を浸漬するか、画像形成材に前記現像液をスプレーする等の公知の現像法により、好ましくは 1 0〜5 O t程度、更に好ましくは 1 5〜 4 5 程度の温度で、 5秒〜 1 0分程度の時間でなされる。また、現像処理後、形成されたネガ画像を、例えば高圧水銀灯等の光源によって照射処理するか、又は,及び、例えば 1 4 0〜1 6 0 程度の温度で加熱処理することにより、レジストとしての耐薬品性等の向上を図ることができる。

実施例

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

実施例 1〜2、比較例 1

下記の増感剤（ 1 )〜（ 6 )、エチレン性不飽和化合物（ 1 )、光重合開始剤（ 1 )、アルカリ可溶性樹脂（1 ) 〜（2 ) 、及びその他成分（1 ) 〜（3 ) を、表 1に示す処方で、メチルェチルケトン/イソプロパノール（重量比 8 Ζ 2 ) との混合溶剤 1 0 0重量部に加えて、室温で攪拌して塗布液を調液した。該塗布液を仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレ一トフイルム（厚み 1 9 Ai m) 上に、アプリケ一夕一を用いて乾燥膜厚が 2 0 となる量で塗布し、 9 0 のオープンで乾燥させた。形成されたネガ型感光性組成物（N 層上に、被覆フィルムとしてのポリエチレンフィルム（厚み 2 5 ^ m) を積層し、ネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料（A) を作製した。 <増感剤 >

(1) 下記の化合物（吸収極大 365 nmZ前記式（I) ：包含される化合物）

(2) 下記の化合物（吸収極大 386 nm/前記式（ΠΙ) ：包含される化合物）

( 3 ) 下記の化合物（吸収極大 389 nmZ前記式（X I ) に包含される化合物）

(4)下記の化合物（吸収極大 378 nm/前記式（ΧΠ) に包含される化合物）

(5)下記の化合物（吸収極大 414nm/前記式（ΧΠ) に包含される化合物） (6)下記の化合物（吸収極大 365 nmZ前記式（ΧΠ)に包含される化合物）

,C '₂2H门5

C₂H₅

9S ZPl0/t00ZdF/lDd <ェチレン性不飽和化合物 >

(1) 下記の化合物（重合禁止剤としての p—メトキシフエノールを 250 pp m含有、新中村化学社製 ΓΒΡΕ— 500」'）

【化 13】

(1)

ぐ光重合開始剤 >

(1) 2, 2 ' 一ビス (o—クロ口フエニル) —4， 4，， 5， 5，一テトラフェニルビィミダゾール（融点 172で、波長 1. 54 Aの X線回折スぺクトルにおいてブラッグ角（20土 0. 2° ) 21. 16° に最大回折ピークを有するもの）ぐアルカリ可溶性樹脂 >

(1) スチレン/メチルメタクリレート/ n—ブチルメタクリレート/ 2—ェチルへキシルァクリレート/ 2—ヒドロキシェチルメ夕クリレート Zメタクリル酸共重合体（モル比 10/35Zl O/10/15Z20、酸価 144KOH · mg/ g、重量平均分子量 62, 300、重合禁止剤無添加）

(2) 同上共重合体（但し、重合禁止剤として p—メトキシフエノールを 500 p p m添加）

ぐその他 >

(1) ロイコクリスタルバイオレツ卜

(2) クリスタルバイオレツト

(3) p—メトキシフエノール (追添分)

別に、厚み 35 /imの銅箔を貼り合わせたポリイミド樹脂の銅張積層基板（厚み 1. 5mm、大きさ 25 OmmX 20 Omm) の銅箔表面を、住友スリ一ェム社製「スコッチブライト SF」を用いてパフロール研磨し、水洗し、空気流で乾燥させて整面した。次いで、これをオープンで 60°Cに予熱した後、その銅張積層板の銅箔上に、前記で得られたネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料（A) を、そのポリエチレンフィルムを剥離しながらその剥離面で、ハンド式口一ルラミネ一夕一を用いて、ロール温度 100° (：、口一ル圧 0. 3MP a、ラミネート速度 1. 5m /分でラミネートすることにより、銅張積層基板上にネガ型感光性組成物（N 層が形成されたネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材（B) を製造した。

得られた各ネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材（B) の感光性組成物層について、重合禁止剤の含有量を下記の方法に従ってガスクロマトグラフィーによって測定し、結果を表 1に示した。

ぐ重合禁止剤含有量の測定 >

P—メトキシフエノールのアセトン標準溶液（0、 1、 3、 10、 20、 '50各 ppm) について、以下の条件でのガスクロマトグラフィーによる測定値から検量線を作成した。一方、レジスト画像形成材（B) の光重合性組成物層をアセトンに溶解し、調整した 10重量％溶液について、以下の条件でのガスクロマトグラフィ —による測定値から定量した。

ぐ条件 >

カラム： HP— 5 (0. 32 mm I · D. X 30m d. f . 0. 25 ) キャリアー： He 2. OmL/m i n

スプリット比： 1Z10

注入口： 250°C

検出器： F I D 320°C

オーブン： 50 一 20°CZm i n— 300。C (l Omi n)

注入量： 10重量％アセトン溶液 2. 0 L

別に、得られた各ネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材（B) の感光性組成物層について、以下に示す方法で、ブレークポイント、及び残膜率が 90%以上となる最小露光量を測定し、結果を表 1に示した。

<ブレークポイント >

得られた画像形成材の感光性組成物層を、未露光のまま、 25°Cの 0. 7重量％炭酸ナトリゥム水溶液を現像液として 0. 15MPaとなるように吹き付け、組成物層が完全に溶解するまでの時間として測定した。

<最小露光量 >

得られた画像形成材（B) の感光性組成物層を、中心波長 405 nm、レーザー出力 5mWのレーザ一光源（日亜化学工業社製「NLHV500 C」）を用いて、像面照度 2mW、ビームスポッ卜径 20 imで、ビーム走查間隔及び走査速度を変えながら走査露光した。次いで、 25°Cの 0. 7重量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として 0. 15 MP aとなるように吹き付け、ブレークポイントの 1. 5倍の時間でスプレー現像することにより 0. 5mmX0. 5mmのべ夕画像を現出させ、各走查条件においてケーエルェ一テンコール社製「A l pha— S t e p 500」を用いて測定した膜厚から算出した残膜率が 90 %となる露光量を算出した。

更に、前記で得られた露光量と残膜率から、前記式（1) におけるァ値、及ぴ前記式（2) における α値を算出し、結果を表 1に示した。

<ァ値、 α値 >

前記で得られた露光量と残膜率から、露光量の対数 U ogE (mJ/cm²) 〕に対して残膜率〔t (%) 〕をプロットした残膜率—露光量曲線を作成し、残膜率 15%の点と 80%の点とを結ぶ t=r 1 ogE+δの式（図 1参照。）から r値を算出した。また、前記で得られた残膜率から算出される溶解膜率〔100- t (%)) を現像時間〔T ( s e c ) 〕で除した現像速度〔 s = { 100— t } /T (%/ s e c) 〕をプロットした現像速度一露光量曲線を作成し、最大現像速度 80%の点と 20%の点とを結ぶ3 =— 0！ 1 o gE + ιδの式（図 2参照。）から α値を算出し、結果を表 1に示した。

また、別に、得られた画像形成材（Β) の感光性組成物層について、以下に示す方法で、分光感度の極大ピーク、波長 410 nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S₄₁₍₎ (mJ/cm²) 〕の波長 450 nmにおける画像形成可能な最小露光量 CS ₄₅₀ (m J/cm²) 〕に対する比〔S_41QZS₄₅₍₎〕、及び、黄色灯下でのセーフライト性を評価し、結果を表 1に示した。

<分光感度の極大ピーク >

得られた画像形成材（B) を 5 OmmX 60mmの大きさに切り出したサンプルを、回折分光照射装置（ナルミ社製「RM_23」）を用い、キセノンランプ（ゥシォ電機社製「U I _ 501 C」）を光源として 350〜650 nmの波長域で分光した光を横軸方向に露光波長が直線的に、縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して 10秒間照射して露光した。次いで、 25°Cの 0. 7重量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として 0. 15MP aとなるように吹き付け、ブレークポイントの 1. 5倍の時間でスプレー現像することにより、各露光波長の感度に応じた画像が得られた。その画像高さから画像形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることにより得られる分光感度曲線における極大ピークを読み取った。

、〔 410 Z ° 4503 Ζ

前記と同様にして 350〜650 nmの波長域で波長を変化させて露光し、現像したときの、波長 410 nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S_41Q (mJ/c m² )〕と波長 450 nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S ₄₅₀ (mJ/cm²)〕をそれぞ Sれ求め、その比〔S '₄4₁1„0/S_4ffl〕を算出し、以下の基準で評価した。

A S_41fl/S_45flが 0 03以下。

S

B s₄₁₀zs ₄ 4₅ 5₀ oが 0 03超過 0 05以下。

力

ゝ、、

C ^> 410 ^/ ° 4s5n0力 0 o 05超過 0 1以下。

D

<黄色灯下でのセーフライト性 >

画像形成材（B) を黄色灯照明（約 470 nm以下の波長の光を遮断した条件）下に、 1分間、 2分間、 5分間、 10分間、 20分間、 30分間放置した後、前記と同様にして、走査露光及び現像処理を行い、前記に比して画像に変化が生じるまでの放置時間を求め、以下の基準で評価した。

A： 20分以上。

B ： 10分以上 20分未満。

C： 1分以上 10分未満。

D： 1分未満。

更に、得られた画像形成材（B)の感光性組成物層：ついて、以下に示す方法で、解像性、及び矩形性を評価し、結果を表 1に示した。

<解像性 >

得られた画像形成材（Β) の感光性組成物層を、中心波長 405nm、レーザー出力 5mWのレ一ザ一光源（日亜化学工業社製「NLHV500 C」）を用いて、像面照度 2mW、ビ一ムスポット径 20 mで、ビ一ム走查間隔及び走査速度を変えながら走查露光した。次いで、 25°Cの 0. 7重量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として 0. 15MP aとなるように吹き付け、ブレークポイントの 1. 5倍の時間でスプレー現像することにより、幅 20 m、長さ 0. 2 c mの線が 20 間隔で 20本並んだ画像を現出させ、その際の画像線幅の再現性を以下の基準で評価した。

0 : 20 mの線幅が再現している。

X：線幅が 20 mより太っていたり、細っていたりする。

<矩形性>

解像性におけると同様にして、幅 2◦ rn, 長さ 0. 2 cmの線が 20 m間隔で 20本並んだ画像を現出させ、その際の画像線のシャープさを以下の基準で評価した。〇：角がシャープな矩形で、裾引きもない。

X：角が丸みを帯びているか、台形であるか、裾引きがある。

比較例 2〜 3

市販の A社製ドライフィルムレジスト材（高感度タイプ）、及び B社製ドライフイルムレジスト材 (高解像度タイプ）を用いて、前記と同様にしてレジスト画像形成材（B) を製造し、同様に評価し、 '結果を表 1に併記した。

産業上の利用可能性

本発明のネガ型青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料 (A)、画像形成材 (B) 、及び画像形成方法は、プリント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、大規模集積回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ、カラーフィルター、有機エレクト口ルミネッセンス等における導体回路や電極加工基板等の形成のためのエッチングレジストゃメツキレジス卜等において用いられ、特に、 390〜430 nmの波長域の青紫色レーザー光による直接描画に好適に用いられる。なお、本発明の明細書の開示として、本出願の優先権主張の基礎となる日本特許特願 2003— 332626号（2003年 9月 25日に出願）及び日本特許特願 2003— 344636号（2003年 10月 2日に出願）の全明細書の内容をここに引用し取り入れるものである。

Claims

請求の範囲

1. 青紫色レーザ一光による露光によって残膜率が 90%以上となる最小露光量が 40m J /cm²以下であって、青紫色レーザー光による露光量の対数〔1 o g E (m J/cm²) 〕に対して露光部の残膜率〔t (%) 〕をプロットした残膜率—露光量曲線における残膜率の 1 5 %の点と 80 %の点とを結ぶ下記式（ 1 ) の直線の r値が 4. 0 X 1 0²以上であることを特徴とするネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

t =r 1 o gE+δ (1)

2. 青紫色レーザ一光による露光によって残膜率が 90%以上となる最小露光量が 4 Om J /cm²以下であって、青紫色レーザ一光による露光量の対数〔1 o g E (m JZcm²) 〕に対して、露光部の残膜率〔t (%) 〕力、ら算出される溶解膜率〔1 0 0— t (%) 〕を現像時間〔T (s e c) 〕で除した現像速度〔s = { 1 00 - t } ZT (%/s e c) 〕をプロットした現像速度一露光量曲線における最大現像速度の 8 0 %の点と 20 %の点とを結ぶ下記式（ 2 ) の直線の α値が 1 2以上であることを特徴とするネガ型青紫色レーザ一感光性組成物。

s =-α 1 o gE + j3 (2)

3. 感光性組成物が、増感剤として 3 3 0〜450 nmの波長域に吸収極大を有する化合物を含む請求項 1又は 2に記載のネガ型青紫色レーザ一感光性組成物。

4. 3 3 0〜 450 n mの波長域に吸収極大を有する化合物が、ジアルキルァミノベンゼン系化合物である請求項 3に記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

5. 3 3 0〜 450 nmの波長域に吸収極大を有する化合物が、下記一般式（X I ) 〜（XIII)で表される増感剤の少なくとも 1種である請求項 3に記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

'、、..ノ N一 R •(ΧΠ)

G

ノ

(一般式（X I ) 〜（XIII) において、環 A〜Gはそれぞれ独立に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を基本骨格とするものであり、環 Aと環 B、環 Dと環 E、環 F と環 Gは互いに結合して Nを含む結合環を形成していてもよい。一般式（XII) において、連結基 Lは、芳香族炭化水素環及び/又は芳香族複素環を含む連結基を表し、連結基 Lと Nとは該芳香族炭化水素環又は芳香族複素環で結合しており、 nは 2以上の整数を表す。一般式（XIII) において、 Rは置換基を有していてもよいアルキル基を表す。なお、環 A〜G及び連結基 Lは置換基を有していても良く、これらの置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。）

6. 環 A〜Gが、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフ夕レン環、アントラセン環、フエナントレン環、ァズレン環、フルオレン環、ァセナフチレン環、及びインデン環から選ばれる芳香族炭化水素環、或いはフラン環、チォフェン環、ピロ一ル環、ォキサゾール環、イソォキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾ一ル環、イミダゾール環、ピラゾ一ル環、フラザン環、卜リアゾ一ル環、ピラン環、チアジゾ一ルォキサジァゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びピラジン環から選ばれる芳香族複素環を基本骨格とし、連結基 Lが、上記芳香族炭化水素環及び芳香族複素環から選ばれる環の 1個又は 2個以上を含み、該環を 2個以上含む場合、これらの環は直接連結しているか、又は 2価以上の連結基を介して結合していることを特徴とする請求項 5に記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

7 .環 A〜G及び連結基 Lが有し得る置換基が、ハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シァノ基；力ルポキシル基；置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ァリール基、ァラルキル基、アルケニルォキシ基、アルケニルチオ基、ァシル基、ァシルォキシ基、アミノ基、ァシルァミノ基、カーバメート基、力ルバモイル基、カルボン酸エステル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、 — C =Nで表される基、 _ C = N _ Nで表される基、飽和もしくは不飽和の複素環基から選ばれることを特徴とする請求項 5又は 6に記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

8 . 感光性組成物が、エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を基本組成とするネガ型である請求項 1乃至 7のいずれかに記載のネガ型青紫色レーザ一感光性組成物。

9 . 重合禁止剤の含有量が、 5〜6 0 p p mである請求項 1乃至 8のいずれかに記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

1 0 . 重合禁止剤がハイドロキノン誘導体類である請求項 9に記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

1 1 . 光重合開始剤として、へキサァリールビイミダゾール系化合物を含む請求項 8乃至 1 0のいずれかに記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

1 2 . 更に、アルカリ可溶性樹脂を含有する請求項 8乃至 1 1のいずれかに記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

1 3 . アルカリ可溶性樹脂が、スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル単量体、及び（メタ）アクリル酸の各単量体に由来する構成繰返し単位を含む共重合体を含む請求項 1 2に記載のネガ型青紫色レーザー感光性組成物。

1 4. 仮支持フィルム上に、請求項 1乃至 1 3のいずれかに記載のネガ型青紫色レ一ザ一感光性組成物の層が形成されてなることを特徴とするネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料（A) 。

1 5 . 被加工基板上に、請求項 1 4に記載のネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材料（A) がそのネガ型青紫色レーザ一感光性組成物層側で積層されてなることを特徴とするネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材（B) 。

1 6 . 被加工基板上に積層されたネガ型青紫色レーザ一感光性画像形成材料（A) におけるネガ型青紫色レーザー感光性組成物層の厚さが、 1 以上である請求項 15に記載のネガ型青紫色レーザ一感光性画像形成材（B) 。

17. 請求項 15又は 16に記載のネガ型青紫色レーザー感光性画像形成材（B) のネガ型青紫色レーザー感光性組成物層を、波長 390-430 nmのレ一ザ一光により走査露光し、現像処理して画像を現出させることを特徴とする画像形成方法。