JP2005338375A - 光重合性組成物、感光性画像形成材、感光性画像形成材料、及びその画像形成方法 - Google Patents
光重合性組成物、感光性画像形成材、感光性画像形成材料、及びその画像形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005338375A JP2005338375A JP2004156211A JP2004156211A JP2005338375A JP 2005338375 A JP2005338375 A JP 2005338375A JP 2004156211 A JP2004156211 A JP 2004156211A JP 2004156211 A JP2004156211 A JP 2004156211A JP 2005338375 A JP2005338375 A JP 2005338375A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable composition
- meth
- group
- image forming
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【手段】 露光及び現像により画像形成可能な光重合性組成物であって、(1)極大波長が350〜450nmの波長域にある光での最適露光量が0.1〜30mJ/cm2であり、(2)該組成物を最適露光量の20%の露光量にて露光した際の現像液への溶解時間を[S2]、未露光時の現像液への溶解時間を[S1]としたとき、1≦[S2]/[S1]≦3であることを特徴とする光重合性組成物。
【選択図】 なし
Description
その保護層、等を剥離し、露光部と非露光部の現像液に対する溶解性の差を利用して現像処理することによって回路パターンに対応したレジスト画像を形成し、次いで、このレジスト画像をレジストとして被加工基板をエッチング加工、メッキ加工、或いはソルダー加工等した後、レジスト画像を除去することにより、マスクフィルムに描かれた回路や電極パターンを基板上に形成するリソグラフィー法が広く用いられている。
かかる高感度の青紫レーザー感光性組成物として、10mJ/cm2 以下、ひいては200μJ/cm2以下での画像形成可能な光重合性の青紫レーザー感光性組成物が提案さ
れている(特許文献1参照)。
かかるバンディングは特に高感度な感光性組成物に顕著な現象であり、特に光重合性組成物、中でも上記特許文献1に記載の青紫レーザーに高感度の光重合性組成物等において顕著であるが、かかる青紫レーザーに高感度の光重合性組成物は、青紫波長領域での感度不足分を、通常、Nーフェニルグリシン等のN−アリール−α−アミノ酸系化合物を光重合感光性組成物に0.1〜0.5重量%程度含有させることにより補っており、該N−アリール−α−アミノ酸系化合物の含有がバンディングに影響することを見出した。
又、かかるバンディングの有無は、光重合性組成物の溶解速度で規定できることを見出した。
更に、この条件を達成する好ましい手段としては、感度不足を補うために添加されているN−アリール−α−アミノ酸系化合物を含有しないかその含有量を少量とし、それによって発生する青紫光への感度不足を355〜430nmの波長域に吸収極大を有する高感度な増感色素で補うことで可能となることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、露光及び現像により画像形成可能な光重合性組成物であって、(1)吸収極大波長が355〜430nmの波長域の光での最適露光量が0.1〜30mJ/cm2であり、(2)該組成物を最適露光量の20%の露光量にて露光した際の現像液への溶解時間を[S2]、未露光時の現像液への溶解時間を[S1]としたとき、1≦[S2]/[S1]≦3であることを特徴とする光重合性組成物に存する。
更に、本発明の他の要旨は、仮支持フィルム上に上記の光重合性組成物の層が形成されてなる感光性画像形成材料、被加工基板上に上記感光性画像形成材料がその感光性組成物層側で積層されてなる感光性画像形成材、及び上記感光性画像形成材料の感光性組成物層を波長390〜430nmのレーザー光で露光し現像処理してネガ画像を現出させることを特徴とする画像形成方法、に存する。
本発明のレジスト画像形成材は、吸収極大波長が355〜430nmの波長域の光での
最適露光量0.1〜30mJ/cm2で露光し、現像液にて現像することで画像形成
して用いる光重合性組成物層を有するレジスト画像形成材料であって、その最適露光量の20%の露光量にて露光した際の露光部の現像液への溶解時間を[S2]とし、全く露光されてない部分の現像液への溶解時間(ブレークポイント)を[S1]としたとき、1≦[S2]/[S1]≦3であることを特徴とするレジスト画像形成材料である。
尚、最適露光量の測定及び溶解時間の測定は、下記の方法により行う。
(1)光重合性組成物層膜厚が20μmのレジスト画像形成材料である場合、アスペクト1となるライン/スペース=20μm/20μmの集合線を何段階かの露光量にて露光し、25℃の0.7%の炭酸ソーダを現像液として自動現像機で現像する。尚、現像時間は、後述の(3)のブレークポイントの1.5倍の時間とする。
(2)得られた集合線のトップ(最表面部分)のライン幅を光学顕微鏡、若しくはSEM等で測定し、最も20μmに近い値のライン幅を得た露光量を最適露光量とする。
(3)ブレークポイント[S1]は、光重合性組成物層膜厚が20μmの非露光のレジスト画像形成材料を、上記(1)と同じ現像液を用いて、上記(1)の最適露光量の測定と同様の現像条件にて自動現像機を用いて現像し、完全に光重合性組成物層が除去されるまでの時間を測定することで確認できる。
本発明の光重合性組成物は、上記条件を満足する限り、その組成は特に限定されないが、これを達成するための具体的手段としては、好ましくは、光重合性組成物が下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分、を含有し、該光重合性組成物中におけるN−アリール−α−アミノ酸系化合物及びその誘導体の含有量が合計で0.05重量%以下であることが挙げられる。
(A)カルボキシル基含有重合体
(B)エチレン性不飽和化合物
(C)光重合開始剤
(D)355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素
本発明において、好ましいとする光重合性組成物を構成する(A)成分のカルボキシル基含有重合体は、基板上への光重合性組成物の層としての形成性、及び現像性の向上等を目的とするものであり、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸〔尚、本発明において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」又は/及び「メタクリル」を意味するものとする。〕、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸単量体と、これらと共重合可能なビニル化合物単量体との共重合体が挙げられるが、不飽和カルボン酸としては、(メタ)アクリル酸が特に好ましい。
ールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロトネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等が挙げられる。
)アクリレート、ピロガロールトリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAビス〔オキシエチレン(メタ)アクリレート〕、ビスフェノールAビス〔トリオキシエチレン(メタ)アクリレート〕、ビスフェノールAビス〔ペンタオキシエチレン(メタ)アクリレート〕、ビスフェノールAビス〔ヘキサオキシエチレン(メタ)アクリレート〕、ビスフェノールAビス〔グリシジルエーテル(メタ)アクリレート〕等、又、前記の如き不飽和カルボン酸と、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、トリス(2―ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリレート等、又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸とフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、(メタ)アクリル酸とマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、(メタ)アクリル酸とテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、(メタ)アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセリンとの縮合物等が挙げられる。
(ポリ)ヘキサメチレングリコールポリグリシジルエーテル、(ポリ)トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、(ポリ)グリセロールポリグリシジルエーテル、(ポリ)ソルビトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェノールノボラックポリエポキシ化合物、(o―,m―,p―)クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビスフェノールAポリエポキシ化合物、ビスフェノールFポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2―ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられる。
)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物類等が挙げられる。以上のエチレン性不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても2種以上が併用されてもよい。
ス(o―クロロフェニル)―4,4’,5,5’―テトラ(p―クロロナフチル)ビイミダゾール等が挙げられる。中で、ヘキサフェニルビイミダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の2,2’―位に結合したベンゼン環のo―位がハロゲン原子で置換されたものが更に好ましく、そのイミダゾール環上の4,4’,5,5’―位に結合したベンゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシカルボニル基で置換されたものが特に好ましい。
中で、ジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、特に、ジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してp―位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してp―位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。
キル基であるときの炭素数は1〜6であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ましく、R1 とR3 、R2 とR4 、R5 とR7 、又はR6 とR8 が6員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、R1 とR2 とR3 とR4 、又は/及び、R5 とR6 とR7 とR8 がジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。
更に、2位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。
又、Xがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基の炭素数は1〜6であるのが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル基の炭素数は1〜6であるのが好ましい。
ていてもよいアリール基、又は水素原子を示す。〕
ホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、前記一般式(IV)で表される、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、及びカルバゾール系化合物が特に好ましい。
分が20〜80重量%、(C)成分が0.1〜20重量%、(D)成分が0.01〜10重量%であるのが好ましい。
尚、本明細書において、各成分の感光性組成物における含有割合は、含有されていても良い溶剤を除く組成物全量に対する含有割合を意味する。
レジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等の燐酸エステル類、ベンゼンスルホンアミド、p−トルエンスルホンアミド、N−n−ブチルアセトアミド等のアミド類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジオクチルアゼレート、ジメチルセバケート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、グリセリントリアセチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、ラウリン酸ブチル、4,5−ジエポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジオクチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類等が、それぞれ挙げられる。
現像処理する
レジスト画像形成方法としての使用形態に好適に用いられる。
尚、特に高解像力を求める場合は、被覆フィルムの表面粗さが、(II)光重合性組成物との接触する面のRaが0.15μm以下、Rmaxが1.5μm以下であることが好ましく、又(III)被覆フィルム中に含まれる直径80μm以上のフィッシュアイの個数が5
個/m2以下であることが好ましい。
又、レーザーのビームスポット径は、充分な解像性を発現するために、20μm以下と
するのが好ましく、10μm以下とするのが更に好ましく、5μm以下とするのが特に好ましい。尚、下限は、技術的な面から、通常2μm程度である。
光重合性組成物として、下記のカルボキシル基含有重合体(A1)、エチレン性不飽和化合物(B1〜B3)、光重合開始剤(C1)、355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素(D1〜D4)、(E)N−アリール−α−アミノ酸系化合物(E1)、及びその他成分(X1〜X4)を、表1に示す処方で下記の溶剤(Y1)に加えて、室温で攪拌して調液した塗布液を、仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み16μm)上に、75μmのアプリケーターを用いて乾燥膜厚が20μmとなる量で塗布し、1分風乾後、85℃のオーブンで90秒間乾燥し、形成された光重合性組成物層上に、被覆フィルムとしてのポリエチレンフィルム(厚み22μm)をラミネータを用いて積層し、ドライフィルムレジスト材を作製した。
(A1)メタクリル酸/メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/スチレン共重合体(重量%=20/35/10/10/15/10、重量平均分子量46,000)(重合禁止剤無添加)
(B1)下記の化合物(重合禁止剤としてカタログ値p−メトキシフェノールを100ppm含有)
(B2)下記の化合物(重合禁止剤としてカタログ値p−メトキシフェノールを100ppm含有))
(B3)下記の化合物(重合禁止剤としてカタログ値p−メトキシフェノールを100ppm含有))
(C1)2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール
(D1)下記の化合物(増感色素をテトラヒドロフランで60,000倍に希釈し、300〜500nmの波長域でUV吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大388nm)
(D2)下記の化合物(増感色素をテトラヒドロフランで60,000倍に希釈し、300〜500nmの波長域でUV吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大365nm)
(D3)下記の化合物(増感色素をテトラヒドロフランで60,000倍に希釈し、300〜500nmの波長域でUV吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大392nm/比較例用) (D4)下記の化合物(増感色素をテトラヒドロフランで60,000倍に希釈し、300〜500nmの波長域でUV吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大383nm)
(X1)ロイコクリスタルバイオレット
(X2)マラカイトグリーン
(X3)下記の増感色素(増感色素をテトラヒドロフランで60,000倍に希釈し、300〜500nmの波長域でUV吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大352nm)
(X4)p−メトキシフェノール(重合禁止材:追添用)
ンド式ロールラミネーターを用いて、ロール温度100℃、ロール圧0.3MPa、ラミネート速度1.5m/分でラミネートすることにより、銅張積層基板上に光重合性組成物層が形成されたレジスト画像形成材を製造した。
発振波長407nm、定格光出力500mWの日亜化学工業社製、青色LDスロットモジュール「NDAV520E2」を用いて露光を行った。
25℃で0.7重量%炭酸ナトリウム水溶液を用い、0.15MPaでスプレーすることにより現像した。
非露光の各レジスト画像形成材のポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、上記の現像条件にて非露光の光重合性組成物層が完全に溶解するまでの時間を調べた。
各レジスト画像形成材を上記露光機にて、2.8、4、5.6、8、11.3、16、22.6、32mJ/cm2の8段階の露光量で20μmの集合線(ライン/スペース=
20μm/20μm)の露光パターンを走査露光した。露光後、20分経過してから、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離、除去し、ブレークポイントの1.75倍の現像時間にて上記現像条件で現像した。得られたパターン画像を光学顕微鏡で観察し、各露光量で集合線のトップ部分の線幅が最も20μmに近い状態となる露光量を最適露光量とした。
各レジスト画像形成材を先に得た最適露光量の20%の露光量にて、上記露光機にて全面露光し、ブレークポイントと同じ方法にて露光された光重合性組成物層が完全に除去さ
れるまでの時間を測定した。
最適露光量、及び最適露光量の1/1.41倍、1.41倍、2倍の4段階の露光量にて、上記の露光機にて走査方向と垂直方向の20μmの集合線(ライン/スペース=20μm/20μm)をヘッド幅×3倍の長さで露光(線の途中で、走査部の境目が2カ所出来る様に)、露光後、20分経過してから、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離、除去し、ブレークポイントの1.75倍の現像時間にて上記現像条件で現像した。得られたパターン画像を光学顕微鏡で観察し、得られたパターンの走査部の境目部分を光学顕微鏡にて観察し、以下の基準で評価した。
A:どの露光量でもラインの繋ぎ目の太りが認められない。
B:最適露光量の2倍で露光したものにのみラインの繋ぎ目の太りが見られる。
C:最適露光量の1.41倍と2倍で露光したものにラインの繋ぎ目の太りが見られ
る。
D:どの露光量でもラインの繋ぎ目が太っており、抜けきっていない。
最適露光量を求めるのに用いたサンプルのうち、最適露光量に相当する露光量で露光されたパターン形状をSEMで観察し、以下の基準で評価した。
A:シャープな矩形
B:若干丸みのある矩形で、裾引きはない
C:わずかに裾引きがある
D:明らかに裾引きがある
E:裾引きが顕著で、パターン間の裾引きが繋がっている部分がある
Claims (13)
- 露光及び現像により画像形成可能な光重合性組成物であって、(1)極大波長が350〜450nmの波長域にある光での最適露光量が0.1〜30mJ/cm2であり、(2)該組成物を最適露光量の20%の露光量にて露光した際の現像液への溶解時間を[S2]、未露光時の現像液への溶解時間を[S1]としたとき、1≦[S2]/[S1]≦3であることを特徴とする光重合性組成物。
- 最適露光量が露光量0.1〜20mJ/cm2であることを特徴とする請求項1に記載の光重合性組成物。
- 下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分を含有し、該光重合性組成物中におけるN−アリール−α−アミノ酸系化合物及びその誘導体の含有量が合計で0.05重量%以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光重合性組成物。
(A)カルボキシル基含有重合体
(B)エチレン性不飽和化合物
(C)光重合開始剤
(D)355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素 - (D)成分の355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素がジアルキルアミノベンゼン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、カルバゾール系化合物、アクリドン系化合物から選ばれる化合物であることを特徴とする請求項3に記載の光重合性組成物。
- (C)成分の光重合開始剤として、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含む請求項3又は4に記載の光重合性組成物。
- (A)成分のカルボキシル基含有重合体として、(メタ)アクリル酸、アルキル(メタ)アクリレート類、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位を有する共重合体を含む請求項3〜5のいずれかに記載の光重合性組成物。
- (B)成分のエチレン性不飽和化合物として、ポリアルキレンオキサイド基を有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を2個以上有するエステル(メタ)アクリレート類を含む請求項3〜6のいずれかに記載の光重合性組成物。
- N−アリール−α−アミノ酸系化合物が、N−フェニルグリシンを含むことを特徴とす
る請求項3〜7のいずれかに記載の光重合性組成物。 - 重合禁止剤を5〜60ppm含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の光重合性組成物。
- 仮支持フィルム上に、請求項1乃至9のいずれかに記載の光重合性組成物の層が形成されてなることを特徴とする感光性画像形成材料。
- 被加工基板上に、請求項10に記載の感光性画像形成材料がその感光性組成物層側で積層されてなることを特徴とする感光性画像形成材。
- 被加工基板上に積層された感光性画像形成材料における青紫光感光性組成物層の厚さが、5μm以上である請求項11記載の感光性画像形成材。
- 請求項12に記載の感光性画像形成材料の感光性組成物層を、波長390〜430nmのレーザー光で露光し、現像処理してネガ画像を現出させることを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004156211A JP2005338375A (ja) | 2004-05-26 | 2004-05-26 | 光重合性組成物、感光性画像形成材、感光性画像形成材料、及びその画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004156211A JP2005338375A (ja) | 2004-05-26 | 2004-05-26 | 光重合性組成物、感光性画像形成材、感光性画像形成材料、及びその画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005338375A true JP2005338375A (ja) | 2005-12-08 |
Family
ID=35492038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004156211A Pending JP2005338375A (ja) | 2004-05-26 | 2004-05-26 | 光重合性組成物、感光性画像形成材、感光性画像形成材料、及びその画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005338375A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007003740A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム |
WO2007097306A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法 |
US8101339B2 (en) | 2005-10-25 | 2012-01-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board |
JP2012242683A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2021128178A (ja) * | 2020-02-10 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11327164A (ja) * | 1998-05-08 | 1999-11-26 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 画像形成方法 |
JP2000003031A (ja) * | 1998-06-17 | 2000-01-07 | Konica Corp | 感光性組成物、感光性平版印刷版及びその製造方法 |
JP2000310855A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
JP2002283752A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性平版印刷版 |
JP2004301996A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Hodogaya Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2005249970A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
-
2004
- 2004-05-26 JP JP2004156211A patent/JP2005338375A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11327164A (ja) * | 1998-05-08 | 1999-11-26 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 画像形成方法 |
JP2000003031A (ja) * | 1998-06-17 | 2000-01-07 | Konica Corp | 感光性組成物、感光性平版印刷版及びその製造方法 |
JP2000310855A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
JP2002283752A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性平版印刷版 |
JP2004301996A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Hodogaya Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2005249970A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007003740A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム |
US8101339B2 (en) | 2005-10-25 | 2012-01-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board |
WO2007097306A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法 |
JPWO2007097306A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2009-07-16 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法 |
CN104808440A (zh) * | 2006-02-21 | 2015-07-29 | 日立化成工业株式会社 | 感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法 |
JP2012242683A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2021128178A (ja) * | 2020-02-10 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材 |
JP7262408B2 (ja) | 2020-02-10 | 2023-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4657942A (en) | Photopolymerizable composition | |
JP4485288B2 (ja) | 青紫レーザー感光性組成物 | |
JP2006293094A (ja) | 光重合性組成物、画像形成材料及び画像形成材 | |
JP2005128508A (ja) | ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP4298391B2 (ja) | 青紫光感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP4679213B2 (ja) | 青紫レーザー感光性組成物、青紫レーザー用画像形成材料及び青紫レーザー用画像形成材 | |
JP4096857B2 (ja) | 青紫色レーザー感光性画像形成材料、青紫色レーザー感光性画像形成材及び画像形成方法 | |
JP4082186B2 (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP2004184871A (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP2007102117A (ja) | レーザー用画像形成材、及びパターンめっき用画像形成方法 | |
KR100970357B1 (ko) | 네가티브형 청자색 레이저 감광성 조성물, 화상 형성 재료,화상 형성재, 및 화상 형성 방법 | |
JP2005338375A (ja) | 光重合性組成物、感光性画像形成材、感光性画像形成材料、及びその画像形成方法 | |
JP4438440B2 (ja) | レジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法 | |
JP2004191938A (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP4556531B2 (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、感光性画像形成材及び画像形成方法 | |
JP2005122122A (ja) | レジスト画像形成方法 | |
JP4613552B2 (ja) | レジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法 | |
JP4385737B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性画像形成材料及び感光性画像形成材 | |
JP2008152285A (ja) | 青紫レーザー感光性組成物 | |
JP4470645B2 (ja) | 青紫光感光性光重合性組成物及びレジスト画像形成材料 | |
JP4096682B2 (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP4337485B2 (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 | |
JP2004295058A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2006208829A (ja) | レジスト画像形成材料、レジスト画像形成材、及びレジスト画像形成方法 | |
JP4178916B2 (ja) | 青紫色レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060605 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060605 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060605 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101005 |