JP2002283752A

JP2002283752A - 感光性平版印刷版

Info

Publication number: JP2002283752A
Application number: JP2001082735A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Okamoto; 英明岡本
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2001-03-22
Filing date: 2001-03-22
Publication date: 2002-10-03

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】赤外レーザーにて露光・走査され、バンディン
グや光学系の汚染の問題を回避した上で耐刷性に優れる
感光性平版印刷版を提供する。【解決手段】側鎖に付加重合性不飽和基を有する高分子
結合剤を用いた、光重合性組成物を粗面化処理後、隅極
酸化処理前にデスマット処理されているアルミニウム支
持体上に塗設して成り、赤外レーザーにて露光・走査さ
れる感光性平版印刷版において、上記の支持体のスマッ
ト量が０．２〜６．０mｇ／ｄm²である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
に関し、詳しくは、６５０〜１３００ｎｍの波長域の光
線、特に半導体レーザー、ＹＡＧレーザー等による直接
製版に好適な感光性平版印刷版に関するる。

【０００２】

【従来の技術】コンピューター画像処理技術の進歩に伴
い、デジタル画像情報から銀塩マスクフィルムへの出力
を行わずに、レーザー光などにより、直接レジスト画像
を形成する直接製版システムが注目されている。レーザ
ー光としては、遠紫外からマイクロ波までの種々の光源
が知られているが、レーザー出力、安定性、コスト、感
光能力の観点から、赤外レーザー光が有望である。

【０００３】赤外レーザーに感じる光重合性組成物とし
ては、カチオン染料とボレート錯体を組み合わたもの
（特開平６−５９４５０号公報、特開平５−２１６２２
７号公報、特開平５−２４７１１０号公報、特開平５−
２６５２０４号公報、特開平６−３３２１７号公報）、
光熱変換物質とオニウム塩を組み合わせたもの（特開平
９−３４１１０号公報、特開平９−１３４００９号公
報）等が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、赤外レーザ
ー光にて反応速度の比較的速い光重合性組成物を走査露
光する際、レーザーヘッドからの微弱な漏れ光があると
問題を生じる。すなわち、反応速度が速い光重合性組成
物は、微弱な漏れ光の影響を大きく受け易く、結果とし
て画像再現性に支障を来す。この問題をバンディングと
定義する。加えて、赤外レーザーの様な強力なレーザー
で感光層を走査露光する場合、その強力なエネルギーに
よって感光層が飛散して光学系を汚すという問題も発生
することがある。上記のバンディングや光学系の汚染
は、赤外レーザー光の出力の低減により回避・抑制でき
るが、その場合は、形成された画像の反応度が充分とは
言えず、耐刷力が充分ではない。

【０００５】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、赤外レーザーにて露光・走査され、
バンディングや光学系の汚染の問題を回避した上で耐刷
性に優れる感光性平版印刷版を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を重ねた結果、感光性平版印刷版の支持体を特定の条件
になる様に作成することにより、上記の目的を容易に達
成し得るとの知見を得、本発明の完成に至った。

【０００７】すなわち、本発明の第１の要旨は、光重合
性組成物を支持体上に塗設して成り、赤外レーザーにて
露光・走査される感光性平版印刷版において、上記の支
持体のスマット量が０．２〜６．０mｇ／ｄm²であるこ
とを特徴とする感光性平版印刷版に存する。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
先ず、本発明の感光性平版印刷版に使用される光重合性
組成物について説明する。

【０００９】本発明における光重合性組成物は、一般的
には、（ａ）エチレン性単量体、（ｂ）６５０ｎｍ〜１
３００ｎｍの範囲の光を吸収する増感色素、（ｃ）光重
合開始剤、（ｄ）高分子結合剤を含有して成る。

【００１０】エチレン性単量体（ａ）は、１分子中にエ
チレン性二重結合を一個以上有する化合物である。斯か
る化合物としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アク
リル酸のアルキルエステル、アクリロニトリル、スチレ
ン、エチレン性不飽和結合を一個有するカルボン酸と多
（単）価アルコールのモノエステル等が挙げられる。エ
チレン性単量体（ａ）としては、１分子中にエチレン性
二重結合を二個以上有する多官能エチレン性化合物が好
ましい。

【００１１】上記の多官能エチレン性化合物としては、
例えば、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステル；芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステル；脂肪族ポリヒドロキシ化合
物、芳香族ポリヒドロキシ化合物などの多価ヒドロキシ
化合物と不飽和カルボン酸および多価カルボン酸とのエ
ステル化反応により得られるエステル等が挙げられる。

【００１２】脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルはの具体例としては、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスルトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートグリセロールアクリレート等の脂
肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これ
ら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた
メタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイ
タコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エス
テルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等
が挙げられる。

【００１３】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルの具体例としては、ハイドロキノン
ジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレー
ト、ピロガロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒド
ロキシ化合物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エ
ステル等が挙げられる。

【００１４】多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸
および多価カルボン酸とのエステル化反応により得られ
るエステルの具体例としては、アクリル酸、フタル酸お
よびエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイ
ン酸およびジエチレングリコールの縮合物、メタクリル
酸、テレフタル酸およびペンタエリスリトールの縮合
物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリ
セリンの縮合物などが挙げられる。

【００１５】その他の多官能エチレン性単量体の例とし
ては、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）
アクリル酸エステル又はポリイソシアネート化合物とポ
リオール及び水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルを
反応させて得られる様なウレタン（メタ）アクリレート
類；多価エポキシ化合物とヒドロキシ（メタ）アクリレ
ート又は（メタ）アクリル酸との付加反応物の様なエポ
キシアクリレート類：エチレンビスアクリルアミド等の
アクリルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステ
ル類；ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物など
が挙げられる。

【００１６】上記の多官能エチレン性単量体のの中では
ウレタン（メタ）アクリレート類をが好ましい。

【００１７】更に、本発明で使用される好ましいエチレ
ン性単量体として、少なくとも一つの（メタ）アクリロ
イル基を含有するリン酸エステル化合物（以下、「リン
酸エステル化合物」と略す）が挙げられる。斯かるリン
酸エステル化合物の使用により、耐刷性および非画線部
の抜け性が改良される。リン酸エステル化合物として
は、例えば下記一般式（１）又は（２）で示される化合
物が挙げられる。

【００１８】

【化１】

【００１９】（一般式（１）及び（２）中、Ｒ¹及びＲ²
は夫々水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜２５の整
数を示し、ｍは１〜３の整数を示す。）

【００２０】一般式（１）及び（２）において、ｎが１
〜１０、特に１〜４である化合物が好ましい。斯かる化
合物の具体例としては、メタアクリルオキシエチルフォ
スフェート、ビス（メタアクリルオキシエチル）フォス
フェート、メタアクリルオキシエチレングリコールフォ
スフェート等が挙げられる。

【００２１】本発明で使用するリン酸エステル化合物
は、単一の化合物でも複数の化合物の混合物でもよい。
エチレン性単量体中のリン酸エステル化合物の含有量
は、通常１〜６０重量％が好ましく、好ましくは５〜５
０重量％である。

【００２２】本発明で使用する増感色素（ｂ）は、６５
０〜１３００ｎｍの範囲の光照射を受けたときに励起
（電子遷移）され、その電子遷移エネルギーを光重合開
始剤（ｃ）に受け渡す役割を担う化合物である。本発明
においては、６５０〜１３００ｎｍの範囲の光照射によ
って、電子遷移する色素であれば何れの色素をも使用し
得る。

【００２３】上記の色素は、窒素原子、酸素原子、硫黄
原子などの複素原子がポリメチン（−ＣＨ＝）_n 鎖で結
合された構造を基本構造とする。斯かる色素としては、
上記の複素原子が複素環を形成し、当該複素環がポリメ
チン鎖を介して結合された構造を基本構造とする広義の
所謂シアニン系色素が挙げられる。すなわち、例えば、
キノリン系（所謂、シアニン系）、インドール系（所
謂、インドシアニン系）、ベンゾチアゾール系（所謂、
チオシアニン系）、ピリリウム系、チアピリリウム系、
スクアリリウム系、クロコニウム系、アズレニウム系の
各色素が挙げられる。また、非環式複素原子がポリメチ
ン鎖を介して結合された構造の所謂ポリメチン系色素な
ども挙げられる。これらの中では、キノリン系、インド
ール系、ベンゾチアゾール系、ピリリウム系、チアピリ
リウム系などのシアニン系色素およびポリメチン系色素
が好ましい。

【００２４】キノリン系色素としては、特に、下記一般
式（３ａ）、（３ｂ）又は（３ｃ）で表されるものが
好ましい。

【００２５】

【化２】

【００２６】（式（３ａ）、（３ｂ）及び（３ｃ）中、
Ｒ¹ 及びＲ² は、各々独立して、置換基を有していても
よいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル
基、置換基を有していてもよいアルキニル基または置換
基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ¹ は、
（１）色素分子中で共鳴してオキソニウムカチオンを生
じるエーテル結合またはスルホニウムカチオンを生じる
チオエーテル結合を有する置換基を少なくとも有するト
リ、ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基を示す
か、または、（２）当該ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウン
デカメチン基上に少なくとも２つの置換基を有し、当該
２つの置換基が色素分子中で共鳴してオキソニウムカチ
オンを生じるエーテル結合またはスルホニウムカチオン
を生じるチオエーテル結合で結合されて環状構造を形成
する。当該ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基
上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシク
ロアルケン環、シクロアルケノン環、シクロアルケンジ
オン環またはシクロアルケンチオン環を形成していても
よく、キノリン環は置換基を有していてもよく、その場
合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼ
ン環を形成していてもよい。Ｘa^- は対アニオンを示
す。〕

【００２７】ここで、式（３ａ）、（３ｂ）及び（３
ｃ）中のＲ¹及びＲ² がアルキル基であるときの炭素数
は、通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケニル
基、アルキニル基であるときの炭素数は、通常２〜１
５、好ましくは２〜１０であり、フェニル基も含めたそ
れらの置換基としては、炭素数が通常１〜１５、好まし
くは１〜１０のアルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキ
シ基またはフェニル基などが挙げられ、Ｌ¹ における前
記エーテル結合またはチオエーテル結合を有する置換基
以外の置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミ
ノ基またはハロゲン原子などが挙げられ、キノリン環に
おける置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上
炭素数のアルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原子な
どが挙げられる。

【００２８】また、インドール系およびベンゾチアゾー
ル系色素としては、特に、下記一般式（４）で表される
ものが好ましい。

【００２９】

【化３】

【００３０】（式（４）中、Ｙ¹ 及びＹ² は、各々独立
して、ジアルキルメチレン基または硫黄原子を示し、Ｒ
³及びＲ⁴ は、各々独立して、置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル
基、置換基を有していてもよいアルキニル基または置換
基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ² は（１）
色素分子中で共鳴してオキソニウムカチオンを生じるエ
ーテル結合またはスルホニウムカチオンを生じるチオエ
ーテル結合を有する置換基を少なくとも有するトリ、ペ
ンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基を示すか、ま
たは、（２）当該ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメ
チン基上に少なくとも２つの置換基を有し、当該２つの
置換基が色素分子中で共鳴してオキソニウムカチオンを
生じるエーテル結合またはスルホニウムカチオンを生じ
るチオエーテル結合で結合されて環状構造を形成する。
当該ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基上の２
つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアル
ケン環、シクロアルケノン環、シクロアルケンジオン環
またはシクロアルケンチオン環を形成していてもよく、
縮合ベンゼン環は置換基を有していてもよく、その場
合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼ
ン環を形成していてもよい。Ｘa^- は対アニオンを示
す。）

【００３１】ここで、式（４）中のＲ³ 及びＲ⁴ がアル
キル基であるときの炭素数は、通常１〜１５、好ましく
は１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの
炭素数は、通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、
フェニル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が
通常１〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フ
ェノキシ基、ヒドロキシ基またはフェニル基などが挙げ
られ、Ｌ² における前記エーテル結合またはチオエーテ
ル結合で置換された置換基以外の置換基としては、同上
炭素数のアルキル基、アミノ基またはハロゲン原子など
が挙げられ、縮合ベンゼン環における置換基としては、
同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子などが挙げられる。

【００３２】また、ピリリウム系およびチアピリリウム
系色素としては、特に、下記一般式（５ａ）、（５ｂ）
又は（５ｃ）で表されるものが好ましい。

【００３３】

【化４】

【００３４】（式（５ａ）、（５ｂ）及び（５ｃ）中、
Ｚ¹ 及びＺ² は、各々独立して、酸素原子または硫黄原
子を示し、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は、各々独立し
て、水素原子またはアルキル基、または、Ｒ⁵ とＲ⁷ 及
びＲ⁶ とＲ⁸ が互いに連結して炭素数５又は６のシクロ
アルケン環を形成していてもよく、Ｌ³ は、（１）色素
分子中で共鳴してオキソニウムカチオンを生じるエーテ
ル結合またはスルホニウムカチオンを生じるチオエーテ
ル結合を有する置換基を少なくとも有するモノ、トリ、
ペンタ又はヘプタメチン基を示すか、または、（２）当
該ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基上に少な
くとも２つの置換基を有し、当該２つの置換基が色素分
子中で共鳴してオキソニウムカチオンを生じるエーテル
結合またはスルホニウムカチオンを生じるチオエーテル
結合で結合されて環状構造を形成する。当該トリ、ペン
タ又はヘプタメチン基上の２つの置換基が互いに連結し
て炭素数５〜７のシクロアルケン環、シクロアルケノン
環、シクロアルケンジオン環またはシクロアルケンチオ
ン環を形成していてもよく、ピリリウム環およびチアピ
リリウム環は置換基を有していてもよく、その場合、隣
接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を
形成していてもよい。Ｘa ^-は対アニオンを示す。〕

【００３５】ここで、式（５ａ）、（５ｂ）及び（５
ｃ）中のＲ⁵ 、Ｒ⁶、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ がアルキル基である
ときの炭素数は、通常１〜１５、好ましくは１〜１０で
あり、Ｌ³における前記エーテル結合またはチオエーテ
ル結合で置換された置換基以外の置換基としては、同上
炭素数のアルキル基、アミノ基、ハロゲン原子などが挙
げられ、ピリリウム環およびチアピリリウム環における
置換基としては、フェニル基などのアリール基などが挙
げられる。

【００３６】また、ポリメチン系色素としては、特に下
記一般式（６）で表されるものが好ましい。

【００３７】

【化５】

【００３８】（式（６）中、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及びＲ¹²
は、各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ¹³及びＲ
¹⁴は、各々独立して、置換基を有していてもよいアリー
ル基、フリル基またはチエニル基を示し、Ｌ⁴は、
（１）色素分子中で共鳴してオキソニウムカチオンを生
じるエーテル結合またはスルホニウムカチオンを生じる
チオエーテル結合で置換された置換基を少なくとも有す
るモノ、トリ、ペンタ又はヘプタメチン基を示すか、ま
たは、（２）当該ペンタ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメ
チン基上に少なくとも２つの置換基を有し、当該２つの
置換基が色素分子中で共鳴してオキソニウムカチオンを
生じるエーテル結合またはスルホニウムカチオンを生じ
るチオエーテル結合で結合されて環状構造を形成する。
当該トリ、ペンタ又はヘプタメチン基上の２つの置換基
が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環、シ
クロアルケノン環、シクロアルケンジオン環またはシク
ロアルケンチオン環を形成していてもよく、キノン環お
よびベンゼン環は置換基を有していてもよい。Ｘa^- は
対アニオンを示す。）

【００３９】ここで、式（６）中のＲ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及
びＲ¹²のアルキル基の炭素数は、通常１〜１５、好まし
くは１〜１０、Ｒ¹³及びＲ¹⁴がアリール基であるときの
炭素数は、通常６〜２０、好ましくは６〜１５であり、
Ｒ¹³及びＲ¹⁴としては、具体的には、フェニル基、１−
ナフチル基、２−ナフチル基、２−フリル基、３−フリ
ル基、２−チエニル基、３−チエニル基などが挙げら
れ、それらの置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、
ヒドロキシ基、ハロゲン原子などが挙げられ、Ｌ⁴ にお
ける前記エーテル結合またはチオエーテル結合で置換さ
れた置換基以外の置換基としては、同上炭素数のアルキ
ル基、アミノ基、ハロゲン原子などが挙げられ、キノン
環およびベンゼン環における置換基としては、同上炭素
数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ
基、ハロゲン原子などが挙げられる。

【００４０】なお、前記一般式（３ａ〜３ｃ）、
（４）、（５ａ〜５ｃ）及び（６）における対アニオ
ンＸa^-としては、具体的には、例えば、Ｃｌ^-、Ｂｒ
^- 、Ｉ^- 、ＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＡｓＦ
₆ ^- 及び、ＢＦ₄ ^- 、ＢＣｌ₄ ^-等の無機硼素酸などの
無機酸アニオン、並びに、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、酢酸、および、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキ
シフェニル、ナフチル、フルオロフェニル、ジフルオロ
フェニル、ペンタフルオロフェニル、チエニル、ピロリ
ル等の有機基を有する有機硼素酸などの有機酸アニオン
を挙げることが出来る。

【００４１】また、本発明で使用される増感色素は、分
子内塩を形成しているものでもよい。分子内塩を形成し
ている増感色素としては、例えば、下記式（７）で表さ
れる化合物が挙げられる。

【００４２】

【化６】

【００４３】（式（７）中、Ｙ¹、Ｙ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、前
記式（４）におけるものと同義である。また、Ｌ⁴は、
トリ−、ペンタ−、ヘプタ−、ノナ−又はウンデカメチ
ンから選ばれるポリメチン基を示し、当該ポリメチン基
上に下記式（８）で表されるバルビツル酸残基またはチ
オバルビツル酸残基を有する。）

【００４４】

【化７】

【００４５】（式（８）中、Ｘは酸素原子または硫黄原
子を示す。また、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、各々独立して水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよ
いアルコキシ基または置換基を有していてもよいフェニ
ル基を示す。）

【００４６】以上の前記一般式（３ａ〜３ｃ）で表さ
れるキノリン系、前記一般式（４）で表されるインドー
ル系またはベンゾチアゾール系、前記一般式（５ａ〜５
ｃ）で表されるピリリウム系またはチアピリリウム系な
どのシアニン系色素および前記一般式（６）で表される
ポリメチン系色素の中では、前記一般式（４）で表され
るインドール系またはベンゾチアゾール系色素が特に好
ましい。

【００４７】また、前記各式におけるＬ¹、Ｌ² 、Ｌ³
及びＬ⁴を含めたポリメチン鎖として、波長域７００〜
８５０ｎｍに対してはヘプタメチン鎖であるものが、波
長域８５０〜９５０ｎｍに対してはノナメチン鎖である
ものが、波長域９５０〜１３００ｎｍに対してはウンデ
カメチン鎖であるものが、それぞれ好ましい。

【００４８】本発明においては、光重合性組成物中に６
５０ｎｍ〜１３００ｎｍの光を吸収するバンディング抑
制剤を含有させることが好ましい。ここでいうバンディ
ング抑制剤とは上記範囲に吸収域を有する化合物であ
る。

【００４９】本発明におけるバンディング抑制剤の機能
は以下の様に推定している。すなわち、赤外光にて画像
形成可能な光重合性組成物において、増感色素の量は、
通常、当該光重合性組成物が最高感度を示す様に設定さ
れる。ここで、光重合性組成物における最高感度を示す
増感色素の量は、エチレン性単量体（ａ）、光重合開始
剤（ｃ）、その他の光重合性組成物に含まれる成分の量
比を一定にし、増感色素（ｂ）の量比のみを変更して感
度を測定することによって求めることが出来る。

【００５０】増感色素は、通常、光重合性組成物（光重
合性平版印刷版であれば、光重合性組成物層）にほぼ均
等に分布しており、当該光重合性組成物が最高感度を示
す増感色素の量であると、照射された光が、ほぼ全て増
感色素によって吸収され最大の増感作用を表しているも
のと考えられる。

【００５１】増感色素の量が少な過ぎる場合は、照射し
た光が光重合性組成物層の最深部に到達するまでに増感
色素で吸収されきれずに効率が低下する。また、一方増
感色素が多すぎる場合は、光重合性組成物層の表面部に
存在する増感色素によって全ての照射光が吸収されてし
まい、光が光重合性組成物層の深部まで到達せず、その
ため深部での光重合が起こらずに却って感度が低下す
る。

【００５２】そこで、増感色素の量は、通常、光重合性
組成物が最高感度を示す様に設定される。しかしなが
ら、光重合性組成物の場合、感度が非常に高いため、レ
ーザーから出る漏れ光によっても感光するというという
問題を生じる場合がある。レーザーの漏れ光の原因は定
かではないが、レーザー光照射装置の端部から通常の光
強度の１０分の１程度の光が、本来レーザー光を照射し
ないという信号を受けているにも拘わらず、印刷版面に
向かって照射される現象である。

【００５３】漏れ光は、通常の露光強度よりもかなり弱
いため、光重合性組成物中の光吸収剤で吸収することに
より、漏れ光による重合を防ぐことが出来る。ここで、
６５０〜１３００ｎｍの光を吸収する物質をバンディン
グ抑制剤と称するが、これは通常のレーザー光も吸収す
るため、光重合性組成物の感度はその分低下することと
なる。従って、バンディング抑制剤の量が余りに多すぎ
る場合は感度が低下しすぎて画像形成が困難となるた
め、その添加量は、増感色素との合計として、通常、最
高感度の１１０〜１０００重量％、好ましくは１１０〜
５００重量％、更に好ましくは１１０〜２５０重量％で
ある。この様な配合量により、通常のレーザー露光によ
る感度の低下を最小限に押さえると共に、漏れ光による
光重合を防ぐことが出来る。

【００５４】上記の様なバンディング抑制剤は、６５０
ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲の光を吸収することが出来る
化合物、すなわち、６５０ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲の
一部または全部に吸収域を有する化合物であれば何れの
化合物も使用できるが、吸収効率の観点から、６５０〜
１３００ｎｍに極大吸収を有する化合物を含むことが好
ましい。また、実際的な観点からは、露光波長の光を吸
収する化合物が良く、現状の画像形成材料用のレーザー
露光装置の波長が８３０ｎｍ及び１０１６ｎｍであるの
ため、これらの何れかの波長を吸収する化合物が好まし
い。これらの両方に吸収域を有する化合物であれば、何
れの露光波長用の画像形成材料にも使用出来る。

【００５５】光重合開始剤（ｃ）は、前述の増感色素
（ｂ）との共存下で光照射されたときに、活性ラジカル
を発生するラジカル発生剤であって、例えば、ハロゲン
化炭化水素誘導体、特開昭６２−１４３０４４号、特開
昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、
特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０
号、特許第２７６４７６９号などの各公報、Kunz,Marti
n "Rad Tech'９８.Proceeding April １９-２２,１９９
８,Chicago" などに記載される有機硼素酸塩、特開昭５
９−１５２３９６号、特開昭６１−_P５１１９７号など
の各公報に記載されるチタノセン化合物、特公平６−２
９２８５号公報などに記載されるヘキサアリールビイミ
ダゾール化合物、ジアリールヨードニウム塩、有機過酸
化物などが挙げられる。本発明においては、ハロゲン化
炭化水素誘導体および有機硼素酸塩が好ましい。

【００５６】上記のハロゲン化炭化水素誘導体として
は、少なくとも一つのモノ、ジ又はトリハロゲン置換メ
チル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘
導体が好適である。

【００５７】上記のｓ−トリアジン誘導体の具体例とし
ては、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−プロピル
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェ
ニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４
−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジ
エニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス
（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−ト
リス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチ
ル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）
−ｓ−トリアジン等が挙げられる。

【００５８】特に、２−メチル−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフ
ェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，
４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のビス
（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン化合物が経時安定
性に優れて好ましい。

【００５９】また、その他のハロゲン化炭化水素誘導体
としては、例えば、特開昭５３−１３３４２８号公報、
特開昭６２−５８２４１号公報、独国特許第３３３７０
２４号明細書、M.P.Hutt,E.F.Flslager,L.M.Werbel "Ju
rnal of Heterocyclic Chemistry" Vol.７,No.３（１９
７０）等に記載されたものが挙げられる。

【００６０】また、有機硼素酸塩としては、特に下記一
般式（９）で表されるものが好ましい。

【００６１】

【化８】

【００６２】（式（９）中、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹及びＲ²⁰
は、各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、置換基を有していても
よいアリール基または複素環基を示し、これらは互いに
連結して環状構造を形成していてもよく、これらのうち
少なくとも一つは置換基を有していてもよいアルキル基
である。Ｘb ⁺ は対カチオンである。）

【００６３】ここで、式（９）中のＲ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹及
びＲ²⁰がアルキル基であるときの炭素数は、通常１〜１
５、好ましくは１〜５、アルケニル基またはアルキニル
基であるときの炭素数は、通常２〜１５、好ましくは２
〜５、アリール基であるときの炭素数は、通常６〜２
０、好ましくは６〜１５、複素環基であるときの炭素数
は、通常４〜２０、好ましくは４〜１５であり、それら
における置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、トリフルオロメチル基、トリメチルシリ
ル基などが挙げられる。

【００６４】一般式（９）で表される有機硼素塩の有機
硼素アニオンの具体例としては、ｎ−ブチル−メチル−
ジフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリフェニル硼
素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリメ
チルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ
−メトキシフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリ
ス（ｐ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル
−トリス（ｍ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−
ブチル−トリス（２，６−ジフルオロフェニル）硼素ア
ニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオ
ロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）硼素アニオ
ン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）硼素ア
ニオン、ｎ−ブチル−トリス（トリフルオロフェニル）
硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオ
ロ−３−ピロリルフェニル）−硼素アニオン、ｎ−ブチ
ル−トリス（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−硼
素アニオン等が挙げられる。

【００６５】また、対カチオンＸb⁺ としては、例え
ば、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホ
スホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニ
ウムカチオン等のオニウム化合物、ピリリウムカチオ
ン、チアピリリウムカチオン、インドリウムカチオン等
が挙げれるが、特にテトラアルキルアンモニウム等の有
機アンモニウムカチオンが好ましい。

【００６６】光重合開始剤（ｃ）として、ビス（トリハ
ロメチル）−ｓ−トリアジン化合物または有機硼素酸塩
の使用は、特に高感度の点で好ましい。

【００６７】本発明において、増感色素（ｂ）と光重合
開始剤（ｃ）としての有機硼素酸塩を光重合性組成物中
に存在させる方法としては、増感色素（ｂ）の色素カチ
オンと適宜選択した対アニオンとの塩と、前記有機硼素
酸塩の有機硼素アニオンと適宜選択した対カチオンとの
塩とを配合する通常の方法の他、増感色素（ｂ）の色素
カチオンと有機硼素酸塩の有機硼素アニオンとで形成さ
れた塩を配合する方法を採用することが出来る。本発明
においては後者方法が好適である。

【００６８】高分子結合剤（ｄ）の具体例としては、
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、
（メタ）アクリルアミド、マレイン酸、（メタ）アクリ
ロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、
マレイミド等の単独重合体または共重合体が挙げられ
る。その他の具体例としては、ポリエチレンオキサイ
ド、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエチレンテレフ
タレート、アセチルセルロース、またはポリビニルブチ
ラール等が挙げられる。

【００６９】高分子結合剤（ｄ）としては、アルカリ性
現像液に対する溶解性の点で分子内にカルボキシル基を
有する高分子結合剤が好ましく、特に、（メタ）アクリ
ル酸エステルの少なくとも一種と（メタ）アクリル酸を
共重合成分として含有する共重合体が好ましい。（メ
タ）アクリル酸エステルのエステルを構成する基として
は、特に限定されないが、Ｃ１〜Ｃ１６程度の脂肪族ま
たは芳香族炭化水素基が一般的である。分子内にカルボ
キシル基を有する高分子結合剤の好ましい酸価の値は１
０〜２５０であり、好ましい重量平均分子量（以下Ｍｗ
と略す）は５千から１００万である。これらの高分子結
合剤は、側鎖に不飽和結合を有することが好ましく、特
に下記一般式（１０ａ）〜（１０ｃ）で示される少なく
とも１種の不飽和結合を有することが好ましい。

【００７０】

【化９】

【００７１】（式中、Ｒ⁸は水素原子またはメチル基を
示す。また、Ｒ⁹〜Ｒ¹³は、各々独立して水素原子、ハ
ロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ
基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有して
いてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいア
リールオキシ基、置換基を有していてもよいアルキルア
ミノ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、
置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基または
置換基を有していてもよいアリールスルホニル基を有
し、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはアルキ
ルイミノ基を示す。）

【００７２】上記の様な高分子結合剤の合成法として
は、大別して下記の２手法がある。

【００７３】（合成法１）分子内にカルボキシル基を有
する高分子結合剤の不活性有機溶剤溶液とエポキシ基含
有不飽和化合物とを約８０〜１２０℃、約１〜５０時間
の反応条件で反応させることにより合成する方法。不活
性有機溶剤としては、例えば、アルコール系、エステル
系、芳香族炭化水素系、脂肪族炭化水素系などが挙げら
れる。エポキシ基含有不飽和化合物と反応させるカルボ
キシル基の割合は、全カルボキシル基に対する割合とし
て、通常５〜９０モル％、好ましくは２０〜８０モル
％、更に好ましくは３０〜７０モル％である。斯かる範
囲であると現像性が良好であると共に接着性が良好であ
る。

【００７４】側鎖に不飽和基を有するエチレン性高分子
結合剤の製造に使用するエポキシ基含有不飽和化合物
は、一分子中に少なくとも一つの付加重合可能な不飽和
結合とエポキシ基とを有する化合物である。エポキシ基
含有不飽和化合物の具体例としては、グリシジル（メ
タ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エ
チルグリシジルアクリレート、クロトニルグリシジルエ
ーテル、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロ
トネート、イタコン酸モノアルキルエステルモノグリシ
ジルエステル、フマール酸モノアルキルエステルモノグ
リシジルエステル、マレイン酸モノアルキルエステルモ
ノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和
化合物の他、下記一般式（１１）〜（２４）で示される
脂環式エポキシ基含有不飽和化合物が挙げられる。

【００７５】

【化１０】

【００７６】

【化１１】

【００７７】（各一般式中、Ｒ¹⁴は水素原子又はメチル
基を示す。Ｒ¹⁵は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化
水素基を示す。Ｒ¹⁶は炭素数１〜１０の２価の炭化水素
基を示す。ｋは０〜１０の整数を示す。）

【００７８】上記エポキシ基含有不飽和化合物の好まし
い具体例としては、グリシジルメタアクリレート、アリ
ルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチルアクリレート等が挙げられる。これらの中で特
に好ましい化合物は、アリルグリシジルエーテル、３，
４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートであ
る。

【００７９】（合成法２）前記一般式（１０ｂ）及び
（１０ｖ）で示される様な、反応性の低い不飽和結合を
１種類以上とこれらより反応性に富む不飽和結合１種類
の合計２種以上の不飽和結合を有する化合物と不飽和カ
ルボン酸とを共重合させて合成する方法。

【００８０】一般式（１０ｂ）で示される不飽和基を有
する化合物の具体例としては、アリル（メタ）アクリレ
ート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリル
アミド、シンナミル（メタ）アクリレート、クロトニル
（メタ）アクリレート、メタリル（メタ）アクリレート
等が挙げられる。

【００８１】一般式（１０ｃ）で示される不飽和基を有
する化合物の具体例としては、ビニル（メタ）アクリレ
ート、ビニルクロトネート、１−プロペニル（メタ）ア
クリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、
２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、ビニル（メ
タ）アクリルアミド等が挙げられる。

【００８２】一般式（１０ｂ）又は（１０ｃ）の構造を
有する化合物の中で好ましい化合物としては、アリル
（メタ）アクリレート、ビニル（メタ）アクリレートが
挙げられる。これらのモノマーを不飽和カルボン酸、好
ましくはアクリル酸またはメタクリル酸と共重合させる
ことにより当該不飽和基を有する共重合体を得る。共重
合するモノマーは不飽和カルボン酸に加えて他のモノマ
ーが共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、
メタクリル酸アルキル、アクリロニトリル、スチレン等
が挙げられる。共重合させる一般式（１０ｂ）又は（１
０ｃ）の構造を有する化合物の、ポリマー全体の成分に
占める割合は、通常１０〜９０モル％、好ましくは３０
〜８０モル％である。この範囲より少ないと画像再現性
に劣り、多くなると現像性が悪くなる。

【００８３】光重合組成物における前記各成分の使用比
率は次の通りである。すなわち、エチレン性単量体
（ａ）１００重量部に対し、増感色素（ｂ）は、通常
０．０１〜２０重量部、好ましくは０．０５〜１０重量
部、光重合開始剤（ｃ）は、通常０．１〜８０重量部、
好ましくは０．５〜６０重量部、高分子結合剤（ｄ）
は、通常１０〜４００重量部、好ましくは２０〜２００
重量部の範囲である。

【００８４】本発明における光重合性組成物は、前記の
成分の他に、その目的に応じて更に他の物質を含有する
ことが出来る。例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシ
フェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
等の熱重合防止剤；有機または無機の染顔料から成る着
色剤；ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、
トリクレジルホスフェート等の可塑剤、三級アミンやチ
オールの様な感度特性改善剤、その他の色素前駆体など
の添加剤も加えることが出来る。

【００８５】また、本発明における光重合性組成物は、
塗布性改良剤として界面活性剤を含有することが出来
る。その中でも特に好ましいのはフッ素系界面活性剤で
ある。以上述べた添加剤の好ましい添加量は、エチレン
性単量体（ａ）１００重量部に対し、熱重合防止剤２重
量部以下、着色剤２０重量部以下、可塑剤４０重量部以
下、色素前駆体３０重量部以下、界面活性剤１０重量部
以下の範囲である。

【００８６】本発明において支持体としては、各種金属
が採用できるが、アルミニウム板（アルミニウム合金板
も含む）が特に好ましく、その厚さは通常０．０１〜１
０ｍｍ程度、好ましくは０．０５〜１ｍｍ程度である。

【００８７】上記の支持体には表面の粗面化処理の後に
陽極酸化処理が施される。この他、必要に応じ、脱脂処
理、封孔処理、下引き処理などを施してもよい。通常、
粗面化処理の前に脱脂処理が行われるが、脱脂処理は、
溶剤を使用してふき取り、浸積または蒸気洗浄する方
法、アルカリ水溶液を使用して浸積または噴霧した後に
酸水溶液で中和する方法、界面活性剤を使用して浸積ま
たは噴霧する方法などの常法に従ってなされる。

【００８８】粗面化処理（砂目立て処理）は、ボール研
磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング研磨
法、バフ研磨法などの機械的処理方法、電解エッチング
法、化学エッチング法などの常法により、ＪＩＳＢ０
６０１に規定される平均粗さＲａが０．１〜１．５μｍ
程度、好ましくは０．２〜１．０μｍ程度となる様に行
われる。

【００８９】本発明においては、粗面化処理後にデスマ
ット処理を施してもよい。デスマット処理は、硫酸、硝
酸、塩酸、燐酸、クロム酸などの酸、または、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウム、燐酸
ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、アル
ミン酸ナトリウム等のアルカリの水溶液を使用して浸積
または噴霧する等の常法に従ってなされる。

【００９０】上記のデスマット処理は、粗面化処理によ
って生じた支持体表面のスマットを取り除くために行わ
れるが、斯かるスマットは支持体と感光層との接着性に
大きく関係している。特に赤外レーザーで比較的低露光
にて露光する場合には、現像性や印刷時の汚れといった
悪影響を起こさない限りスマットを残しておくことは非
常に有効である。なお、デスマット処理は、同時に支持
体表面の微細な形状をもエッチングしており、これも接
着性にとっては悪影響を与える。

【００９１】すなわち、本発明の特徴は、上記のスマッ
ト処理を行わないか、または、制御することにより、現
像性や印刷時に要求される親水性を充分に保ちつつ、感
光層と支持体との接着性を確保することにある。その条
件は砂目の反射濃度によって規定され、反射濃度が０．
３以上、または、粗面化処理工程直後の反射濃度をＡ、
陽極酸化処理後の反射濃度をＢとした場合、Ａ−Ｂ≦
０．１（好ましくは０．０８）の条件を満足することで
ある。

【００９２】反射濃度の測定は、反射濃度計を使用し、
フィルターを使用しないビジュアルモードにて行われ
る。デスマット処理の条件は、使用するアルカリ水溶
液、粗面化処理の状態にもよるが、例えば、濃度０．１
〜４重量％で液温５〜３０℃程度のＮａＯＨ水溶液に１
〜１０秒程度浸積する等の条件が挙げられる。

【００９３】次いで、アルミニウム板は、通常、陽極酸
化処理される。陽極酸化処理は、硫酸を含む電解液で処
理する方法が好ましい。斯かる方法は、例えば特開昭５
８−２１３８９４号公報に記載された方法に準じて行う
ことが出来る。具体的には、硫酸濃度は、通常５〜５０
重量％、好ましくは１５〜３０重量％、温度は、通常５
〜５０℃程度、好ましくは１５〜３５℃とされる。そし
て、電流密度は１〜６０Ａ／ｄｍ²、処理時間は５秒〜
６０秒間程度とれる。また、更に、必要に応じ、珪酸ソ
ーダ等の珪酸アルカリや熱水による処理、カチオン性４
級アンモニウム基を有する樹脂やポリビニルホスホン酸
などの水性高分子化合物を含有する水溶液への浸漬など
による表面処理を行うことが出来る。

【００９４】光重合性組成物の塗布方法としては、ディ
ップコート、コーティングロッド、スピナーコート、ス
プレーコート、ロールコート等の公知の方法を採用する
ことが出来る。更に、前述の感光層の上には、酸素によ
る重合禁止作用を防止するために酸素遮断層を設けるこ
とが出来る。酸素遮断層の具体例としては、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイド、セルロース等の水溶性高分子が挙げられる。特
に酸素ガスバリア性の高いポリビニルアルコールを含む
酸素遮断層が好ましい。

【００９５】本発明の感光性平版印刷版に適用し得る露
光光源は赤外レーザーである。その波長は、通常７００
ｎｍ〜１３００ｎｍ、好ましくは８００ｎｍ〜１２００
ｎｍである。赤外レーザーによる描画方法としては、例
えば、外面ドラム方式、内面ドラム方式、平面走査方式
などを採用することが出来る。

【００９６】本発明における光重合性組成物は、赤外レ
ーザーにて画像露光を行った後、アルカリ剤と界面活性
剤とを含有する現像液で処理することにより、支持体上
に画像を形成することが出来る。現像液には、更に、有
機溶剤、緩衝剤、染料または顔料を含有させることが出
来る。

【００９７】現像液に使用する適当なアルカリ剤として
は、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナト
リウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アルカリ剤、トリ
メチルアミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、
ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン類などの有機アミン化
合物などが挙げられる。これらは単独または組み合わせ
て使用できる。

【００９８】界面活性剤としては、例えば、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキル
エステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリ
セリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性
剤；アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタ
レンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスル
ホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオ
ン界面活性剤；アルキルベタイン類、アミノ酸類などの
両性界面活性剤が使用可能である。

【００９９】また、有機溶剤としては、例えば、イソプ
ロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピ
レングリコール、ジアセトンアルコール等を必要により
含有させることが可能である。

【０１００】更に、画像形成後に、バーニング等の熱処
理や水銀灯やメタルハライドランプによる後露光処理を
行うことは耐刷性を更に高める上で有効である。その中
でも特に熱処理や水銀灯による後露光処理が好ましい。
また、場合によっては画像描画してから現像処理するま
での間に加熱処理などを行ってもよい。

【０１０１】

【実施例】＜支持体の作成＞（１）支持体−１の作成：アルミニウム板（厚さ０．２
４ｍｍ）を３重量％水酸化ナトリウム水溶液で脱脂した
後、１８．０ｇ／リットル硝酸浴中で、２５℃、９０Ａ
／ｄｍ²の電流密度で１１秒間、電解エッチングした。
次いで、３０℃の４．５重量％水酸化ナトリウム水溶液
で２秒間デスマット処理した後、２５℃の１０重量％硝
酸水溶液で５秒間中和し、水洗後、３０重量％硫酸浴中
で、３０℃、１０Ａ／ｄｍ²の電流密度で１６秒間、陽
極酸化処理し、水洗、乾燥して支持体を得た。支持体の
スマット量は０．４ｍｇ／ｄｍ²であった。

【０１０２】（２）支持体−２の作成：デスマット処理
の水酸化ナトリウム濃度を１．１重量％に、温度を１５
℃に、処理時間を５秒に変更した以外は、支持体−１の
作成と同条件を採用した。得られた支持体のスマット量
は３．５ｍｇ／ｄｍ²であった。

【０１０３】（３）支持体−３の作成：デスマット処理
の時間を５秒に変更した以外は、支持体−１の作成と同
条件を採用した。得られた支持体のスマット量は０．１
ｍｇ／ｄｍ²であった。

【０１０４】＜結合剤の合成＞メチルメタクリレート／
メタアクリル酸＝８０／２０モル％（仕込み比）の共重
合体、Ｍｗ＝５万（以下「結合材−１」と略す）を３
８．９重量部、下記脂環式エポキシ含有不飽和化合物
７．２８重量部、ｐ−メトキシフェノール０．０４４重
量部、テトラブチルアンモニウムクロライド０．１７重
量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート８７．４重量部を反応容器中に加え、１１０℃、２
４時間空気中で攪拌反応させてエチレン性高分子結合剤
（酸価５３、結合材−１のメタアクリル酸成分全体の５
割に不飽和基が反応した。以下「結合材−２」と略す）
溶液を得た。

【０１０５】

【化１２】

【０１０６】＜感光性平版印刷版の作成＞先ず、下記の
表１に示す光重合性組成物塗布液−１をプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテートとメトキシプロパ
ノール（重量比で１：９）に固形分が８．５重量％にな
る様に溶解して塗布液を調製した。次いで、後述の表２
に示す様に、上記支持体−１〜４上に、バーコーターを
用いて乾燥膜厚２ｇ／ｍ２となる様に上記の塗布液を塗
布した後に乾燥した。更に、この上に、ポリビニルアル
コールとポリビニルピロリドンの混合水溶液（ポリビニ
ルアルコール：ポリビニルピロリドン＝５０重量％：５
０重量％）をバーコーターを使用して乾燥膜厚が３ｇ／
ｍ²となる様に塗布し、７０℃で４分乾燥して酸素遮断
層を形成することにより、感光性平版印刷版を作成し
た。そして、得られた感光性平版印刷版について後述す
る方法で印刷性能の評価を行った。

【０１０７】

【表１】

【０１０８】

【化１３】

【０１０９】

【化１４】

【０１１０】＜印刷性能＞Ｃｒｅｏ社Trendsetter（８
３０nmのＩＲレーザー照射装置）にて、版面露光量が８
０ｍｊ／ｃｍ²になる様に２％小点画像を露光した。露
光後、ＯＣを水洗で除去した後に、現像処理を行って画
像を形成した。なお、現像処理は、Ａ珪酸カリウムを２
重量％、アニオン系界面活性剤（花王（株）社製「ペレ
ックスＮＢＬ」）３．４重量％を含む水溶液中に、３０
℃で約２０秒浸積しスポンジで１回擦ることによって行
った。こうして得られた版を、平版印刷版をDAIYA-１F-
２型印刷機（三菱重工（株）社製）にかけ耐刷テストを
行った。耐刷性は、１７５線・２％の点が飛ぶまでの枚
数で表現した。結果は表２に示した。

【０１１１】

【表２】

【０１１２】

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、赤外レー
ザーにて露光・走査され、バンディングや光学系の汚染
の問題を回避した上で耐刷性に優れる感光性平版印刷版
が提供され、本発明の工業的価値は顕著である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０１Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０１ 7/09 ５０１ 7/09 ５０１Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA04 AB03 AC08 AD01 BC13 BC53 CA41 DA17 DA36 FA10 FA17 2H096 AA06 BA06 CA03 EA04 EA23 GA13 2H114 AA04 AA14 AA22 AA23 BA02 DA04 DA52 EA03 GA03 GA05 GA34 GA35 GA36

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光重合性組成物を支持体上に塗設して成
り、赤外レーザーにて露光・走査される感光性平版印刷
版において、上記の支持体のスマット量が０．２〜６．
０mｇ／ｄm²であることを特徴とする感光性平版印刷
版。
【請求項２】支持体が、粗面化処理後、陽極酸化処理
前にデスマット処理されている請求項１に記載の感光性
平版印刷版。
【請求項３】支持体のスマット量が、０．２５〜４．
０mｇ／ｄm²である請求項１又は２に記載の感光性平版
印刷版。
【請求項４】光重合性組成物が、（ａ）エチレン性単
量体、（ｂ）６５０ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲の光を吸
収する増感色素、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）高分子結
合剤から成る請求項１〜３の何れかに記載の感光性平版
印刷版。
【請求項５】高分子結合剤が、側鎖に付加重合可能な
エチレン性不飽和基を含有する請求項１〜４の何れかに
記載の感光性平版印刷版。
【請求項６】赤外レーザーにて露光・走査後に、ｐＨ
１３以下のアルカリ水溶液で現像処理される請求項１〜
５の何れかに記載の感光性平版印刷版。