CN105001081A - 一种蒽系增感剂及其在uv-led光固化体系中的应用 - Google Patents
一种蒽系增感剂及其在uv-led光固化体系中的应用 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105001081A CN105001081A CN201510355364.6A CN201510355364A CN105001081A CN 105001081 A CN105001081 A CN 105001081A CN 201510355364 A CN201510355364 A CN 201510355364A CN 105001081 A CN105001081 A CN 105001081A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sensitizer
- anthracene
- formula
- reaction
- led light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 31
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 3
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 claims description 3
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 14
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- AUKRYONWZHRJRE-UHFFFAOYSA-N 9-anthrol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 AUKRYONWZHRJRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 230000008832 photodamage Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/08—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/34—Esters of acyclic saturated polycarboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
- C07C69/40—Succinic acid esters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
本发明公开一种如式（I）所示的蒽系增感剂，该增感剂与现有光引发剂有很好的适配性，应用于光固化组合物时能够显著提升UV-LED光源照射下的固化效率，应用性能优异，从而有助于UV-LED光固化技术的推广和应用（I）。
Description
技术领域
本发明属于有机化学领域，具体涉及一种蒽系增感剂及其制备方法，以及该增感剂在紫外发光二极管(UV-LED)光固化体系中的应用。
背景技术
紫外光固化技术应用非常广泛，其所用光源主要是长波段的紫外光源(如汞灯)，但这类光源在光固化技术发展进程中存在诸多不足，如易产生紫外光损害、电力消耗较高、生产效率不高等。有鉴于此，UV-LED被认为是一种前景良好的替代光源，其具有单峰波长分布的特点，可减少短波长紫外光引起的损害，节省电力消耗，同时也有助于提高生产效率。然而应用中发现，传统紫外光固化体系在使用UV-LED光源后很多都无法顺利固化或固化效果不佳，造成该现象的原因是能量无法很好地实现传递，而这也成为限制UV-LED光固化技术发展和推广的关键因素。
研究认为，在光固化体系中加入合适的增感剂是解决上述问题的有效途径。在基本不改变光固化组合物体系的前提下，通过添加少量增感剂可以达到不断吸收和传递能量的目的。这对于光固化技术来说是成本很低的改进方式，且能够确保上述UV-LED光固化技术的优点。因此，开发能够与现有光引发剂相匹配且适用于UV-LED光源的增感剂也就成为了当前光固化领域的一个研究热点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种蒽系增感剂，该增感剂与现有光引发剂(如1173、184、BDK、907等)有很好的适配性，应用于光固化组合物时能够显著提升UV-LED光源照射下的固化效率，应用性能优异，有助于UV-LED光固化技术的推广和发展。
本发明的上述蒽系增感剂，其具有如式(I)所示的化学结构：
其中，
R1代表C1-C20的n价烃基，其中的-CH2-可任选地被-O-取代，前提是两个-O-不直接彼此相连；
X代表氢、C1-C10的直链或支链烷基、C1-C10的烷氧基；
n代表大于0的整数。
作为优选方案，在本发明式(I)所示蒽系增感剂中，R1代表C1-C8的直链或支链烷基、C7-C12的芳烷基、C2-C6的直链或支链亚烷基、C3-C12的3价烷基，这些基团中的-CH2-可任选地被-O-取代，前提是两个-O-不直接彼此相连。特别优选地，R1选自下列基团：CH3-、CH3CH2-、CH3CH2CH2-、(CH3)2CH-、CH3-(CH2)3-、CH3-(CH2)4-、CH3-(CH2)5-、CH3-(CH2)6-、CH3-(CH2)7-、C6H5-CH2-、C6H5-(CH2)2--、C6H5-(CH2)3-、C6H5-(CH2)4-、-CH2CH2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、CH(CH2CH2-)3、CH(CH2CH2CH2-)3、CH(CH2-O-CH2-)3。
作为优选方案，在本发明式(I)所示蒽系增感剂中，X代表氢、C1-C4的直链或支链烷基、C1-C4的烷氧基。特别优选地，X选自H、CH3-、CH3CH2-、CH3-O-、CH3CH2-O-。
在本发明式(I)所示蒽系增感剂中，n优选为1、2、3、4。
本发明还提供上述式(I)所示蒽系增感剂的制备方法，包括以下步骤：
(1)原料1与丁二酸酐反应生成中间体1；
(2)中间体1与醇R1-(OH)n发生酯化反应，得到目标产物；
反应过程式如下所示：
步骤(1)的反应在有机溶剂中进行，这里对溶剂种类并没有特殊限定，只要能够溶解反应试剂且对反应无不良影响即可，例如二氯甲烷、二氯乙烷、吡啶、甲苯等。反应温度根据反应试剂的种类而有所差异，通常在20-150℃之间，这对于本领域技术人员来说是容易确定的。
步骤(2)的酯化反应是在催化剂存在条件下进行，所述催化剂优选是浓硫酸。根据反应体系的实际情况(如反应试剂种类)，体系中可选择性地添加或不添加溶剂，使用的溶剂种类并没有特别限定，只要其能够溶解反应试剂且对反应无不良影响即可，例如可以是甲苯、苯、二甲苯等常规烃类溶剂。酯化反应温度根据反应试剂的种类而有所差异，通常在20-150℃之间，这对于本领域技术人员来说是容易确定的。
在制备上述式(I)所示增感剂的过程中，使用的反应试剂都是现有技术中的已知化合物，可通过商购获得或由现有的合成方法方便地制得。
本发明式(I)所示的蒽系增感剂可用于UV-LED光固化体系。在UV-LED光源作用下，该增感剂与现有光引发剂特别是1173、184、BDK、907等有极佳的协同功效，能够显著提升UV-LED光源照射下的固化效率，具有优异的应用性能。
附图说明
图1是不同情况下甲基丙烯酸羟乙酯双键转化率图。
具体实施方式
以下将结合具体实施例对本发明作进一步详细说明，但不应将其理解为对本发明保护范围的限制。
制备实施例
实施例1
(1)中间体1a的制备
向1000mL的四口烧瓶中加入原料9-羟基蒽194g、丁二酸酐100g、二氯甲烷200mL，40℃加热回流，液相跟踪至反应不再发生变化，关闭反应，将反应液倒入水中，搅拌，分出二氯甲烷层，水洗，旋蒸二氯甲烷层，得中间体1a 268g。
中间体1a的结构经1H-NMR得到确认，表征结果如下。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):2.5065-2.6432(4H,t),7.3149-8.2388(9H,m)，10.9921-11.9828(1H,s)。
(2)化合物1的制备
向500mL的四口烧瓶中加入147g中间体1a、100mL甲醇、70％浓硫酸3g，并连接蒸馏装置及分水器，在分水器中加入5mL甲苯，70℃加热回流，边反应边蒸出反应产生的水份，液相跟踪反应至不再发生变化，即得产物粗品，乙腈重结晶得白色固体，烘干得产物148g，纯度99％，即为化合物1。
产物结构经1H-NMR得到确认，表征结果如下。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):2.5804-2.6654(4H,t),3.5912(3H,s),7.33493-8.2543(9H,m)。
实施例2
向500mL四口烧瓶中加入中间体1a 147g、乙二醇100mL、70％浓硫酸8g、甲苯100mL，并连接蒸馏装置及分水器，在分水器中加入5mL甲苯，110℃加热回流，边反应边蒸出反应产生的水份，液相跟踪反应至不再发生变化，接着蒸馏除去多余的甲苯，水洗除去乙二醇，石油醚重结晶得白色粘稠物146g，收率95％，纯度99％，即为化合物2。
产物结构经1H-NMR得到确认，表征结果如下。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):2.4692-2.6144(8H,t),4.3329-4.4128(4H,t),7.3951-8.2196(18H,m)。
实施例3-10
参照实施例1和2的方法，合成化合物3-8，其结构和相应的1H-NMR数据列于表1.
表1
性能评价
通过配制示例性光固化组合物(即感光性树脂组合物)，对本发明式(I)所示增感剂的应用性能进行评价。
1、配制感光性树脂组合物
参照如下比例和表2中所示的具体配方，配制感光性树脂组合物。
表2
2、成膜性能测试
(1)高压汞灯下成膜性能测试
将上述组合物在黄光灯下搅拌，取料于PET模板上滚涂成膜，在90℃下干燥5min除去溶剂，形成膜厚约2μm的涂膜。将形成有涂膜的基板冷却至室温，用高压汞灯(曝光机型号RW-UV70201，光强50mW/cm2)照射对涂膜进行曝光，曝光时间120s，观察其是否能够固化成膜。
(2)UV-LED光源下成膜性能测试
将上述组合物避光搅拌，取料于PET模板上，利用线棒涂膜，在90℃下干燥5min除去溶剂，形成膜厚约2μm的涂膜。将形成有涂膜的基板冷却至室温，用UV-LED光源照射(深圳市蓝谱里克科技有限公司，型号UVEL-ET，光强500mW/cm2)在395nm波长下对涂膜进行曝光，曝光时间120s，观察其是否能够固化成膜。
测试结果如表3中所示。
表3
从表3可以看出，含光引发剂的感光性树脂组合物在汞灯照射下能够顺利固化(比较例4和5)，而在UV-LED光源照射下均不能固化(比较例1-3)。在添加了少量本发明的增感剂后，UV-LED光源照射下的光固化体系均能够顺利固化(实施例1-4)，这表明本发明的增感剂在UV-LED光固化体系下具有很好的适用性。
3、增感性能评价
利用实时红外检测，在紫外全波段点光源和UV-LED点光源下对增感剂的增感性能进行评价，以比较在不同光源照射、有无添加增感剂情况下的双键转化率。
双键转化率越高、双键转化率越快，说明固化效果越好。测试组合物的配方情况及光源情况如表4所示。
表4
将上述配方组合物分别混匀并涂于KBr盐片上，然后放入Nicolet5700中用不同的点光源照射，调节样品表面的紫外光强为35mW/cm2，单体的双键转化率用近红外实时采集，设定采集时间为300s，利用甲基丙烯酸羟乙酯碳碳双键的特征吸收峰的变化来观察聚合反应的变化程度。
双键转化率(DC)由OMNIC7.1红外软件和Origin7.5数据处理软件结合下式计算得到：
DC(％)＝[1-(At/Ao)]*100％
式中Ao和At分别为样品在固化前和光照后t时刻在1630cm-1处甲基丙烯酸羟乙酯双键特征吸收峰的面积。
测试结果如图1所示。
从图1中可以看到，在紫外全波段点光源照射下，即使不添加增感剂(比较例8)，树脂组合物也能够顺利固化，但在开始阶段固化速度较慢，100s时双键转化率仅不足5％。而在添加了少量本发明的增感剂后(比较例7)，固化速度明显加快，100s时双键转化率达到近85％。
在UV-LED点光源照射下，不添加本发明增感剂(比较例6)时固化速度及双键转化率非常低，即使到了300s，双键转化率也仅为15％左右。而在添加了少量本发明的增感剂后(实施例5)，无论是固化速度还是双键转化率都有显著的提高，在75s时双键转化率即可达到约90％。
另外值得一提的是，由实施例5和比较例7可以看出，对于相同组成的含增感剂组合物来说，两种光源照射条件下最终的双键转化率相当，但UV-LED点光源照射下的固化速度明显高于紫外全波段点光源下的固化速度。
综上可知，本发明公开的式(I)所示增感剂在应用于常规的紫外光固化体系后，可以很好地与UV-LED光源匹配使用，从而能够解决传统光固化体系在LED光源照射下固化效率低的缺陷。
Claims (10)
1.一种蒽系增感剂，其具有如式（I）所示的化学结构：
（I）
其中，
R1代表C1-C20的n价烃基，其中的-CH2-可任选地被-O-取代，前提是两个-O-不直接彼此相连；
X代表氢、C1-C10的直链或支链烷基、C1-C10的烷氧基；
n代表大于0的整数。
2.根据权利要求1所述的蒽系增感剂，其特征在于：式（I）中，R1代表C1-C8的直链或支链烷基、C7-C12的芳烷基、C2-C6的直链或支链亚烷基、C3-C12的3价烷基，这些基团中的-CH2-可任选地被-O-取代，前提是两个-O-不直接彼此相连。
3.根据权利要求1或2所述的蒽系增感剂，其特征在于，式（I）中R1选自下列基团：CH3-、CH3CH2-、CH3CH2CH2-、(CH3)2CH-、CH3-(CH2)3-、CH3-(CH2)4-、CH3-(CH2)5-、CH3-(CH2)6-、CH3-(CH2)7-、C6H5-CH2-、C6H5-(CH2)2--、C6H5-(CH2)3-、C6H5-(CH2)4-、-CH2CH2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、CH(CH2CH2-)3、CH(CH2CH2CH2-)3、CH(CH2-O-CH2-)3。
4.根据权利要求1所述的蒽系增感剂，其特征在于：式（I）中，X代表氢、C1-C4的直链或支链烷基、C1-C4的烷氧基。
5.根据权利要求1或4所述的蒽系增感剂，其特征在于：式（I）中X选自H、CH3-、CH3CH2-、CH3-O-、CH3CH2-O-。
6.根据权利要求1所述的蒽系增感剂，其特征在于：式（I）中n为1、2、3或4。
7.权利要求1-6任一项所述的蒽系增感剂的制备方法，包括以下步骤：
（1）原料1与丁二酸酐反应生成中间体1；
（2）中间体1与醇R1-(OH)n发生酯化反应，得到目标产物；
反应过程式如下所示：
。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：步骤（1）的反应在有机溶剂中进行，所述有机溶剂选自二氯甲烷、二氯乙烷、吡啶、甲苯。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：步骤（2）的酯化反应是在催化剂存在条件下进行，所述催化剂是浓硫酸。
10.权利要求1-6任一项所述的蒽系增感剂在UV-LED光固化体系中的应用。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510355364.6A CN105001081B (zh) | 2015-06-24 | 2015-06-24 | 一种蒽系增感剂及其在uv‑led光固化体系中的应用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510355364.6A CN105001081B (zh) | 2015-06-24 | 2015-06-24 | 一种蒽系增感剂及其在uv‑led光固化体系中的应用 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105001081A true CN105001081A (zh) | 2015-10-28 |
| CN105001081B CN105001081B (zh) | 2017-03-01 |
Family
ID=54373996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510355364.6A Active CN105001081B (zh) | 2015-06-24 | 2015-06-24 | 一种蒽系增感剂及其在uv‑led光固化体系中的应用 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105001081B (zh) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017177797A1 (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种新型阳离子光固化体系及其组合物的应用 |
| WO2017177796A1 (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种新型自由基光固化体系及其组合物的应用 |
| WO2017177795A1 (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种自由基-阳离子混杂型光固化体系及其应用 |
| CN107300830A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种新型光固化组合物及其应用 |
| CN107300832A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种光固化组合物及其应用 |
| CN107300831A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种应用于led光固化的可固化组合物 |
| JP2018090537A (ja) * | 2016-12-03 | 2018-06-14 | 川崎化成工業株式会社 | （２−カルボキシ−１，２−ジ置換−エチル）カルボニルオキシ基を有するアントラセン化合物、その製造法及びその用途 |
| CN108314912A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-24 | 常州格林感光新材料有限公司 | 一种uvled光固化组合物及其在地坪涂料中的应用 |
| CN108314983A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-24 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种光固化性粘接剂在偏振板制作中的应用 |
| CN108329885A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-27 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种感光性树脂组合物作为可led固化oca的用途 |
| WO2019173967A1 (en) * | 2018-03-13 | 2019-09-19 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitizer, photosensitive resin composition, photosensitive element, and method of producing wiring board |
| WO2019173966A1 (en) * | 2018-03-13 | 2019-09-19 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitizer, photosensitive resin composition, photosensitive element, and method of producing wiring board |
| CN110655813A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 常州格林感光新材料有限公司 | 复合材料修护用光固化组合物及其应用 |
| CN110655812A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 常州格林感光新材料有限公司 | 复合材料快速修护用组合物及其应用 |
| CN113061384A (zh) * | 2021-03-25 | 2021-07-02 | 中钞油墨有限公司 | 一种led-uv固化高抗污哑光涂布光油 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003104925A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | アントラセンジエーテルの製造方法 |
| WO2005031463A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 |
| CN101519462A (zh) * | 2009-03-20 | 2009-09-02 | 常州强力电子新材料有限公司 | 光引发剂用叔胺增感剂及其制备方法 |
| JP2014129498A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | ラジカル重合増感剤 |
-
2015
- 2015-06-24 CN CN201510355364.6A patent/CN105001081B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003104925A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | アントラセンジエーテルの製造方法 |
| WO2005031463A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 |
| CN101519462A (zh) * | 2009-03-20 | 2009-09-02 | 常州强力电子新材料有限公司 | 光引发剂用叔胺增感剂及其制备方法 |
| JP2014129498A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | ラジカル重合増感剤 |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107300833B (zh) * | 2016-04-15 | 2019-12-13 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种自由基光固化体系及其组合物的应用 |
| CN107300833A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种新型自由基光固化体系及其组合物的应用 |
| CN107300831B (zh) * | 2016-04-15 | 2021-01-15 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种应用于led光固化的可固化组合物 |
| CN107300830A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种新型光固化组合物及其应用 |
| CN107300829A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种新型阳离子光固化体系及其组合物的应用 |
| CN107300832A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种光固化组合物及其应用 |
| CN107300831A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-27 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种应用于led光固化的可固化组合物 |
| WO2017177797A1 (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种新型阳离子光固化体系及其组合物的应用 |
| CN107325237A (zh) * | 2016-04-15 | 2017-11-07 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种自由基-阳离子混杂型光固化体系及其应用 |
| CN107300830B (zh) * | 2016-04-15 | 2021-03-30 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种新型光固化组合物及其应用 |
| WO2017177795A1 (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种自由基-阳离子混杂型光固化体系及其应用 |
| CN107325237B (zh) * | 2016-04-15 | 2020-04-21 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种自由基-阳离子混杂型光固化体系及其应用 |
| WO2017177796A1 (zh) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种新型自由基光固化体系及其组合物的应用 |
| JP2018090537A (ja) * | 2016-12-03 | 2018-06-14 | 川崎化成工業株式会社 | （２−カルボキシ−１，２−ジ置換−エチル）カルボニルオキシ基を有するアントラセン化合物、その製造法及びその用途 |
| CN108329885A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-27 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种感光性树脂组合物作为可led固化oca的用途 |
| CN108314983B (zh) * | 2017-01-17 | 2021-05-11 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种光固化性粘接剂在偏振板制作中的应用 |
| CN108314983A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-24 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种光固化性粘接剂在偏振板制作中的应用 |
| CN108314912A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-24 | 常州格林感光新材料有限公司 | 一种uvled光固化组合物及其在地坪涂料中的应用 |
| WO2019173966A1 (en) * | 2018-03-13 | 2019-09-19 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitizer, photosensitive resin composition, photosensitive element, and method of producing wiring board |
| WO2019173967A1 (en) * | 2018-03-13 | 2019-09-19 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitizer, photosensitive resin composition, photosensitive element, and method of producing wiring board |
| CN110655813A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 常州格林感光新材料有限公司 | 复合材料修护用光固化组合物及其应用 |
| CN110655812A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 常州格林感光新材料有限公司 | 复合材料快速修护用组合物及其应用 |
| CN113061384A (zh) * | 2021-03-25 | 2021-07-02 | 中钞油墨有限公司 | 一种led-uv固化高抗污哑光涂布光油 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105001081B (zh) | 2017-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105001081B (zh) | 一种蒽系增感剂及其在uv‑led光固化体系中的应用 | |
| CN105037587B (zh) | 一种适用于uv‑led光固化体系的增感剂 | |
| CN104991418B (zh) | 一种用于uv-led光固化的增感剂及其制备方法和应用 | |
| Zhou et al. | Facile synthesis and characterization of urushiol analogues from tung oil via ultraviolet photocatalysis | |
| CN111302926B (zh) | β-二酮铈(IV)类化合物及其制备和应用 | |
| CN104098720B (zh) | 含杂环硫醚基团的肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 | |
| CN111138290B (zh) | 一种含芳香环二苯甲酮衍生物及其制备方法和应用 | |
| CN112574110B (zh) | 酰基取代吡唑啉硫鎓盐衍生物的制备及其应用 | |
| CN112300042B (zh) | 4-苯并五元环-苯基硫鎓盐类化合物及其制备方法和应用 | |
| CN108976252B (zh) | 一种三聚茚基bodipy-香豆素星型化合物的制备方法 | |
| WO2022267989A1 (zh) | 丁香酚生物基含硅氧杂环丁烷单体及其制备方法 | |
| CN110684135A (zh) | 一种衣康酸改性光引发剂及制备方法 | |
| JP5729589B2 (ja) | アシル化リグニンを用いたエポキシ樹脂組成物及びその製造方法 | |
| CN101624408A (zh) | 萘氧侧基的苯配体茂铁盐阳离子光引发剂及其制备方法 | |
| CN112300026B (zh) | 4-苯并五元环-苯基酮肟酯类化合物及其制备方法和应用 | |
| CN114262395A (zh) | 一种含硫鎓盐杂化型光引发剂的光固化体系和应用 | |
| CN103980181B (zh) | 含有1-甲基-2-苯基吲哚骨架的三芳基锍盐及其制备方法 | |
| CN108503556B (zh) | 以联苯基二苯基胺为共轭主体结构的羰基类化合物及其制备方法与应用 | |
| CN109897015B (zh) | 一类自由基和阳离子杂化led引发剂及其制备方法 | |
| Huang et al. | Synthesis and characterization of reactive Michler's ketones | |
| CN112194742B (zh) | 一种硫鎓盐光引发剂及其制备方法和应用 | |
| CN114702458A (zh) | 苯并五元环-苯炔基硫鎓盐衍生物及其制备方法和应用 | |
| CN105001177B (zh) | 一种含有苯并恶唑骨架的三芳基锍盐及其制备方法 | |
| CN116874464A (zh) | 一种可聚合单组分光引发剂及其制备方法 | |
| CN117683014A (zh) | 含查尔酮结构的硫杂蒽酮类光引发剂及其制备与应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20240313 Address after: 213159 Wucheng Industrial Park, Zhenglu Town, Tianning District, Changzhou City, Jiangsu Province Patentee after: CHANGZHOU TRONLY ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS Co.,Ltd. Country or region after: China Patentee after: Changzhou Tronly New Electronic Materials Co.,Ltd. Patentee after: Changzhou Qiangli photoelectric material Co.,Ltd. Address before: 213011 Qian Jia Industrial Park, Guan yuan town, Wujin District, Jiangsu, Changzhou Patentee before: Changzhou Tronly New Electronic Materials Co.,Ltd. Country or region before: China Patentee before: CHANGZHOU TRONLY ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |