JP2000035673A - 平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インナードラム型プレートセッターで露光し
ても、カブリが発生せず、高画質な平版印刷版を生産性
よく製造でき、さらに黄灯下で取り扱え作業性が改良さ
れた直接書き込み可能なレーザー対応の平版印刷版の製
版方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも順次（Ａ）アルミニウム支持
体、（Ｂ）レーザー感光性記録層からなる平版印刷版
を、紫外から可視光領域（３６０〜４５０ｎｍ）の半導
体レーザー光を用いたインナードラム型のプレートセッ
ターで露光することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー感光性記
録層を用いた平版印刷版の製版方法に関するものであ
る。特にインナードラム型プレートセッターで露光して
も反射光によるカブリの影響を受け難く、黄灯下で取り
扱うことができる、作業性が向上した直接製版可能な平
版印刷版の製版方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平版印刷版は広く知られてお
り種々の感光層がある。ジアゾ樹脂含有型、光重合型、
光架橋型等がある。このような平版印刷版を作成するに
は、これらの平版印刷版上に透明のネガフィルム原稿
（リスフィルム）をのせ、紫外線を用いて画像露光する
のが一般的であり、そのため作業に非常に手間暇がかか
っていた。近年、画像形成技術の発展に伴い、可視領域
の光線に対し高い感光性を有するレーザー記録方式が要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料である。該
可視光レーザーとしてはＡｒレーザーの４８８、５１
４．５ｎｍ光、ＦＤ−ＹＡＧレーザーの５３２ｎｍ光な
どが、出力、寿命、安定性、コスト等から有望で実用化
されている。

【０００３】そこで感光層にある種の高感度なレーザー
記録層を用いる事で、細くビームを絞ったレーザー光を
その版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿などを直接
版面上に形成させ、フイルム原稿を用いることなく、直
接製版が可能となる。例えば、特公昭６１−９６２１
号、特開昭６３−１７８１０５号、特開平２−２４４０
５０号公報等に記載の感光性組成物の使用により、フイ
ルム原稿を用いることなく、直接製版が可能である。

【０００４】実際に印刷版を画像露光する場合、プレー
トセッターとしてエクスラドラム（アウタードラム）
型、フラットベット型、インナードラム型がある。その
中でも、画質、プレートハンドリング、書き込み高速化
対応、騒音、書き込み面積、自動化等の観点よりインナ
ードラム型プレートセッターが最も有望である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
こうした高感度レーザー記録方式平版印刷版は、市場で
最も一般的に用いられているＡｒ（４８８、５１４．５
ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧ（５３２ｎｍ）レーザーインナー
ドラム型プレートセッターで露光すると原因不明のカブ
リを生じやすいという問題があった。すなわち、例えば
感材としてネガ型の版を使用した場合、版の片側に全面
ベタのような画像を露光すると、その反対側が非画像部
の場合薄く現像不良ぎみのカブリが生じ、またその反対
側（光源に対して反対側を１８０°とすると１４０〜２
２０°程度）が網点の場合、網点が太るような不具合が
生じるという問題があり、改良が望まれていた。

【０００６】また、Ａｒレーザー（４８８，５１４．５
ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）対応の従
来のレーザ製版用途の高感度印刷版は、赤灯下で段ボー
ル包装から版を取り出したり、プレートセッターのカセ
ットに装填したり、時には手動でプレートセッターに版
を挿入する事があり、すべて暗い赤灯下で作業しなけれ
ばならず作業性が著しく悪かった。それに比べ通常のジ
アゾ型印刷版は、黄灯下またはＵＶカット白色灯下で取
り扱え作業性が良く、高感度レーザー記録平版印刷版に
対しセーフライト適性の向上は作業性の観点より市場か
らの大きな要求であった。

【０００７】従って本発明は、インナードラム型プレー
トセッターで露光しても、カブリが発生せず、高画質な
平版印刷版を生産性よく製造しうる製版方法を得ること
を目的とする。さらに、本発明は、黄灯下で取り扱え作
業性が改良された直接書き込み可能なレーザー対応平版
印刷版製造プロセスを与えることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究の結果、少なくとも順次（Ａ）アル
ミニウム支持体、（Ｂ）レーザー感光性記録層からなる
平版印刷版を、紫外から可視光領域（３６０〜４５０ｎ
ｍ）の半導体レーザー光を用いたインナードラム型のプ
レートセッターで露光することを特徴とする平版印刷版
の製版方法により上記目的を解決する事ができた。レー
ザー感光性記録層としては、平版印刷版用記録層として
従来公知のもので、例えばフォトポリマー感光層、銀塩
拡散転写方式記録層、有機光電導体電子写真記録層等が
用いられるが、特に以下に示すフォトポリマー感光層が
画質や印刷性能上好ましい。

【０００９】（光重合の構成の説明）本発明に用いられ
るレーザとしてはＩｎＧａＮ系の半導体レーザが用いら
れる。本発明におけるかかる効果が得られる理由につい
ては、明確ではないが下記の様に推定できる。感光層で
吸収しきれなかったレーザー光が平版印刷版の支持体表
面から反射光となって出てくるが、この反射光が波長が
長いほど正反射効率が高く、波長が短いほど散乱して正
反射効率が減少する事が分かった。そのため、紫外から
可視光領域（３６０〜４５０ｎｍ）に発振するＩｎＧａ
Ｎ系半導体レーザーを用いたプレートセッターで露光す
ると同じ曲率半径を有するインナードラム型のプレート
セッターでも、従来のＡｒやＦＤ−ＹＡＧレーザーに比
べ、反射光によるカブリが少なくなったと考えられる。

【００１０】そのため、従来のＡｒやＦＤ−ＹＡＧレー
ザーの場合露光量を増加させ、耐刷性を向上させようと
しても正反射光によるカブリのため露光量を増加させる
事ができなかったが、このＩｎＧａＮ系半導体レーザー
を用いたプレートセッターで露光する事により露光量を
増加させる事が可能となり、耐刷性を向上させる事が出
きるようになった。特に、従来のシステムではかなり厳
しい状況にあった新聞オフ輪市場での耐刷性や北米での
低ｐＨ湿し水使用条件でのハイライトの耐刷性でも、高
耐刷化が可能となった。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下本発明について、印刷性能上
好ましい光重合性刷版について詳細に説明する。 ［（Ａ）アルミ支持体］本発明に用いられるアルミ支持
体としては、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とす
る金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金か
らなる。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分
とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム
（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチック
フィルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭４８−
１８３２７号に記載されているようなポリエチレンテレ
フタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合され
た複合体シートでもかまわない。

【００１２】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳＡ １１０
０、ＪＩＳ Ａ ３１０３、ＪＩＳ Ａ ３００５など
を適宜利用することができる。また、本発明に用いられ
るアルミニウム基板の厚みは、およそ０．１ｍｍ〜０．
６ｍｍ程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版
の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することが
できる。

【００１３】本発明に用いるアルミニウム支持体は、必
要により下記の様な表面処理を施しても良い。本発明に
おける砂目立て処理方法は、特開昭５６−２８８９３号
に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチ
ング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸
電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立
て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっか
くワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミ
ニウム表面を砂目立でするボールグレイン法、ナイロン
ブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法
のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂
目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもで
きる。その中でも本発明に有用に使用される表面粗さを
作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立
てする電気化学的方法であり、適する電流密度は１００
Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲である。さらに具体
的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液
中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電流密度
１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の条件で電解を行う
ことが好ましい。

【００１４】このように砂目立て処理したアルミニウム
基板は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングさ
れる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造
を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用す
るに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤と
して用いることにより改善できる。本発明において好適
に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、
アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度
の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃
であり、Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ³となるような
条件が好ましい。エッチングのあと表面に残留する汚れ
（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。用い
られる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホ
ウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化
処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特
開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５
０〜９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させ
る方法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されて
いるアルカリエッチングずる方法が挙げられる。

【００１５】以上のようにして処理されたアルミニウム
基板は、さらに陽極酸化処理が施されても良い。陽極酸
化処理はこの分野で従来より行われている方法で行うこ
とができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シ
ュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等ある
いはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水
溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミ
ニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができ
る。陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種
々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電
解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、電流密度
０．５〜６０アンペア/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時
間１０〜１００秒の範囲が適当である。

【００１６】これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国
特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明にお
いては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／m²であることが好
ましく、１ｇ／m²以下であると版に傷が入りやすく、１
０ｇ／m²以上は製造に多大な電力が必要となり、経済的
に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／m²である。
更に好ましくは、２〜５ｇ／m²である。更に、本発明に
おいては、砂目立て処理及び陽極酸化後、アルミニウム
基板に封孔処理を施してもかまわない。かかる封孔処理
は、熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基
板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。

【００１７】さらに陽極酸化処理が施された後、特願平
８−４１６９０号や特願平８−２５０５２２号にあるよ
うにアルミニウム基板表面はシリケートによる親水化処
理を施してもよい。本発明におけるシリケートによる親
水化処理はシリケート皮膜の形成であり、シリケート皮
膜はＳｉ元素量として２〜４０ｍｇ／m²、より好ましく
は４〜３０ｍｇ／m²が良い。塗布量はケイ光Ｘ線分析法
により測定でき、Ｓｉ元素量を測定することができる。
上記の親水化処理は、例えば特公昭４７−５１２５号に
記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理し
たのちに、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理し
たものが好適に使用される。また米国特許第２，７１
４，０６６号、第３，１８１，４６１号、第３，２８
０，７３４号および第３，９０２，７３４号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液）法を適用することができる。この方法
に従い、アルカリ金属ケイ酸塩が１〜３０重量％、好ま
しくは２〜１５重量％であり、２５℃のｐＨが１０〜１
３である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニ
ウム基板を、例えば１５〜８０℃で０．５〜１２０秒浸
漬する。

【００１８】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸
リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶
液のｐＨを高くするために使用される水酸化物としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムな
どがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩も
しくは第IVＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類
金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウ
ム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩
や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、
ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVＢ族金属
塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタン
カリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、
第IVＢ族金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用する
ことができる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０
１〜１０重量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜
５．０重量％である。

【００１９】また、米国特許第３，６５８，６６２号に
記載されているようなシリケート電着も有効である。更
に、特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５８６０
２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されているよう
な電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理お
よびケイ酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用であ
る。このようにして処理を施したアルミニウム基板に、
特願平８−２５０５２２号に記載のように更に酸性溶液
による処理を行ってもよい。このとき用いる酸として
は、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、
スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等があげられる
が、これらの二種以上を組み合わせて用いても構わな
い。このときの酸処理条件として、例えば温度１０〜８
０℃で１〜３００秒浸漬することにより行うことが適当
である。

【００２０】このようにして処理されたアルミニウム基
板は、特開平３−５６１７７号、特開平７−１５９９８
３号、特開平８−３２０５５１号記載のように、更にそ
の表面にラジカルによって付加反応を起こし得る官能基
（以下、付加反応性官能基と呼ぶ）を有するシリコーン
化合物を含む接着層を塗設してもかまわない。この付加
反応性官能基を有するシリコーン化合物を含む層の塗設
は、有機シリコーン化合物を原料として用いる方法によ
るのが好ましい。具体的には、付加反応性官能基をＲ¹
と表わした時、下記式（１）： Ｒ¹Ｓi(ＯＲ²)₃ （１） （式中、−ＯＲ²は加水分解可能なアルコキシ基又は−
ＯＣＯＣＨ₃基である。）で表わされる有機シリコーン
化合物（１）を用いてアルミニウム基板を処理すること
により、基板表面の金属、金属酸化物、水酸化物、−Ｏ
Ｈ基、又は基板の化成処理によって形成されたシラノー
ル基などと反応させて基板表面と共有結合を形成させ、

【００２１】下記式（２）： ・ （Ｒ³Ｏ）₂（Ｒ¹）Ｓｉ− （２） で示される官能基を基板表面に結合（又は植え付け）さ
せればよい。式中、Ｒ³はＲ²と同種もしくは異種のアル
キル基又は水素原子、もしくは隣接する別のＳｉ原子と
の結合を表わす。上記において、付加反応性官能基（Ｒ
¹）が中央のＳｉ原子に２個以上結合した下記式（１
ａ）又は（１ｂ）： （Ｒ¹）₂Ｓｉ（ＯＲ²）₂ （１ａ） （Ｒ¹）₃ＳｉＯＲ² （１ｂ） で表わされる有機シリコ−ン化合物（１ａ）（１ｂ）を
用いることもできる。

【００２２】また、付加反応性官能基（Ｒ¹）が−Ｏ−
を介して中央のＳｉ原子に結合する官能基である場合
は、 （Ｒ¹）₄Ｓｉ （１ｃ） で表わされる有機シリコーン化合物（１ｃ）を用いるこ
ともできる。有機シリコーン化合物（１）は、中央のＳ
ｉ原子に結合する４個のＲ¹のうち少なくとも１個が加
水分解されずに残っている状態の時にアルミニウム基板
に塗布される。

【００２３】有機シリコーン化合物（１）をアルミニウ
ム基板上に塗設する際、このものを単独で用いてもよ
く、又は適当な溶媒で希釈して用いてもよい。アルミニ
ウム基板上で有機シリコーン化合物（１）をより強固に
結合させるために、水及び／又は触媒を加えることがで
きる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキ
シレングリコール等のアルコール類が好ましく、触媒と
しては塩酸、酢酸、リン酸、硫酸などの酸、又はアンモ
ニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの塩
基が使用できる。

【００２４】アルミニウム基板上の付加反応性官能基の
量は、結合させる付加反応性官能基の種類によって異な
るが、１０ｎｍ²当り一般に０．０１〜１０００個、好
ましくは０．０５〜２００個、更に好ましくは０．１〜
５０個とすることが適当である。付加反応性官能基量が
１０ｎｍ²当り０．０１個より少ないと十分な光接着強
度が得られ難い。有機シリコーン化合物（１）を厚く塗
り重ねることによって、１０ｎｍ²当りの付加反応性官
能基量を実質的に幾らでも多くすることが可能である
が、最表面に顔を出す付加反応性官能基量は１０ｎｍ²
当り高々１０個であるので、厚く塗り過ぎても無駄にな
る。付加反応性官能基量が多過て、ＰＳ板として使用し
た時の非画像部の親水性が不足しないためには、１０ｎ
ｍ²当りの付加反応性官能基の量は１０００個以内とす
るのが好ましい。

【００２５】従って、有機シリコーン化合物を用いてア
ルミニウム基板表面に付加反応性官能基を結合する（植
え付ける）際は、有機シリコーン化合物を希釈する溶媒
の種類と量、基板表面上での加水分解用に加える水の量
（加える場合）、基板表面上での加水分解を促進するた
めの触媒の種類と量（加える場合）、有機シリコーン化
合物の溶液を基板上に施用する方法、基板に施用した後
の乾燥雰囲気、乾燥温度、乾燥時間等のプロセスパラメ
ータを種々変更し、基板表面に保持される付加反応性官
能基量が上記の量の範囲内となるように制御することが
必要である。アルミニウム基板表面に保持される付加反
応性官能基の量は、処理後の基板表面を適当な方法、例
えばケイ光Ｘ線分析法、赤外線吸収法等の方法で測定
し、表面にあるＳｉ原子量の定量、炭素−炭素の多重結
合量の定量等を行なうことによって決定することができ
る。

【００２６】この支持体（付加反応性支持体）を用いて
平版印刷版を構成する場合、式（１）の有機シリコーン
化合物のみを用いてアルミニウム基板の処理をしただけ
では印刷汚れを生じる場合がある。即ち、付加反応性官
能基を結合してなる支持体上に光重合性の感光性組成物
を塗布して感光層を設け、これに像様露光して画像通り
の界面光接着を起させ、現像液で未露光部を取り去るこ
とにより、支持体上には光のパターン通りの光重合密着
膜が残る。そして、これにインクと水を塗ると、インク
は光重合接着した像様露光部へ、水は未露光部へそれぞ
れ付着して印刷版となるが、上記有機シリコーン化合物
を単独で使用した場合には、水が付着するべき未露光部
に過剰の有機官能基が存在ことがあり、水の他にインク
も付着して印刷物上に汚れとなって観察されることがあ
る。

【００２７】そこで、この印刷汚れを防ぐために、アル
ミニウム基板表面上に付加反応性官能基（Ｒ¹）の他に
ＯＨ基を多く固定して親水性を強くすることが好まし
い。好ましくは、アルミニウム基板表面への付加反応性
官能基の結合において、式（１）：Ｒ¹Ｓi(ＯＲ²)₃で表
わされる有機シリコーン化合物（１）の他に、式
（３）：Ｓi(ＯＲ⁴)₄（式中、−ＯＲ⁴は加水分解可能な
アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキ
シ基又は−ＯＣＯＣＨ₃基であり、Ｒ⁴はＲ²と同じであ
っても異なってもよい。）で表わされる有機シリコーン
化合物（３）を併用し、基板表面に前述の式（２）で示
される反応サイトを結合すると同時に、

【００２８】式（４）： （Ｒ³Ｏ）₂（ＯＨ）Ｓｉ− （４） で示される親水性サイトを結合することが好ましい。こ
こで、式中、Ｒ³はアルキル基、水素原子、又は隣接す
る別のＳｉ原子との結合を表わすが、Ｒ³が水素原子で
あることが親水性の面からは最も好ましい。なお、Ｒ³
が水素原子以外のもののときは、必要に応じて、表面を
アルカリ溶液で洗うことによって、親水性を高めること
ができる。

【００２９】式（１）の有機シリコーン化合物（１）と
式（３）の有機シリコーン化合物（３）との混合比は、
支持体の性状によってそれぞれのものの支持体表面への
結合（植えつけ）効率が変動するため、一概に好適な範
囲を決めることができない。しかし、具体的には、両者
の比を種々に変えて支持体処理を行ない、付加反応性官
能基Ｒ¹に基づく光接着性と、式（４）で示される部分
構造に由来する親水性とが両立する条件を実験的に確定
して使用することになる。いずれにしても、付加反応性
官能基の密度が前記範囲内になるようにすればよい。具
体的には、有機シリコーン化合物（１）に対する有機シ
リコーン化合物（３）の混合モル比は０．０５〜５００
が適当であるが、好ましくは０．２〜２００、更に好ま
しくは１〜１００である。

【００３０】またこの範囲内で、式（３）の有機シリコ
ーン化合物（３）に由来する親水性基の量を多くすれば
するほど非画像部の親水性が増す。ただし、親水性基の
密度が低い場合でも、付加反応性官能基を親水化処理す
ることによって親水性基の密度を向上させることができ
る。アルミニウム基板表面への付加反応性官能基の結合
には、大別すると、有機シリコーン化合物をそのまま用
いることからなる上述の方法（以下、ＳＣ法と呼ぶ）の
他に、有機シリコーン化合物を加水分解するとともに重
縮合させて得られた−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合を含む無機
高分子に付加反応性官能基が固定された形の有機無機複
合体を用いることからなる方法（以下、ＳＧ法と呼ぶ）
がある。この有機無機複合体をアルミニウム基板に塗布
して乾燥させると、無機高分子部分が基板と密着し、付
加反応性官能基はそのまま基板表面上に残る。

【００３１】ＳＣ法の場合、アルミニウム基板表面にお
ける付加反応性官能基の結合位置は基板表面上の特定の
性質をもった位置となりやすく、基板表面上に一様に分
布させるのが困難な場合がある。つまり、特定の酸点や
塩基点においてのみＳｉ原子との間の共有結合が形成さ
れ、付加反応性官能基の分布がアルミニウム基板表面の
酸点や塩基点の分布に支配されやすい。従って、光接着
強度や非画像部親水性にムラを生じる場合がある。こう
した状況の時はＳＧ法に従うのが有利である。細かく見
れば、ＳＣ法、ＳＧ法の他に、中間の態様、例えば式
（１）の有機シリコーン化合物（１）：Ｒ¹Ｓi(ＯＲ²)₃
中のＯＲ²の一部もしくは全部が加水分解して２分子又
は３分子が結合した形の有機シリコーン化合物を出発原
料として用いる処理も可能である。

【００３２】ＳＧ法による付加反応性官能基の結合法に
従えば、式（１）の有機シリコーン化合物（１）を、場
合により式（３）の有機シリコーン化合物（３）と所望
の混合比に混合し、液中で、必要により触媒の存在下
で、付加反応性官能基Ｒ¹では反応を起さずに−ＯＲ²及
び−ＯＲ⁴で加水分解させるとともに重縮合反応を行な
わせて、中心のＳｉ原子が−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合でつ
ながった無機高分子を含む液状組成物として、これをア
ルミニウム基板表面に塗布し、場合により乾燥させるこ
とによって、基板上に付加反応性官能基を結合する。

【００３３】ＳＧ法を用いると、アルミニウム基板表面
上に結合固定される付加反応性官能基の分布が基板表面
の酸点や塩基点などの化学的な性質の分布に左右される
ことが少ない。また、出発原料として有機シリコーン化
合物（１）の他に有機シリコーン化合物（３）を併用す
る場合、上記式（２）で示される付加反応性官能基サイ
トと上記式（４）で示される親水性サイトとの相対比が
有機シリコーン化合物（１）及び化合物（３）の仕込み
比でほぼ決められるため、最適表面を得るための処方決
定の道筋がＳＣ法よりも整然とする利点がある。本発明
で使用する上記式（１）で示される有機シリコーン化合
物（１）の具体例として、以下のものを挙げることがで
きる。

【００３４】 ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓi(ＯＣＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＮＨ(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₄−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₅−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−(ＣＨ₂)₄−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 （ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃）₂−Ｓi(ＯＣ
Ｈ₃)₂、 ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ＝ＣＨ₂）−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−ＳＯ₂ＮＨ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−ｐｈ−Ｏ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−ｐｈ−ＣＯＮＨ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣ
Ｈ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−ｐｈ−ＣＨ₂ＮＨ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ
₃)₃、 ｐｈ：ベンゼン環を示す ＨＣ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₃Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、

【００３５】

【化１】

【００３６】 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 （ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ)₄Ｓi、 ＨＯ−ＣＨ₂−Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＯ−Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＳ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ−(ＣＨ₂)₂−ＳＣＨ₂−Ｓi(ＯＣ
Ｈ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓ−(ＣＨ₂)₃−Ｓ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 （ＣＨ₃)₃ＣＣＯ−Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 （ＣＨ₂＝ＣＨ)₂Ｎ−(ＣＨ₂)₂−ＳＣＨ₂−Ｓi(ＯＣＨ₃)
₃、 ＣＨ₃ＣＯＣＨ＝Ｃ(ＣＨ₃)−Ｏ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃。

【００３７】また、式（３）で示される有機シリコーン
化合物（３）の具体例としてはテトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
テトラ（ｎ−プロポキシ）シラン、テトラ（ｎ−ブトキ
シ）シラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラ
ン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）シラン、
テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラフ
ェノキシシラン、テトラアセトキシシランなどを挙げる
ことができ、中でもテトラエトキシシランが好ましい。

【００３８】アルミニウム基板表面へ付加反応性官能基
を結合するのにＳＣ法を用いる場合もＳＧ法を用いる場
合も、溶媒の種類、基板への施用方法、乾燥方法等は共
通であるが、ＳＧ法の場合、付加反応性官能基が保持さ
れた無機高分子組成物を予かじめ調液しておく必要があ
る。以下にその好ましい具体例を示す。式（１）及び
（３）で表わされる有機シリコーン化合物（１）及び
（３）を加水分解とともに重縮合させてＳＧ法に好適な
組成物とするのに使用できる溶媒は、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレング
リコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類であ
る。溶媒の使用量は、使用する有機シリコーン化合物
（１）及び（３）の総重量に基づいて、一般に０．２〜
５００倍、好ましくは０．５〜１００倍、更に好ましく
は１〜２０倍である。使用量が０．２倍より少ないと反
応液が経時でゲル化しやすく不安定となり好ましくな
い。また、５００倍より多いと、反応が数日を要するよ
うになり好ましくない。

【００３９】有機シリコーン化合物を加水分解するため
に加える水の量は、一般に有機シリコーン化合物１モル
当り０．１〜１０００モル、好ましくは０．５〜２００
モル、更に好ましくは１．５〜１００モルである。水の
量が有機シリコーン化合物１モル当り、０．１モルより
少ない時は、加水分解とそれに続く重縮合反応の進行が
非常に遅くなり、安定な表面処理が可能となるまでに数
日を要し好ましくない。一方、水の量が有機シリコーン
化合物１モル当り１０００モルより多くなると、生成し
た組成物を金属表面に塗設した場合密着不良を起す他、
組成物の経時安定性が悪く、すぐにゲル化してしまうこ
とが多いため、塗布作業を安定して行ない難くなる。

【００４０】ＳＧ法に好適な組成物を調液するための反
応温度は室温〜１００℃程度が常用されるが、以下に述
べる触媒の種類によっては室温以下あるいは１００℃以
上の温度を用いることもできる。溶媒の沸点よりも高い
温度で反応させることも可能であり、必要に応じて反応
器に還流冷却器を付設するのがよい。必要に応じて使用
される触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢
酸、リンゴ酸、シュウ酸などの酸、又はアンモニア、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウムなどの塩基が使用できる。特願平
９−８６６８８号記載のスルホン酸も有効である。触媒
の添加量は、有機シリコーン化合物（１）及び場合によ
り追加される有機シリコーン化合物（３）の合計量を基
準として、有機シリコーン化合物１モル当り０．００１
〜１モル、好ましくは０．００２〜０．７モル、更に好
ましくは０．００３〜０．４モルである。触媒添加量を
１モルより多くしても、その添加効果に比べて経済的に
特に利益があるわけではない。

【００４１】酢酸、リンゴ酸等の弱酸を触媒として使用
する時は、反応温度を４０℃〜１００℃の範囲とするの
が有利であるが、硫酸、硝酸等の強酸を触媒として使用
する時は１０℃〜６０℃の範囲がよい。リン酸を触媒と
して用いる場合は１０℃〜９０℃で反応を行なわせるこ
とができる。ＳＧ法に用いる組成物の調液工程、及びこ
れをアルミニウム基板に塗布し乾燥する工程で、多くの
場合熱が加えられるが、揮発性の酸を触媒として使用す
ると、周囲の装置に揮発して付着し、これを腐食させる
場合がある。主として鉄を素材として用いる工程で本方
法を使用する場合は、不揮発性の硫酸及び／又はリン酸
を触媒として用いるのが好ましい。このＳＧ法は特願平
８−７８８６８号記載のように分子量１０００以下のフ
ェノール類又は有機リン酸系化合物を溶解した溶媒中で
反応させても良い。

【００４２】以上述べたように、式（１）及び（３）で
表わされる有機シリコーン化合物と、有機溶媒、水、及
び場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、
反応時間、及び場合により適当な撹拌条件を選んで反応
させると、加水分解とともに重縮合反応が起りＳｉ−Ｏ
−Ｓｉ結合を含む高分子又はコロイド状高分子が生成
し、液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。式（１）
及び（３）で表わされる有機シリコーン化合物を両方使
用してゾル液を調製する場合、両方の有機シリコーン化
合物を反応の最初から反応容器内に装荷してもよく、あ
るいは一方のみで加水分解と重縮合反応をある程度進め
た後に他方の有機シリコーン化合物を加え、反応を終了
させてもよい。ＳＧ法で用いる上記ゾル液は、室温で放
置すると重縮合反応が引き続き進行しゲル化することが
ある。従って、一度上記の方法で調液したゾル液を、ア
ルミニウム基板への塗布時に希釈のために使用する予定
の溶媒で予じめ希釈して、ゾル液のゲル化を防止ないし
遅延させることができる。

【００４３】ＳＣ法及びＳＧ法のいずれにおいても、支
持体上に目的量の有機シリコーン化合物もしくは付加反
応性官能基を結合するために、また支持体上での有機シ
リコーン化合物もしくは付加反応性官能基の分布ムラが
無いようにするために、これらの処理液を支持体に塗布
する前に溶媒を加えて濃度調整を行なうことが好まし
い。この目的に使用する溶媒としてはアルコール類、殊
にメタノールが好適であるが、他の溶剤、有機化合物、
無機添加剤、界面活性剤などを加えることもできる。他
の溶剤の例としては、メチルエチルケトン、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、１−
メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、アセチルアセトン、エチ
レングリコール等を挙げることができる。

【００４４】添加することのできる有機化合物の例とし
ては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、
ウレタン樹脂、ノボラック樹脂、ピロガロール−アセト
ン樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルメチルエーテル、ポリプロピレングリコ
ール等が挙げられる。無機添加剤の例としては、コロイ
ダルシリカ、コロイダルアルミナなどを挙げることがで
きる。エチレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル等の高沸点溶剤は、支持体に塗布する濃度
にまで希釈された液の安定性を高め、支持体に結合され
た付加反応性官能基の反応再現性を保証する働きがあ
る。ノボラック樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂等の
有機化合物も同様の効果を有するが、得られる支持体の
表面の親水性を低下させる副作用があり、添加量を細か
く調整する必要がある。

【００４５】ＳＧ法に好適なゾル液もしくは液状組成物
は、アルミニウム基板表面に塗設後、風乾ないし加熱乾
燥させると、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合からなる無機高分子が
ゲル化すると同時に基板表面と共有結合する。乾燥は溶
媒、残留水及び場合により触媒を揮散させるために行な
うものであるが、処理後の基板の使用目的によっては工
程を省くこともできる。ＳＣ法においても、この乾燥工
程は溶媒、残留水等の揮散という意味の他に、有機シリ
コーン化合物とアルミニウム基板との密着を確実にする
という意味を有する。従って、目的によっては、乾燥終
了後にも更に温度をかけ、加熱を継続してもよい。

【００４６】乾燥及び場合により継続されるその後の加
熱における最高温度は、付加反応性官能基Ｒ¹が分解し
ない範囲にあることが好ましい。従って、使用できる乾
燥温度条件は室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０
℃、更に好ましくは室温〜１２０℃である。乾燥時間は
一般に１秒〜３０分間、好ましくは５秒〜１０分間、更
に好ましくは１０秒〜３分間である。本発明において用
いられる液状組成物（有機シリコーン化合物もしくはそ
の溶液又はゾル液）の施工方法は、ハケ塗り、浸漬塗
布、アトマイジング、スピンコーティング、ドクターブ
レード塗布等、各種のものも使用することができ、アル
ミニウム基板表面の形状や必要とする処理膜厚等を勘案
して決められる。

【００４７】上記の如くアルミニウム基板上に、種々の
処理を施してなる支持体上に、後述される光重合性組成
物からなる感光層を形成することで、本発明の光重合性
平版印刷版が形成するが、感光層を塗設する前に必要に
応じて有機下塗層を設けても構わない。水溶性の樹脂、
たとえばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に
有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性
金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン
塩等を下塗りしたものも好適である。この有機下塗層に
用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチ
ルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミ
ノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸
類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチ
ルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン
酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸
などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニル
リン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセ
ロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェ
ニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホ
スフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホス
フィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、
およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ
ル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種
以上混合して用いてもよい。

【００４８】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記有
機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、
乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５
〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましく
は２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、
好ましくは２秒〜１分である。

【００４９】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、光重合性
平版印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加
することもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２
〜２００mg／m²が適当であり、好ましくは５〜１００mg
／m²である。上記の被覆量が２mg／m²より少ないと十分
な耐刷性が得られない。また、２００mg／m²より大きく
ても同様である。またアルミニウム支持体は、途中更に
フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液へ
の浸漬処理、またポリビニルホスホン酸への浸漬処理な
どの表面処理がなされても構わない。

【００５０】［（Ｂ）光重合性感光層］本発明で用いら
れる光重合性感光層の主な成分は、付加重合可能なエチ
レン性二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機高分
子結合剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重
合禁止剤等の種々の化合物が添加される。付加重合可能
な二重結合を含む化合物は、末端エチレン性不飽和結合
を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の
中から任意に選択することができる。例えばモノマー、
プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマ
ー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体な
どの化学的形態を有するものである。モノマーおよびそ
の共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、
イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。

【００５１】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００５２】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００５３】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。

【００５４】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。その他の例としては、
特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分
子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシ
アネート化合物に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸
基を含有するビニルモノマーを付加せしめた１分子中に
２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化
合物等が挙げられる。

【００５５】 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ⁵）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ⁶）ＯＨ （Ａ） （ただし、Ｒ⁵およびＲ⁶はＨあるいはＣＨ₃ を示す。）
また、特開昭５１−３７１９３号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３
号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９
０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ
（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものも使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対して５〜７０重量％
（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜５０％であ
る。

【００５６】光重合開始剤としては、使用するレーザー
光源の波長（３６０〜４５０ｎｍ）により、特許、文献
等で公知である種々の光開始剤、あるいは２種以上の光
開始剤の併用系（光開始系）を適宜選択して使用するこ
とができる。例えば、以下の誘導体が有効であるがこれ
らに限定した訳ではない。ベンジル、ベンゾインエーテ
ル、アセトフェノン、ベンゾインエーテル、ベンジルジ
アルキルケタール、アルキル−Ｏ−ベンゾイルベンゾエ
ート、α−アシルオキシムエステル、アシルホスフィン
オキサイド、グリオキシエステル、ミヒラーズケトン、
アントラキノン、チオキサントン、アクリジン、フェナ
ジン、アクリドン、ベンゾフェノン、トリアジン、オキ
サチアゾール、チタノセン、クマリン、３−ケトクマリ
ン、アルキルアンスラキノン、カンファーキノン、ベン
ジル、テトラアルキルチウラムモノサルファイド、テト
ラ（アルキルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等
が広く使用されている。

【００５７】また、［増感剤］（徳丸克己、大河原信
編、講談社）、［Chemistry ＆ Technology of UV & EB
formulation for coatings,inks & paints Vol.3](K.
K. Dietliker, SITA Technology Ltd) 、［紫外線硬化
システム］（加藤清視、総合技術センター発行）等に記
載の光開始剤（系）等を挙げることができる。これらの
光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化合物１０
０重量部に対し、０．０５〜１００重量部、好ましくは
０．１〜７０重量部、更に好ましくは０．２〜５０重量
部の範囲で用いることができる。

【００５８】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、このような有機高分
子重合体としては、光重合可能なエチレン性不飽和化合
物と相溶性を有している有機高分子重合体である限り、
どれを使用してもかまわない。好ましくは水現像或いは
弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水
可溶性又は膨潤性である有機高分子重合体が選択され
る。有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤として
だけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤
としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶
性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。こ
の様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基
を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５
号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７
７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７
２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１
０４８号に記載されているもの、すなわち、メタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。

【００５９】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレー
ト／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）ア
クリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし９０重量％を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは３０〜８５％である。また光重合可能な
エチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比
で１／９〜９／１の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／
７〜７／３である。

【００６０】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好
ましい。

【００６１】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタ
ンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオ
レット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系
染料がある。染料および顔料の添加量は全組成物の約
０．５％〜約５％が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性
を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレー
ト、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等
の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は
全組成物の１０％以下が好ましい。

【００６２】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、１〜５０重量％が適当である。

【００６３】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約
１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは０．
３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０．７〜３ｇ／
ｍ²である。

【００６４】［（Ｃ）酸素遮断性保護層］本発明（Ｃ）
の酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体とし
ては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要
な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルア
ルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポ
リビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解
され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが挙げら
れる。具体的には株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、Ｐ
ＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、Ｐ
ＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、Ｐ
ＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−
２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２
１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２
４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２
２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ
−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶ
Ａ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。
上記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解され
たポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピ
オネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセ
タールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有
用な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンお
よびアラビアゴム等が挙げられ、これらは単独または、
併用して用いても良い。

【００６５】本発明の酸素遮断性保護層にはさらに塗布
性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良す
るための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。更に、セーフライト適性を向
上する目的で、５００ｎｍ以上の光を吸収する水溶性の
色素等を添加しても良い。また、酸素遮断層としては、
特願平７−１８５８９７号に記載の塩化ビニリデン系共
重合体やエチレンービニルアルコール共重合体からなる
フィルムをラミネートして用いても良い。

【００６６】かくして得られた感光性平版印刷版は、Ｉ
ｎＧａＮ系半導体レーザーにより直接露光された後、現
像処理される。その発振波長はＩｎとＧａの組成比を変
えることにより原理的には３６０〜６００ｎｍの範囲を
発振可能であるが、本発明で用いる波長は３６０〜４５
０ｎｍ、好ましくは３６０〜４３５ｎｍ、更に好ましく
は３６０〜４２０ｎｍである。インナードラム型プレー
トセッターとしては、既存のＡｒやＦＤ−ＹＡＧレーザ
ーをＩｎＧａＮ系半導体レーザーに載せ変えるだけで基
本的に使用する事ができる。

【００６７】なお、インナードラム型プレートセッター
の構造の概略についてを、図１にて、他のプレートセッ
ターと並べて示す。図１中の符号１は平版印刷版用原
版、符号２はレーザー光源を、符号３は回転可能なスピ
ンミラーを示す。インナードラム型の曲率直径は露光す
る版サイズにもよるが約２０〜１５０ｃｍである。また
使用角度としては約３０〜３００度である。現像する前
に感光層の光重合反応を促進する目的で、印刷版の温度
が７０〜１３０℃の温度で、好ましくは８０〜１２０℃
で３〜６０秒、好ましくは５〜３０秒間加熱処理しても
かまわない。

【００６８】かかる現像処理に使用される現像液として
は従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同ア
ンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機ア
ルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメ
チルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルア
ミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤
も用いられる。

【００６９】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。上記のアルカリ水溶液の
内、本発明による効果が一段と発揮される現像液はアル
カリ金属ケイ酸塩を含有するｐＨ１２以上の水溶液であ
る。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏの比
率（一般に〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕のモル比で表す）と
濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開
昭５４−６２００４号公報に開示されているような、Ｓ
ｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち〔Ｓｉ
Ｏ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕が１．０〜１．５であって、ＳｉＯ
₂の含有量が１〜４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液
や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているよう
な、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即ち
〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、
ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であり、かつ該現像液が
その中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準に
して少なくとも２０％のカリウムを含有していることと
からなるアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。現
像液のｐＨとしては９〜１３．５の範囲が好ましく、さ
らに好ましくは１０〜１３の範囲である。現像液温度は
１５〜４０℃が好ましく、更に好ましくは２０〜３５℃
である。現像時間は５〜６０秒が好ましく、更に好まし
くは７〜４０秒である。

【００７０】更に、自動現像機を用いて、該感光性平版
印刷版を現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の
高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、
長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量の
感光性平版印刷版を処理することができることが知られ
ている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用
される。例えば、特開昭５４−６２００４号公報に開示
されているような現像液の〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕の
モル比が１．０〜１．５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ
₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ₂の含有量が
１〜４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、し
かもポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連続的ま
たは断続的にＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が０．５〜１．
５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕が０．５〜１．５）
のケイ酸ナトリウム水溶液（補充液）を現像液に加える
方法、更には、特公昭５７−７４２７号公報に開示され
ている、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即
ち、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であっ
て、ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であるアルカリ金属
ケイ酸塩の現像液を用い、補充液として用いるアルカリ
金属ケイ酸塩の〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．２５〜０．
７５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が０．５〜１．５）
であり、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその
中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして
少なくとも２０％のカリウムを含有していることとから
なる現像方法が好適に用いられる。

【００７１】このようにして現像処理された感光性平版
印刷版は特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４
５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されてい
るように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、
アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理
される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれら
の処理を種々組み合わせて用いることができる。このよ
うな処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。印刷時、版
上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとして
は、従来より知られているＰＳ版用プレートクリーナー
が使用され、例えば、ＣＬ−１、ＣＬ−２、ＣＰ、ＣＮ
−４、ＣＮ、ＣＧ−１、ＰＣ−１、ＳＲ、ＩＣ（富士写
真フイルム株式会社製）等が挙げられる。

【００７２】

【実施例】以下実施例をもって本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 〔実施例１〜２７、比較例１〕厚さ０．３０ｍｍの材質
１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メ
ッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウ
ムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗した。これ
をＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を
用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン/dm²の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定
したところ０．４５μ（Ｒａ表示）であった。ひきつづ
いて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し、５５℃で２分
間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中
で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ/d
m²において５０秒間陽極酸化したところ厚さが２．７ｇ
／ｍ²であった。次に下記の手順によりＳＧ法の液状組
成物（ゾル液）を調整した。ビーカーに下記組成物を秤
量し、２５℃で２０分間撹拌した。

【００７３】 Ｓi(ＯＣ₂ Ｈ₅ )₄ ３８ｇ ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン １３ｇ ８５％リン酸水溶液 １２ｇ イオン交換水 １５ｇ メタノール １００ｇ

【００７４】その溶液を三口フラスコに移し、還流冷却
器を取り付け三口フラスコを室温のオイルバスに浸し
た。三口フラスコの内容物をマグネティックスターラー
で撹拌しながら、３０分間で５０℃まで上昇させた。浴
温を５０℃に保ったまま、更に１時間反応させ液組成物
（ゾル液）を得た。このゾル液をメタノール／エチレン
グリコール＝２０／１（重量比）で０．５重量％になる
ように希釈して基板にホイラー塗布し、１００℃１分乾
燥させた。その時の塗布量は４ｍｇ／ｍ²であった。こ
の塗布量もケイ光Ｘ線分析法によりＳｉ元素量を求め、
それを塗布量とした。このように処理されたアルミニウ
ム板上に、下記組成の高感度光重合性組成物１を乾燥塗
布重量が１．５ｇ／m²となるように塗布し、１００℃で
１分間乾燥させ、感光層を形成した。

【００７５】 〔光重合性組成物１〕 テトラメチロールメタンテトラアクリレート １．５ ｇ 下記線上有機高分子重合体（Ｂ₁） ２．０ ｇ 表１中の開始系化合物 ０．１ ｇ （２種以上使用した場合でもそれぞれ０．１ｇ） ε−フタロシアニン／（Ｂ₁）分散物 ０．２ ｇ フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックＦ１７７ （大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３ ｇ クペロンＡＬ（ニトロソ化合物、和光純薬製） ０．０１５ｇ メチルエチルケトン １５．０ ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １５．０ ｇ

【００７６】

【化２】

【００７７】この感光層上にポリビニルアルコール（ケ
ン化度９８モル％、重合度５００）の５重量％の水溶液
を乾燥塗布重量が２．５ｇ／m²となるように塗布し、１
２０℃で２分間乾燥させ、光重合性平版印刷版を得た。
これらの版に富士フイルム製ステップガイドＰ（光学濃
度０．１５刻みで１５段）をテープで張り付け、Ｇ／Ｓ
感度を求めた。露光は富士フイルム製プレートセッター
ＣＥＬＩＣ８２００ＣＴＰのＡｒレーザー（４８８ｎ
ｍ）をＩｎＧａＮ半導体レーザー３０ｍＷ、４１０ｎｍ
に載せ変え、版面上でピントを合わせて０．５ｍＪ／ｃ
ｍ²エネルギーで全面露光した。その後１２０℃に２０
秒間さらし、後加熱処理を施した。

【００７８】現像は、富士フイルム製ＤＰ−４現像液を
水で１８倍に希釈し３０℃で、１５秒間浸漬して行っ
た。次にＧＵ−７（富士写真フイルム（株）製）ガム液
を水で２倍に希釈し版面を処理した。Ｇ／Ｓのテール段
数を評価しサンプルの感度として求め表１に示した。こ
の値が大きいほど高感度を意味する。

【００７９】

【表１】

【００８０】なお、表１中に記載の、化合物Ａ、ＥＡ
Ｂ、ＤＥＴＸ、ＣＧＩ７８４、ＤＭＢＩ、ＥＰＡ、ＭＢ
Ｐ、ＡＲＫＬＳ１７１７、Ａ−ＣＵＲＥ４、ロフィンダ
イマー、ＢＡＰＯ、ＩＲ６５１、ＩＲ９０７、ＣＧ２４
−６１、クマリン１、クマリン１５２、クマリン３０
７、クマリン１０６、クマリン３４０の化学構造式を以
下に示す。

【００８１】

【化３】

【００８２】

【化４】

【００８３】

【化５】

【００８４】

【化６】

【００８５】表１よりチタノセン化合物ＣＧＩ７８４と
クマリン系色素の組み合わせが高感度である事が分かっ
た。実施例Ｎｏ２８サンプル１０３０×８００ｍｍの版
を富士フイルム製プレートセッターＣＥＬＩＣ８２００
ＣＴＰ（インナードラム型、ドラム直径７１ｃｍ）のＡ
ｒレーザー（４８８ｎｍ）をＩｎＧａＮ半導体レーザー
（３０ｍＷ、４１０ｎｍ）に載せ変え、端１０３０×２
００ｍｍを０．２ｍＪ／ｃｍ²で全面露光し残り１０３
０×６００ｍｍには未露光部と１７５線３０％網点を２
５４０ｄｐｉで作成した。現像後、非画像部にはまった
く現像不良のカブリ跡はみられなかった。３０％の網点
面積をマクベス濃度計で測定すると３０％であった。更
に露光量を増加させ０．５ｍＪ／ｃｍ²で全面露光して
も、現像後、非画像部にはまったく現像不良のカブリ跡
はみられなかった。３０％の網点面積は３２％であっ
た。また、Ｎｏ８９の未露光版を黄灯下（三菱ネオルミ
スーパーＦＬＲＳＹ／Ｍ４０Ｗ、５００ｎｍ以下は発光
せず）に１００ｌｕｘの光量条件で１時間さらした後上
記と同じ画像を０．５ｍＪ／ｃｍ²で露光しても、現像
後、非画像部にはまったく現像不良のカブリ跡はみられ
なかった。３０％の網点面積は３２％で、黄灯下でも十
分作業可能である事が分かった。

【００８６】［比較例２］実施例６の光重合性感光層に
下記化合物Ｄを０．１ｇとＩＲ９０７（ＣＩＢＡ−ＧＥ
ＩＧＹ社）を０．１ｇ添加したサンプルを同様に作成し
た。

【００８７】

【化７】

【００８８】このサンプル上記と同様に１０３０×８０
０ｍｍの版を富士フイルム製プレートセッターＣＥＬＩ
Ｃ８２００ＣＴＰのＡｒレーザー（１００ｍＷ、４８８
ｎｍ）で端１０３０×２００ｍｍを０．２ｍＪ／ｃｍ²
で露光した。現像後、非画像部に現像不良のカブリ跡が
みられ、３０％の網点面積は４３％に太っていた。更
に、黄灯下に１００ｌｕｘの光量条件で１時間さらした
後、レーザー露光せずそのまま現像しても全面現像不良
で黄灯下では作業できない事がわかった。耐刷性評価に
は印刷機としてハイデルベルグ社製ＳＯＲＫＺを使用
し、インキとしては、大日本インキ社製クラフＧ（Ｎ）
を使用した。Ｎｏ２９の０．２と０．５ｍＪ／ｃｍ²で
露光した版を印刷したところ０．２ｍＪ／ｃｍ²版はベ
タ部は１５万枚までもち、０．５ｍＪ／ｃｍ²で露光し
た版は３０万枚印刷しても問題はなかった。

【００８９】〔実施例２９〕実施例２８の感光液を下記
に変えて光重合性平版印刷版を得た。

【００９０】 （感光液） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １．５ ｇ （日本化薬製 KAYARAD DPHA） ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ ２．０ ｇ メタクリル酸メチル（60／30／10モル比） 共重合体、分子量３．５万（Ｂ₃ ） ＣＧＩ７８４（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社） ０．１５ ｇ クマリン３０７ ０．２０ ｇ ＩＲ９０７ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社） ０．１０ ｇ β−フタロシアニン／（Ｂ₃ ）分散物 ０．２０ ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０２ ｇ （大日本インキ化学工業（株）製 フッ素界面活性剤） クペロンＡＬ（ニトロソ化合物、和光純薬製） ０．０１５ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ７．５ ｇ メチルエチルケトン ９．０ ｇ トルエン １１．０ ｇ

【００９１】この様にして得られた光重合性平版印刷版
を実施例２８と同様にのプレートセッターを用い露光現
像処理した。その結果、０．２ｍＪ／ｃｍ²露光量で１
７５線２５４０dpi １〜９８％及び１０μｍが再現し、
ｐＨ＝４の酸性湿し水アンカーエメラルドで耐刷テスト
を行なっても２０万枚変化しなかった。反射光によるカ
ブリもみられなかった。さらに黄灯下に未露光の版を１
時間さらして、そのまま現像しても現像不良は発生しな
かった。

【００９２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版の製版方法によれば、未露光の印刷版を黄灯下で取り
扱え、インナードラム型プレートセッターにＩｎＧａＮ
半導体レーザー（３６０〜４５０ｎｍ）を載せて露光し
ても、反射光によるカブリが発生せず、耐刷性を上げる
目的で露光量を増加させることが可能なレーザー書き込
み可能な平版印刷版を提供することできた。

【図面の簡単な説明】

【図１】インナードラム型プレートセッターの構造の概
略図である。

【符号の説明】

１ 平版印刷版用原版 ２ レーザー光源 ３ スピンミラー ４ ミラー ５ ポリゴンミラー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 曽呂利 忠弘 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AB03 AC08 AD01 CA19 DA04 DA20 FA10 FA15 2H096 AA06 BA05 CA03 CA12 EA04 EA16 GA02 2H097 AA03 AA16 AB08 CA17 FA03 LA03

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも順次（Ａ）アルミニウム支持
   体、（Ｂ）レーザー感光性記録層からなる平版印刷版
   を、紫外から可視光領域（３６０〜４５０ｎｍ）の半導
   体レーザー光を用いたインナードラム型のプレートセッ
   ターで露光することを特徴とする平版印刷版の製版方
   法。
2. 【請求項２】 前記（Ｂ）レーザー感光性記録層が付加
   重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物、光重合開
   始剤系、及び有機高分子重合体を含有する光重合性感光
   層と酸素遮断性保護層からなる光重合性感光性記録層で
   ある事を特徴とする請求項１の平版印刷版の製版方法。