JPH1165096A - 感光性平版印刷版及びその製造方法 - Google Patents

感光性平版印刷版及びその製造方法

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JPH1165096A
JPH1165096A JP21956397A JP21956397A JPH1165096A JP H1165096 A JPH1165096 A JP H1165096A JP 21956397 A JP21956397 A JP 21956397A JP 21956397 A JP21956397 A JP 21956397A JP H1165096 A JPH1165096 A JP H1165096A
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plate
acid
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compound
film
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JP21956397A
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Tadashi Endo
正 遠藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光層と支持体とが強固に密着し、より高感
度でかつ、酸性プレートクリーナーで版面のインキを除
去しても、又多量の印刷を行っても細線やハイライト部
が飛ばず、耐刷性にも優れ、更に汚れない直接レーザー
書き込み可能な感光性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 粗面化したアルミニウム板上に、密度が
100〜550個/μm2であり、かつ平均ポア径が6nm
以上20nm以下であるマイクロポアを有する陽極酸化被
膜が形成された支持体上に、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物及び重合開始剤を含有し、かつフ
ィルム原稿を用いずレーザー光走査により直接版面上に
画像形成可能な感光層を形成してなることを特徴とする
平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性組成物を
用いた平版印刷版に関するものである。特に、可視光領
域の光線に対して高感度でかつ調子再現性が良好な光重
合組成物を用いた直接製版可能なネガ型平版印刷版及び
その製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、ネガ型平版印刷版は広く知ら
れており、種々の感光層が使用されている。感光層とし
てジアゾ樹脂含有型、光重合型、光架橋型等がある。こ
のような平版印刷版を作成するには、これらの平版印刷
版上に透明のネガフィルム原稿(リスフィルム)を載
せ、紫外線を用いて画像露光するのが一般的であり、そ
のため作業に非常に手間暇がかかっていた。
【0003】近年、画像形成技術の発展に伴い、可視領
域の光線に対し高い感光性を有するフォトポリマーが要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料であり、光
重合系のものが最も高感度で有望である。該可視光レー
ザーとしてはArレーザーの488、514.5nm光、
半導体レーザーの第2高調波光(SHG−LD、350
〜600nm)、SHG−YAGレーザーの532nm光な
どが、有望視されている。そこで感光層にある種の高感
度な光重合性感光層を用いる事で、細くビームを絞った
レーザー光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原
稿などを直接版面上に形成させ、フイルム原稿を用いず
直接製版が可能となる。例えば、特公昭61−9621
号、特開昭63−178105号、特開平2−2440
50号各公報等に記載の感光性組成物の使用により、フ
ィルム原稿を用いず直接製版が可能である。しかしなが
ら、従来のこうした高感度光重合性の印刷版は感光層と
支持体との密着力が必ずしも強力ではないため、高速で
大部数の印刷に使用すると、ベタ画像が抜けたり、細線
やハイライト部が飛んだりする等の不具合を生じること
があった。
【0004】そのため高感度光重合系においては、支持
体と感光層との光接着性は重要なファクターとなってお
り、数多く研究、開発されている。例えば、特願平5−
304358号公報では、ラジカルによる付加反応を起
こし得る官能基を支持体表面上に共有結合により植え付
け、光重合性感光層との接着力を持たせることを試みて
いる。また、感光層と支持体との密着力を更に強力にす
るために、感光層のアンカー効果を強化する目的で支持
体の表面処理として燐酸陽極酸化皮膜を使用することが
公知である。確かにこの方法に依れば、ハイライト部の
密着性は向上するものの、同時にインキ払い(非画像部
についたインキが印刷に伴い払われていく時にインキが
完全に取れるまでの損紙の枚数)が劣化してしまう欠点
がある。一方、支持体表面の粗面を粗くすることも考え
られ、それによれば確かに密着力は向上し画像の耐久性
は向上するものの、その反面印刷時の感光層の磨耗の影
響が出やすく、また支持体であるアルミニウムの親水面
が表面に出やすいため欠陥のある印刷物となったり、非
画像部の親水性が低下し、印刷に汚れを生じる結果とな
る。また、印刷時汚れが生じると印刷機上で版面をプレ
ートクリーナーで拭き、インキを除去することが行なわ
れるが、感光層と支持体との密着力が弱いとアルカリ性
のプレートクリーナーでは問題ないが、特に酸性のプレ
ートクリーナーではハイライト部が飛ぶという問題があ
る。そのため、印刷用プレートクリーナーをユーザーが
使用する印刷版により数種類も準備する必要がある。更
に印刷枚数が多い場合、感光層と支持体との密着力が弱
いと、版面を酸性のプレートクリーナーで拭いた場合と
同様に細線やハイライト部が徐々に飛ぶという問題もあ
る。
【0005】その一方で、最近の市場動向として、生産
性の向上のための露光時間の短縮化や、レーザーの長寿
命化のために、レーザーをなるべく低出力で使用したい
などの要求が強く、直接製版可能な平版印刷版の更なる
高感度化は永遠の課題となっている。しかしながら、感
光層と支持体との密着力を十分に出し、印刷途中版面を
プレートクリーナー等で拭いても、又数十万枚印刷して
も、スタート時と印刷物の調子再現性が同じで、かつ汚
れない更なる高感度な光重合性平版印刷版を得ることは
非常に難しい状況にある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、感光
層と支持体とが強固に密着し、より高感度でかつ、酸性
プレートクリーナーで版面のインキを除去しても、又多
量の印刷を行っても細線やハイライト部が飛ばず、耐刷
性にも優れ、更に汚れない直接レーザー書き込み可能な
感光性平版印刷版を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究の結果、アルミニウム板を粗面化
し、陽極酸化皮膜を形成した後、酸もしくはアルカリに
よって陽極酸化皮膜を0.1〜0.5g/m2溶解してマイ
クロポアのポア径を20nmを越えない程度まで拡げ、そ
の時のマイクロポア密度が100〜550個/μm2とす
ることにより、その上に形成される感光層との密着力を
向上させるとともに、インキ払いの劣化も抑えることが
できることを見出し、本発明を完成するに到った。即
ち、本発明は下記の感光性平版印刷版並びにその製造方
法に関する。 (1)粗面化したアルミニウム板上に、密度が100〜
550個/μm2であり、かつ平均ポア径が6nm以上20
nm以下であるマイクロポアを有する陽極酸化被膜が形成
された支持体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合
を含む化合物及び重合開始剤を含有し、かつフィルム原
稿を用いずレーザー光走査により直接版面上に画像形成
可能な感光層を形成してなることを特徴とする平版印刷
版。 (2)粗面化したアルミニウム板の表面に、陽極酸化処
理によりマイクロポア密度が100〜550個/μm2
ある陽極化皮膜を形成し、次いで前記陽極酸化皮膜を硫
酸、リン酸またはその混合物水溶液に浸漬して0.1〜
0.5g/m2溶解することにより該陽極酸化皮膜に存在す
るマイクロポアを平均ポア径6nm以上20nm以下となる
ように拡大した後、その上に、付加重合可能なエチレン
性二重結合を含む化合物及び重合開始剤を含有し、かつ
フィルム原稿を用いずレーザー光走査により直接版面上
に画像形成できる感光層を形成することを特徴とする感
光性平版印刷版の製造方法。 (3)粗面化したアルミニウム板の表面に、陽極酸化処
理によりマイクロポア密度が100〜550個/μm2
ある陽極化皮膜を形成し、次いで前記陽極酸化皮膜をp
H=11〜13のアルカリ水溶液に浸漬して0.1〜
0.5g/m2溶解することにより該陽極酸化皮膜に存在す
るマイクロポアを平均ポア径6nm以上20nm以下となる
ように拡大した後、その上に、付加重合可能なエチレン
性二重結合を含む化合物及び重合開始剤を含有し、かつ
フィルム原稿を用いずレーザー光走査により直接版面上
に画像形成できる感光層を形成することを特徴とする平
版印刷版の製造方法。
【0008】
【発明実施の形態】以下、本発明について詳細に説明す
る。 〔アルミ支持体〕本発明に用いられるアルミ支持体とし
ては、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属
であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合
金)がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭48−18
327号公報に記載されているようなポリエチレンテレ
フタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合され
た複合体シートでもかまわない。以下の説明において、
上記に挙げたアルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる基板をアルミニウム基板と総称して用いる。前記ア
ルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、
ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量
は10重量%以下である。本発明では純アルミニウム板
が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術
上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するもの
でもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム
板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公
知公用の素材のもの、例えばJlS A 1050、JlS A 1100、
JISA 3103、J1S A 3005などを適宜利用することが出来
る。また、本発明に用いられるアルミニウム基板の厚み
は、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは
印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望に
より適宜変更することができる。アルミニウム基板に
は、適宜後述の基板表面処理が施される。
【0009】〔(1)砂目立て処理〕砂目立て処理方法
は、特開昭56−28893号公報に開示されているよ
うな機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレイン
などがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学
的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミ
ニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグ
レイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立
てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表
面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目
立て法を用いることができ、これらの各砂目立て方法を
単独あるいは組み合わせて用いることもできる。その中
でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、
塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化
学的方法であり、適する電流密度は100C/dm2〜40
0C/dm2の範囲である。さらに具体的には、0.1〜5
0重量%の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度20〜
100℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2
400C/dm2の条件で電解を行うことが好ましい。
【0010】このように砂目立て処理したアルミニウム
基板は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングさ
れる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造
を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用す
るに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤と
して用いることにより改善できる。本発明において好適
に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、
アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度
の好ましい範囲はそれぞれ1〜50重量%、20〜10
0℃であり、アルミニウムの溶解量が5〜20g/m3とな
るような条件が好ましい。エッチングの後、表面に残留
する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われ
る。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フ
ッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学
的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ま
しくは特開昭53−12739号公報に記載されている
ような50〜90℃の温度の15〜65重量%の硫酸と
接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記
載されているアルカリエッチングする方法が挙げられ
る。
【0011】〔(2)陽極酸化処理〕以上のようにして
処理されたアルミニウム基板は、さらに陽極酸化処理が
施される。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われて
いる方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン
酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンス
ルフォン酸等の一種、あるいはこれらの二種以上を含む
水溶液または非水溶液中でアルミニウム基板に直流また
は交流を流すことにより、アルミニウム基板表面に陽極
酸化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件
は使用される電解液によって種々変化するので一概に決
定され得ないが、一般的には電解液の濃度が1〜80重
量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60アンペア
/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜100秒の範
囲が適当である。これらの陽極酸化処理のうちでも特に
英国特許第1,412,768号明細書に記載されてい
る、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特
許第3,511,661号明細書に記載されているリン
酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明
においては、陽極酸化皮膜は1〜10g/m2であることが
好ましく、1g/m2未満であると版に傷が入りやすく、1
0g/m2を越える膜厚とするには多大な電力が必要とな
り、経済的に不利である。好ましくは、1.5〜7g/m2
である。更に好ましくは、2〜5g/m2である。上記の陽
極酸化皮膜は、その表面にマイクロポアと呼ばれる微細
な凹部が一様に分布して形成されている。陽極酸化皮膜
に存在するマイクロポアの密度は、処理条件を適宜選択
することによって調整することができる。
【0012】〔(3)ポアワイド処理〕本発明において
は、陽極酸化条件を最適化することによってこのマイク
ロポアの分布密度を調整した後、マイクロポアのサイズ
を拡げる目的で酸又はアルカリ水溶液によって処理する
ことを特徴とする。この処理は、陽極酸化皮膜が形成さ
れたアルミニウム基板を酸又はアルカリ水溶液に浸漬
し、陽極酸化被膜を0.1〜0.5g/m2 、好ましく
は0.2〜0.4g/m2 溶解する。上記の皮膜溶解量
を得るための処理条件として以下の条件範囲が望まし
い。その理由として、この範囲から外れると、溶解する
までの時間が著しく長くなり作業効率が低下してしまっ
たり、他方、極端な短時間で溶解してしまうため実用上
制御できなくなってしまうためである。具体的条件範囲
として、酸水溶液で処理する場合には、硫酸、燐酸、ま
たはこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましく、
濃度としては10〜500g/l 、好ましくは20〜10
0g/l 、温度として10〜90℃、好ましくは40〜7
0℃、浸漬処理時間としては、10秒〜300秒、好ま
しくは30秒〜120秒、である。一方、アルカリ水溶
液で処理する場合には、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、またこれらの混合物の水溶液を
用いることが好ましく、その水溶液のpHとしては11
〜13、好ましくは11.5〜12.5であり、温度と
しては10〜90℃好ましくは30〜50℃、浸漬処理
時間としては5秒〜300秒、好ましくは10秒〜30
秒である。
【0013】上記の陽極酸化処理及び酸又はアルアリ水
溶液による処理により、陽極酸化皮膜に存在するマイク
ロポアを、密度100〜550個/μm2、好ましくは3
00〜500個/μm2であり、かつ平均ポア径が6nm以
上20nm以下、好ましくは10nm以上18nm以下とする
ことができる。マイクロポアがこれらの範囲外である
と、インキ払いを維持したまま後述される感光層との充
分な密着力を得ることができない。
【0014】上記の如くアルミニウム基板上に、(1)
砂目立て処理、(2)陽極酸化処理及び(3)本発明の
ポアワイド処理をしてなる支持体上に、後述される光重
合性組成物からなる感光層を形成することで、本発明が
対象としている感光性平版印刷版が完成する。但し、感
光層を塗設する前に、必要に応じて後述する接着層を設
けても構わない。また、この接着層を形成する場合には
その接着層生成の前もしくは後に必要に応じて有機下塗
層が設けられてもかまわない。更に、水溶性の樹脂、た
とえばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有
する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金
属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩
等を下塗りしたものも好適である。
【0015】この有機下塗層に用いられる有機化合物と
しては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキスト
リン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸など
のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよ
いフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキル
ホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン
酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、
置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン
酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリ
セロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンや
β−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノール
アミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの
塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いても
よい。この有機下塗層は次のような方法で設けることが
出来る。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム
板上に塗布、乾燥して設ける方法や、水またはメタノー
ル、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤も
しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させ
た溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記有機化合物
を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して
有機下塗層を設ける方法によることができる。前者の方
法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶
液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム
などの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によ
りpHを調節し、pH1〜12の範囲で使用することも
できる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のた
めに、黄色染料を添加することもできる。有機下塗層の
乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好
ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/
m2より少ないと十分な耐刷性が得られない。また、20
0mg/m2より多くても同様である。またアルミニウム基
板は、途中更に弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等
の水溶液への浸漬処理などの表面処理がなされてもかま
わない。
【0016】〔接着層〕ポアワイド処理した後、必要に
応じて更に陽極酸化皮膜の表面にラジカルによる付加反
応を起こし得る官能基(以下、付加反応性官能基と呼
ぶ)を有するシリコーン化合物を含む接着層が塗設され
てもよい。この付加反応性官能基を有するシリコーン化
合物を含む層の塗設は、有機シリコーン化合物を原料と
して用いる方法によるのが好ましい。具体的には、付加
反応性官能基をR1と表わした時、下記式(1): R1Si(OR23 (1) (式中、−OR2は加水分解可能なアルコキシ基又は−
OCOCH3基である。)で表わされる有機シリコーン
化合物(1)を用いてアルミニウム基板を処理すること
により、基板表面の金属、金属酸化物、水酸化物、−O
H基、又は基板の化成処理によって形成されたシラノー
ル基などと反応させて基板表面と共有結合を形成させ、
下記式(2): (R3O)2(R1)Si− (2) で示される官能基を基板表面に結合(又は植え付け)さ
せればよい。式中、R3はR2と同種もしくは異種のアル
キル基又は水素原子、もしくは隣接する別のSi原子と
の結合を表わす。上記において、付加反応性官能基(R
1)が中央のSi原子に2個以上結合した下記式(1
a)又は(1b): (R12Si(OR22 (1a) (R13SiOR2 (1b) で表わされる有機シリコーン化合物(1a)、(1b)
を用いることもできる。また、付加反応性官能基
(R1)が−O−を介して中央のSi原子に結合する官
能基である場合は、 (R14Si (1c) で表わされる有機シリコーン化合物(1c)を用いるこ
ともできる。
【0017】有機シリコーン化合物(1)は、中央のS
i原子に結合する4個のR1のうち少なくとも1個が加
水分解されずに残っている状態の時にアルミニウム基板
に塗布される。有機シリコーン化合物(1)をアルミニ
ウム基板上に塗設する際、このものを単独で用いてもよ
く、又は適当な溶媒で希釈して用いてもよい。アルミニ
ウム基板上で有機シリコーン化合物(1)をより強固に
結合させるために、水及び/又は触媒を加えることがで
きる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキ
シレングリコール等のアルコール類が好ましく、触媒と
しては塩酸、酢酸、リン酸、硫酸などの酸、又はアンモ
ニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの塩
基が使用できる。アルミニウム基板上の付加反応性官能
基の量は、結合させる付加反応性官能基の種類によって
異なるが、10nm2当り一般に0.01〜1000個、
好ましくは0.05〜200個、更に好ましくは0.1
〜50個とすることが適当である。付加反応性官能基量
が10nm2当り0.01個より少ないと十分な光接着強
度が得られ難い。有機シリコーン化合物(1)を厚く塗
り重ねることによって、10nm2当りの付加反応性官能
基量を実質的に幾らでも多くすることが可能であるが、
最表面に顔を出す付加反応性官能基量は10nm2当り高
々10個であるので、厚く塗り過ぎても無駄になる。付
加反応性官能基量が多過て、PS板として使用した時の
非画像部の親水性が不足しないためには、10nm2当り
の付加反応性官能基の量は1000個以内とするのが好
ましい。
【0018】従って、有機シリコーン化合物を用いてア
ルミニウム基板表面に付加反応性官能基を結合する(植
え付ける)際は、有機シリコーン化合物を希釈する溶媒
の種類と量、基板表面上での加水分解用に加える水の量
(加える場合)、基板表面上での加水分解を促進するた
めの触媒の種類と量(加える場合)、有機シリコーン化
合物の溶液を基板上に施用する方法、基板に施用した後
の乾燥雰囲気、乾燥温度、乾燥時間等のプロセスパラメ
ータを種々変更し、基板表面に保持される付加反応性官
能基量が上記の量の範囲内となるように制御することが
必要である。アルミニウム基板表面に保持される付加反
応性官能基の量は、処理後の基板表面を適当な方法、例
えばケイ光X線分析法、赤外線吸収法等の方法で測定
し、表面にあるSi原子量の定量、炭素−炭素の多重結
合量の定量等を行なうことによって決定することができ
る。但し、この支持体(付加反応性支持体)を用いてP
S版を構成する場合、式(1)の有機シリコーン化合物
のみを用いてアルミニウム基板の処理をしただけでは印
刷汚れを生じる場合がある。即ち、付加反応性官能基を
結合してなる支持体上に光重合性の感光性組成物を塗布
して感光層を設け、これに像様露光して画像通りの界面
光接着を起させ、現像液で未露光部を取り去ることによ
り、支持体上には光のパターン通りの光接着膜が残る。
そして、これにインクと水を塗ると、インクは光接着し
た像様露光部へ、水は未露光部へそれぞれ付着して印刷
版となるが、上記有機シリコーン化合物を単独で使用し
た場合には、水が付着すべき未露光部に過剰の有機官能
基が存在することがあり、水の他にインクも付着して印
刷物上に汚れとなって観察されることがある。
【0019】そこで、この印刷汚れを防ぐために、アル
ミニウム基板表面上に付加反応性官能基(R1)の他に
OH基を多く固定して親水性を強くすることが好まし
い。好ましくは、アルミニウム基板表面への付加反応性
官能基の結合において、式(1):R1Si(OR23
で表わされる有機シリコーン化合物(1)の他に、式
(3):Si(OR44(式中、−OR4は加水分解可
能なアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリール
オキシ基又は−OCOCH3基であり、R4はR 2と同じ
であっても異なってもよい。)で表わされる有機シリコ
ーン化合物(3)を併用し、基板表面に前述の式(2)
で示される反応サイトを結合すると同時に、式(4): (R5O)2(OH)Si− (4) で示される親水性サイトを結合することが好ましい。こ
こで、式中、R5はアルキル基、水素原子、又は隣接す
る別のSi原子との結合を表わすが、R5が水素原子で
あることが親水性の面からは最も好ましい。なお、R5
が水素原子以外のもののときは、必要に応じて、表面を
アルカリ溶液で洗うことによって、親水性を高めること
ができる。
【0020】式(1)の有機シリコーン化合物(1)と
式(3)の有機シリコーン化合物(3)との混合比は、
支持体の性状によってそれぞれのものの支持体表面への
結合(植えつけ)効率が変動するため、一概に好適な範
囲を決めることができない。しかし、具体的には、両者
の比を種々に変えて支持体処理を行ない、付加反応性官
能基R1に基づく光接着性と、式(4)で示される部分
構造に由来する親水性とが両立する条件を実験的に確定
して使用することになる。いずれにしても、付加反応性
官能基の密度が前記範囲内になるようにすればよい。具
体的には、有機シリコーン化合物(1)に対する有機シ
リコーン化合物(3)の混合モル比は0.05〜500
が適当であるが、好ましくは0.2〜200、更に好ま
しくは1〜100である。またこの範囲内で、式(3)
の有機シリコーン化合物(3)に由来する親水性基の量
を多くすればするほど非画像部の親水性が増す。ただ
し、親水性基の密度が低い場合でも、付加反応性官能基
を親水化処理することによって親水性基の密度を向上さ
せることができる。
【0021】アルミニウム基板表面への付加反応性官能
基の結合には、大別すると、有機シリコーン化合物をそ
のまま用いることからなる上述の方法(以下、SC法と
呼ぶ)の他に、有機シリコーン化合物を加水分解すると
ともに重縮合させて得られた−Si−O−Si−結合を
含む無機高分子に付加反応性官能基が固定された形の有
機無機複合体を用いることからなる方法(以下、SG法
と呼ぶ)がある。この有機無機複合体をアルミニウム基
板に塗布して乾燥させると、無機高分子部分が基板と密
着し、付加反応性官能基はそのまま基板表面上に残る。
SC法の場合、アルミニウム基板表面における付加反応
性官能基の結合位置は基板表面上の特定の性質をもった
位置となりやすく、基板表面上に一様に分布させるのが
困難な場合がある。つまり、特定の酸点や塩基点におい
てのみSi原子との間の共有結合が形成され、付加反応
性官能基の分布がアルミニウム基板表面の酸点や塩基点
の分布に支配されやすい。従って、光接着強度や非画像
部親水性にムラを生じる場合がある。こうした状況の時
はSG法に従うのが有利である。細かく見れば、SC
法、SG法の他に、中間の態様、例えば式(1)の有機
シリコーン化合物(1):R1Si(OR23中のOR2
の一部もしくは全部が加水分解して2分子又は3分子が
結合した形の有機シリコーン化合物を出発原料として用
いる処理も可能である。SG法による付加反応性官能基
の結合法に従えば、式(1)の有機シリコーン化合物
(1)を、場合により式(3)の有機シリコーン化合物
(3)と所望の混合比に混合し、液中で、必要により触
媒の存在下で、付加反応性官能基R1では反応を起さず
に−OR2及び−OR4で加水分解させるとともに重縮合
反応を行なわせて、中心のSi原子が−Si−O−Si
−結合でつながった無機高分子を含む液状組成物とし
て、これをアルミニウム基板表面に塗布し、場合により
乾燥させることによって、基板上に付加反応性官能基を
結合する。SG法を用いると、アルミニウム基板表面上
に結合固定される付加反応性官能基の分布が基板表面の
酸点や塩基点などの化学的な性質の分布に左右されるこ
とが少ない。また、出発原料として有機シリコーン化合
物(1)の他に有機シリコーン化合物(3)を併用する
場合、上記式(2)で示される付加反応性官能基サイト
と上記式(4)で示される親水性サイトとの相対比が有
機シリコーン化合物(1)及び化合物(3)の仕込み比
でほぼ決められるため、最適表面を得るための処方決定
の道筋がSC法よりも整然とする利点がある。
【0022】本発明で使用する上記式(1)で示される
有機シリコーン化合物(1)の具体例として、以下のも
のを挙げることができる。
【0023】
【化1】
【0024】
【化2】
【0025】また、式(3)で示される有機シリコーン
化合物(3)の具体例としてはテトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
テトラ(n−プロポキシ)シラン、テトラ(n−ブトキ
シ)シラン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラ
ン、テトラキス(2−エチルヘキシルオキシ)シラン、
テトラキス(2−メトキシエトキシ)シラン、テトラフ
ェノキシシラン、テトラアセトキシシランなどを挙げる
ことができ、中でもテトラエトキシシランが好ましい。
【0026】アルミニウム基板表面へ付加反応性官能基
を結合するためにSC法を用いる場合も、SG法を用い
る場合も、溶媒の種類、基板への施用方法、乾燥方法等
は共通であるが、SG法の場合、付加反応性官能基が保
持された無機高分子組成物を予かじめ調液しておく必要
がある。以下にその好ましい具体例を示す。式(1)及
び(3)で表わされる有機シリコーン化合物(1)及び
(3)を加水分解とともに重縮合させてSG法に好適な
組成物とするのに使用できる溶媒は、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレング
リコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類であ
る。溶媒の使用量は、使用する有機シリコーン化合物
(1)及び(3)の総重量に基づいて、一般に0.2〜
500倍、好ましくは0.5〜100倍、更に好ましく
は1〜20倍である。使用量が0.2倍より少ないと反
応液が経時でゲル化しやすく不安定となり好ましくな
い。また、500倍より多いと、反応が数日を要するよ
うになり好ましくない。有機シリコーン化合物を加水分
解するために加える水の量は、一般に有機シリコーン化
合物1モル当り0.1〜1000モル、好ましくは0.
5〜200モル、更に好ましくは1.5〜100モルで
ある。水の量が有機シリコーン化合物1モル当り、0.
1モルより少ない時は、加水分解とそれに続く重縮合反
応の進行が非常に遅くなり、安定な表面処理が可能とな
るまでに数日を要し好ましくない。一方、水の量が有機
シリコーン化合物1モル当り1000モルより多くなる
と、生成した組成物を金属表面に塗設した場合密着不良
を起す他、組成物の経時安定性が悪く、すぐにゲル化し
てしまうことが多いため、塗布作業を安定して行ないに
くくなる。
【0027】SG法に好適な組成物を調液するための反
応温度は室温〜100℃程度が常用されるが、以下に述
べる触媒の種類によっては室温以下あるいは100℃以
上の温度を用いることもできる。溶媒の沸点よりも高い
温度で反応させることも可能であり、必要に応じて反応
器に還流冷却器を付設するのがよい。必要に応じて使用
される触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢
酸、リンゴ酸、シュウ酸などの酸、又はアンモニア、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウムなどの塩基が使用できる。触媒の
添加量は、有機シリコーン化合物(1)及び場合により
追加される有機シリコーン化合物(3)の合計量を基準
として、有機シリコーン化合物1モル当り0.001〜
1モル、好ましくは0.002〜0.7モル、更に好ま
しくは0.003〜0.4モルである。触媒添加量を1
モルより多くしても、その添加効果に比べて経済的に特
に利益があるわけではない。酢酸、リンゴ酸等の弱酸を
触媒として使用する時は、反応温度を40℃〜100℃
の範囲とするのが有利であるが、硫酸、硝酸等の強酸を
触媒として使用する時は10℃〜60℃の範囲がよい。
リン酸を触媒として用いる場合は10℃〜90℃で反応
を行なわせることができる。SG法に用いる組成物の調
液工程、及びこれをアルミニウム基板に塗布し乾燥する
工程で、多くの場合熱が加えられるが、揮発性の酸を触
媒として使用すると、周囲の装置に揮発して付着し、こ
れを腐食させる場合がある。主として鉄を素材として用
いる工程で本方法を使用する場合は、不揮発性の硫酸及
び/又はリン酸を触媒として用いるのが好ましい。
【0028】以上述べたように、式(1)及び(3)で
表わされる有機シリコーン化合物と、有機溶媒、水、及
び場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、
反応時間、及び場合により適当な撹拌条件を選んで反応
させると、加水分解とともに重縮合反応が起りSi−O
−Si結合を含む高分子又はコロイド状高分子が生成
し、液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。式(1)
及び(3)で表わされる有機シリコーン化合物を両方使
用してゾル液を調製する場合、両方の有機シリコーン化
合物を反応の最初から反応容器内に装荷してもよく、あ
るいは一方のみで加水分解と重縮合反応をある程度進め
た後に他方の有機シリコーン化合物を加え、反応を終了
させてもよい。SG法で用いる上記ゾル液は、室温で放
置すると重縮合反応が引き続き進行しゲル化することが
ある。従って、一度上記の方法で調液したゾル液を、ア
ルミニウム基板への塗布時に希釈のために使用する予定
の溶媒で予じめ希釈して、ゾル液のゲル化を防止ないし
遅延させることができる。SC法及びSG法のいずれに
おいても、支持体上に目的量の有機シリコーン化合物も
しくは付加反応性官能基を結合するために、また支持体
上での有機シリコーン化合物もしくは付加反応性官能基
の分布ムラが無いようにするために、これらの処理液を
支持体に塗布する前に溶媒を加えて濃度調整を行なうこ
とが好ましい。この目的に使用する溶媒としてはアルコ
ール類、殊にメタノールが好適であるが、他の溶剤、有
機化合物、無機添加剤、界面活性剤などを加えることも
できる。
【0029】他の溶剤の例としては、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルア
セテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジ
メトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、アセチルア
セトン、エチレングリコール等を挙げることができる。
添加することのできる有機化合物の例としては、エポキ
シ樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、ウレタン樹
脂、ノボラック樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルメチルエーテル、ポリプロピレングリコール等が挙げ
られる。無機添加剤の例としては、コロイダルシリカ、
コロイダルアルミナなどを挙げることができる。エチレ
ングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル
等の高沸点溶剤は、支持体に塗布する濃度にまで希釈さ
れた液の安定性を高め、支持体に結合された付加反応性
官能基の反応再現性を保証する働きがある。ノボラック
樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂等の有機化合物も同
様の効果を有するが、得られる支持体の表面の親水性を
低下させる副作用があり、添加量を細かく調整する必要
がある。
【0030】SG法に好適なゾル液もしくは液状組成物
は、アルミニウム基板表面に塗設後、風乾ないし加熱乾
燥させると、Si−O−Si結合からなる無機高分子が
ゲル化すると同時に基板表面と共有結合する。乾燥は溶
媒、残留水及び場合により触媒を揮散させるために行な
うものであるが、処理後の基板の使用目的によっては工
程を省くこともできる。SC法においても、この乾燥工
程は溶媒、残留水等の揮散という意味の他に、有機シリ
コーン化合物とアルミニウム基板との密着を確実にする
という意味を有する。従って、目的によっては、乾燥終
了後にも更に温度をかけ、加熱を継続してもよい。乾燥
及び場合により継続されるその後の加熱における最高温
度は付加反応性官能基R1が分解しない範囲にあること
が好ましい。従って、使用できる乾燥温度条件は室温〜
200℃、好ましくは室温〜150℃、更に好ましくは
室温〜120℃である。乾燥時間は一般に1秒〜30分
間、好ましくは5秒〜10分間、更に好ましくは10秒
〜3分間である。本発明において用いられる液状組成物
(有機シリコーン化合物もしくはその溶液又はゾル液)
の施工方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジング、
スピンコーティング、ドクターブレード塗布等、各種の
ものも使用することができ、アルミニウム基板表面の形
状や必要とする処理膜厚等を勘案して決められる。
【0031】〔光重合性感光層〕本発明の支持体上に設
けられる光重合性感光層の主な成分は、付加重合可能な
エチレン性二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機
高分子結合剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、
熱重合禁止剤等の種々の化合物が添加される。付加重合
可能な二重結合を含む化合物は、末端エチレン性不飽和
結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合
物の中から任意に選択することができる。例えばモノマ
ー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリ
ゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミド等があげられる。
【0032】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
【0033】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
【0034】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物もあげることが
できる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボ
ン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレン
ビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエ
チレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビ
スアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等
がある。
【0035】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の−般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以⊥の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。 CH2=C(R6)COOCH2CH(R7)OH (A) (ただし、R6およびR7はHあるいはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号公報に記載されている
ようなウレタンアクリレート類、特開昭48−6418
3号、特公昭49−43191号、特公昭52−304
90号各公報に記載されているようなポリエステルアク
リレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを反
応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレ
ートやメタクリレートをあげることができる。さらに日
本接着協会誌vol.20,No.7,300〜308
ぺージ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴ
マーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、全成分に対して5〜70
重量%(以下%と略称する。)、好ましくは10〜50
%である。
【0036】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許公報、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)
を適宜選択して使用することができる。例えば400nm
付近の光を光源として用いる場合、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、チオ
キサントン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン
等が広く使用されている。また、400nm以上の可視光
線、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調波、SH
G−YAGレーザーを光源とする場合にも、種々の光開
始系が提案されており、例えば、米国特許第2,85
0,445号明細書に記載のある種の光還元性染料、例
えばローズベンガル、エオシン、エリスロシンなど、あ
るいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例え
ば、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−2018
9号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生
剤と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘ
キサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベ
ンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開
昭54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニ
ル化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、環
状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−1
51024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開
昭52−112681号、特開昭58−15503
号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系
(特開昭59−140203号)、有機過酸化物と色素
の系(特開昭59−1504号、特開昭59−1402
03号、特開昭59−189340号、特開昭62−1
74203号、特公昭62−1641号、米国特許第4
766055号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特
開昭63−1718105号、特開昭63−25890
3号、特開平2−63054号など)染料とボレート化
合物の系(特開昭62−143044号、特開昭62−
150242号、特開昭64−13140号、特開昭6
4−13141号、特開昭64−13142号、特開昭
64−13143号、特開昭64−13144号、特開
昭64−17048号、特開平1−229003号、特
開平1−298348号、特開平1−138204号な
ど)ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系
(特開平2−179643号、特開平2−244050
号)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭
63−221110号)、チタノセンとキサンテン色素
さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能
なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4
−221958号、特開平4−219756号)、チタ
ノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−29
5061号)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色
素の系(特願平7−164583)等をあげることがで
きる。これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不
飽和化合物100重量部に対し、0.05〜100重量
部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好ましくは
0.2〜50重量部の範囲で用いることができる。
【0037】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、このような有機高分
子重合体としては、光重合可能なエチレン性不飽和化合
物と相溶性を有している有機高分子重合体である限り、
どれを使用してもかまわない。好ましくは水現像或いは
弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水
可溶性又は膨潤性である有機高分子重合体が選択され
る。有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤として
だけでなく、水、弱アルカリ水或は有機溶剤現像剤とし
ての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有
機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様
な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有
する付加重合体、例えば特開昭59−44615号、特
公昭54−34327号、特公昭58−12577号、
特公昭54−25957号、特開昭54−92723
号、特開昭59−53836号、特開昭59−7104
8号各公報に記載されているもの、すなわち、メタクリ
ル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。
この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベ
ンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必
要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合
体及び〔アリル(メタ)アクリレート(メタ)アクリル
酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕
共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。これらの有機高分子重合体は
全組成中に任意な量を混和させることができる。しかし
90重量%を超える場合には形成される画像強度等の点
で好ましい結果を与えない。好ましくは10〜90%、
より好ましくは30〜80%である。また光重合可能な
エチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜9/1の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は2/8〜8/2であり、更に好ましくは3/
7〜7/3である。
【0038】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、べンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等があげられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。更に感光層の着色を目的として、着色
剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロ
シアニン系顔料(C.I.Pigment Blue15:3,15:
4,15:6など)、アゾ系顔料、カーボンブラック、
酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シ
アニン系染料がある。染料および顔料の添加量は全組成
物の約0.5%〜約20%が好ましい。加えて、硬化皮
膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフ
タレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェ
ート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添
加量は全組成物の10%以下が好ましい。
【0039】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピ
ルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、1〜50重量%が適当である。
【0040】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。界面活性剤は公知のものでかまわない。その被覆量
は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適
当である。より好ましくは0.3〜5g/m2である。更に
好ましくは0.5〜3g/m2である。
【0041】〔酸素遮断性保護層〕本発明の支持体上に
上記感光層を設けた後、酸素遮断性保護層をその上に設
けることができる。この酸素遮断性保護層に含まれる水
溶性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、お
よびその部分エステル、エーテル、およびアセタール、
またはそれらに必要な水溶性を有せしめるような実質的
量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共重合
体があげられる。ポリビニルアルコールとしては、71
〜100%加水分解され、重合度が300〜2400の
範囲のものがあげられる。具体的には株式会社クラレ製
PVA−105,PVA−110,PVA−117,P
VA−117H,PVA−120,PVA−124,P
VA−124H,PVA−CS,PVA−CST,PV
A−HC,PVA−203,PVA−204,PVA−
205,PVA−210,PVA−217,PVA−2
20,PVA−224,PVA−217EE,PVA−
220,PVA−224,PVA−217EE,PVA
−217E,PVA−220E,PVA−224E,P
VA−405,PVA−420,PVA−613,L−
8等があげられる。上記の共重合体としては、88〜1
00%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセ
テートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマールお
よびポリビニルアセタールおよびそれらの共重合体があ
げられる。その他有用な重合体としてはポリビニルピロ
リドン、ゼラチンおよびアラビアゴム、があげられ、こ
れらは単独または、併用して用いても良い。本発明の酸
素遮断性保護層を塗布する際用いる溶媒としては、純水
が好ましいが、メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を
純水と混合しても良い。そして塗布溶液中の固形分の濃
度は1〜20重量%が適当である。
【0042】本発明の酸素遮断性保護層にはさらに塗布
性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良す
るための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。その被覆量は乾燥後の重量で
約0.1/m2〜約15/m2の範囲が適当である。より好
ましくは1.0/m2〜約5.0/m2である。
【0043】本発明の感光性平版印刷版は、上記の如く
得られる。そして、Arレーザー、半導体レーザーの第
2高調波(SHG−LD、350〜600nm)、YAG
−SHGレーザーにより直接露光された後、現像処理さ
れる。かかる現像処理に使用される現像液としては従来
より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ
剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用い
られる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を
組み合わせて用いられる。
【0044】上記のアルカリ水溶液の内、本発明による
効果が一段と発揮される現像液はアルカリ金属ケイ酸塩
を含有するpH12以上の水溶液である。アルカリ金属
ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素S
iO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔Si
2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像
性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−6200
4号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oの
モル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na
2O〕が1.0〜1.5であって、SiO2の含有量が1
〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57
−7427号公報に記載されているような、〔Si
2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/
〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度
が1〜4重量%であり、かつ該現像液がその中に存在す
る全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも
20%のカリウムを含有していることとからなるアルカ
リ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。更に、自動現像機
を用いて、該感光性平版印刷版を現像する場合に、現像
液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液
に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を
交換する事なく、多量の感光性平版印刷版を処理するこ
とができることが知られている。本発明においてもこの
補充方式が好ましく適用される。例えば、特開昭54−
62004号公報に開示されているような現像液の〔S
iO2〕/〔Na2O〕のモル比が1.0〜1.5(即ち
〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であっ
て、SiO2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウ
ムの水溶液を使用し、しかもポジ型感光性平版印刷版の
処理量に応じて連続的または断続的にSiO2/Na2
のモル比が0.5〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2
O〕が0.5〜1.5)のケイ酸ナトリウム水溶液(補
充液)を現像液に加える方法、更には、特公昭57−7
427号公報に開示されている、〔SiO2〕/〔M〕
が0.5〜0.75(即ち、〔SiO2〕/〔M2O〕が
1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4重
量%であるアルカリ金属ケイ酸塩の現像液を用い、補充
液として用いるアルカリ金属ケイ酸塩の〔SiO2〕/
〔M〕が0.25〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2
O〕が0.5〜1.5)であり、かつ該現像液および該
補充液のいずれもがその中に存在する全アルカリ金属の
グラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを
含有していることとからなる現像方法が好適に用いられ
る。
【0045】このようにして現像処理された感光性平版
印刷版は特開昭54−8002号、同55−11504
5号、同59−58431号等の各公報に記載されてい
るように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、
アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理
される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれら
の処理を種々組み合わせて用いることができる。このよ
うな処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。印刷時、版
上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとして
は、従来より知られているPS版用プレートクリーナー
が使用され、例えばCL−1,CL−2,CP,CN−
4,CN,CG−1,PC−1,SR,IC(富士写真
フイルム株式会社製)等があげられる。
【0046】以下実施例をもって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 〔実施例1〕厚さ0.30mmの材質1Sのアルミニウム
板を8号ナイロンブラシと800メッシュのパミストン
の水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水
で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒
間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、20%H
NO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液
中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処
理を行った。その表面粗さを測定したところ0.45μ
(Ra表示)であった。引き続いて30%のH2SO4
溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、3
3℃、15%硫酸中で5A/dm2の電流密度で45秒間直
流電解して陽極酸化皮膜を形成した。生成した陽極酸化
皮膜のマイクロポアを拡大するため60℃の50g/l硫
酸中に1分間浸漬した後、水洗し乾燥した。
【0047】次に下記の手順によりSG法の液状組成物
(ゾル液)を調整した。ビーカーに下記組成物を秤量
し、25℃で20分間撹拌した。 Si(OC25)4 38g 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 13g 85%リン酸水溶液 12g イオン交換水 15g メタノール 100g その溶液を三口フラスコに移し、還流冷却器を取り付け
三口フラスコを室温のオイルバスに浸した。三口フラス
コの内容物をマグネティツクスターラーで撹拌しなが
ら、30分間で50℃まで上昇させた。浴温を50℃に
保ったまま、更に1時間反応させ液組成物(ゾル液)を
得た。このゾル液をメタノール/エチレングリコール=
20/1(重量比)で0.5重量%になるように希釈し
て基板にホイラー塗布し、100℃1分乾燥させた。そ
の時の塗布量は4mg/m2であった。この塗布量もケイ光
X線分析法によりSi元素量を求め、それを塗布量とし
た。
【0048】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の高感度光重合性組成物1を乾燥塗布重量
が1.5g/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾
燥させ、感光層を形成した。 光重合性組成物1 テトラメチロールメタンテトラアクリレート 1.5g 線状有機高分子重合体(B1) 2.0g
【0049】
【化3】
【0050】 増感剤(C1) 0.15g
【化4】
【0051】 (λmaxTHF479nm、ε=6.9×104) 光開始剤(D1) 0.2g
【0052】
【化5】
【0053】 IRGACURE907(E1)(Ciba-Geigy社製) 0.4g
【0054】
【化6】
【0055】 ε−フタロシアニン/(B1)分散物 0.2g フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177 (大日本インキ化学工業(株)製) 0.03g メチルエチルケトン 9.0g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 7.5g トルエン 11.0g この感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モ
ル%、重合度500)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重
量が2.5g/m2となるように塗布し、120℃で3分間
乾燥させ、光重合性平版印刷版を得た。これらの版をオ
プトロニクス社製XLP4000(Arレーザー75m
W,488nm)を用い種々のエネルギーで、4000dp
i175線/インチの条件で1%きざみで1〜99%を
それぞれ2箇所づつ露光した。その後120℃に20秒
間さらし、後加熱処理を施した。
【0056】現像は、下記の現像液に25℃で、30秒
間浸漬して行った。 (現像液) 1Kケイ酸カリウム 30g 水酸化カリウム 15g 下記化合物 3g
【0057】
【化7】
【0058】 水 1000g 次にGU−7(富士写真フイルム(株)製)ガム液を水
で2倍に希釈し版面を処理した。印刷評価には印刷機と
してハイデルベルグ社製SORKZを使用し、インキと
しては、大日本インキ社製クラフG(N)を使用した。
プレートクリーナーとしては、酸性のPSプレートクリ
ーナーCL−2(富士写真フイルム(株)製)を用い
た。印刷スタートから5000枚目にCL−2を印刷用
スポンジにしみこませ、網点部をふき版面のインキを洗
浄した。その後10,000枚毎に195,000枚目
まで同様にCL−2で版面のインキを洗浄し、150,
000枚印刷した。得られた印刷物上でのハイライトの
再現性を目視評価した。各サンプルを同様に露光現像し
印刷し、非画像部の汚れ(インキ払い)性も目視評価し
た。また、印刷版支持体の重量変化から陽極酸化皮膜の
溶解量を算出し、一方、マイクロポアのポア径は、日立
製作所製走査電子顕微鏡S−900にて加速電圧12K
V、蒸着無しの条件でマイクロポアを観察し平均ポア径
を求めた。以上の結果を表1に示す。
【0059】〔実施例2〕実施例1と他の条件は同じ
で、感光液のみ下記の様に変えて同様に評価した。 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.5g アリルメタアクリレート/メタクリル酸(80/20重量比) 光重合体、分子量3万(B2) 2.0g 化合物C1 0.15g 化合物D2 0.20g
【0060】
【化8】
【0061】 化合物E1 0.40g ε−フタロシアニン/(B2)分散物 メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素界面活性剤) 0.02g クペロンAL(ニトロソ化合物、和光純薬製) 0.015g プロピレングリコールモノメチルエーテル 7.5g メチルエチルケトン 9.0g トルエン 11.0g 実施例1と同様に印刷評価を行いその結果を表1に示
す。
【0062】〔実施例3〕実施例1の感光液を下記に変
えて光重合性平版印刷版を得た。 (感光液) ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製 KAYARAD DPHA) 1.5g ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/メタクリル酸メチル (60/30/10モル比)共重合体、分子量3.5万(B3) 2.0g 化合物C2 0.15g
【0063】
【化9】
【0064】 化合物D2 0.20g 化合物E2 0.40g
【0065】
【化10】
【0066】 β−フタロシアニン/(B3)分散物 0.20g メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素界面活性剤) 0.02g クペロンAL(ニトロソ化合物、和光純薬製) 0.015g プロピレングリコールモノメチルエーテル 7.5g メチルエチルケトン 9.0g トルエン 11.0g この様にして得られた光重合性平版印刷版をライノタイ
プヘル社製SHG−YAGレーザー(532nm)搭載プ
レートセッター(商品名:グーテンベルグ)を用い露光
した。その後の処理は実施例1と同様に行なった。その
後、実施例1と同様に印刷評価を行いその結果を表1に
示す。
【0067】〔実施例4〕実施例3の感光液組成物中化
合物C2をC3 0.1gに、化合物D2をD3(CG
1784DC、有効成分30%、Ciba−Geigy
社製)0.5gに変えて光重合性平版印刷版を得た。こ
の様にして得られた光重合性平版印刷版をライノタイプ
ペル社製SHG−YAGレーザー(532nm)搭載プレ
ートセッター(商品名:グーテンベルグ)を用い露光し
た。その後の処理、評価は実施例1と同様に行なった。
その結果を表1に示す。
【0068】〔実施例5〕実施例1においてマイクロポ
アを硫酸によってポア径拡大する代わりに、0.1M炭
酸ナトリウムと0.1M炭酸水素ナトリウムを含み水酸
化ナトリウムでpH=12に調整した水溶液を用いて4
0℃、10秒間処理することによってポア径を拡大した
こと以外は実施例1と同様に作成・評価した結果を表1
に示す。
【0069】〔実施例6〕実施例1において、マイクロ
ポアを拡大した後ゾル液を塗らずに直接、感光層を形成
したこと以外は実施例1と同様に作成・評価した結果を
表1に示す。
【0070】〔比較例1〕アルミニウム板を、研磨材を
含む懸濁液を用いてブラシにより機械的に粗面化し、硝
酸水溶液中で電解粗面化した後、33℃、15%硫酸中
で5A/dm2の電流密度で45秒間直流電解して陽極酸化
皮膜を形成する。その後、実施例1と同様にSG液塗
布、感光層塗布、オーバーコート層塗布を行った。その
後、実施例1と同様にSG液塗布、感光層塗布、オーバ
ーコート層塗布、印刷評価を行いその結果を表1に示
す。
【0071】〔比較例2〕アルミニウム板を、研磨材を
含む懸濁液を用いてブラシにより機械的に粗面化し、硝
酸水溶液中で電解粗面化した後、33℃、15%硫酸中
で5A/dm2の電流密度で45秒間直流電解して陽極酸化
皮膜を形成する。0.1M炭酸ナトリウムと0.1M炭
酸水素ナトリウムを含み水酸化ナトリウムでpH=13
に調整した水溶液を用いて60℃、10秒間処理するこ
とによってポア径を拡大した。その後、実施例1と同様
にSG液塗布、感光層塗布、オーバーコート層塗布を行
い、印刷評価を行いその結果を表1に示す。
【0072】〔比較例3〕アルミニウム板を、研磨材を
含む懸濁液を用いてブラシにより機械的に粗面化し、硝
酸水溶液中で電解粗面化した後、33℃、15%硫酸中
で2A/dm2の電流密度で45秒間直流電解して陽極酸化
皮膜を形成する。0.1M炭酸ナトリウムと0.1M炭
酸水素ナトリウムを含み水酸化ナトリウムでpH=13
に調整した水溶液を用いて60℃、10秒間処理するこ
とによってポア径を拡大した。その後、実施例1と同様
にSG液塗布、感光層塗布、オーバーコート層塗布を行
い、印刷評価を行いその結果を表1に示す。
【0073】
【表1】
【0074】表1から、本発明に係る実施例の感光性平
版印刷版は感光層との密着性に優れ、ハイライト部の再
現性並びにインキ払いともに優れることが判る。
【0075】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
感光層と支持体とが強固に密着し、高感度で酸性のプレ
ートクリーナーで版面のインキを除去しても又多量の印
刷を行ってもハイライトが飛ばず、シャドー再現性にも
優れ、耐刷性があり、強制的に経時させても汚れないレ
ーザー書き込み可能な光重合性平版印刷版を提供するこ
とできる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/027 502 G03F 7/027 502 7/028 7/028 7/09 501 7/09 501

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粗面化したアルミニウム板上に、密度が
    100〜550個/μm2であり、かつ平均ポア径が6nm
    以上20nm以下であるマイクロポアを有する陽極酸化被
    膜が形成された支持体上に、付加重合可能なエチレン性
    二重結合を含む化合物及び重合開始剤を含有し、かつフ
    ィルム原稿を用いずレーザー光走査により直接版面上に
    画像形成可能な感光層を形成してなることを特徴とする
    平版印刷版。
  2. 【請求項2】 粗面化したアルミニウム板の表面に、陽
    極酸化処理によりマイクロポア密度が100〜550個
    /μm2である陽極化皮膜を形成し、次いで前記陽極酸化
    皮膜を硫酸、リン酸またはその混合物水溶液に浸漬して
    0.1〜0.5g/m2溶解することにより該陽極酸化皮膜
    に存在するマイクロポアを平均ポア径6nm以上20nm以
    下となるように拡大した後、その上に、付加重合可能な
    エチレン性二重結合を含む化合物及び重合開始剤を含有
    し、かつフィルム原稿を用いずレーザー光走査により直
    接版面上に画像形成できる感光層を形成することを特徴
    とする感光性平版印刷版の製造方法。
  3. 【請求項3】 粗面化したアルミニウム板の表面に、陽
    極酸化処理によりマイクロポア密度が100〜550個
    /μm2である陽極化皮膜を形成し、次いで前記陽極酸化
    皮膜をpH=11〜13のアルカリ水溶液に浸漬して
    0.1〜0.5g/m2溶解することにより該陽極酸化皮膜
    に存在するマイクロポアを平均ポア径6nm以上20nm以
    下となるように拡大した後、その上に、付加重合可能な
    エチレン性二重結合を含む化合物及び重合開始剤を含有
    し、かつフィルム原稿を用いずレーザー光走査により直
    接版面上に画像形成できる感光層を形成することを特徴
    とする平版印刷版の製造方法。
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