JP2003114537A - 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 - Google Patents

感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法

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JP2003114537A
JP2003114537A JP2001308237A JP2001308237A JP2003114537A JP 2003114537 A JP2003114537 A JP 2003114537A JP 2001308237 A JP2001308237 A JP 2001308237A JP 2001308237 A JP2001308237 A JP 2001308237A JP 2003114537 A JP2003114537 A JP 2003114537A
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JP2001308237A
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Hiroyuki Nagase
博幸 長瀬
Shuichi Takamiya
周一 高宮
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 長期間現像処理により現像液中に蓄積、凝集
沈降する現像カスが発生しなく、版面耐傷性、汚れ性を
改良し且つ耐刷性に優れた平版印刷版を製版できる現像
液及び製版方法を提供する。 【解決手段】 ジアルキルシロキサン基を有する界面活
性剤を含有することを特徴とする光重合型感光性平版印
刷版用現像液;付加重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する化合物、チタノセン系光重合開始剤及び着色顔料
を含有する光重合性感光層を支持体上に設けた光重合型
感光性平版印刷版を、露光後、ジアルキルシロキサン基
を有する界面活性剤を含有する現像液で現像処理するこ
とを特徴とする平版印刷版の製版方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光重合型感光性平
版印刷版用の現像液、及び光重合型感光性平版印刷版を
用いた平版印刷版の製版方法に関するものである。さら
に詳しくは、長期間現像処理により現像液中に蓄積、凝
集沈降する現像カスが発生しなく、版面耐傷性、汚れ性
を改良し且つ耐刷性に優れた平版印刷版を提供できる現
像液及び製版方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から光重合性の平版印刷版では、長
期間現像処理を続けていると現像液中に不溶物が蓄積、
凝集沈降し現像カスとなり現像処理を不安定化する要因
になっていた。このような現像カスの成分はこれまで明
らかとはなっていなかったが、分析の結果、その多くは
感光層中に含まれる現像液不溶解成分であることが判明
した。その不溶解成分としては、例えば、露光部と未露
光部を識別するために感光層に添加している種々の着色
剤が挙げられる。これらの着色剤は、光重合系の場合、
ラジカル補足による減感や開始系(開始剤単独或いは増
感色素と開始剤との組み合わせなど)との不必要な相互
作用(エネルギー移動や電子移動)による減感を避ける
目的で、感光層中に分子分散せずに結晶状態を保った集
合体として分散される、所謂顔料が用いられている。し
かしこのような顔料は本質的に現像液に不溶であるた
め、未露光部を除去するための現像工程において、はじ
めは一時的に現像液に分散しているが、長期間現像処理
を続けていると現像液中に蓄積、凝集沈降し現像カスと
なる。
【0003】また光重合性の平版印刷版には、近年発達
してきたレーザー光源に対応すべく様々な光重合開始剤
(ラジカル発生剤)が使用されているが、その中でもレ
ーザー光源波長域に感光性を有し、安定性と感度の点で
優れた開始剤として、チタノセン系の開始剤が知られて
いる。しかしこのチタノセン系開始剤は有機金属であ
り、上述の着色剤顔料と同様に、現像液に不溶のもので
あり、一時的に現像液に分散しているが、長期間現像処
理を続けていると現像液中に蓄積、凝集沈降し、やはり
現像カスとなる問題がある。
【0004】一方平版印刷版を製版する際、その最終工
程でいわゆるガム液が塗布される。ガム液塗布の目的は
非画像領域の親水性を保護するのみならず、画像領域の
加筆又は消去等の画像修正、製版後印刷するまでの期間
の保存又は再使用までの保存、印刷機に取付ける際や取
扱い中の指紋、油脂、塵埃等の付着によって引起される
汚れの防止及び傷の発生等からの保護であり、更に酸化
汚れの発生を抑えることである。しかし、これらキズ
性、および汚れ性は、ガム液の濃度の影響を受けやす
く、十分に塗設されない場合は汚れ性が悪化し、液が濃
縮されたりした場合には画像領域(インキを受容する領
域)に水溶性高分子物質が部分的に厚塗りになる。厚塗
りされた部分の画像部は、印刷する過程でインキに対す
る着肉性が悪く所望のインキ濃度の印刷物を得るまでに
は相当数の刷り枚数を必要とする問題があった。一般に
この現象を印刷抜け(いわゆる着肉不良)と称してい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、平版
印刷版の製版にあたって長期のランニングにおいても現
像カスの発生がなく、十分な版面保護性を付与すること
ができ、さらに、傷つきにくく汚れにくくかつ着肉性及
び耐刷性に優れた平版印刷版を製版することができる現
像液及び製版方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、現像液に特定の界面活性剤を添加することに
より、現像カス成分の分散性が著しく向上し、さらに平
版印刷版の耐傷性、汚れ性が良好になり、着肉性、耐刷
性も良好であることを見出し、本発明を完成させるに至
った。従って本発明は、ジアルキルシロキサン基を有す
る界面活性剤を含有することを特徴とする光重合型感光
性平版印刷版用現像液である。本発明はさらに、付加重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、チタノ
セン系光重合開始剤及び着色顔料を含有する光重合性感
光層を支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、
露光後、ジアルキルシロキサン基を有する界面活性剤を
含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印
刷版の製版方法である。
【0007】本発明の製版方法の好ましい実施態様とし
て、上記感光層が1.0meq/g以下の感光層酸価を
有することが挙げられ、更に具体的に該感光層がpKa9
以下の酸基を有する化合物を含有し、感光層酸価が0.
20〜0.60meq/gであることが好ましい。本発
明の製版方法の別の好ましい実施態様として、感光性平
版印刷版の支持体が、陽極酸化アルミニウム支持体表面
上に燐系の酸原子団を有する有機化合物又は有機シリコ
ーン化合物を有しているものがある。
【0008】現像液中に含まれるジアルキルシロキサン
基を有する化合物は、現像後版材表面に吸着し、露光部
(硬化部)の現像液によるダメージを緩和し、さらに印
刷時においても、湿し水などが硬化部に入り込むことを
抑制する作用があると推定される。同様に非画像部にも
吸着し、アルミニウム支持体面の汚れ性、耐傷性に対し
有効な作用があると考えられる。さらに驚くべきこと、
着肉性も良化することが判明した。一般に汚れ性と着肉
性はトレードオフになる場合が多いが、上記のジアルキ
ルシロキサン基を有する化合物の添加により、画像部は
インキに対する親和性が向上し、非画像部は親和性が低
下する作用があると推定している。ただし詳細なメカニ
ズムについては明らかになっていない。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明で使用する現像液について
説明する。 [ジアルキルシロキサン基を有する界面活性剤]ジアルキ
ルシロキサン基を有する界面活性剤としては、ジアルキ
ルポリシロキサン系界面活性剤、特にジメチルポリシロ
キサン系界面活性剤が挙げられる。具体例としては、下
記式で示されるポリ(エチレンオキシ)シロキサン、ア
ルコキシポリ(エチレンオキシ)シロキサンなどのジメ
チルポリシロキサン系界面活性剤がある。
【0010】
【0011】(式中、m、n、sはそれぞれ1〜40の
整数を表し、oは1〜30の整数、pは1〜30の整
数、qは1〜30の整数、rは1〜30の整数を表し、
Rは水素原子又は炭素原子数1〜15個の直鎖又は分岐
のアルキル基を表す。) 中でも好ましいものは、ポリ(エチレンオキシ)シロキ
サンである。本発明で使用するジアルキルシロキサン基
を有する界面活性剤は、カルボン酸基又はスルホン酸基
を一部導入して変性したものも包含する。
【0012】上記のようなジアルキルポリシロキサン系
界面活性剤は、市場において一般に入手することがで
き、市販品の例として、SM−5512(東レシリコー
ン製)、SH−200(東レシリコーン製)、DB11
0N(ダウコーニング製)、シリコーンX-20-250、X-
20-308、X-20-352、F-260、F-239、X-22-351、X-2
2-945、X-22-944、X-20-307(信越化学製)などがあ
る。この界面活性剤の分子量としては100〜1000
0が好ましく、500〜5000がより好ましく、10
00〜3500が最も好ましい。前記分子量が100未
満であると、画像部に対する溶解抑止力を得ることがで
きないことがあり、10000を超えると非画像部の現
像性が低下することがある。
【0013】上記界面活性剤の添加量としては、アルカ
リ現像処理液中に0.001〜10質量%が適当であり、
0.05〜5質量%が好ましい。さらに0.1〜3質量%
が最も好ましい。この添加量が0.001質量%未満であ
ると、形成した画像部の可溶性を十分に抑制できないこ
とがあり、一方10質量%超えると溶解抑止力が強すぎ
て現像感度が低下することがある。
【0014】本発明で使用する現像液は、少なくとも上
述のジアルキルシロキサン基を有する界面活性剤と塩基
類を含有するアルカリ性の水溶液であって、そのpHは
9〜14の範囲にあるのが適当である。現像補充液とし
て現像液と同様の組成のものが使用できる。現像液中に
含めるアルカリ化合物としてアルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ土類金属水酸化物、珪酸塩、アルカリ金属の炭酸
塩及び炭酸水素塩、アンモニウムの炭酸塩及び炭酸水素
塩、アミン類などの有機塩基などが挙げられる。また現
像液中には各種界面活性剤(ノニオン性、カチオン性、
アニオン性)を含有させることも有用である。現像液に
はさらに以下のような剤を含ませてもよい。
【0015】[キレート剤]キレート剤としては、例え
ば、Na227、Na533、Na339、Na2 4
(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナト
リウム)などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミン
テトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエ
チレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリ
ウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレン
ジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−
2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他2
−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカ
リウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノント
リカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,
2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒド
ロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン
酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような
有機ホスホン酸類を挙げることができる。このようなキ
レート剤の最適量は使用される硬水の硬度およびその使
用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液
中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜
0.5質量%の範囲で含有させられる。
【0016】[その他の成分]現像液には、上記の成分
の他に、必要に応じて以下のような成分を併用すること
ができる。例えば安息香酸、フタル酸、p−エチル安息
香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安
息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息
香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエ
チル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ
−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;イソプロピルア
ルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリ
コール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤;この他、
還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられ
る。さらに本発明の製版方法を、自動現像機を用いて現
像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労してく
るので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を
回復させても良い。
【0017】[現像液の発泡性]内径3cmの100m
l透明ガラス瓶に現像液を30ml入れて、25℃で、
1秒間に3回の速度で、ガラス瓶を上下に1分間振とう
する。その後、静置し、泡が消えるまでの時間(消泡時
間)を測定する。この時間が少ない方が発泡性が低くよ
い(消泡性が高い)。本発明で使用する現像液は、好ま
しくは、発泡性が低く、消泡時間5分以下であり、現像
処理時に発泡し現像処理工程に支障を来すことがない。
【0018】[現像液の色]現像液は無色、水との誤認
を防ぐ目的で、視認性が得られる程度の色が付いている
のが好ましい。 [現像液の粘度]現像液の粘度は好ましくは、水希釈状
態で25℃において1.0〜10.0cpであり、円滑
な現像処理が行える。
【0019】[感光性平版印刷版]次いで、本発明に使
用される感光性平版印刷版について説明する。 [感光層]その中でも、本発明に使用される感光性平版
印刷版の感光層について、はじめに説明する。本発明に
使用される感光性平版印刷版の感光層は、特に限定され
ないが、レーザー描画可能なネガ型の光重合系の感光層
であることが好ましい。光重合系感光層の主な成分は、 a)付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なく
とも1個有する化合物 b)アルカリ水溶液に可溶又は膨潤性の高分子重合体 c)光重合開始剤系、であり、必要に応じ、着色剤、可
塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物が添加される。本
発明の製版方法は、感光層成分として少なくとも付加重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、チタノ
セン系光重合開始剤及び着色顔料を含有する光重合系感
光層を有する感材の製版に向けられている。
【0020】付加重合可能なエチレン性二重結合を含む
化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物の中から任意に選
択することができる。例えばモノマー、プレポリマー、
すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれ
らの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態
をもつものである。モノマーおよびその共重合体の例と
しては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と
のアミド等が挙げられる。
【0021】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
【0022】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
【0023】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることが
できる。
【0024】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている、1分子中に2個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物
に、下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。
【0025】 CH2=C(R3)COOCH2CH(R4)OH (A)
【0026】(ただし、R3およびR4はHあるいはCH
3を示す。)
【0027】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−
43191号、特公昭52−30490号各公報に記載
されているようなポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアク
リレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。さらに日本接着協会誌vol.
20、No.7、300〜308ページ(1984年)
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。なお、これらの使用
量は、全成分に対して5〜70質量%(以下%と略称す
る。)、好ましくは10〜50%である。
【0028】本発明に使用される感光性平版印刷版の感
光層に含有されるアルカリ水に可溶性又は膨潤性を有す
る高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけで
なく、アルカリ水現像剤の用途に応じて選択使用され
る。有機高分子重合体は、例えば、水可溶性有機高分子
重合体を用いると水現像が可能になる。この様な有機高
分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加
重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54
−34327号、特公昭58−12577号、特公昭5
4−25957号、特開昭54−92723号、特開昭
59−53836号、特開昭59−71048号に記載
されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等がある。
【0029】また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する
酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する
付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用
である。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)
アクリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリピニルピロリド
ンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化
皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミド
や2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。また特公平7−120040号、特公平7−120
041号、特公平7−120042号、特公平8−12
424号、特開昭63−287944号、特開昭63−
287947号、特開平1−271741号、特開平1
1−352691号に記載のポリウレタン樹脂も本発明
の用途には有用である。
【0030】これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプ
ト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オ
ニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イ
ミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基
としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチ
リル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、
又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カ
ルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイ
レン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官
能基も有用である。組成物の現像性を維持するため、高
分子重合体は適当な分子量、酸価を有することが好まし
い。前述の現像液で現像させるため、重量平均分子量が
5000から30万で、酸価0.2〜5.0meq/g
の高分子重合体を使用することが好ましい。
【0031】これらの有機高分子重合体は全組成中に任
意な量を混和させることができる。しかし90質量%を
超える場合には、形成される画像強度等の点で好ましい
結果を与えない。好ましくは10〜90%、より好まし
くは30〜80%である。また光重合可能なエチレン性
不飽和化合物と有機高分子重合体は、質量比で1/9〜
9/1の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は
2/8〜8/2であり、更に好ましくは3/7〜7/3
である。
【0032】本発明に使用される感光性平版印刷版の感
光層に含有される光重合開始剤としては、使用する光源
の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)
を適宜選択して使用することができる。
【0033】400nm以上の可視光線、Arレーザ
ー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば、米国特許第2,850,445号に記
載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エ
オシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤と
の組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開
始系(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビ
イミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公
昭45−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾー
ルとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特
公昭47−2528号、特開昭54−155292
号)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系
(特開昭48−84183号)、環状トリアジンとメロ
シアニン色素の系(特開昭54−151024号)、3
−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−11268
1号、特開昭58−15503号)、ビイミダゾール、
スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−1402
03号)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−15
04号、特開昭59−140203号、特開昭59−1
89340号、特開昭62−174203号、特公昭6
2−1641号、米国特許第4766055号)、染料
と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−258903
号、特開平2−63054号など)、染料とボレート化
合物の系(特開昭62−143044号、特開昭62−
150242号、特開昭64−13140号、特開昭6
4−13141号、特開昭64−13142号、特開昭
64−13143号、特開昭64−13144号、特開
昭64−17048号、特開平1−229003号、特
開平1−298348号、特開平1−138204号な
ど)、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系
(特開平2−179643号、特開平2−244050
号)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭
63−221110号)、チタノセンとキサンテン色素
さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能
なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4
−221958号、特開平4−219756号)、チタ
ノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−29
5061号)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色
素の系(特開平8−334897号)等を挙げることが
できる。
【0034】本発明においては、特にチタノセン化合物
を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。チタノ
セン化合物としては、種々のものを用いることができる
が、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61
−151197号各公報に記載されている各種チタノセ
ン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具
体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロ
ライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェ
ニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6
−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフエ
ニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェ
ニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,4,5,6−テトラフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3
−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を挙げるこ
とができる。
【0035】さらに、本発明で用いる光重合開始剤に必
要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を
加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えること
によってさらに光重合開始能力を高めることができる。
これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化
合物100質量部に対し、0.05〜100質量部、好
ましくは0.1〜70質量部、更に好ましくは0.2〜
50質量部の範囲で用いることができる。
【0036】また本発明においては、以上の基本成分の
他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−
p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、N−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等
が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の質
量に対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン
酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加
して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させて
もよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
0.5%〜約10%が好ましい。
【0037】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue 1
5:3.15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全感光層固形分の約0.5%〜約20%が好ま
しい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機
充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加え
てもよい。これらの添加量は全感光層固形分の10%以
下が好ましい。
【0038】上記感光層を後述の支持体上に塗布する際
には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用
に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エ
チレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチ
ルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキ
シプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、1〜50質量%が適
当である。
【0039】前記光重合性感光層用組成物には、塗布面
質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。その被覆量は乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約
10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.
3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜3g/
2である。
【0040】[感光層酸価]なお、本発明でいう感光層
酸価とは、感光性平版印刷版の支持体上に塗設されてい
る感光性組成物(感光層の上に塗設されるオーバーコー
ト層、例えば、酸素遮断層は含まない)の層、1gあた
りに含有されるpKa9以下の酸の等量である。実験的に
は感光層を水酸化ナトリウム水溶液により直接、滴定し
て求めることができるが、感光性組成物中のpKa9以下
の酸基を有する化合物の含有量から計算により求めるこ
ともできる。具体的に感光層酸価を変える方法として
は、感光層成分である架橋剤モノマー/酸基を有するバ
インダーポリマー(線状高分子)の含有比の変更および
酸基の少ない低酸価バインダーポリマーの使用などが考
えられる。低酸価バインダーポリマーとしては、酸価
1.5meq/g以下が好ましい。より好ましくは1.
2meq/g以下である。本発明において感光層の感光
層酸価は1.0meq/gであることが好ましい。酸価
0.20〜0.60meq/gの感光層を有する平版印
刷版に適用する方が効果的である。さらに画像形成性の
点でより好ましくは0.30〜0.50meq/gの感
光層を有するものである。
【0041】[支持体]本発明で用いられる感光性平版印
刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれ
ば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適で
ある。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニ
ウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含
有(例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミ
ニウムとの合金)合金、またはアルミニウムまたはアル
ミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチ
ックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭
48−18327号に記載の様なポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体に
は、適宜後述の基板表面処理が施される。本発明で用い
られる感光性平版印刷版の支持体としては、以下に記載
する粗面化処理及び陽極酸化処理が施されたものが適当
である。
【0042】(砂目立て処理)砂目立て処理方法は、特
開昭56−28893号に開示されているような機械的
砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがあ
る。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目
立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表
面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン
法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でする
ボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂
目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法
を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは
組み合わせて用いることもできる。
【0043】その中でも本発明に有用に使用される表面
粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は
100C/dm2〜400C/dm2の範囲である。さら
に具体的には、0.1〜50%の塩酸または硝酸を含む
電解液中、温度20〜100℃、時間1秒〜30分、電
流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で電解
を行うことが好ましい。このように砂目立て処理したア
ルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的に
エッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合
は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本
発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエ
ッチング剤として用いることにより改善できる。本発明
において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リ
ン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、
20〜100℃であり。Alの溶解量が5〜20g/m
3となるような条件が好ましい。
【0044】エッチングのあと表面に残留する汚れ(ス
マット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられ
る酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフ
ッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理
後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭
53−12739号公報に記載されているような50〜
90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方
法及び特公昭48−28123号公報に記載されている
アルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発
明で有効に用いられるAl支持体の表面粗さは(Ra)
は0.3〜0.7μmである。
【0045】(陽極酸化処理)以上のようにして処理さ
れたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施さ
れる。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている
方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、
クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフ
ォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶
液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を
流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成す
ることができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解
液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、
一般的には電解液の濃度が1〜80%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜
100V、電解時間10〜100秒の範囲が適当であ
る。
【0046】これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国
特許第1,412,768号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
3,511,661号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明にお
いては、陽極酸化皮膜は1〜10g/m2であることが
好ましく、1g/m2以下であると版に傷が入りやす
く、10g/m2以上は製造に多大な電力が必要とな
り、経済的に不利である。好ましくは、1.5〜7g/
2である。更に好ましくは、2〜5g/m2である。更
に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、
アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。
かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む
熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって
行われる。また、このアルミニウム支持体にはアルカリ
金属珪酸塩によるシリケート処理のほか、たとえば弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理などの表面処理がなされてもかまわない。
【0047】また、本発明で用いる感光性平版印刷版の
支持体には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に
安定な以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、
プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板
(例えば、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙またはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。
【0048】また、これらの支持体に対しては、その支
持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表
面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲ
ルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表
面に吸着するような特定の化合物をコーティングするこ
と等が挙げられる。例えば、陽極酸化アルミニウム支持
体の場合には、特に、燐系の酸原子団を有する有機化合
物(燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸など)、又は特開
2001−109139号公報に記載されているアルミ
ニウム基板上に設ける接着層に用いる有機シリコーン化
合物などが好適に使用される。上記の支持体上に、前述
の感光層を形成することで、感光性平版印刷版が製造さ
れるが、感光層を塗設する前に必要に応じて有機または
無機の下塗り層が設けられてもかまわない。
【0049】(酸素遮断性保護層)本発明で用いる感光
性平版印刷版は、その光重合性感光層の上に水溶性ビニ
ル重合体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していて
もよい。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合
体としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エ
ステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに
必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニ
ルアルコール単位を含有するその共重合体が挙げられ
る。ポリビニルアルコールとしては、71〜100%加
水分解され、重合度が300〜2400の範囲のものが
挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製PVA−1
05、PVA−110、PVA−117、PVA−11
7H、PVA−120、PVA−124、PVA−12
4H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、
PVA−203、PVA−204、PVA−205、P
VA−210、PVA−217、PVA−220、PV
A−224、PVA−217EE、PVA−220、P
VA−224、PVA−217EE、PVA−217
E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−4
05、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙
げられる。上記の共重合体としては、88〜100%加
水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートま
たはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリ
ビニルアセタールおよびそれらの共重合体が挙げられ
る。その他有用な重合体としては、ポリビニルピロリド
ン、ゼラチンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これら
は単独または、併用して用いても良い。
【0050】この酸素遮断性保護層を塗布する際用いる
溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布
溶液中の固形分の濃度は1〜20質量%が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるた
めの界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の
可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑
剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサ
ンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。ま
た、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーなどを添加し
ても良い。その被覆量は、乾繰後の質量で約0.1g/
2〜約15g/m2の範囲が適当である。より好ましく
は1.0g/m2〜約5.0g/m2である。
【0051】[製版プロセス]本発明の感光性平版印刷
版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光
中、露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。
このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進
され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利
点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的
として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全
面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は1
50℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が
高すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を
生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。
通常は200〜500℃の範囲である。温度が低いと十
分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体
の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。
【0052】本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、
公知の方法を制限なく用いることができる。光源として
はレーザが好ましく、例えば、350〜450nmの波長
の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用す
ることができる。ガスレーザーとして、Arイオンレー
ザー(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオ
ンレーザー(356nm,351nm,10mW〜1W)、H
e−Cdレーザー(441nm,325nm,1mW〜100
mW)、固体レーザーとして、Nd:YAG(YVO4)
とSHG結晶×2回の組み合わせ(355mm、5mW〜1
W)、Cr:LiSAFとSHG結晶の組み合わせ(4
30nm,10mW)、半導体レーザー系として、KNbO
3、リング共振器(430nm,30mW)、導波型波長変
換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わ
せ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型
波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の
組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、
AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30m
W)、その他、パルスレーザーとしてN2レーザー(33
7nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、
パルス10〜250mJ)
【0053】特にこの中でAlGaInN半導体レーザ
ー(市販InGaN系半導体レーザー400〜410n
m、5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。
【0054】その他、450nm〜700nmの入手可
能な光源としてはAr+レーザ−(488nm)、YAG
−SHGレーザー(532nm)、He−Neレーザー
(633nm)、He−Cdレーザー、赤色半導体レー
ザー(650〜690nm)、及び700nm〜120
0nmの入手可能な光源としては半導体レーザ(800
〜850nm)、Nd−YAGレーザ(1064nm)
が好適に利用できる。
【0055】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ(ArFエ
キシマレーザー、KrFエキシマレーザーなど)、放射
線としては電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の350nm以上のレ
ーザー光源が特に好ましい。
【0056】また、露光機構は内面ドラム方式、外面ド
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明において、感光性平版印刷版の感光層成分は高
い水溶性のものを使用することで、中性の水や弱アルカ
リ水に可溶とすることもできるが、このような構成の感
光性平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像
といった方式を行うこともできる。
【0057】また現像処理された感光性平版印刷版は、
特開昭54−8002号、同55−115045号、同
59−58431号等の各公報に記載されているよう
に、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明において感光性平版印刷版の後処理にはこれ
らの処理を種々組み合わせて用いることができる。この
ような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0058】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 [支持体例] (支持体1:陽極酸化アルミニウム支持体)厚さ0.3
0mmの材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロンブラ
シと800メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、そ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水
酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチング
した後、流水で、水洗後、20%HNO3で中和洗浄、
水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で300クーロ
ン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
その表面粗さを測定したところ0.45μm(Ra表
示)であった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中
に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、
20%H2SO4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配
置して、電流密度5A/dm2において50秒間陽極酸
化したところ、厚さが2.7g/m2であった。これを
支持体1とした。
【0059】(支持体2)支持体1に下記の表面処理用
下塗り液状組成物1をP量が約0.05g/m2となる
ように塗布し、100℃で1分間乾燥させたものを支持
体2とした。
【0060】 <下塗り用液状組成物1> フェニルホスホン酸 2質量部 メタノール 800質量部 水 50質量部
【0061】(支持体3)支持体1に下記の表面処理用
下塗り液状組成物2をSi量が約0.001g/m2
なるように塗布し、100℃で1分間乾燥させたものを
支持体3とした。
【0062】<下塗り用液状組成物2>下記成分を混合
攪拌し、約5分後に発熱が見られ、60分間反応させた
後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに3万
質量部加えたものを液状組成物2とした。
【0063】 ユニケミカル(株)ホスマーPE 20質量部 メタノール 130質量部 水 20質量部 パラトルエンスルホン酸 5質量部 テトラエトキシシラン 50質量部 3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 50質量部
【0064】[感材例]上述の支持体1〜3上に、下記
組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が1.5g/m2
となるように塗布し、100℃で1分間乾燥させ、感光
層を形成した。続いて、この感光層上にポリビニルアル
コール(ケン化度98モル%、重合度500)の3wt%
の水溶液を乾燥塗布重量が2.5g/m2となるように
塗布し、120℃で3分間乾燥させ、感光性平版印刷版
(感材)を得た。
【0065】 (感光層塗布液(光重合性組成物):下記表1に詳細を記載) エチレン性不飽和結合含有化合物(A) a 質量部 線状有機高分子重合体(B) b 質量部 増感剤(C) 0.15質量部 光開始剤(D) 0.30質量部 添加剤(S) 0.50質量部 フッ素系界面活性剤 0.03質量部 (メガファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) 熱重合禁止剤 0.01重量部 (N-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩) ε型の銅フタロシアニン分散物 0.2 質量部 メチルエチルケトン 30.0 質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 30.0 質量部
【0066】なお、感光層塗布液に用いる、エチレン性
不飽和結合含有化合物(A)、線状有機高分子重合体
(B)、増感剤(C)、光開始剤(D)、添加剤(S)
を以下に示す。
【0067】
【化1】
【0068】
【化2】
【0069】
【化3】
【0070】
【表1】 感材の構成 ※感光層酸価は感光層1g当たりに含有される酸量を水
酸化ナトリウム滴定により測定後、算出した実測値であ
る。
【0071】[現像液例]現像液中に用いたシロキサン
化合物は以下のとおりである。
【0072】(現像液1)現像液1は下記組成よりな
り、pHは25℃で12.0、導電率は5mS/cmで
あった。 水酸化カリウム 0.15g 炭酸カリウム 0.1g ポリオキシエチレンフェニルエーテル(n=13) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g シロキサン化合物 1.0g 水 93.65g
【0073】(現像液2)現像液2は下記組成よりな
り、pHは25℃で12.0、導電率は7mS/cmで
あった。 水酸化カリウム 0.15g 1Kケイ酸カリウム 2.4g 炭酸カリウム 0.1g ポリオキシエチレンフェニルエーテル(n=13) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g シロキサン化合物 1.0g 水 91.25g
【0074】(現像液3)現像液3は下記組成よりな
り、pHは25℃で12.0、導電率は7mS/cmで
あった。 水酸化カリウム 0.15g 1Kケイ酸カリウム 2.4g 炭酸カリウム 0.1g ポリオキシエチレンフェニルエーテル(n=13) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g シロキサン化合物 1.0g 水 91.25g
【0075】(現像液4)現像液4は下記組成よりな
り、pHは25℃で12.0、導電率は7mS/cmで
あった。 水酸化カリウム 0.15g 1Kケイ酸カリウム 2.4g 炭酸カリウム 0.1g ポリオキシエチレンフェニルエーテル(n=13) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g シロキサン化合物 1.0g 水 91.25g
【0076】(現像液5)現像液5は下記組成よりな
り、pHは25℃で12.0、導電率は7mS/cmで
あった。 水酸化カリウム 0.15g 1K珪酸カリウム 2.4g 炭酸カリウム 0.1g ペレックスNBL(アルキルナフタレンスルフォン酸 ナトリウム:花王(株)製) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g シロキサン化合物 1.0g 水 91.25g
【0077】(現像液6)現像液6は下記組成よりな
り、pHは25℃で12.8、導電率は30mS/cm
であった。 水酸化カリウム 0.15g 1Kケイ酸カリウム 2.4g リポミンLA(ライオン製、有効成分20%) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g シロキサン化合物 1.0g 水 91.35g
【0078】(比較現像液1)下記組成よりなり、pH
は25℃で12.0、導電率は7mS/cmであった。 水酸化カリウム 0.15g 1K珪酸カリウム 2.4g 炭酸カリウム 0.1g ペレックスNBL(アルキルナフタレンスルフォン酸 ナトリウム:花王(株)製) 5.0g キレスト400(キレート剤) 0.1g 水 92.25g
【0079】(比較現像液2)下記組成よりなり、pH
は25℃で12.8、導電率は30mS/cmであっ
た。 水酸化カリウム 0.5g 1K珪酸カリウム 2.4g リポミンLA(ライオン製、有効成分20%) 5.0g キレスト400(キレート剤、 エチレンジアミンテトラ酢酸・4Na塩) 0.1g 水 92.0g
【0080】評価 (現像カス性の評価)各種の版材400m2を露光しな
いで、現像液を仕込んだ自動現像機(富士写真フイルム
製LP−850P2:現像浴20L)にて標準処理を行
った(露光後のプレヒートは版面到達温度が100℃、
現像液への浸漬時間15秒である)。その後、現像処理
液を1ヶ月間ポリ容器に保管した後、液を抜きポリ容器
底部の沈殿物の有無を観察した。
【0081】(印刷汚れ性及び耐刷性の評価)上述の塗
布感材を532nm、100mWのFD・YAGレーザ
ー(CSI社製プレートジェット4)、或いは、405
nm、30mWのvioletLD(内面ドラム型実験
機)で100μ/cm2の露光(標準露光条件)で40
00dpiにて175線/インチの条件で、ベタ画像と
1〜99%の網点画像(1%刻み)を走査露光した後、
現像液、およびガム液(富士写真フイルム(株)製FP2W
1:1希釈液)を仕込んだ自動現像機(富士写真フイルム
製LP−850P2)標準処理を行い平版印刷版を得た
(露光後のプレヒートは版面到達温度が100℃、現像
液への浸漬時間15秒である)。続いて、得られた平版
印刷版についての印刷汚れ性は、マン・ローランド社製
201型印刷機で、大日本インキ社製GEOS G紅
(S)を使用して印刷し、表2の条件及び方法によりそ
の性能を評価した。また、耐刷性については大日本イン
キ社製GES G墨(N)を使用して印刷し、3%の網
点が版飛びを起こした印刷枚数を評価した。評価の結果
を表3に示す。
【0082】
【表2】
【0083】
【表3】 評価結果
【0084】
【発明の効果】本発明の平版印刷版の製版方法によれ
ば、特定の界面活性剤を含有する現像液を用いること
で、長期のランニングにおいても現像カスの発生がな
く、版面に十分な版面保護性を付与でき、傷つきにくく
汚れにくくかつ着肉性、耐刷性に優れた平版印刷版を作
製することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AA04 AA12 AA13 AB03 AC01 AD01 BC13 BC42 CA39 FA16 2H096 AA06 BA05 EA02 GA11

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ジアルキルシロキサン基を有する界面活
    性剤を含有することを特徴とする光重合型感光性平版印
    刷版用現像液。
  2. 【請求項2】 付加重合可能なエチレン性不飽和結合を
    有する化合物、チタノセン系光重合開始剤及び着色顔料
    を含有する光重合性感光層を支持体上に設けた光重合型
    感光性平版印刷版を、露光後、ジアルキルシロキサン基
    を有する界面活性剤を含有する現像液で現像処理するこ
    とを特徴とする平版印刷版の製版方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2005006083A1 (ja) * 2003-07-14 2005-01-20 Az Electronic Materials (Japan) K.K. 感光性組成物用現像液とそれを用いたパターン化されたレジスト膜の形成方法
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CN106547176A (zh) * 2015-09-21 2017-03-29 乐凯华光印刷科技有限公司 一种适用于低化学处理光敏ctp版材的显影液

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