JP2007072371A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 カラーフィルタ基板11を上面13aに載置するステージ13と、前記ステージ13の上方に配設され、該ステージ13の上面に平行に短冊状のフォトマスク5を保持可能としたマスクステージ6と、前記マスクステージ6に保持された前記フォトマスク5に対して露光光を照射する光源2と、を備え、前記光源2から放射された露光光を前記フォトマスク5を介して前記カラーフィルタ基板11上に照射して所定位置に所定の露光パターンを形成する露光装置であって、前記光源2とマスクステージ6との間の光路上に、前記光源2から放射された露光光の光束の断面形状を前記短冊状のフォトマスク5の形状に合わせて整形するシリンドリカルレンズ14を配設したものである。
【選択図】 図1
Description
先ず、カラーレジストが塗布されたカラーフィルタ基板10をステージ13上に載置した状態で、搬送手段27によってステージ13が一定速度で移動されて上記カラーフィルタ基板10を図1に矢印Aで示す方向に搬送する。
5…フォトマスク
6…マスクステージ
10…カラーフィルタ基板(被露光体)
12…光束
13…ステージ
13a…ステージの上面
14…シリンドリカルレンズ(光束断面形状整形手段)
15…カライドスコープ
16…コンデンサレンズ(集光レンズ)
19…マスクパターン
23…露光パターン
24…フライアイレンズ(光束断面形状整形手段)
L…光線
Claims (7)
- 被露光体を上面に載置するステージと、
前記ステージの上方に配設され、該ステージの上面に平行に短冊状のフォトマスクを保持可能としたマスクステージと、
前記マスクステージに保持されたフォトマスクに対して露光光を放射する光源と、
を備え、前記光源から放射された露光光を前記フォトマスクを介して前記被露光体上に照射して所定位置に所定の露光パターンを形成する露光装置であって、
前記光源とマスクステージとの間の光路上に、前記光源から放射された露光光の光束の断面形状を前記短冊状のフォトマスクの形状に合わせて整形する光束断面形状整形手段を配設したことを特徴とする露光装置。 - 前記光束断面形状整形手段は、入射光に対して1軸方向にのみ屈折作用をして焦点位置で線状のビームを形成するシリンドリカルレンズであることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記光束断面形状整形手段は、入射光に対して1軸方向にのみ屈折作用をして焦点位置で線状の複数のビームを形成するフライアイレンズであることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記光源と光束断面形状整形手段との間の光路上には、前記フォトマスクに対して照射する露光光の輝度分布を均一にするカライドスコープが配設されたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記光束断面形状整形手段とマスクステージとの間の光路上には、入射する露光光を平行光として射出する集光レンズが配設されたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記ステージは、その上面に載置された被露光体に露光光を照射して露光が行なわれているときに、前記被露光体を前記短冊状のフォトマスクの面に平行でその長手方向と直交する方向に搬送するものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記短冊状のフォトマスクは、その長手方向に沿って複数のマスクパターンを一列に並べて配置したものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の露光装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005261981A JP2007072371A (ja) | 2005-09-09 | 2005-09-09 | 露光装置 |
PCT/JP2006/316956 WO2007029561A1 (ja) | 2005-09-09 | 2006-08-29 | 露光装置 |
KR1020087007851A KR20080059558A (ko) | 2005-09-09 | 2006-08-29 | 노광 장치 |
CN2006800329154A CN101258447B (zh) | 2005-09-09 | 2006-08-29 | 曝光装置 |
TW095131920A TW200710603A (en) | 2005-09-09 | 2006-08-30 | Exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005261981A JP2007072371A (ja) | 2005-09-09 | 2005-09-09 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007072371A true JP2007072371A (ja) | 2007-03-22 |
JP2007072371A5 JP2007072371A5 (ja) | 2008-07-31 |
Family
ID=37835682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005261981A Pending JP2007072371A (ja) | 2005-09-09 | 2005-09-09 | 露光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007072371A (ja) |
KR (1) | KR20080059558A (ja) |
CN (1) | CN101258447B (ja) |
TW (1) | TW200710603A (ja) |
WO (1) | WO2007029561A1 (ja) |
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- 2005-09-09 JP JP2005261981A patent/JP2007072371A/ja active Pending
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- 2006-08-29 KR KR1020087007851A patent/KR20080059558A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-08-29 WO PCT/JP2006/316956 patent/WO2007029561A1/ja active Application Filing
- 2006-08-29 CN CN2006800329154A patent/CN101258447B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-30 TW TW095131920A patent/TW200710603A/zh unknown
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KR20080059558A (ko) | 2008-06-30 |
CN101258447A (zh) | 2008-09-03 |
WO2007029561A1 (ja) | 2007-03-15 |
CN101258447B (zh) | 2011-06-22 |
TW200710603A (en) | 2007-03-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080613 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110607 |
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A521 | Written amendment |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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