JPH09274323A - パターン露光方法 - Google Patents
パターン露光方法Info
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- JPH09274323A JPH09274323A JP8269596A JP8269596A JPH09274323A JP H09274323 A JPH09274323 A JP H09274323A JP 8269596 A JP8269596 A JP 8269596A JP 8269596 A JP8269596 A JP 8269596A JP H09274323 A JPH09274323 A JP H09274323A
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- JP
- Japan
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- pattern
- exposure
- base material
- resist film
- mask
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- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】連続したフィルム状基材の上にストライプパタ
ーンを形成する方法において、高スループットのパター
ン形成を実現するための方法を提供する。 【解決手段】連続した基材上に感光性レジスト膜を形成
し、その上から万線状の遮光パターンを有する露光用マ
スクを介して、基材を連続的に送りつつ露光し、所望の
露光照射量を充足してストライプパターンを形成する。
ーンを形成する方法において、高スループットのパター
ン形成を実現するための方法を提供する。 【解決手段】連続した基材上に感光性レジスト膜を形成
し、その上から万線状の遮光パターンを有する露光用マ
スクを介して、基材を連続的に送りつつ露光し、所望の
露光照射量を充足してストライプパターンを形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続したフィルム
状基材の上にパターンを形成する方法にかかわる。さら
に言えば、液晶表示装置用カラーフィルタ等の遮光パタ
ーンやカラーパターンを形成するための露光方法に関す
る。
状基材の上にパターンを形成する方法にかかわる。さら
に言えば、液晶表示装置用カラーフィルタ等の遮光パタ
ーンやカラーパターンを形成するための露光方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来は、感光性レジスト膜を形成した基
板上にパターン形成する際には、間欠的に露光を行って
いた。具体的には例えば、表面に感光性レジストを塗布
した連続したフィルム状基材の上に、所定の遮光パター
ン膜を有する露光用マスクを介して、該基材と露光用マ
スクを位置合わせして停止してから一括露光を行い、引
き続いて基材を移動させて再び位置合わせし、停止をし
てから一括露光を行うという工程を繰り返すことにより
パターン形成していた。しかしながら、この方法では、
例えば基材の搬入、位置合わせの時間、露光操作、基材
の搬出などの各工程に積算的に時間を要する。その結
果、単位時間当たりの処理能力（スループット）が低い
という問題があった。それ故、カラーフィルタのストラ
イプパターンを形成するに当たり、連続したフィルム状
基材に一旦カラーパターンを形成し、そのカラーパター
ンをガラス基材などの最終的な形成場所に転写するとい
う、転写シートを用いたパターン形成法の主たる目的で
ある、高効率なパターン形成が充分に達成されなかっ
た。
板上にパターン形成する際には、間欠的に露光を行って
いた。具体的には例えば、表面に感光性レジストを塗布
した連続したフィルム状基材の上に、所定の遮光パター
ン膜を有する露光用マスクを介して、該基材と露光用マ
スクを位置合わせして停止してから一括露光を行い、引
き続いて基材を移動させて再び位置合わせし、停止をし
てから一括露光を行うという工程を繰り返すことにより
パターン形成していた。しかしながら、この方法では、
例えば基材の搬入、位置合わせの時間、露光操作、基材
の搬出などの各工程に積算的に時間を要する。その結
果、単位時間当たりの処理能力（スループット）が低い
という問題があった。それ故、カラーフィルタのストラ
イプパターンを形成するに当たり、連続したフィルム状
基材に一旦カラーパターンを形成し、そのカラーパター
ンをガラス基材などの最終的な形成場所に転写するとい
う、転写シートを用いたパターン形成法の主たる目的で
ある、高効率なパターン形成が充分に達成されなかっ
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、上記
の問題を解決し、高効率なパターン形成を実現するため
の露光方法を提供することを目的とする。
の問題を解決し、高効率なパターン形成を実現するため
の露光方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、感光性レジス
ト膜を形成したフィルム状基材を連続的に送りつつ、連
続照射状態でパターン露光してパターンを形成すること
を特徴とするパターン露光方法である。また本発明は、
連続した基材上に感光性レジスト膜を形成し、その上か
ら万線状の遮光パターンを有する露光用マスクを介し
て、基材を連続的に送りつつ露光し、所望の露光照射量
を充足してストライプパターンを形成することを特徴と
するパターン露光方法である。
ト膜を形成したフィルム状基材を連続的に送りつつ、連
続照射状態でパターン露光してパターンを形成すること
を特徴とするパターン露光方法である。また本発明は、
連続した基材上に感光性レジスト膜を形成し、その上か
ら万線状の遮光パターンを有する露光用マスクを介し
て、基材を連続的に送りつつ露光し、所望の露光照射量
を充足してストライプパターンを形成することを特徴と
するパターン露光方法である。
【０００５】ここでいう連続照射状態とは、基本的に活
性光光源が一定の長さ（例えば基材の１ロット）あるい
は複数の所定パターンの繰り返しを通じて、連続的に点
灯した状態で露光を行うことであり、この結果フォトリ
ソグラフィーにより連続的にパターンを形成する方法を
意味する。
性光光源が一定の長さ（例えば基材の１ロット）あるい
は複数の所定パターンの繰り返しを通じて、連続的に点
灯した状態で露光を行うことであり、この結果フォトリ
ソグラフィーにより連続的にパターンを形成する方法を
意味する。
【０００６】また、ここで連続した基材とは、帯状、フ
ィルム状の長尺物であり、材質としては、４２合金（ニ
ッケル４２重量％、残部鉄）、アンバー材（ニッケル３
６重量％、マンガン０．３６重量％、残部鉄）、１８−
８ステンレス鋼のような、空気中で難錆性の金属、耐熱
性ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム等の剛性と耐熱性を兼備した合成樹
脂フィルムが使用できる。合成樹脂の場合、剛性は、基
材を搬送する際の伸縮が本発明では好ましくないことか
ら導き出される必須の性質である。
ィルム状の長尺物であり、材質としては、４２合金（ニ
ッケル４２重量％、残部鉄）、アンバー材（ニッケル３
６重量％、マンガン０．３６重量％、残部鉄）、１８−
８ステンレス鋼のような、空気中で難錆性の金属、耐熱
性ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム等の剛性と耐熱性を兼備した合成樹
脂フィルムが使用できる。合成樹脂の場合、剛性は、基
材を搬送する際の伸縮が本発明では好ましくないことか
ら導き出される必須の性質である。
【０００７】感光性レジスト膜は、感光性樹脂を基材の
上面に均一な厚さで塗布乾燥したものであって、塗布法
としては、ロールコート法、バーコート法、スリットコ
ート法など公知の手段が使用できる。また、塗布区域
は、全面コートである必要はなく、カラーフィルタ等の
所望パターンの必要面積に対応して間欠的、部分的に一
定区域を塗布しても良い。感光性レジスト膜は、染料、
顔料などの着色剤を分散混合してあるものであっても良
い。この場合、露光後現像するだけで着色パターンが得
られる。
上面に均一な厚さで塗布乾燥したものであって、塗布法
としては、ロールコート法、バーコート法、スリットコ
ート法など公知の手段が使用できる。また、塗布区域
は、全面コートである必要はなく、カラーフィルタ等の
所望パターンの必要面積に対応して間欠的、部分的に一
定区域を塗布しても良い。感光性レジスト膜は、染料、
顔料などの着色剤を分散混合してあるものであっても良
い。この場合、露光後現像するだけで着色パターンが得
られる。
【０００８】露光用マスクは、透明ガラスの下面に万線
パターンの遮光膜を有するもので、言うまでもなく万線
パターンの方向は、連続した基材の搬送方向と平行にな
るように、露光マスクは設置される。搬送中の基材に対
して、光源からの照射光が、露光用マスクの万線パター
ンの間隙から照射される。必要とされる露光照射量は、
１００〜２００ｍＪ／ｃｍ2である。この範囲が、現在
ある感光性レジストの標準的な感度である。ここで、光
源から照射される照度が基材面において１００ｍＷ／ｃ
ｍ2であるとすると、基材に対して１００〜２００ｍＪ
／ｃｍ2の露光量が必要であるから、基材は１〜２秒間
の照射時間を必要とする。露光用マスクの万線の長さを
６０ｍｍとしたとき、その長さを１〜２秒間で通過する
ためには、搬送速度を３０〜６０ｍｍ／ｓｅｃとすれば
よいことがわかる。すなわち、分速は１．８〜３．６ｍ
／ｍｉｎである。実際には、光源からの照度は２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2程度まで倍増することができるから、搬送速
度は３．６〜７．２ｍ／ｍｉｎとすることができる。こ
れは従来の一括露光方式に比べて５倍以上の高スループ
ットとなる。
パターンの遮光膜を有するもので、言うまでもなく万線
パターンの方向は、連続した基材の搬送方向と平行にな
るように、露光マスクは設置される。搬送中の基材に対
して、光源からの照射光が、露光用マスクの万線パター
ンの間隙から照射される。必要とされる露光照射量は、
１００〜２００ｍＪ／ｃｍ2である。この範囲が、現在
ある感光性レジストの標準的な感度である。ここで、光
源から照射される照度が基材面において１００ｍＷ／ｃ
ｍ2であるとすると、基材に対して１００〜２００ｍＪ
／ｃｍ2の露光量が必要であるから、基材は１〜２秒間
の照射時間を必要とする。露光用マスクの万線の長さを
６０ｍｍとしたとき、その長さを１〜２秒間で通過する
ためには、搬送速度を３０〜６０ｍｍ／ｓｅｃとすれば
よいことがわかる。すなわち、分速は１．８〜３．６ｍ
／ｍｉｎである。実際には、光源からの照度は２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2程度まで倍増することができるから、搬送速
度は３．６〜７．２ｍ／ｍｉｎとすることができる。こ
れは従来の一括露光方式に比べて５倍以上の高スループ
ットとなる。
【０００９】露光後は、パターン化のため、現像処理が
行われる。感光性レジストがネガ型の場合、光が照射さ
れなかった部分が現像液により溶解除去され、照射領域
が残存してストライプパターンとなる。
行われる。感光性レジストがネガ型の場合、光が照射さ
れなかった部分が現像液により溶解除去され、照射領域
が残存してストライプパターンとなる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１及び図
２に示す図面を用いて説明する。図２に示すように、例
えば４２合金の金属フィルムよりなる基材１がコイル状
に巻かれた送り出しリール２より基材１が、後述の露光
工程で処理可能な最大の一定の速度で送り出され、まず
コーター３ａにより剥離層４が基材１表面の全面に均一
な厚さで塗布され、オーブン６ａにより剥離層４が乾燥
される。次いでコーター３ｂにより着色剤として顔料を
分散混合したネガ型感光性レジスト膜５が基材１表面の
全面に均一な厚さで塗布され、オーブン６ｂによりレジ
スト膜５が乾燥される。こののちノンタッチローラー
７′や通常のローラー７により基材１がガイドされ、基
材１の送り長さ２４０ｍｍ当たり±３μｍの機械的精度
で基材１の進行方向に対して横方向の揺動が抑えられ、
直線性が確保されつつ、図１に示す露光部Ｘへと進む。
２に示す図面を用いて説明する。図２に示すように、例
えば４２合金の金属フィルムよりなる基材１がコイル状
に巻かれた送り出しリール２より基材１が、後述の露光
工程で処理可能な最大の一定の速度で送り出され、まず
コーター３ａにより剥離層４が基材１表面の全面に均一
な厚さで塗布され、オーブン６ａにより剥離層４が乾燥
される。次いでコーター３ｂにより着色剤として顔料を
分散混合したネガ型感光性レジスト膜５が基材１表面の
全面に均一な厚さで塗布され、オーブン６ｂによりレジ
スト膜５が乾燥される。こののちノンタッチローラー
７′や通常のローラー７により基材１がガイドされ、基
材１の送り長さ２４０ｍｍ当たり±３μｍの機械的精度
で基材１の進行方向に対して横方向の揺動が抑えられ、
直線性が確保されつつ、図１に示す露光部Ｘへと進む。
【００１１】露光部Ｘで基材１は、線幅３００μｍ、ピ
ッチ４００μｍの万線パターンが、幅３２０ｍｍ、長さ
６４ｍｍの範囲で形成された露光用マスク８と対向し、
その間のギャップが、例えば約１００μｍの近接露光と
なるよう制御される。
ッチ４００μｍの万線パターンが、幅３２０ｍｍ、長さ
６４ｍｍの範囲で形成された露光用マスク８と対向し、
その間のギャップが、例えば約１００μｍの近接露光と
なるよう制御される。
【００１２】露光用マスク８の直上には、マスクパター
ンの繰り返し周期と同じもしくは整数倍の周囲長の金属
薄板よりなり、形成すべきストライプパターンの外形部
のみを残しパターン部は開口部となっている無窮ベルト
９が設置されており、これは基材１の搬送速度、方向お
よび平行度と厳密に同期して移動する。因みに無窮ベル
ト９には、ストライプパターン部以外にも、アライメン
ト用マークＡ、品名などの任意のパターンを開口部とし
て形成しておくことができる。この場合、露光用マスク
８上の前記任意のパターンが通過する帯状区域は全て開
口部としておく。そして光源１０およびその光を効率よ
く利用するための反射鏡１５が前記無窮ベルト９内部の
空間に位置し、紫外光を連続的に発生する。
ンの繰り返し周期と同じもしくは整数倍の周囲長の金属
薄板よりなり、形成すべきストライプパターンの外形部
のみを残しパターン部は開口部となっている無窮ベルト
９が設置されており、これは基材１の搬送速度、方向お
よび平行度と厳密に同期して移動する。因みに無窮ベル
ト９には、ストライプパターン部以外にも、アライメン
ト用マークＡ、品名などの任意のパターンを開口部とし
て形成しておくことができる。この場合、露光用マスク
８上の前記任意のパターンが通過する帯状区域は全て開
口部としておく。そして光源１０およびその光を効率よ
く利用するための反射鏡１５が前記無窮ベルト９内部の
空間に位置し、紫外光を連続的に発生する。
【００１３】なお、本実施例では、光源から照射される
照度は、基材面において１２０ｍＷ／ｃｍ2であり、基
材を約３．１ｍ／ｍｉｎの分速で搬送することにより、
露光照射量は１５０ｍＪ／ｃｍ2という適正値が得られ
る。この場合、カラーフィルタ画面の縦幅（基材の長手
方向幅）は約２０ｃｍであるから、１時間当たり約９０
０シートの露光処理ができる。以上のごとき機構によ
り、露光部Ｘにおいて基材１上のレジスト膜５に線幅１
００μｍ、ピッチ４００μｍの着色ストライプパターン
が露光される。
照度は、基材面において１２０ｍＷ／ｃｍ2であり、基
材を約３．１ｍ／ｍｉｎの分速で搬送することにより、
露光照射量は１５０ｍＪ／ｃｍ2という適正値が得られ
る。この場合、カラーフィルタ画面の縦幅（基材の長手
方向幅）は約２０ｃｍであるから、１時間当たり約９０
０シートの露光処理ができる。以上のごとき機構によ
り、露光部Ｘにおいて基材１上のレジスト膜５に線幅１
００μｍ、ピッチ４００μｍの着色ストライプパターン
が露光される。
【００１４】こののち、パターン露光されたレジスト膜
５をもつ基材１は、続いてそのまま現像工程へと進めら
れる。すなわち、ノズル１１より現像液を基材１表面よ
り噴霧することによりスプレー現像を行い、続いて純水
スプレー１２による水洗工程、エアーナイフ１３による
乾燥工程、及びホットプレート１４内の移動によるポス
トベーク工程を経る。最後に、着色ストライプパターン
が形成された基材１を巻取りリール１５に２ｋｇ／ｍｍ
2の張力で巻き付ける。
５をもつ基材１は、続いてそのまま現像工程へと進めら
れる。すなわち、ノズル１１より現像液を基材１表面よ
り噴霧することによりスプレー現像を行い、続いて純水
スプレー１２による水洗工程、エアーナイフ１３による
乾燥工程、及びホットプレート１４内の移動によるポス
トベーク工程を経る。最後に、着色ストライプパターン
が形成された基材１を巻取りリール１５に２ｋｇ／ｍｍ
2の張力で巻き付ける。
【００１５】以上の工程を、既に形成された色のストラ
イプパターンと共に形成した前記のアライメント用マー
クＡを利用するなどして位置合わせを行いつつ、必要な
ストライプパターンの色数分だけ繰り返す。
イプパターンと共に形成した前記のアライメント用マー
クＡを利用するなどして位置合わせを行いつつ、必要な
ストライプパターンの色数分だけ繰り返す。
【００１６】
【発明の効果】基材を停止させることなく連続して露光
ができるので、カラーフィルタ等のフォトファブリケー
ションにより製造される対象物のスループットが従来方
法の５〜１０倍の９００〜１２００シート／時と、大幅
に向上する。
ができるので、カラーフィルタ等のフォトファブリケー
ションにより製造される対象物のスループットが従来方
法の５〜１０倍の９００〜１２００シート／時と、大幅
に向上する。
【００１７】
【図１】本発明の要部を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態を示す説明図である。
１ 基材 ２ 送り出しリール ３ コーター ４ 剥離層 ５ レジスト膜 ６ オーブン ７ ローラー ８ 露光用マスク ９ 無窮ベルト １０ 光源 １１ ノズル １２ 純水スプレー １３ エアーナイフ １４ ホットプレート １５ 巻取りリール １６ 反射鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 陽一郎 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】感光性レジスト膜を形成したフィルム状基
材を連続的に送りつつ、連続照射状態でパターン露光し
てパターンを形成することを特徴とするパターン露光方
法。 - 【請求項２】連続した基材上に感光性レジスト膜を形成
し、その上から万線状の遮光パターンを有する露光用マ
スクを介して、基材を連続的に送りつつ露光し、所望の
露光照射量を充足してストライプパターンを形成するこ
とを特徴とするパターン露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8269596A JPH09274323A (ja) | 1996-04-04 | 1996-04-04 | パターン露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8269596A JPH09274323A (ja) | 1996-04-04 | 1996-04-04 | パターン露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09274323A true JPH09274323A (ja) | 1997-10-21 |
Family
ID=13781556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8269596A Pending JPH09274323A (ja) | 1996-04-04 | 1996-04-04 | パターン露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09274323A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003255552A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-09-10 | Nec Corp | レーザ照射装置並びに走査レーザ光を用いた露光方法及び走査レーザ光を用いたカラーフィルタの製造方法 |
| JP2005182007A (ja) * | 2003-12-16 | 2005-07-07 | Lg Electron Inc | パターニング装置及びこれを用いた連続パターニング方法 |
| WO2007029561A1 (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-15 | V Technology Co., Ltd. | 露光装置 |
| WO2007029852A1 (en) * | 2005-09-07 | 2007-03-15 | Fujifilm Corporation | Pattern exposure method and pattern exposure apparatus |
| WO2007043323A1 (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | V Technology Co., Ltd. | フォトマスク及びそれを用いた露光方法 |
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| WO2007049436A1 (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-03 | V Technology Co., Ltd. | 露光装置 |
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| JP2013229476A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Osaka Univ | 光照射装置及び光照射方法 |
| JP2018189986A (ja) * | 2012-05-01 | 2018-11-29 | 株式会社ニコン | パターン露光方法、及びパターン形成方法 |
-
1996
- 1996-04-04 JP JP8269596A patent/JPH09274323A/ja active Pending
Cited By (15)
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