JP2007102200A - パターン露光方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。
【解決手段】感光層が設けられた帯状ワーク１１は、ワーク搬送速度Ｖでワーク搬送方向Ｆに搬送される。第１照明部３０は、ワーク搬送速度Ｖに同期され、かつ露光するパターンに合せて決められた露光周期Ｔ１で、第１フォトマスク２９に光を照射する。第２照明部６６は、ワーク搬送速度Ｖに同期され、かつ露光するパターンに合せて決められた露光周期Ｔ２で、第２フォトマスク６５に光を照射する。第１フォトマスク２９及び第２フォトマスク６５は、帯状ワーク１１に対してプロキシミティギャップを隔てて配置されており、それぞれのマスクパターンが周期的なパターンとして帯状ワーク１１に露光される。
【選択図】図３

Description

本発明は、パターン露光方法及び装置に関し、更に詳しくは、搬送中の帯状ワークに周期パターンを露光するパターン露光方法及び装置に関する。

薄型で大画面の画像表示装置として、前側ガラス板と後側ガラス板との間での放電によって発光するプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略称する）が普及している。このＰＤＰには、放電によって発生する電磁波を遮蔽するために、電磁波シールドが設けられている。電磁波シールドには、前側ガラス板上に形成される金属薄膜や、前側ガラス板の前に配置される電磁波シールドフイルム等がある。現在は、高い電磁波シールド特性と、光透過率とを備える電磁波シールドフイルムが主流として利用されている。電磁波シールドフイルムは、透明フイルム上に金属メッシュ（メッシュ状に配置された金属細線）を形成したものである。

従来の電磁波シールドフイルムは、透明フイルムと金属箔とを貼り合せ、この金属箔をフォトエッチング加工して金属メッシュを形成している。これに対し、本出願人は、銀塩写真技術を利用して、透明フイルムの上に銀で微細なメッシュを形成し、その上に銅メッキを施した電磁波シールドフイルムを開発している。この電磁波シールドフイルムは、自由なメッシュパターンを描くことができ、大きさや精細度などパネルの仕様に応じて柔軟に対応することが可能である。また、透明フイルムと金属箔との貼り合せという複雑で歩留りの悪い工程が不用であるため、コストダウンと安定供給とが可能である。

上記電磁波シールドフイルムは、透明フイルム上に塗布された銀塩感材にフォトマスクを介して光を照射してメッシュ状のパターンを露光し、これを現像処理することにより、透明フイルム上に銀でメッシュを形成している。このメッシュのピッチや線の太さは、ＰＤＰの画質に大きく影響するため、精密に露光することが望まれている。

従来、各種ディスプレイ装置用カラーフィルタ等の遮光パターンや、カラーパターンを形成するために、感光性層を有するワークの上にマスクを介して光を照射して、ワーク上にパターンを露光するパターン露光方法及び装置が用いられており、これを電磁波シールドフイルムの露光工程に応用できないか検討された。例えば、特許文献１記載のパターン露光方法では、帯状ワークを連続して搬送し、この搬送中に帯状ワークの上にマスクを介して光を照射してパターンを露光している。また、特許文献２記載のプロキシミティ露光装置では、帯状ワークを間欠に搬送しながら、位置決め、ギャップ設定、プロキシミティ露光を繰り返し、帯状ワークにパターンを露光している。
特開平０９−２７４３２３号公報 特開平１０−１７１１２５号公報

しかし、特許文献１記載のパターン露光方法は、帯状ワークの搬送方向と平行なストライプ状のパターンしか露光することができず、フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターン、例えば、電磁波シールドフイルムのメッシュパターンは露光することはできない。

また、特許文献２記載のプロキシミティ露光装置は、周期パターンに限らずあらゆるパターンに対応可能であるが、間欠搬送中に位置決め、ギャップ設定、一定時間露光という各工程にかかる積算時間が多く、単位時間あたりの処理能力（スループット）が低いという問題がある。

本発明は、上記課題を解決するために、フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明のパターン露光方法は、搬送方向に沿って配置された複数のフォトマスクに、感光層を有する帯状もしくはシート状のワークを近接させて連続搬送するステップと、各フォトマスクをそれぞれ含む複数の露光部により、ワーク搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で、各フォトマスクを介してプロキシミティ露光を行うステップとを含み、各フォトマスクに設けられたマスクパターンが搬送方向に周期的なパターンとしてワークに露光されるようにしたものである。

また、複数の露光部により、それぞれ異なる周期的なパターンを連続して露光するようにしたものである。異なる周期的なパターンとしては、所定の角度を有する第１の細線と、この第１の細線と交差する角度を有する第２の細線であり、この第１の細線と第２の細線とを重ね合わせてメッシュ状のパターンを構成するようにしたものである。また、メッシュ状のパターンとして、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンを露光するようにしたものである。

さらに、複数の露光部は、第１の露光周期を用いて搬送方向に周期的かつ連続的な第１のパターンを露光し、第２の露光周期を用いて搬送方向に周期的かつ間欠的な第２のパターンを露光することもできる。このときの第１のパターンとしては、例えば、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターン、または搬送方向の両側縁に縁部を有するメッシュパターンを露光し、第２のパターンとしては、メッシュパターンを間欠的に横切るパターンを露光することができる。

本発明に用いられるワークの感光層としては、銀塩感材もしくはフォトレジストが好ましい。

また、複数の露光部のうち、少なくとも一つの露光部で使用される露光周期が、他の露光部の露光周期と異なるようにしてもよい。

さらに、ワーク搬送速度と、露光周期及び露光時間は、共通の基準クロックに基づいて同期するのが好ましい。

また、露光タイミングを決める方法としては、複数の露光部よりもワーク搬送方向の上流側で、ワークに所定間隔で基準マークを付与し、各露光部で基準マークを検出し、検出した基準マークをもとに露光タイミングを決めるようにしたものである。この基準マークとして、レーザマーカによって記録されるレーザマーク、またはノッチ加工によって形成されるノッチ、穴あけ加工によって形成される穴、ワーク側縁に施された磁気記録層を利用した磁気信号等を用いることができる。

また、本発明のパターン露光装置は、感光層を有する帯状もしくはシート状のワークを連続搬送する搬送手段と、このワークに対しプロキシミティギャップを隔てて配置されるフォトマスクと、このフォトマスクを介して、ワーク搬送速度に同期された露光周期及び露光時間でワークに光を照射してプロキシミティ露光を行う露光光源とを有する複数の露光部と、ワーク搬送速度と、露光周期及び露光時間を同期させる制御手段とから構成し、各フォトマスクに設けられたマスクパターンが搬送方向に周期的なパターンとしてワークに露光されるようにしたものである。

また、複数の露光部が少なくとも第１の露光部と第２の露光部とを有する場合に、第２の露光部の第２のフォトマスクに設けられている第２のマスクパターンと、第１の露光部の第１のフォトマスクの第１のマスクパターンとが異なるパターンを用いるようにしたものである。

また、第１のフォトマスクに対し、ワーク搬送方向とのなす角度がθ１（−９０°＝＜θ１＝＜９０°）、線幅Ｄ１とされた細線が、ピッチＰ１で連続して配置される第１のマスクパターンを設け、第２のフォトマスクに対し、ワーク搬送方向とのなす角度がθ２（−９０°＝＜θ２＝＜９０°、θ１≠θ２）、線幅Ｄ２とされた細線が、ピッチＰ２で連続して配置される第２のマスクパターンを設け、第１のマスクパターンと第２のマスクパターンとを重ね合わせてワークに露光することにより、ワーク搬送方向に周期的なメッシュパターンを形成してもよい。

さらに、ワークのワーク搬送方向に直交するワーク幅方向の寸法がＷ０、第１のマスクパターンのワーク搬送方向に周期的な長さがＬ１（Ｌ１＝Ｐ１／ｓｉｎθ１）、第２のマスクパターンのワーク搬送方向に周期的な長さがＬ２（Ｌ２＝Ｐ２／ｓｉｎθ２）であるとき、第１のマスクパターンは、ワーク搬送方向に周期長さＬ１以上、ワーク幅方向にＷ０以上のパターンエリアを有し、第２のマスクパターンは、ワーク搬送方向に周期長さＬ２以上、ワーク幅方向にＷ０以上のパターンエリアを有するようにしたものである。

さらに、第１の露光部の露光周期は、ワークがＬ１またはその整数倍のｎ・Ｌ１だけ搬送されるごとに１回の露光を行う第１の露光周期であり、第２の露光部の露光周期は、ワークがＬ２またはその整数倍のｎ・Ｌ２だけ搬送されるごとに１回の露光を行う第２の露光周期としたものである。以上のように複数の露光部で露光されるパターンとしては、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンを露光するようにしたものである。

また、第１の露光部と第２の露光部とのいずれか一方の露光周期は、搬送方向に周期的かつ連続的なパターンを露光する露光周期とし、他方は、搬送方向に周期的かつ間欠的なパターンを露光する露光周期としてもよい。

より具体的には、第１の露光部と第２の露光部とのいずれか一方の露光部は、少なくともメッシュ状のパターンを含むマスクパターンとして設けられているフォトマスクを有し、このパターンを搬送方向に周期的かつ連続的に露光する露光周期を用い、他方の露光部は、ワーク搬送方向に直交する帯状のパターンがマスクパターンとして設けられているフォトマスクを有し、このパターンを搬送方向に周期的かつ間欠的に露光する露光周期を用いるようにしたものである。また、メッシュ状のパターンとして、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンを露光し、帯状のパターンとして、メッシュパターンを間欠的に横切るパターンを露光するようにしたものである。

本発明に用いられるワークの感光層としては、銀塩感材もしくはフォトレジストであることが好ましい。

また、ワーク搬送速度と、露光周期及び露光時間とを同期させる際の基準となる基準クロックを発生する基準クロック手段を設けたものである。

また、露光タイミングを決める別の手法としては、複数の露光部よりもワーク搬送方向の上流側に、ワークに所定間隔で基準マークを付与するマーク付与手段と、基準マークを検出するマーク検出手段とを設け、複数の露光部は、マーク検出手段による基準マークの検出に基づいて露光タイミングを決めるようにしてもよい。基準マークとしては、レーザマーカによって記録されるレーザマーク、またはノッチ加工によって形成されるノッチ、穴あけ加工によって形成される穴、ワーク側縁に施された磁気記録層を利用した磁気信号等を用いることができる。

また、ワークに予め基準マークを設けておき、各露光部に基準マークを検出するマーク検出手段を配置し、このマーク検出手段による基準マークの検出に基づいて露光タイミングを決めてもよい。

本発明によれば、複雑なパターンであっても、周期的なパターンの組み合わせによって実現できるパターンならば、複数のマスクに分割することによって安価な装置構成で露光が可能となる。また、マスクを小さく作れること、１つのマスクで複数回使い回しが可能でマスクのコストパフォーマンスがよいという効果も有している。また、波長の異なる光源と感材の組み合わせによってより付加価値の高いパターン形成が可能である。

さらに、連続的に動かしながら生産できるので生産性が高い。また、従来の間欠送りによる露光に比べ、連続送りにより生産性が向上する。さらに、簡易な設備で設備投資が抑えられる。また、多重露光および走査露光によって光源輝度分布を平均化でき、均一な線幅が実現可能である。また、多重露光によって光源強度が小さくても露光が可能であるため、コストダウンが可能である。

また、フォトマスクを使ったプロキシミティ露光のため、高精細なパターンが描ける。しかも面積が小さく持ちがよく、位置ずらしによる複数回の使い回しが可能で、ランニングコストが小さいのでコストパフォーマンスがよい。また、シームレスパターンを書くには、連続送りで多重露光することでパターン同士つなぎ目の合わせが容易にできる。さらに、露光のために設けた基準マークは、後工程での基準としても利用することができる。

図１及び図２は、本発明のパターン露光方法及び装置によって形成される電磁波シールドフイルムの平面図及び断面図である。電磁波シールドフイルム２は、透明フイルム３と、この透明フイルム３の上に銀によって形成されるメッシュ状の電磁波シールドパターン４とからなる。電磁波シールドパターン４は、透明フイルム３の上に銀によって形成される周期パターン５と、この周期パターン５の表面に施されて電磁波シールド機能を付与する銅メッキ６とからなる。図１（Ｂ）に部分的に拡大して示すように、周期パターン５は、例えば、線幅Ｄ１＝１０〜２０μm、線間ピッチＰ１＝３００μm、配置角度θ１＝３０°とされた複数の細線５ａと、線幅Ｄ２及び線間ピッチＰ２が細線５ａと共通で、配置角度θ２が６０°とされた細線５ｂによって構成されている。

図３は、上記電磁波シールドフイルム２の周期パターン５を形成する際に使用されるパターン露光装置の構成を示す概略図である。このパターン露光装置１０は、前記透明フイルム３の基材となる帯状ワーク１１を供給するワーク供給部１２と、帯状ワーク１１に設けられた銀塩感材に細線５ａをプロキシミティ露光する第１露光部１３と、細線５ａに重ねるように細線５ｂをプロキシミティ露光して周期パターン５を形成する第２露光部１４と、露光済みの帯状ワーク１１を巻き取るワーク巻取り部１５と、複数本の帯状ワーク１１を連続して処理する際に、先に処理を終えた帯状ワーク１１の後端と、後続の帯状ワーク１１の先端とが接合されるワーク接合部１６と、これらを統括的に制御する制御部１７を備えている。

周期パターン５の形状が露光された帯状ワーク１１は、次の工程で現像処理されて一方の面に銀の周期パターン５が形成される。その後、周期パターン５上に銅メッキが施され、所定長さごとに切断されることにより、電磁波シールドフイルム２となる。

帯状ワーク１１の平面図、及び断面図である図４（Ａ），（Ｂ）に示すように、帯状ワーク１１は、前述の透明フイルム３の基材である長尺フイルム２０と、この長尺フイルム２０上に塗布される銀塩感材２１とからなる。長尺フイルム２０は、例えば、厚さｔ１＝１００μｍ、ワーク幅Ｗ０＝６５０〜７５０ｍｍの透明なＰＥＴフイルムであり、１００〜１０００ｍの長さのものがロール状に巻かれてワーク供給部１２にセットされる。

ワーク供給部１２にセットされた帯状ワーク１１は、先端が引き出されて複数のローラに掛けられ、ワーク巻取り部１５の巻取り用リール２４に係止される。そして、搬送手段である巻取り用リール２４及び露光ローラ２８、及び図示しない複数の駆動ローラが、モータ郡２５によって巻取り方向に回転されることにより、帯状ワーク１１は、ワーク供給部１２からワーク巻取り部１５に向かうワーク搬送方向Ｆに搬送される。この帯状ワーク１１のワーク搬送速度Ｖは、例えば、４ｍ／分であるが、このワーク搬送速度Ｖは感材感度や露光光源のパワーに応じて最適値が設計される。

上記銀塩感材２１は、例えば、４０５ｎｍの波長域に中心感度を持った感材設計がなされている。感材分光感度特性については上記の設計に限ったものでなく、中心波長はどのような設計であってもよいが、光源波長との関係で両者を合わせる必要がある。また銀塩感材の露光量／濃度特性としてγの大きな感材を使用している。露光量に応じて濃度変化が緩やかに変化するのではなく、ある露光量以上になると一気に濃度が変化する、いわゆる硬調な感材である。

以下に、本発明に用いられる帯状ワーク１１の銀塩感材２１である導電性金属膜形成用感光材料と、この感光材料を用いて形成される電磁波シールドフイルム２である透光性電磁波シールド膜について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味として使用される。

１．導電性金属膜形成用感光材料
［乳剤層］
本発明に係る感光材料は、支持体上に、光センサーとして銀塩乳剤を含む乳剤層（銀塩含有層）を有する。乳剤層の膨潤率が１５０％であることを特徴とする。本発明において、膨潤率は以下のように定義する。
膨潤率（％）＝１００×（（ｂ）−（ａ））／（ａ）
上記式において、（ａ）は乾燥時の乳剤層膜厚、（ｂ）は２５℃の蒸留水に１分間浸漬した後の乳剤層膜厚を示している。
乳剤層膜厚（ａ）の測定は、例えば試料の断面を走査型電子顕微鏡で観察することによって測定できる。膨潤後の乳剤層膜厚（ｂ）は、膨潤した試料を液体窒素により凍結乾燥した後の試料断面を走査型電子顕微鏡で観察することにより測定可能である。

本発明において、感光材料の乳剤層の膨潤率は１５０％以上であることを必要とするが、好ましい範囲の膨潤率は乳剤層のＡｇ／バインダー比に依存する。すなわち膜中のバインダー部は膨潤可能であるがハロゲン化銀粒子は膨潤しないため、バインダー部の膨潤率が同じであってもＡｇ／バインダー比率が高いほど乳剤層全体の膨潤率は低下するからである。本発明において、好ましい乳剤層の膨潤率は、乳剤層のＡｇ／バインダー比が４．５以下の場合は２５０％以上であり、乳剤層のＡｇ／バインダー比が４．５以上６未満の場合は２００％以上であり、乳剤層のＡｇ／バインダー比が６以上の場合は１５０％以上である。本発明の最も好ましいＡｇ／バインダー比の範囲である６以上１０以下のＡｇ／バインダー比の場合、乳剤層の膨潤率は１５０％以上が好ましく、１８０％以上がより好ましい。
本発明において膨潤率に上限は無いが、膨潤率が高すぎると処理中の膜強度が低下し、膜が傷つきやすくなる等の問題を生じる為、膨潤率は３５０％以下であることが好ましい。なお、乳剤層の膨潤率は、硬膜剤の添加量、塗布後の乳剤層のｐＨや含水率によって制御可能である。

乳剤層には、銀塩乳剤のほか、必要に応じて、染料、バインダー、溶媒等を含有することができる。以下、乳剤層に含まれる各成分について説明する。

＜銀塩乳剤＞
本発明で用いられる銀塩乳剤としては、ハロゲン化銀などの無機銀塩や酢酸銀などの有機銀塩が挙げられる。銀塩乳剤は、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。ハロゲン化銀に関する銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本発明においても用いることができる。

上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらにＡｇＢｒやＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。

尚、ここで、「ＡｇＢｒ（臭化銀）を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。このＡｇＢｒを主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。

なお、ハロゲン化銀乳剤における沃化銀含有率は、ハロゲン化銀乳剤１モルあたり１．５ｍｏｌ％であることが好ましい。沃化銀含有率を１．５ｍｏｌ％とすることにより、カブリを防止し、圧力性を改善することができる。より好ましい沃化銀含有率は、ハロゲン化銀乳剤１モルあたり１ｍｏｌ％以下である。

ハロゲン化銀は固体粒子状であり、露光、現像処理後に形成されるパターン状金属銀層の画像品質の観点からは、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ（１μｍ）であることが好ましく、０．１〜１００ｎｍであることがより好ましく、１〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。
尚、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。

ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができ、立方体、１４面体が好ましい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相からなっていても異なっていてもよい。また粒子内部或いは表面にハロゲン組成の異なる局在層を有していてもよい。

ハロゲン化銀乳剤は、P. Glafkides 著 Chimie etPhysique Photographique (Paul Montel 社刊、１９６７年)、G. F. Dufin 著Photographic Emulsion Chemistry (The Forcal Press刊、1966年)、V. L.Zelikman et al著 Making and Coating Photographic Emulsion (The Forcal Press 刊、１９６４年)などに記載された方法を用いて調製することができる。

すなわち、ハロゲン化銀乳剤の調製方法としては、酸性法、中性法等のいずれでもよく、又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩とを反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいずれを用いてもよい。
また、銀粒子の形成方法としては、粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方法（いわゆる逆混合法）を用いることもできる。さらに、同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のｐＡｇを一定に保つ方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いることもできる。
またアンモニア、チオエーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成させることも好ましい。係る方法としてより好ましくは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭５３−８２４０８号、同５５−７７７３７号各公報に記載されている。好ましいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジンチオンが挙げられる。ハロゲン化銀溶剤の添加量は用いる化合物の種類および目的とする粒子サイズ、ハロゲン組成により異なるが、ハロゲン化銀１モルあたり１０^-5〜１０^-2モルが好ましい。
上記コントロールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本発明に好ましく用いることができる。

また、粒子サイズを均一にするためには、英国特許第１，５３５，０１６号明細書、特公昭４８−３６８９０号広報、同５２−１６３６４号公報に記載されているように、硝酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国特許第４，２４２，４４５号明細書、特開昭５５−１５８１２４号公報に記載されているように水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和度を越えない範囲において早く銀を成長させることが好ましい。
ハロゲン化銀乳剤は単分散乳剤が好ましく、｛（粒子サイズの標準偏差）／（平均粒子サイズ）｝×１００で表される変動係数が２０％以下、より好ましくは１５％以下、最も好ましくは１０％以下であることが好ましい。
また、ハロゲン化銀乳剤は、粒子サイズの異なる複数種類のハロゲン化銀乳剤を混合してもよい。

ハロゲン化銀乳剤は、VIII族、VIIB族に属する金属を含有してもよい。特に、高コントラストおよび低カブリを達成するために、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物、鉄化合物、オスミウム化合物などを含有することが好ましい。これら化合物は、各種の配位子を有する化合物であってよく、配位子として例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナートイオン、ニトロシルイオン、水、水酸化物イオンなどや、こうした擬ハロゲン、アンモニアのほか、アミン類（メチルアミン、エチレンジアミン等）、ヘテロ環化合物（イミダゾール、チアゾール、５−メチルチアゾール、メルカプトイミダゾールなど）、尿素、チオ尿素等の、有機分子を挙げることができる。
また、高感度化のためにはＫ₄〔Ｆｅ（ＣＮ）₆〕やＫ₄〔Ｒｕ（ＣＮ）₆〕、Ｋ₃〔Ｃｒ
（ＣＮ）₆〕のごとき六シアノ化金属錯体のドープが有利に行われる。

上記ロジウム化合物としては、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。水溶性ロジウム化合物としては、例えば、ハロゲン化ロジウム（III）化合物、ヘキサクロロロジ
ウム（III）錯塩、ペンタクロロアコロジウム錯塩、テトラクロロジアコロジウム錯塩、
ヘキサブロモロジウム（III）錯塩、ヘキサアミンロジウム（III）錯塩、トリザラトロジウム（III）錯塩、Ｋ₃Ｒｈ₂Ｂｒ₉等が挙げられる。
これらのロジウム化合物は、水或いは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液（例えば塩酸、臭酸、フッ酸等）、或いはハロゲン化アルカリ（例えばＫＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＮａＢｒ等）を添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。

上記イリジウム化合物としては、Ｋ₂ＩｒＣｌ₆、Ｋ₃ＩｒＣｌ₆等のヘキサクロロイリジウム錯塩、ヘキサブロモイリジウム錯塩、ヘキサアンミンイリジウム錯塩、ペンタクロロニトロシルイリジウム錯塩等が挙げられる。
上記ルテニウム化合物としては、ヘキサクロロルテニウム、ペンタクロロニトロシルルテニウム、Ｋ₄〔Ｒｕ（ＣＮ）₆〕等が挙げられる。
上記鉄化合物としては、ヘキサシアノ鉄（ＩＩ）酸カリウム、チオシアン酸第一鉄が挙げられる。

上記ルテニウム、オスミニウムは特開昭６３−２０４２号公報、特開平１−２８５９４１号公報、同２−２０８５２号公報、同２−２０８５５号公報等に記載された水溶性錯塩の形で添加され、特に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体が挙げられる。
〔ＭＬ₆〕‐ⁿ
（ここで、ＭはＲｕ、またはＯｓを表し、ｎは０、１、２、３または４を表す。）
この場合、対イオンは重要性を持たず、例えば、アンモニウム若しくはアルカリ金属イオンが用いられる。また好ましい配位子としてはハロゲン化物配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニトロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

〔ＲｕＣｌ₆〕^-3、〔ＲｕＣｌ₄（Ｈ₂Ｏ）₂〕^-1、〔ＲｕＣｌ₅（ＮＯ）〕^-2、〔ＲｕＢｒ₅（ＮＳ）〕^-2、〔Ｒｕ（ＣＯ）₃Ｃｌ₃〕^-2、〔Ｒｕ（ＣＯ）Ｃｌ₅〕^-2、〔Ｒｕ（ＣＯ）
Ｂｒ₅〕^-2、〔ＯｓＣｌ₆〕^-3、〔ＯｓＣｌ₅（ＮＯ）〕^-2、〔Ｏｓ（ＮＯ）（ＣＮ）₅〕^-2、〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｂｒ₅〕^-2、〔Ｏｓ（ＣＮ）₆〕^-4、〔Ｏｓ（Ｏ）₂（ＣＮ）₅〕^-4。

これらの化合物の添加量はハロゲン化銀１モル当り１０^-10〜１０^-2モル／モルＡｇで
あることが好ましく、１０^-9〜１０^-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。

その他、本発明では、Ｐｄ（ＩＩ）イオンおよび／またはＰｄ金属を含有するハロゲン化銀も好ましく用いることができる。Ｐｄはハロゲン化銀粒子内に均一に分布していてもよいが、ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有させることが好ましい。ここで、Ｐｄが「ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有する」とは、ハロゲン化銀粒子の表面から深さ方向に５０ｎｍ以内において、他層よりもパラジウムの含有率が高い層を有することを意味する。
このようなハロゲン化銀粒子は、ハロゲン化銀粒子を形成する途中でＰｄを添加することにより作製することができ、銀イオンとハロゲンイオンとをそれぞれ総添加量の５０％以上添加した後に、Ｐｄを添加することが好ましい。またＰｄ（ＩＩ）イオンを後熟時に添加するなどの方法でハロゲン化銀表層に存在させることも好ましい。
このＰｄ含有ハロゲン化銀粒子は、物理現像や無電解メッキの速度を速め、所望の電磁波シールド材の生産効率を上げ、生産コストの低減に寄与する。Ｐｄは、無電解メッキ触媒としてよく知られて用いられているが、本発明では、ハロゲン化銀粒子の表層にＰｄを偏在させることが可能なため、極めて高価なＰｄを節約することが可能である。

ハロゲン化銀に含まれるＰｄイオンおよび／またはＰｄ金属の含有率は、ハロゲン化銀の、銀のモル数に対して１０^-4〜０．５モル／モルＡｇであることが好ましく、０．０１〜０．３モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
使用するＰｄ化合物の例としては、ＰｄＣｌ₄や、Ｎａ₂ＰｄＣｌ₄等が挙げられる。

本発明では、さらに光センサーとしての感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すこともできる。化学増感の方法としては、硫黄増感、セレン増感、テルル増感等カルコゲン増感、金増感などの貴金属増感、還元増感等を用いることができる。これらは、単独または組み合わせて用いられる。上記化学増感の方法を組み合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法などの組み合わせが好ましい。

上記硫黄増感は、通常、硫黄増感剤を添加して、４０℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。上記硫黄増感剤としては公知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例えば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量は、化学熟成時のｐＨ、温度、ハロゲン化銀粒子の大きさなどの種々の条件の下で変化し、ハロゲン化銀１モル当り１０^-7〜１０^-2モルが好ましく、より好ましくは１０^-5〜１０^-3モルである。

上記セレン増感に用いられるセレン増感剤としては、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわち、上記セレン増感は、通常、不安定型および／または非不安定型セレン化合物を添加して４０℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。上記不安定型セレン化合物としては特公昭４４−１５７４８号公報、同４３−１３４８９号公報、特開平４−１０９２４０号公報、同４−３２４８５５号公報等に記載の化合物を用いることができる。特に特開平４−３２４８５５号公報中の一般式（VIII）および（IX）で示される化合物を用いることが好ましい。

上記テルル増感剤に用いられるテルル増感剤は、ハロゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定されるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平５−３１３２８４号公報に記載の方法で試験することができる。具体的には、米国特許ＵＳ第１，６２３，４９９号明細書、同第３，３２０，０６９号明細書、同第３，７７２，０３１号明細書、英国特許第２３５，２１１号明細書、同第１，１２１，４９６号明細書、同第１，２９５，４６２号明細書、同第１，３９６，６９６号明細書、カナダ特許第８００，９５８号明細書、特開平４−２０４６４０号公報、同４−２７１３４１号公報、同４−３３３０４３号公報、同５−３０３１５７号公報、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション（J.Chem.Soc.Chem.Commun.）６３５（１９８０）、 ibid1102（１９７９）、 ibid 645（１９７９）、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキン・トランザクション（J.Chem.Soc.Perkin.Trans.）１，２１９１（１９８０）、Ｓ．パタイ（Ｓ．Ｐａｔａｉ）編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド・テルリウム・カンパウンズ（The Chemistry of Organic Selenium and Tellunium Compounds）、Vol 1（１９８６）、同 Vol 2（１９８７）に記載の化合物を用いることができる。特に特開平５−３１３２８４号公報中の一般式（II）(III)(IV)で示される化合物が好ましい。

セレン増感剤およびテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀１モル当たり１０^-8〜１０^-2モル、好ましくは１０^-7〜１０^-3モル程度を用いる。化学増感の条件としては特に制限はないが、ｐＨとしては５〜８、ｐＡｇとしては６〜１１、好ましくは７〜１０であり、温度としては４０〜９５℃、好ましくは４５〜８５℃である。

また、上記貴金属増感剤としては、金、白金、パラジウム、イリジウム等が挙げられ、特に金増感が好ましい。金増感に用いられる金増感剤としては、具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、チオグルコース金（Ｉ）、チオマンノース金（Ｉ）などが挙げられ、ハロゲン化銀１モル当たり１０^-7〜１０^-2モル程度を用いることができる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよい。

また、ハロゲン化銀乳剤に対しては還元増感を用いることができる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることができる。上記ハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許（ＥＰ）２９３９１７に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。ハロゲン化銀乳剤は、１種だけでもよいし、２種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの、感度の異なるもの）の併用であってもよい。中でも高コントラストを得るためには、特開平６−３２４４２６号公報に記載されているように、支持体に近いほど高感度な乳剤を塗布することが好ましい。

なお、銀塩乳剤の塗設量に特に制限は無い。乳剤の塗設量が多すぎると感光材料のコスト上昇、現像時間の延長等が問題となるが、銀塩乳剤の塗設量を増やすほどより低い抵抗値の現像銀形成に有効である。導電性膜形成用銀塩感光材料として好ましい銀塩乳剤の塗設量は、銀量換算で２ｇ／ｍ^２から１５ｇ／ｍ^２の範囲であり、４ｇ／ｍ^２から１０ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。

＜バインダー＞
乳剤層には、銀塩粒子を均一に分散させ、かつ乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダーを用いることができる。本発明において上記バインダーとしては、非水溶性ポリマーおよび水溶性ポリマーのいずれもバインダーとして用いることができるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
上記バインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロースおよびその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。

乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができるが、乳剤層中のバインダー比がより高いほど低い抵抗値の現像銀形成が可能であり好ましい。ただしＡｇ／バインダー比が高くなりすぎるとハロゲン化銀粒子の凝集や塗布性悪化が問題となる。本発明において、Ａｇ／バインダー重量比率が３以上であることが好ましく、４．５以上１２以下であることがより好ましく、６以上１０以下であることが最も好ましい。
また、バインダーの種類としてはゼラチンが最も好ましい。

＜硬膜剤＞
本発明に係る感光材料の乳剤層およびその他の親水性コロイド層は、硬膜剤によって硬膜されることが好ましい。
硬膜剤としては、無機又は有機のゼラチン硬化剤を単独又は組合せて用いることができる。例えば活性ビニル化合物（１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスルホニル）メチルエーテル、Ｎ，Ｎ′−メチレンビス−〔β−（ビニルスルホニル）プロピオンアミド〕など）活性ハロゲン化合物（２，４−ジクロル−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンなど）、ムコハロゲン酸類（ムコクロル酸など）、Ｎ−カルバモイルピリジニウム塩類（（１−モルホリ、カルボニル−３−ピリジニオ）メタンスルホナートなど）ハロアミジニウム塩類（１−（１−クロロ−１−ピリジノメチレン）ピロリジニウム、２−ナフタレンスルホナートなど）を単独または組合せて用いることができる。なかでも、特開昭５３−４１２２０、同５３−５７２５７、同５９−１６２５４６、同６０−８０８４６に記載の活性ビニル化合物および米国特許３，３２５，２８７号に記載の活性ハロゲン化合物が好ましい。以下にゼラチン硬化剤の代表的な化合物例を示す。

前述したように、乳剤層の硬膜剤の添加量等を調製することにより、乳剤層の膨潤率を任意にコントロールすることができる。
乳剤層へ添加する硬膜剤量の好ましい範囲は、硬膜剤添加後の感光材料の保存温湿度、保存期間、感光材料の膜ｐＨおよび感光材料に含まれるバインダー量等によって異なるため、一概には決まらない。特に硬膜剤はバインダーと反応する前に感光材料の同一面側に位置する全層にわたって拡散し得るため、硬膜剤の好ましい添加量は乳剤層を含む感光材料の同一面側の全バインダー量に依存する。本発明の感光材料の、好ましい硬膜剤の含有量は、乳剤層を含む感光材料の同一面側の総バインダー量に対して０．２重量％〜１５重量％の範囲であり、より好ましくは０.５重量％〜６重量％の範囲である。
また前述のように硬膜剤は拡散し得るため、硬膜剤の添加位置は乳剤層である必要は無く、乳剤層と同一面側のいずれの層にも好ましく添加でき、また複数の層に分割して添加することも好ましい。

＜染料＞
感光材料には、少なくとも乳剤層に染料が含まれていてもよい。該染料は、フィルター染料として若しくはイラジエーション防止その他種々の目的で乳剤層に含まれる。上記染料としては、固体分散染料を含有してよい。本発明に好ましく用いられる染料としては、特開平９−１７９２４３号公報記載の一般式（ＦＡ）、一般式（ＦＡ１）、一般式（ＦＡ２）、一般式（ＦＡ３）で表される染料が挙げられ、具体的には同公報記載の化合物Ｆ１〜Ｆ３４が好ましい。また、特開平７−１５２１１２号公報記載の（ＩＩ−２）〜（ＩＩ−２４）、特開平７−１５２１１２号公報記載の（ＩＩＩ−５）〜（ＩＩＩ−１８）、特開平７−１５２１１２号公報記載の（ＩＶ−２）〜（ＩＶ−７）等も好ましく用いられる。

このほか、本発明に使用することができる染料としては、現像または定着の処理時に脱色させる固体微粒子分散状の染料としては、特開平３−１３８６４０号公報記載のシアニン染料、ピリリウム染料およびアミニウム染料が挙げられる。また、処理時に脱色しない染料として、特開平９−９６８９１号公報記載のカルボキシル基を有するシアニン染料、特開平８−２４５９０２号公報記載の酸性基を含まないシアニン染料および同８−３３３５１９号公報記載のレーキ型シアニン染料、特開平１−２６６５３６号公報記載のシアニン染料、特開平３−１３６０３８号公報記載のホロポーラ型シアニン染料、特開昭６２−２９９９５９号公報記載のピリリウム染料、特開平７−２５３６３９号公報記載のポリマー型シアニン染料、特開平２−２８２２４４号公報記載のオキソノール染料の固体微粒子分散物、特開昭６３−１３１１３５号公報記載の光散乱粒子、特開平９−５９１３号公報記載のＹｂ^３＋化合物および特開平７−１１３０７２号公報記載のＩＴＯ粉末等が挙げられる。また、特開平９−１７９２４３号公報記載の一般式（Ｆ１）、一般式（Ｆ２）で表される染料で、具体的には同公報記載の化合物Ｆ３５〜Ｆ１１２も用いることができる。

また、上記染料としては、水溶性染料を含有することができる。このような水溶性染料としては、オキソノール染料、ベンジリデン染料、メロシアニン染料、シアニン染料およびアゾ染料が挙げられる。中でも本発明においては、オキソノール染料、ヘミオキソノール染料およびベンジリデン染料が有用である。本発明に用い得る水溶性染料の具体例としては、英国特許５８４，６０９号明細書、同１，１７７，４２９号明細書、特開昭４８−８５１３０号公報、同４９−９９６２０号公報、同４９−１１４４２０号公報、同５２−２０８２２号公報、同５９−１５４４３９号公報、同５９−２０８５４８号公報、米国特許２，２７４，７８２号明細書、同２，５３３，４７２号明細書、同２，９５６，８７９号明細書、同３，１４８，１８７号明細書、同３，１７７，０７８号明細書、同３，２４７，１２７号明細書、同３，５４０，８８７号明細書、同３，５７５，７０４号明細書、同３，６５３，９０５号明細書、同３，７１８，４２７号明細書に記載されたものが挙げられる。

上記乳剤層中における染料の含有量は、イラジエーション防止などの効果と、添加量増加による感度低下の観点から、全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がさらに好ましい。

＜溶媒＞
上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等アルコール類、アセトンなどケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、およびこれらの混合溶媒を挙げることができる。
本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。

［支持体］
本発明に係る感光材料の支持体としては、プラスチックフイルム、プラスチック板、およびガラス板などを用いることができる。
上記プラスチックフイルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
本発明においては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさおよび価格の点から、上記プラスチックフイルムはポリエチレンテレフタレートフイルムであることが好ましい。

本発明により得られる導電性金属膜がディスプレイ用の電磁波シールド材料として用いられる場合、支持体は透明プラスチック等の透明基材であることが好ましい。この場合におけるプラスチックフイルムまたはプラスチック板の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。
また、支持体は着色したものでもよい。支持体は単層でもよいし、２層以上からなる多層フイルムでもよい。

支持体としてガラス板を用いる場合、その種類は特に限定されないが、本発明により得られる導電性金属膜がディスプレイ用電磁波シールド膜の用途として用いられる場合は、表面に強化層を設けた強化ガラスを用いることが好ましい。強化ガラスは、強化処理していないガラスに比べて破損を防止できる可能性が高い。さらに、風冷法により得られる強化ガラスは、万一破損してもその破砕破片が小さく、かつ端面も鋭利になることはないため、安全上好ましい。

［感光材料の形成］
本発明に係る感光材料は、上記成分を含有する乳剤層用塗布液を支持体上に塗布することにより形成することができる。塗布手段としてはいずれの塗布手段を用いてもよい。
塗布後の乳剤層のｐＨとしては、前述の膨潤率を達成するために、３．０〜９．０の範囲とするのが好ましく、４．０〜７．０の範囲とすることが好ましい。ここで乳剤層のｐＨは、塗布膜の表面に蒸留水を１滴２０μリットルを滴下し表面電極を接して２５℃１分後のｐＨ値を読みとった値と定義する。また、乳剤層の含水率は、乳剤層の総バインダー量に対して５０重量％以下の範囲が好ましく、５〜３０重量％の範囲とすることが好ましい。

本発明に係る感光材料は、乳剤層以外にも他の機能層を有していてもよい。他の機能層としては、例えば、乳剤層側には保護層、ＵＬ層、下塗り層等を設けることができるし、乳剤層を有しない側にはバック層等を設けることができる。
なお、乳剤層は実質的に最上層に配置されていることが好ましい。ここで、「乳剤層が実質的に最上層である」とは、乳剤層が実際に最上層に配置されている場合のみならず、乳剤層の上に設けられた層の総膜厚が０．５μｍ以下であることを意味する。乳剤層の上に設けられた層の総膜厚は、好ましくは０．２μｍ以下である。また、乳剤層の膜厚は、特に限定されないが、０．２〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。

第１露光部１３は、露光ローラ２８と、この露光ローラ２８の外周に配置される第１フォトマスク２９と、この第１フォトマスク２９に光を照射する露光光源である第１照明部３０とから構成されている。図５に示すように、第１フォトマスク２９は、例えば、厚みｔ２＝４．５ｍｍ、ワーク搬送方向Ｆのマスク長さＬ’＝２００ｍｍ、ワーク搬送方向Ｆに直交するマスク幅Ｗ’＝８００ｍｍの透明なソーダガラスで形成されたマスク基板３２と、このマスク基板３２の一方の面の有効長さＬ＝２００ｍｍ、有効幅Ｗ＝７６０μｍからなるパターンエリア３５内に形成される第１マスクパターン３３とからなる。

第１マスクパターン３３は、例えば黒色の遮光パターンに、第１マスクパターン３３の形状のスリットを形成して光が透過できるようにしたものである。なお、本来、遮光パターンを黒地で、スリットからなる第１マスクパターン３３を白地で描くべきであるが、図面が煩雑になるため、図５では、遮光パターンを白地で、第１マスクパターン３３を黒線で描いている。

図６（Ａ）に示すように、第１マスクパターン３３は、上述したメッシュ状の周期パターン５のうち、細線５ａの露光を行うためのパターンであり、クロム蒸着によりマスク基板３２上に形成されている。この第１マスクパターン３３がワーク搬送方向Ｆに繰り返し露光される周期である周期長さＬ１は、Ｌ１＝Ｐ１／ｓｉｎθ１＝３００／ｓｉｎ３０＝６００μｍとなる。

第１マスクパターン３３の線幅Ｄ１’は、プロキシミティ露光によって生ずる線幅太りを見込んで、出来上がり寸法Ｄ１より細めの線幅としておくのが好ましい。また、マスク有効幅Ｗは、帯状ワーク１１の蛇行量を見込んでワーク幅Ｗ０より若干大きめの長さとするのが好ましい。

Ｌ＝２００ｍｍは、Ｌ１＝６００μｍに対して十分大きいが、これは第１フォトマスク２９のたわみなどによる像のねじれを配慮したもので剛性確保の配慮であって、パターン形成の必要性から決めたものではない。そのため、第１フォトマスク２９の剛性が確保できる構造であれば、Ｌ寸法はもっと小さくてもよく、大判のフォトマスクを必要としないという点でコストダウンに繋がる長所となる。たとえば、８００×１０００ｍｍのソーダガラス基板に同一周期パターンを切ったマスクを形成し、その後短冊状に分割すれば、1枚のマスク製作と切断により、複数個のマスクとなるので、安価にマスクを製作する事ができる。

なお、第１マスクパターン３３のパターン長さＬを周期パターン５の露光に最低限必要な周期長さＬ１に対して十分に大きくすることにより、仮に作業ミスなどでフォトマスク２９が損傷しても、ワーク搬送方向ＦにＬ１以上ずらして組み付ければ、新しい第１フォトマスク２９として使用することができる。このように、複数回の使いまわしができる点で、予備の第１フォトマスク２９が必ずしも必要でなくなり、その点でもコストパフォーマンスがよい。

上記第１フォトマスク２９は、図７に示すマスク保持部４０によって保持されている。マスク保持部４０は、第１フォトマスク２９を保持する保持枠４１と、この保持枠４１に保持された第１フォトマスク２９が、帯状ワーク１１との間にプロキシミティギャップＬｇを隔てて対面される露光位置と、帯状ワーク１１からプロキシミティギャップＬｇ以上離されて隙間が形成される退避位置（図中２点鎖線で示す）との間で保持枠４１を移動自在に支持する支持部４２と、保持枠４１を露光位置と退避位置との間で移動させる駆動部であるアクチュエータ４３とから構成されている。

保持枠４１は、第１フォトマスク２９の外周を前後から挟み込んで保持する。保持枠４１には、背面側から螺合されて第１フォトマスク２９に当接する調節ネジ４６が幅方向に複数箇所設けられている。これらの調節ネジ４６は、プロキシミティギャップＬｇの幅方向微小ひずみに対する微調整を行う調整部であり、保持枠４１への締め込み量を加減することによって第１フォトマスク２９が調節ネジ４６に押され、保持枠４１内で移動して全幅でギャップが同じになるように、プロキシミティギャップＬｇが調整される。

支持部４２は、保持枠４１に取り付けられるスライドガイド４９と、このスライドガイド４９をスライド自在に支持するスライドレール５０等からなり、保持枠４１を露光位置と退避位置との間でスライド自在に支持する。アクチュエータ４３は、例えば、モータやソレノイド、エアシリンダ等が用いられ、保持枠４１をスライドレール５０上でスライドさせて露光位置と退避位置とに移動させる。プロキシミティギャップＬｇは、スライドレール５０上の露光位置を決めるストッパの微調整により決定される。

アクチュエータ４３は、支持部４２に取り付けられ、移動子４３ａがスライドガイド４９に接続され、制御部１７によって制御される。このアクチュエータ４３は、露光時には移動子４３ａを下方に突出させて保持枠４１を露光位置に移動させる。また、帯状ワーク１１の接合部分が第１フォトマスク２９の下を通過する際には、移動子４３ａを引き込んで保持枠４１を退避位置に移動させ、第１フォトマスク２９と接合部分との干渉を防止する。退避位置は、第１フォトマスク２９と接合部分との干渉を確実に避けるために、例えば、露光位置から５０ｍｍ程度上方に設定されている。なお、支持部４２には、露光位置へ移動した際の位置再現性の高い高精度なものが用いられているため、保持枠４１の移動によってプロキシミティギャップＬｇがずれることはない。

図８は、第１照明部３０の構成を示す概略図である。第１照明部３０は、レーザ出力装置５５と、このレーザ出力装置５５から出力されたレーザ光Ｓ１をコリメートして平行光にするコリメートレンズ５６と、レーザ光Ｓ１を反射する反射ミラー５９と、走査手段であるポリゴンミラー５７及びモータ５８とから構成されている。

レーザ出力装置５５は、例えば、出力６０ｍｗのシングルモード半導体レーザ出力装置であり、銀塩感材２１に合せて波長が４０５ｎｍのレーザ光Ｓ１を出力する。コリメートレンズ５６は、例えば焦点距離３ｍｍであり、図９に示すように、入力されたレーザ光Ｓ１を長軸Ｌｂ＝３．６ｍｍ、短軸Ｗｂ＝１．２ｍｍの楕円形の射影形状を有する平行光に変換する。このレーザ光Ｓ１は、長軸Ｌｂがワーク搬送方向Ｆに、短軸Ｗｂがワーク幅方向に沿うように、第１フォトマスク２９に照射される。

なお、レーザ光Ｓ１の射影形状及び大きさは１／ｅ^２換算ビーム径であるが、これに限定されるものではなく、コリメートレンズ５６により自由に設定することができる。また、６０ｍｗシングルモード半導体レーザを使用したが、レーザ定格出力を規定するものではなく、光源パワーが大きいほど設計余裕がとれるため、より好ましいといえる。例えば、2本のレーザを偏光合波して、パワーを上げたり、２００mwマルチモード半導体レーザを使ってもよい。また半導体レーザとコリメートレンズによって作った平行光を集積して小さな面積に集光した光源によってパワーをあげて露光することも好ましい。

ポリゴンミラー５７は、略円板形状の外周面に平板な反射面６１が複数設けられたもので、反射面６１に入射されたレーザ光Ｓ１を第１フォトマスク２９に向けて反射し、その際にモータ５８によって回転されることにより、レーザ光Ｓ１を第１フォトマスク２９上でワーク幅方向に走査させる。本実施形態のポリゴンミラー５７は、１８面の反射面６１が設けられている。この反射面６１により走査できる走査角度は２０°であるが、本実施形態では走査角度θｓとして１０°を露光走査に利用する。また、１０°の走査角度θｓで第１フォトマスク２９の幅方向全域を走査するために、ポリゴンミラー５７の反射面６１から第１フォトマスク２９までの距離Ｌｓを２２５０ｍｍとしている。

露光走査に使用する走査角度θｓを１０°としたのは、ポリゴンミラー５７の反射による露光時間のバラツキを小さくするためである。ポリゴンミラー５７の反射面６１は、回転方向の中央部と端部とで中心からの半径が異なるため、回転時の角速度の違いから走査速度が変化し、露光時間にバラツキが生じて露光品質が低下する。例えば、走査角度が１０°のときには、反射面６１の中央部と端部との走査速度の差は３．１％と小さいため、周期パターン５の露光に対する影響は少ない。しかし、走査角度が２０°になると、走査速度の差は１３．２％になり、走査角度４５°では５０％になるため、周期パターン５の線幅や間隔が不均一になる等の露光不良が発生する。

また、ポリゴンミラー５７の反射面数を１８面としたのは、ポリゴンミラー５７の直径を１００ｍｍ程度に抑えるためである。本来ならば２０°の走査角度を有するポリゴンミラー５７で１０°の走査角度しか使用しない場合、露光光源の使用効率が５０％となる。また、この５０％の使用効率で必要な露光量を得るために、露光光源の光量も大きくする必要があるため、コスト的に不利である。しかし、露光光源の使用効率を上げるためにポリゴンミラー５７の反射面数を３６面にすると、ポリゴンミラー５７の直径は６００ｍｍ以上となり、部品加工コストが現実的でなくなるため、本実施形態では１８面を採用した。なお、ポリゴンミラー５７の反射面数と露光光源の光量は対応関係にあるため、露光光源のパワーと露光感材の感度との組み合わせに応じて最適な反射面数を選択するとよい。

なお、レーザ走査はポリゴンミラーに限ったものでなく、ガルバノ、レゾナントスキャナー他いろいろなアクチュエータが利用可能である。ただし、レーザ走査は、後述するが必ず１方向からのスキャニングとする必要があり、往復走査するタイプのアクチュエータでは片方向をオフする変調制御が必要となる。

第２露光部１４は、第１露光部１３と同様に、第２フォトマスク６５と、この第２フォトマスク６５を保持するマスク保持部と、第２照明部６６とから構成されている。第２フォトマスク６５は、第１フォトマスク２９と同様に、マスク基板と、このマスク基板に設けられるマスクパターンとから構成されている。なお、マスク基板は第１フォトマスク２９と同じものが用いられており、パターンエリアも同サイズとされている。

図６（Ｂ）は、第２フォトマスク６５の第２マスクパターン６９を示す。この第２マスクパターン６９は、上述したメッシュ状の周期パターン５のうち、細線５ｂの露光を行うためのパターンであり、クロム蒸着によりマスク基板上に形成されている。この第２マスクパターン６９のワーク搬送方向Ｆに対する周期長さＬ２は、Ｌ２＝Ｐ／ｓｉｎθ２＝３００／ｓｉｎ６０＝３４６μｍとなる。なお、第２マスクパターン６９の線幅Ｄ２’も、プロキシミティ露光によって生ずる線幅太りを見込んで、出来上がり寸法Ｄ２より細めの線幅としておくのが好ましい。

第１マスクパターン３３と第２マスクパターン６９とを重ね合わせると、図６（Ｃ）に示すように、周期パターン５と同形状のパターン７２となり、第１露光部１３と第２露光部１４とで順に露光を行うことにより、周期パターン５を露光することができる。なお、第２露光部１４のその他の構成部品は、第１露光部１３と共通であるため、詳しい説明は省略する。

次に、上記構成のパターン露光装置１０によってメッシュ状の周期パターン５を露光する方法について説明する。図１０は、本発明のパターン露光方法を示す概念図である。帯状ワーク８４は、図中矢印Ｆで示すワーク搬送方向に搬送され、この搬送中に照明部８１からフォトマスク８２にレーザ光Ｓが照射される。フォトマスク８２に照射されたレーザ光Ｓは、マスクパターン８３のスリットを通って帯状ワーク８４に達し、所定のパターンが搬送方向に沿って周期的に露光される。帯状ワーク８４とフォトマスク８２との間には、例えば５０μｍのプロキシミティギャップＬｇが設けられており、ワーク搬送速度Ｖと、マスクパターン８３の周期長さから得られる露光周期とを同期させてプロキシミティ露光を行うことにより、ズレの無いパターンが露光される。

本発明は、帯状ワーク８４を停止させずに連続搬送しながら、フォトマスク８２は静止させた状態で、少なくとも１周期分のマスクパターン８３の全域をカバーする露光領域に、周期長さに合せた周期でプロキシミティ露光することが特徴となる。

上記パターン露光方法を本実施形態に適用すると、第１マスクパターン３３の少なくとも１周期分の全域をカバーする露光領域とは、第１マスクパターン３３の周期長さＬ１＝６００μｍ、及び幅方向７５０ｍｍの領域を含む最小限の露光エリアを言う。

第１マスクパターン３３の搬送方向の周期長さＬ１＝６００μｍ、帯状ワーク１１のワーク搬送速度をＶ＝４ｍ／分、第１マスクパターン３３を露光するための露光周期をＴ１、露光時間をΔＴ１、第１マスクパターン３３の最小線幅Ｄ１’ｍｉｎ＝１０μｍとした時、周期長さＬ１だけ帯状ワーク１１が搬送されるのに必要な時間は、Ｌ１／Ｖ＝９．０ｍｓｅｃとなる。この時間に１回のレーザ走査を行うように設計すると、露光周期Ｔ１＝９．０ｍｓｅｃとなり、１８面ポリゴンミラー５７の回転数は、ω１＝３７０ｒｐｍとなる。このときのビーム走査速度Ｖｂ１は、ポリゴンミラー５７から第１フォトマスク２９までの距離Ｌｓが２２５０ｍｍであるので、Ｖｂ１＝Ｌｓ・ω１＝８６．９ｍ／ｓｅｃ、レーザ光Ｓ１の射影形状の幅方向の大きさＷｂは１．２ｍｍなので、レーザ光Ｓ１がこの走査速度で露光している露光時間はΔＴ１＝１．２／ｖｂ１＝１３．９μｓｅｃ、この間で帯状ワーク１１が送り方向に動く搬送量Ｌｍ１は、Ｖ・ΔＴ１＝０．９３μｍとなる。

上記搬送量Ｌｍ１は、露光時に第１フォトマスク２９に対して帯状ワーク１１が搬送方向Ｆにずれる量となる。そのため、搬送量Ｌｍ１が第１マスクパターン３３の最小線幅Ｄ１’ｍｉｎよりも大きくなると、細線５ａの線幅Ｄ１が太くなり露光品質が低下する。露光品質を確保するには、Ｖ・ΔＴ１＜Ｄ１’ｍｉｎにしなければならない。なお、本実施形態では、Ｖ・ΔＴ１＝０．９３μｍ＜Ｄ１’ｍｉｎ＝１０μｍを満たすため、露光品質の低下は少ない。

なお、本実施形態では、前述のレーザ走査によるレーザ光Ｓ１の射影形状の大きさを長軸Ｌｂ＝３．６ｍｍ×短軸Ｗｂ＝１．２ｍｍとし、第１フォトマスク２９の裏面には、レーザ光Ｓ１の長軸Ｌｂにほぼ等しい幅Ｗｓを有するスリット７５が設けられた遮光マスク７６を配置し、それ以上の光が第１フォトマスク２９に当たらないようにしている。そのため、レーザ光Ｓ１の１走査による露光領域は、搬送方向３．６ｍｍ×幅方向７５０ｍｍとなり、３．６／０．６＝６列分の第１マスクパターン３３を照射し、かつ多重露光が行われることになる。

これにより、第１フォトマスク２９上に射影される露光光源の光の長さＬｂ＝３．６ｍｍ、Ｌｂ＝３．６＞Ｌ１＝０．６を満たし、Ｌｂ／Ｌ１の商ｍ1はｍ１＝６となる。したがって、ワーク搬送速度Ｖと露光周期Ｔ1との間の関係が、（ｎ1−１）×（Ｌ１／Ｖ）＝Ｔ1（ｎ1は自然数）、かつ２＝＜ｎ1＜＝ｍ1＝6満たすようにすると、ｎ1＝２〜6の任意の数字を選択でき、最も多重露光回数を多く出来るのは、ｎ1＝２の場合である。本実施形態では、上述のように、第１マスクパターン３３の１周期分の長さだけ帯状ワーク１１が搬送されるのに必要な時間Ｌ１／Ｖ＝９．０ｍｓｅｃとし、この時間に１回のレーザ走査を行うため、ｎ１＝２、Ｔ１＝９．０ｍｓｅｃになるようにＴ１とＶとの関係を決めてある。

第２マスクパターン６９の少なくとも１周期分の全域をカバーする露光領域とは、第２マスクパターン６９の周期長さＬ２＝３４６μｍ、及び幅方向７５０ｍｍの領域を含む最小限の露光エリアを言う。

第２マスクパターン６９の搬送方向の周期長さＬ２＝３４６μｍ、帯状ワーク１１のワーク搬送速度をＶ＝４ｍ／分、第２マスクパターン６９を露光するための露光周期をＴ２、露光時間をΔＴ２、第２マスクパターン６９の最小線幅Ｄ２’ｍｉｎ＝１０μｍとした時、周期長さＬ２だけ帯状ワーク１１が搬送されるのに必要な時間は、Ｌ２／Ｖ＝５．２ｍｓｅｃとなる。第１露光部１３の露光回数に近付けるために、Ｌ２／Ｖ中に２回のレーザ走査を行うように設計すると、露光周期Ｔ２＝１０．４ｍｓｅｃとなり、１８面ポリゴンミラーの回転数は、ω２＝３２０ｒｐｍとなる。このときのビーム走査速度Ｖｂ２は、ポリゴンミラーから第２フォトマスク６５までの距離Ｌｓが２２５０ｍｍであるので、Ｖｂ２＝Ｌｓ・ω２＝７５．２ｍ／ｓｅｃ、レーザ光Ｓ２の射影形状の幅方向の大きさＷｂは、Ｓ１と同じ１．２ｍｍなので、レーザ光Ｓ２がこの走査速度で露光している露光時間はΔＴ２＝１．２／ｖｂ２＝１３．４μｓｅｃ、この間で帯状ワーク１１が送り方向に動く搬送量Ｌｍ２は、Ｖ・ΔＴ２＝１．０７μｍとなる。本実施形態では、Ｖ・ΔＴ２＝１．０７μｍ＜Ｄ２’ｍｉｎ＝１０μｍを満たすため、露光品質の低下は少ない。

なお、第２露光部１４にもレーザ光Ｓ２の長軸Ｌｂにほぼ等しい幅を有するスリットが設けられた遮光マスクが設置されているため、それ以上の光が第２フォトマスク６５に当たらない。そのため、レーザ光Ｓ２の１走査による露光領域は、搬送方向３．６ｍｍ×幅方向７５０ｍｍとなり、３．６／０．３６４＝１０．４列分の第２マスクパターン６９を照射し、かつ多重露光が行われることになる。

これにより、第２フォトマスク６５上に射影される露光光源の光の長さＬｂ＝３．６ｍｍ、Ｌｂ＝３．６＞Ｌ２＝０．３４６を満たし、Ｌｂ／Ｌ２の商ｍ２はｍ２＝１０となる。したがって、ワーク搬送速度Ｖと露光周期Ｔ２との関係が、（ｎ２−１）×（Ｌ２／Ｖ）＝Ｔ２（ｎ２は自然数）、かつ２＝＜ｎ２＜＝ｍ２＝１０を満たすようにすると、ｎ２＝２〜１０の任意の数字を選択でき、最も多重露光回数を多く出来るのは、ｎ２＝２の場合である。この第２露光部１４では、第１露光部１３の露光周期Ｔ１で決まる露光回数に極力合せるため、すなわち、第１露光部１３の露光周期Ｔ１の位相に合せて、２周期分の第２マスクパターン６９が搬送される間に１回の走査が行われるように、ｎ２＝３、２×Ｌ２／Ｖ＝１０．４ｍｓｅｃとなるように露光周期Ｔ２と搬送速度Ｖとの関係を決めてある。したがって、３４６μｍ×２＝６９２μｍに１回露光が行われる。

図１１に、第１露光部１３での銀塩感材２１への露光状態を模式的に表した図を示す。同図（Ａ）のａ〜ｅに示すように、レーザ光Ｓ１の１走査により、第１フォトマスク２９越しに６列分の第１マスクパターン３３が順次左から右へ全幅を露光される。すなわち、同図（Ｂ）のａに示すように、帯状ワーク１１には、ワーク搬送方向Ｆに６列分の細線５ａが露光される。その間に、帯状ワーク１１はワーク搬送方向Ｆに周期長さＬ１分搬送されているので、帯状ワーク１１上のすでに細線５ａが露光された部分の上から同じパターンが第１フォトマスク２９越しに重ね露光される。このときの露光周期Ｔ１がワーク搬送速度Ｖに同期されていれば、潜像に重ねて露光がなされるため、細線５ａに乱れは生じない。これを順次繰り返していくことにより、同図（Ｂ）ａ〜ｇに示すように、１本の細線５ａに対して必ず６回分の多重露光がなされることになる。なお、パターン露光装置１０の稼働開始時と稼働終了時には、段階的に露光回数が不足するので、この部分はＮＧとして抜き取られる。

図１２は、第２露光部１４での銀塩感材２１への露光状態を模式的に表した図を示す。同図（Ａ）のａ〜ｅに示すように、レーザ光Ｓ２の１走査により、第２フォトマスク６５越しに１０．４列分の第２マスクパターン６９が順次左から右へ全幅を露光される。すなわち、同図（Ｂ）のａに示すように、すでに第１露光部１３で露光されている細線５ａの上に、ワーク搬送方向Ｆに１０．４列分の細線５ｂが露光される。その間に、帯状ワーク１１はワーク搬送方向Ｆに周期長さＬ２×２だけ搬送されているので、帯状ワーク１１上のすでに細線５ｂが露光された部分の上から、同じパターンが第２フォトマスク６５越しに重ね露光される。このときの露光周期Ｔ２がワーク搬送速度Ｖに同期されていれば、潜像に重ねて露光がなされるため、細線５ｂに乱れは生じない。これを順次繰り返していくことにより、同図（Ｂ）ａ〜ｇに示すように、１本の細線５ｂに対して必ず５．２回分の多重露光がなされることになる。これにより、細線５ａ，５ｂが重なって周期パターン５が形成される。

ワーク搬送速度Ｖと、露光周期Ｔ１，Ｔ２の同期は、基準のクロックとして外部に水晶発振器８０を設け、制御部１７は、このクロックを参照してすべての速度が所望の一定速度になるように制御する。これによって正確な同期を取ることができる。

上記の必要露光量について計算すると、４ｍ／分の速度で感材７５０ｍｍ幅を露光するので単位時間あたりの露光面積は６６．７ｍｍ／ｓｅｃ（４ｍ／ｍｉｎ）×７５０ｍｍ＝５００ｃｍ^２となり、感材感度が例えば１０μｊ／ｃｍ^２の場合、１０μｊ／ｃｍ^２×５００ｃｍ^２＝５ｍｗの露光パワーが必要となる。更に、マスクパターンのスリット幅（最小線幅）＝１５μｍ、ピッチＰ＝３００μｍの時の開口率は９．７５％、走査効率を５０％、光学系の効率を５０％と仮定すると、露光光源利用効率η＝０．５×０．５×０．０９７５＝２．４％となる。前述した５ｍｗをこの効率で１回の露光にて得るには、光源パワーは、５ｍｗ／２．４％＝２０８ｍｗ必要となる。

上記実施形態による多重露光においては、多重露光回数分の積分値で決まる露光量を余計を１回露光に比べて余計に照射できるので、その分光源パワーは小さくてすむ。感材感度（２〜１０μｊ／ｃｍ^２程度）選択、及び光源パワー（５０ｍｗ〜２００ｍｗ）選択により、また光源を複数個で露光することでさらにハイパワー化できるので、フレキシブルな設計が可能である。

多重露光することのメリットは、上記計算のように、露光回数を稼げるので光源の光量不足を補うことが出来る点があげられる。更にこれだけでなく、多重露光によって、光源の輝度分布の不均一性を平均化する効果があり、送り方向の輝度ばらつきによる露光量の不均一化を抑制可能である。また横方向の走査も同様に走査方向の光源の輝度分布の不均一性を平均化する効果があり、走査によって走査方向の輝度ばらつきによる露光量の不均一化を抑制可能である。したがって多重露光と横走査との組み合わせによって、光源輝度分布がいかなる場合でも、設計上は積分効果でいつでも均一な露光量になるのである。これは光源の輝度ばらつきを気にする必要がなくなるという点でコストダウンに大きくつながる長所となる。

一方、レーザ光Ｓの振れの影響は、フォトマスクを介して露光しているため露光量の変動になるが、パターン形状には影響せず、いつもマスクパターンを露光していることになる。しかも多重露光のため、このレーザ光Ｓの振れによる露光量変動のトータルとしては平均化されて、線幅に影響が出にくい設計となっている。したがって、ポリゴンミラーの面ブレや、各面の角度精度がやや甘くても、露光形状に影響が小さく、安定した品質を保てる点が本発明の大きな長所である。

上記のように２つの露光部１３，１４でそれぞれ細線５ａ，５ｂが連続的にシームレスに露光されるので、結果としてこれらが重なったパターンとして、1辺が３００μｍ、対角が４２４μｍのひし形を斜め１５°に傾けて並べたパターンの連なりで形成される、連続メッシュパターンを露光する事ができる。この露光で懸念されるのは、細線５ａと５ｂとの交点の露光量が、第１露光部１３と第２露光部１４とで、ともに重ねて露光されてしまうため、他の部位に比べて倍になってしまう点である。この点については、感材特性で露光濃度がある程度飽和した状態から露光量を増やしても、線幅の変わらない領域が存在するものを使ってやれば、過飽和による露光パターン形状の乱れの少ない露光が可能である。

また、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンに対して露光される場合には、上記のように重ねて露光することにより、表面抵抗値の低いメッシュパターンを作成することができるという、大きなメリットが得られることが分かっている。以下、このメリットについて説明する。

電磁波シールドフイルムのシールド性能や現像後中間製品のめっき工程適性は、メッシュパターンの表面抵抗値に大きく影響されるため、これを出来る限り下げたいという要求がある。抵抗値を下げるには、メッシュパターンの交点の抵抗値が重要なポイントとなる。すなわち同じ抵抗値の2本の線が交差する時、交点には2倍の電流が流れることが好ましいが、交点部分の抵抗値が同じ場合には、線幅が2倍太くならないとそれだけの電流を流すことができない。また、同じ線幅を用いる場合には、抵抗値が１／２にならないと２倍の電流を流すことができない。したがってメッシュパターンでは、この交点の抵抗値に制限されて、全体としての表面抵抗値が決まってしまう。

これに対し、上記のように露光を2回重ねて行った場合には、交点の現像後の銀密度が上がり、銀量が増える事によって交点部分の抵抗値が下がる。これにより、露光パターンの交点部分の面積をあえて大きくしなくても、抵抗値の低いメッシュパターンを作成することができる。これも2回に分けて露光するメリットとなる。

したがって実施例では1辺が３００μｍ、対角が４２４μｍのひし形を斜め１５°に傾けて並べたパターンの連なりで説明したが、同じく1辺が３００μｍ、対角が４２４μｍのひし形で傾き無しのものでは、そのものが周期パターンとなるフルメッシュマスクを使い、１回で露光することが可能である。しかし、あえて片メッシュマスクを使って2回にわけて露光することにより、交点の抵抗値を下げたメッシュパターンを作成することができる。

次に、電磁波シールドフイルム２の露光工程の概要について、図１３のフローチャートを参照しながら説明する。帯状ワーク１１は、未露光の銀塩感材２１が塗布された厚みｔ１＝１００μｍ、幅Ｗ０＝６５０〜７５０ｍｍの長尺フイルム２０からなり、１００〜１０００ｍがリールに巻かれてワーク供給部１２にセットされる。一方、ワーク巻取り部１５には巻取り用のリール２４がセットされ、帯状ワーク１１の先端が係止される。この状態で、第１照明部３０及び第２照明部６６はレーザ出力装置５５はオフ状態のままポリゴンミラー５７を回転させ、設定された回転数に達したら、帯状ワーク１１の搬送を開始する。

前述のように、ズレの無い多重露光を行うには、露光周期Ｔ１，Ｔ２とワーク搬送速度Ｖとの間に一定の同期関係が必要である。また、露光周期Ｔ１，Ｔ２とワーク搬送速度Ｖとを同期させるには、ポリゴンミラー５７の回転数ω１，ω２とワーク搬送速度Ｖとを同期させるのが最も簡単である。ワーク搬送速度Ｖと、露光周期Ｔ１，Ｔ２の同期は、基準のクロックとして外部に水晶発振器８０を設け、制御部１７は、このクロックを参照してすべての速度が所望の一定速度になるように制御する。これによって正確な同期を取ることができる。ポリゴンミラー５７の回転数ω１，ω２と、ワーク搬送速度Ｖとが規定の条件に達したら、その状態信号のフィードバックを受けてレーザ出力装置５５が点灯する。

なお、ポリゴンミラー５７の回転数ω１とω２とワーク搬送速度Ｖとが同期してから露光を開始するのは、露光が適切に行われた部分とＮＧ部分との識別を容易にするためである。ポリゴンミラー５７の回転数ω１，ω２とワーク搬送速度Ｖとが非同期の状態で露光を行っても細線５ａ，５ｂは露光されるので、一見良品のように見える場合も考えられ、目視による外観検査によりＮＧ部を抜き取る場合、ヒューマンエラーが必ず発生し、ＮＧ混入のリスクを伴う。そのため、予め同期状態に達したかどうかを制御部１７でモニタしておき、非同期状態ではレーザ出力装置５５を動作させず、露光しなければ、必ずＮＧと認識することができる。したがって運転スタート／ストップの非同期帯では自動的にレーザは発光しないようになっている。

ポリゴンミラー５７の回転数ω１，ω２とワーク搬送速度Ｖとが同期状態になると、制御部１７はレーザ出力装置からレーザ光Ｓ１，Ｓ２を出力させ、第１及び第２フォトマスク２９，６５を介して帯状ワーク１１に細線５ａ、５ｂを露光する。この露光は、上述したように複数回の多重露光によって行なわれる。露光済みの帯状ワーク１１は、ワーク巻取り部１５に巻き取られる。ワーク供給部１２の帯状ワーク１１が無くなると、ワーク供給部１２から制御部１７にエンド信号が入力され、帯状ワーク１１の搬送が停止され、接合部１６にて帯状ワーク１１の端末がカットされ、ワーク供給部１２にセットされる新しい帯状ワーク１１の先端とテープ接合される。

帯状ワーク１１の接合後、再びワーク搬送が開始されるが、接合部分が露光ロール２８を通過する際にマスク保持部４０が第１及び第２フォトマスク２９，６５を退避位置に移動させるので、フォトマスク２９，６５と帯状ワーク１１の接合部分とが接触して損傷することはない。接合部分の通過後は、フォトマスク２９，６５は再現良く露光位置に復帰され、所定のプロキシミティギャップＬｇが設定される。なお、この接合部分の通過時にも、レーザ出力装置５５をオフ状態にしておくことが好ましい。

ワーク搬送によって接合部分がワーク巻取り部１５で巻き取られたら、一旦停止して、巻き取り終端部を固定し、カットして、巻き終わった端末を端末テープ止めする。巻き取られた製品を取り出し、新たにリール２４を供給してチャックした後、カットした帯状ワーク１１の先端をリール２４に係止する。露光工程が以上で一巡し、この繰り返しによって製品が生産される。

なお上記は、１軸送り出し及び巻き取りを例に取り、説明したが、送り出し、巻き取りをそれぞれ２軸にして、切り替え時間を稼ぐ構成としてもよいし、リザーバーなどを構成して完全に無停止切換えを行うように構成すればロスは最小にできる。

露光工程で露光された帯状ワーク１１は、現像工程に搬送され、現像されてメッシュ状の周期パターン５が銀で形成される。次のメッキ工程では、周期パターンをメッキの核として、電解メッキにより銅メッキを行い、電磁波シールドフイルム２が完成する。

なお、本実施形態では、銀塩感材を使用する電磁波シールドフイルムを例に説明したが、ＰＥＴ基材に銅箔を張り合わせこれにフォトレジストを塗布したもの、もしくはＤＦＲ（ドライフイルムレジスト）を張り合わせたものに対して、上記露光方法、露光装置を適用しても好適である。ただし、感材分光感度に合せ、光源波長を適合させておく必要がある。その場合は露光現像後にエッチング工程によって不要な銅箔部分を除去することにより、銅メッシュを形成させ電磁波シールドフイルム製品となる。

また、感材としては、銀塩感材だけでなくフォトレジストであってもよく、市販のドライフイルムレジストでもかまわない。この場合、銀塩感材に比べて感度の点で若干低感度であるが、その分光源パワーを上げてやればよく、フォトレジストであっても十分適用が可能である。この場合も感材分光感度に合せ、光源波長を適合させておく必要がある。

また、ポリゴンミラーと半導体レーザの平行光ビームとの組み合わせがシンプル、安価で好ましいが、周期パターンの大きさが非常に大きくなる場合など、必ずしも光源としてビーム走査を行うことが有効でない場合も考えられる。この場合、大面積の平行光源を使用し、シャッタ装置を使用して、規定範囲内に規定時間の露光を行うとよい。なお、この場合は輝度分布が露光量に影響するため、出来る限り均一化された露光光源を使用する必要がある。

図１４は、露光ローラ２８に帯状ワーク１１が掛けられている露光部の正面図であり、露光光源８５として、いわゆるプロキシミティ露光機に使用されている紫外域の水銀ランプやメタルハライドランプなどを凹面鏡とコリメートレンズを用いて平行光化した大面積、例えば直径Ｄｎ＝φ８００ｍｍの簡易平行光源を使用する。また、露光光源８５とフォトマスク２９との間に、ワーク搬送方向に３．６ｍｍ、幅方向にＬｗ＝８００ｍｍのスリット８６を有する遮光マスク８７と、シャッタ装置８８とを配置し、全幅に細長い領域を露光時間ΔＴだけ露光できるようにするとよい。シャッタ装置８８としては、メカニカルシャッターや液晶シャッター等を用いることができる。これにより、帯状ワーク１１の幅方向でのフォトマスク２９上に射影される光の幅方向の長さがＬｗ＝８００ｍｍとなるため、フォトマスク２９のワーク幅方向のパターン幅をＷ２＝７５０ｍｍにすれば、Ｌｗ＞Ｗ２を実現することができる。

本発明のパターン露光方法及び装置は、様々な周期パターンの露光に利用できるが、プラズマディスプレイ用磁気シールドフイルムを構成するメッシュパターンのように、連続的に継ぎ目のないシームレスなパターンで、これを帯状ワークにシームレスに露光する場合により好適である。なぜなら、多重露光によって隣同士のいくつかの周期パターンを連続的に重ね書きするので、外乱が入った場合のパターンの欠落など、つなぎ目欠陥が出にくい設計となっていること、第１露光部１３と第２露光部１４の間で特別な露光タイミングを計る必要がなく、両方の露光部でどこから露光をはじめても同一のパターン形成となり、よりシンプルな制御で露光できる点が挙げられる。

また、周期パターンを描くパターン最小線幅Ｄｍｉｎとして、２０μｍ以下に露光する場合により好適である。通常の露光ビームによる直描ではビーム径は５０μｍ程度であり、よりビーム径を小さく設計する場合には、設備コストが大きな負担となってくる。しかしながら、本方式によれば、マスクを使用しているため、線幅を細いものでも露光できる点が容易であり、かつ連続的に露光を行えるので高スループットが期待できる。

上記実施形態では、同じパターンをシームレスに露光する例について説明したが、本発明は、シームレスなパターンの途中で異なるパターンの露光を行うこともできる。以下、シームレスなパターンの途中で異なるパターンの露光を行う例について説明する。なお、上記実施形態で説明したものと同じものについては、詳しい説明は省略する。

図１５は、メッシュ状の電磁波シールドパターン９５の外周に、アース用の縁取り部９６が設けられた電磁波シールドフイルム９７の平面図である。図１６に示すように、この電磁波シールドフイルム９７は、長尺の帯状ワーク９８に連続的に形成される。

電磁波シールドパターン９５は、透明フイルム上に銀によって形成される周期パターン１０１と、この周期パターン１０１の表面に施される銅メッキとからなる。図１５（Ｂ）に部分的に拡大して示すように、周期パターン１０１は、例えば、線幅Ｄ１＝１０〜２０μｍの細線が、線間ピッチＰ１＝３００μｍ、配置角度θ１＝４５°で直交するように配置されている。

外周の縁取り部９６は、パターン露光装置による帯状ワーク９８の搬送方向Ｆに沿う側縁部１０３と、この搬送方向に直交する直交部１０４とからなる。例えば、側縁部１０３の幅Ｗ１は５０ｍｍであり、直交部１０４のワーク搬送方向長さＬ３は４５ｍｍである。直交部１０４は、ワーク搬送方向Ｆに９０ｍｍの長さＬ４で帯状ワーク９８に形成され、その中央で切断されることにより４５ｍｍとなる。この直交部１０４は、ワーク搬送方向Ｆにおいて、ピッチＰｆ、例えばＰｆ＝１０９０ｍｍごとに作成される。

図１７は、上記電磁波シールドフイルム９７の露光に使用されるパターン露光装置１１０である。このパターン露光装置１１０は、図３に示す露光装置１０とほぼ同様の構成であるため、相違点のみ説明する。

パターン露光装置１１０は、第１露光部１１３で周期パターン１０１と縁取り部９６の側縁部１０３を露光し、第２露光部１１４で直交部１０４を露光する。第１露光部１１３の上流側には、帯状ワーク９８の搬送量を測定し、所定長さごとに帯状ワーク９８の一方の側縁にノッチ１１５（図１６参照）を形成するノッチ加工部１１６が設けられている。このノッチ加工部１１６は、例えば揺動ダイセット等からなり、帯状ワーク９８の側縁を丸く打ち抜き加工してノッチ１１５を形成する。第１露光部１１３の直前のパスローラ１１７上には、ノッチ１１５を検出するノッチ検出センサ１１８が配置されている。透過型センサからなるノッチ検出センサ１１８の検出信号は、制御部１１９に入力され、第２露光部１２０で露光を開始するタイミングとして利用される。

なお、ノッチ１１５の形状は限定されるものではなく、円形以外でもよい。また、レーザマーカによるマーキングや、穴あけ加工機による穴あけ、帯状ワーク９８の側縁に磁気記録部を形成し、これに磁気記録する等、適宜選択することができる。

図１８（Ｂ）は、第１露光部１１３にセットされる第１フォトマスク１２５の平面図である。この第１フォトマスク１２５には、周期パターン１０１の露光に用いられるメッシュパターン１２６と、縁取り部９６の側縁部１０３の露光に使用される第１ベタパターン１２７とが設けられている。メッシュパターン１２６は、例えば黒色の遮光パターンに、メッシュパターン１２６の形状のスリットを形成して光が透過できるようにしたものである。なお、本来、遮光パターンを黒地で、メッシュパターン１２６を白地で描くべきであるが、図面が煩雑になるため、図１８では、遮光パターンを白地で、メッシュパターン１２６を黒線で描いている。

図１８（Ｂ）に示すように、メッシュパターン１２６、１辺が３００μｍの正方形をθ１＝４５°傾けてなる菱形形状が幅方向に沿って配列されたものであり、クロム蒸着によってマスク基板上に形成されている。このメッシュパターン１２６がワーク搬送方向Ｆに繰り返し露光される周期である周期長さＬ１は、Ｌ１＝Ｐ１／ｓｉｎθ１＝３００／ｓｉｎ４５＝４２４μｍとなる。メッシュパターン１２６は、ワーク幅方向にＷ＝７６０ｍｍの有効幅で設けられており、第１ベタパターン１２７は、側縁部の幅に合せてＷ２＝５０ｍｍとなっている。メッシュパターン１２６の線幅Ｄ１’は、プロキシミティ露光によって生ずる線幅太りを見込んで、出来上がり寸法Ｄ１より細めに形成されている。

図１９は、第２露光部１２０に使用される第２フォトマスク１３０の平面図である。この第２フォトマスク１３０は、幅方向に沿う中央部分に、直交部１０４の露光に用いられる第２ベタパターン１３１が設けられている。この第２ベタパターン１３１は、ワーク搬送方向長さＬ５＝９０ｍｍ、幅方向Ｗ３＝７６０ｍｍとされている。なお、第２フォトマスク１３０において、第２ベタパターン１３１を白地、その他の遮光パターンを黒地で描くべきであるが、図面の煩雑になるため、図１９では、遮光パターンを白地で描いている。

このパターン露光装置は、次のように動作する。帯状ワーク９８が搬送方向に搬送されると、ノッチ加工部１１６において帯状ワーク９８の長さが測定され、所定長さ、例えば１０９０ｍｍごとに帯状ワーク９８の側端にノッチ１１５が形成される。ワーク搬送速度Ｖと各照明部１３４，１３５のポリゴンミラーの回転速度との同期が完了すると、第１露光部１１３は第１フォトマスク１２５上でレーザ光を走査させ、帯状ワーク９８にメッシュ状の周期パターン１０１と、側縁の縁取り部９６とを露光する。

メッシュパターン１２６の搬送方向の周期長さＬ１＝４２４μｍ、帯状ワーク９８のワーク搬送速度をＶ＝４ｍ／分、メッシュパターン１２６を露光するための露光周期をＴ１、露光時間をΔＴ１、メッシュパターン１２６の最小線幅Ｄ１’ｍｉｎ＝１０μｍとした時、周期長さＬ１だけ帯状ワーク９８が搬送されるのに必要な時間は、Ｌ１／Ｖ＝６．３６ｍｓｅｃとなる。この時間に１回のレーザ走査を行うように設計すると、露光周期Ｔ１＝６．３６ｍｓｅｃとなり、１８面ポリゴンミラーの回転数は、ω１＝５２４ｒｐｍとなる。このときのビーム走査速度Ｖｂ１は、ポリゴンミラーから第１フォトマスク１２５までの距離Ｌｓが２２５０ｍｍであるので、Ｖｂ１＝Ｌｓ・ω１＝１２３ｍ／ｓｅｃ、レーザ光Ｓ１の射影形状の幅方向の大きさＷｂは１．２ｍｍなので、レーザ光Ｓ１がこの走査速度で露光している露光時間はΔＴ１＝１．２／ｖｂ１＝９．８μｓｅｃ、この間で帯状ワーク９８が搬送方向に動く搬送量Ｌｍ１は、Ｖ・ΔＴ１＝０．６５μｍとなる。Ｖ・ΔＴ１＝０．６５μｍ＜Ｄ１’ｍｉｎ＝１０μｍを満たすので、露光品質の低下は少ない。

なお、本実施形態においても射影形状の大きさが長軸Ｌｂ＝３．６ｍｍ×短軸Ｗｂ＝１．２ｍｍの楕円形状のレーザ光Ｓ１を使用し、第１フォトマスク１２５の裏面に、レーザ光Ｓ１の長軸Ｌｂにほぼ等しい幅を有するスリットが設けられた遮光マスクを配置し、それ以上の光が第１フォトマスク１２５に当たらないようにしている。そのため、レーザ光Ｓ１の１走査による露光領域は、搬送方向３．６ｍｍ×幅方向７５０ｍｍとなり、３．６／０．８．５＝８．５列分のメッシュパターン１２６を照射し、かつ多重露光が行われることになる。

これにより、第１フォトマスク１２５上に射影される露光光源の光の長さＬｂ＝３．６ｍｍ、Ｌｂ＝３．６＞Ｌ１＝０．４２４を満たし、Ｌｂ／Ｌ１の商ｍ1はｍ１＝８となる。したがって、ワーク搬送速度Ｖと露光周期Ｔ１との間の関係が、（ｎ1−１）×（Ｌ１／Ｖ）＝Ｔ1（ｎ1は自然数）、かつ２＝＜ｎ1＜＝ｍ1＝８満たすようにすると、ｎ1＝２〜８の任意の数字を選択でき、最も多重露光回数を多く出来るのは、ｎ1＝２の場合である。本実施形態では、上述のように、メッシュパターン１２６の１周期分の長さだけ帯状ワーク９８が搬送されるのに必要な時間Ｌ１／Ｖ＝６．３６ｍｓｅｃとし、この時間に１回のレーザ走査を行うため、ｎ１＝２、Ｔ１＝６．６３ｍｓｅｃになるようにＴ１とＶとの関係を決めてある。

第２露光部１２０では全面露光のべた焼きすればよく、ベタ焼きの長さは９０ｍｍであるので４ｍ／分のワーク搬送速度では９０／６６．７＝１．３５ｓｅｃかかるので、露光時間ΔＴ２＝１．３５ｓｅｃ、露光周期Ｔ２は１０９０ｍｍピッチなので、１０９０／６６．７＝１６．３４ｓｅｃ周期となる。制御部１１９は、ノッチ検出センサ１１８の検出信号とポリゴンミラーのスキャン開始信号のＡＮＤ条件にて第２照明部のレーザ出力装置を稼働させる。上記ポリゴンミラーのスキャン開始信号は、ミラーによってスキャンされるレーザ光をフォトダイオードなどの光検出器によって検出した信号を使うか、もしくはミラーの制御信号で１面に１回出力されるパルス信号の立ち上がりを利用する。

第２露光部１２０による第２フォトマスク１３０を使用したベタ焼露光は、ポリゴンミラーの回転速度を早くした方が送りブレが小さくなるので、１８面ポリゴンミラーの回転数はω２＝２０９６ｒｐｍとして、このときのビーム走査速度Ｖｂ２はポリゴンミラーから走査面までＬｓ＝２２５０ｍｍであるのでＶｂ２＝Ｌｓ・ω２＝４９２ｍ／ｓｅｃとなる。レーザ光Ｓ２の幅方向の大きさは、Ｓ１と同じＷｂ＝１．２ｍｍなので、レーザ光Ｓ２がこの走査速度で露光している露光時間ΔＴ２＝１．２／Ｖｂ２＝２．４５μｓｅｃ、この間で帯状ワーク９８が搬送方向に動く量Ｌｍ２は、Ｖ・ΔＴ２＝０．１６μｍとなる。Ｖ・ΔＴ２＝０．１６μｍは、直交部の搬送方向長さ９０ｍｍより十分に小さいので、露光品質が悪くなることはない。また、長軸Ｌｂ＝３．６ｍｍのレーザ光Ｓ２による多重露光回数は、約３４回となる。

更に、本発明のパターン露光方法は、パターン露光だけではなく、写真露光等にも適用することができる。また、プロキシミティ露光を採用したが、投影露光を用いることも可能である。

本発明を利用して製造される電磁波シールドフイルムの平面図である。 電磁波シールドフイルムの断面図である。 本発明のパターン露光装置の構成を示す概略図である。 電磁波シールドフイルムの基材となる帯状ワークの平面図及び断面図である。 第１フォトマスクの平面図及び側面図である。 マスクパターンの形状を示す説明図である。 マスク保持部の構成を示す概略図である。 第１照明部の構成を示す概略図である。 レーザ光の射影形状を示す説明図である。 本発明のパターン露光方法を表す概念図である。 第１露光部によるパターン露光状態を示す模式図である。 第２露光部によるパターン露光状態を示す模式図である。 電磁波シールドフイルムの露光工程を示すフローチャートである。 面発光光源を使用した露光部の正面図である。 全周に縁取り部を有する電磁波シールドフイルムの平面図である。 電磁波シールドフイルムが形成されている帯状ワークの平面図である。 縁取り部を有する電磁波シールドフイルムの露光に用いられるパターン露光装置の構成を示す概略図である。 縁取り部を有する電磁波シールドフイルムの露光に用いられる第１フォトマスクの平面図である。 縁取り部を有する電磁波シールドフイルムの露光に用いられる第２フォトマスクの平面図である。

符号の説明

２，９７ 電磁波シールドフイルム
５，１０１ 周期パターン
１０，１１０ パターン露光装置
１１，９８ 帯状ワーク
１３，１１３，１６３ 第１露光部
１４，１２０，１６４ 第２露光部
１７，１１９，１６７ 制御部
２９，１２５，１７１ 第１フォトマスク
３０，１３４，１７２ 第１照明部
３３，１７５ 第１マスクパターン
４０ マスク保持部
５５ レーザ出力装置
５６ コリメータレンズ
５７ ポリゴンミラー
６５，１３０，１７９ 第２フォトマスク
６６，１３５，１８０ 第２照明部
６９，１８１ 第２マスクパターン
１１５ ノッチ
１１６ ノッチ加工部
１１８ ノッチ検出センサ
１２６ メッシュパターン
１２７ 第１ベタパターン
１３１ 第２ベタパターン

Claims (24)

1. 搬送方向に沿って配置された複数のフォトマスクに、感光層を有する帯状もしくはシート状のワークを近接させて連続搬送するステップと、
   前記各フォトマスクをそれぞれ含む複数の露光部により、ワーク搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で、各フォトマスクを介してプロキシミティ露光を行うステップを含み、
   各フォトマスクに設けられたマスクパターンが搬送方向に周期的なパターンとしてワークに露光されることを特徴とするパターン露光方法。
2. 前記複数の露光部は、それぞれ異なる周期的なパターンを連続して露光することを特徴とする請求項１記載のパターン露光方法。
3. 前記異なる周期的なパターンは、所定の角度を有する第１の細線と、この第１の細線と交差する角度を有する第２の細線であり、この第１の細線と第２の細線とを重ね合わせてメッシュ状のパターンを構成することを特徴とする請求項２記載のパターン露光方法。
4. 前記メッシュ状のパターンは、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンであることを特徴とする請求項３記載のパターン露光方法。
5. 前記複数の露光部は、第１の露光周期を用いて搬送方向に周期的かつ連続的な第１のパターンを露光し、第２の露光周期を用いて搬送方向に周期的かつ間欠的な第２のパターンを露光することを特徴とする請求項１記載のパターン露光方法。
6. 前記第１のパターンは、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターン、または搬送方向の両側端に縁部を有するメッシュパターンであり、前記第２のパターンは、該メッシュパターンを間欠的に横切るパターンであることを特徴とする請求項５記載のパターン露光方法。
7. 前記感光層は、銀塩感材もしくはフォトレジストであることを特徴とする請求項１ないし６いずれか記載のパターン露光方法。
8. 前記複数の露光部のうち、少なくとも一つの露光部で使用される露光周期が、他の露光部の露光周期と異なることを特徴とする請求項１ないし７いずれか記載のパターン露光方法。
9. 前記ワーク搬送速度と、露光周期及び露光時間は、共通の基準クロックに基づいて同期されることを特徴とする請求項１ないし８いずれか記載のパターン露光方法。
10. 前記複数の露光部よりもワーク搬送方向の上流側で、ワークに所定間隔で基準マークを付与し、各露光部は該基準マークを検出し、検出した基準マークをもとに露光タイミングを決めることを特徴とする請求項１ないし９いずれか記載のパターン露光方法。
11. 前記基準マークとして、レーザマーカによって記録されるレーザマーク、またはノッチ加工によって形成されるノッチ、穴あけ加工によって形成される穴、ワーク側縁に施された磁気記録層を利用した磁気信号等のいずれかが用いられることを特徴とする請求項１０記載のパターン露光方法。
12. 感光層を有する帯状もしくはシート状のワークを連続搬送する搬送手段と、
    このワークに対しプロキシミティギャップを隔てて配置されるフォトマスクと、このフォトマスクを介して、ワーク搬送速度に同期された露光周期及び露光時間でワークに光を照射してプロキシミティ露光を行う露光光源とを有する複数の露光部と、
    前記ワーク搬送速度と、露光周期及び露光時間を同期させる制御手段とを備え、
    各フォトマスクに設けられたマスクパターンが搬送方向に周期的なパターンとしてワークに露光されることを特徴とするパターン露光装置。
13. 前記複数の露光部は、少なくとも第１の露光部と第２の露光部とを有し、この第２の露光部の第２のフォトマスクに設けられている第２のマスクパターンは、第１の露光部の第１のフォトマスクの第１のマスクパターンと異なるパターンであることを特徴とする請求項１２記載のパターン露光装置。
14. 前記第１のフォトマスクは、ワーク搬送方向とのなす角度がθ１（−９０°＝＜θ１＝＜９０°）、線幅Ｄ１とされた細線が、ピッチＰ１で連続して配置される第１のマスクパターンを有し、
    前記第２のフォトマスクは、ワーク搬送方向とのなす角度がθ２（−９０°＝＜θ２＝＜９０°、θ１≠θ２）、線幅Ｄ２とされた細線が、ピッチＰ２で連続して配置される第２のマスクパターンを有し、
    第１のマスクパターンと第２のマスクパターンとを重ね合わせてワークに露光することにより、ワーク搬送方向に周期的なメッシュパターンを形成することを特徴とする請求項１３記載のパターン露光装置。
15. 前記ワークのワーク搬送方向に直交するワーク幅方向の寸法がＷ０、第１のマスクパターンのワーク搬送方向に周期的な長さがＬ１（Ｌ１＝Ｐ１／ｓｉｎθ１）、第２のマスクパターンのワーク搬送方向に周期的な長さがＬ２（Ｌ２＝Ｐ２／ｓｉｎθ２）であるとき、該第１のマスクパターンは、ワーク搬送方向に周期長さＬ１以上、ワーク幅方向にＷ０以上のパターンエリアを有し、該第２のマスクパターンは、ワーク搬送方向に周期長さＬ２以上、ワーク幅方向にＷ０以上のパターンエリアを有することを特徴とする請求項１４記載のパターン露光装置。
16. 前記第１の露光部の露光周期は、ワークがＬ１またはその整数倍のｎ・Ｌ１だけ搬送されるごとに１回の露光を行う第１の露光周期であり、第２の露光部の露光周期は、ワークがＬ２またはその整数倍のｎ・Ｌ２だけ搬送されるごとに１回の露光を行う第２の露光周期であることを特徴とする請求項１５記載のパターン露光装置。
17. 前記露光されるパターンは、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンであることを特徴とする請求項１２ないし１６いずれか記載のパターン露光装置。
18. 前記第１の露光部と第２の露光部とのいずれか一方の露光周期は、搬送方向に周期的かつ連続的なパターンを露光する露光周期であり、他方は、搬送方向に周期的かつ間欠的なパターンを露光する露光周期であることを特徴とする請求項１３記載のパターン露光装置。
19. 前記第１の露光部と第２の露光部とのいずれか一方の露光部は、少なくともメッシュ状のパターンを含むマスクパターンとして設けられているフォトマスクを有し、このパターンを搬送方向に周期的かつ連続的に露光する露光周期を用い、
    他方の露光部は、ワーク搬送方向に直交する帯状のパターンがマスクパターンとして設けられているフォトマスクを有し、このパターンを搬送方向に周期的かつ間欠的に露光する露光周期を用いることを特徴とする請求項１３または１８記載のパターン露光装置。
20. 前記メッシュ状のパターンは、電磁波シールド材料を構成するメッシュパターンであり、前記帯状のパターンは、メッシュパターンを間欠的に横切るパターンであることを特徴とする請求項１９記載のパターン露光装置。
21. 前記感光層は、銀塩感材もしくはフォトレジストであることを特徴とする請求項１２ないし２０いずれか記載のパターン露光装置。
22. 前記ワーク搬送速度と、露光周期及び露光時間とを同期させる際の基準となる基準クロックを発生する基準クロック手段を設けたことを特徴とする請求項１２ないし２１いずれか記載のパターン露光装置。
23. 前記複数の露光部よりもワーク搬送方向の上流側に、ワークに所定間隔で基準マークを付与するマーク付与手段と、基準マークを検出するマーク検出手段とを設け、複数の露光部は、マーク検出手段による基準マークの検出に基づいて露光タイミングを決めることを特徴とする請求項１２ないし２２いずれか記載のパターン露光装置。
24. 前記基準マークとして、レーザマーカによって記録されるレーザマーク、またはノッチ加工によって形成されるノッチ、穴あけ加工によって形成される穴、ワーク側縁に施された磁気記録層を利用した磁気信号等のいずれかが用いられることを特徴とする請求項２３記載のパターン露光装置。

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