JP2005030682A - 乾燥装置、熱現像感光材料製造装置及びこれらを用いた熱現像感光材料の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】乾燥工程における乾燥ムラ、まだらムラ等を無くし、本来の熱現像感光材料の性能を引き出すことが出来る乾燥装置、熱現像感光材料製造装置及びこれらを用いた熱現像感光材料の製造方法の提供。
【解決手段】連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜より溶媒を蒸発させるため、乾燥雰囲気温度が個別に制御可能な複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、該乾燥室の乾燥雰囲気温度は、該支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室の乾燥雰囲気温度よりも５〜５０℃高く制御されていることを特徴とする乾燥装置。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層（以下、保護層ともいう）を含む塗布膜より、溶媒を蒸発させることができる乾燥装置、熱現像感光材料製造装置及びこれらの装置を用いた熱現像感光材料の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から印刷製版や医療の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題となっており、近年では環境保全、省スペースの観点から、レーザー・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成することができる画像形成材料として、熱現像処理法を用いて写真画像を形成する熱現像感光材料が採用される様になって来た。
【０００３】
このような熱現像感光材料は、還元可能な銀源（例えば有機銀塩）、触媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）及び還元剤を通常（有機）バインダーマトリックス中に分散した状態で含有する画像形成層を有しており、常温で安定であるが、露光後高温に加熱した場合に還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対象をなし、画像の形成がなされる。
【０００４】
各構成層を塗布する方法としては、例えばスライド型ダイコータを使用しスライド塗布法、エクストルージョン型ダイコータを使用したエクストルージョン塗布法、カーテン型ダイコータを使用しカーテン塗布法等の前計量タイプの塗布法が広く用いられている。この塗布では、均一な塗布膜厚を得るために、支持体の平面性を保持すること及び塗布液吐出位置と支持体との距離であるコータギャップを安定に保持するため塗布位置で支持体をバックロールで支持することが広く行われている。
【０００５】
熱現像感光材料は、一般的に各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を支持体に塗布した後、支持搬送させながら、支持体上の液状の塗布膜を乾燥工程で溶媒を除去し、乾燥終了後巻き取り製造されている。
【０００６】
乾燥工程は、塗布直後の塗布膜面を加熱した雰囲気、加熱風が当たる雰囲気にさらすために、塗布膜面の性状に影響を与える重要な工程となっている。一般的に乾燥工程における塗布膜面に与える問題として加熱風が当たることにより塗膜表面が乱され、表面の平滑度を失い、所謂まだらムラが生じたり、乾燥工程内の温度、加熱風の風量等のバラツキにより乾燥ムラが生じたりすることが知られている。特に、塗布液の溶媒に有機溶剤を使用している場合は、この様な傾向が強いことが知られている。
【０００７】
この様な故障が発生しては、生産効率を上げることが困難となるため、乾燥条件に対してはいろいろの対策が取られてきた。例えば、支持体上に塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内はマイクロウェーブによる加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは温度を制御した乾燥風を風速が０．１〜１０ｍ／秒で塗布面へ吹き付けることによりふかれムラを防止した乾燥を行う方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００８】
塗布膜面に吹き付ける風の角度を規定することによりふかれムラを防止した乾燥を行う方法が知られている（例えば、特許文献２を参照。）。
【０００９】
乾燥工程の温度にバラツキによる乾燥ムラを防止するために初期の乾燥温度を室温より高く、且つ後期乾燥時の乾燥温度よりも低く設定する方法が知られている（例えば、特許文献３を参照。）。
【００１０】
しかしながら、これらの方法を熱現像感光材料用の乾燥装置、製造装置及びこれらを使用して熱現像感光材料を製造した場合、ある程度までは改良はされるのであるが、未だ充分とはならないため、本来の性能を充分に引き出せない状態で製造を行っているのが現状である。この様な状況から、乾燥工程における乾燥ムラ、まだらムラ等を無くし、本来の熱現像感光材料の性能を引き出すことが出来る乾燥装置、熱現像感光材料製造装置及びこれらを用いた熱現像感光材料の製造方法の開発が望まれている。
【００１１】
【特許文献１】
特開２０００−３２９４６３号公報
【００１２】
【特許文献２】
特開平１０−６８５８７号公報
【００１３】
【特許文献３】
特開昭５０−２０３５５号公報
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記状況に鑑み成されたものであり、その目的は、乾燥工程における乾燥ムラ、まだらムラ等を無くし、本来の熱現像感光材料の性能を引き出すことが出来る乾燥装置、熱現像感光材料製造装置及びこれらを用いた熱現像感光材料の製造方法を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。
【００１６】
１）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
前記乾燥室の乾燥雰囲気温度は、該支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室の乾燥雰囲気温度よりも５〜５０℃高く制御されていることを特徴とする乾燥装置。
【００１７】
２）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、該塗布膜が最初に入る前記乾燥室の乾燥雰囲気温度は塗布時の塗布液温度と比較し０〜３℃高く、且つ乾燥室の入り口は、前記塗布膜の表面より０．１〜１ｍの高さを有していることを特徴とする乾燥装置。
【００１８】
３）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
該乾燥ゾーンは各乾燥室の溶媒濃度が、該支持体の走行方向に対して、一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも０〜５ｖｏｌ％低く制御されていることを特徴とする乾燥装置。
【００１９】
４）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
該乾燥ゾーンは、前記乾燥室の入り口から前記乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１〜２０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、支持体の搬送速度に対して５０〜１００％で、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１〜２０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、該支持体の搬送速度よりも５〜５０％高いことを特徴とする乾燥装置。
【００２０】
５）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
該乾燥ゾーンは、前記乾燥室の塗布膜面の垂直方向の距離１〜２０ｍｍでの上方から下方への風速が、支持体の走行方向に対して、一つ前の乾燥室より２〜５０％高くなる様に制御されていることを特徴とする乾燥装置。
【００２１】
６）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する主乾燥装置と、該乾燥装置より下流に副乾燥装置とを有する乾燥装置において、
該主乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
該副乾燥装置は乾燥雰囲気温度と該支持体の支持ロールの温度とが制御可能で、且つ、該支持ロールへの支持体の接触面積が調整可能であることを特徴とする乾燥装置。
【００２２】
７）前記副乾燥装置は、出口での塗布膜の温度が外部雰囲気温度に対して０〜１℃高いことを特徴とする６）に記載の乾燥装置。
【００２３】
８）前記乾燥室は、各々少なくとも１箇所のイナートガス供給部および少なくとも１箇所のガス排気部を有していることを特徴とする１）〜７）の何れか１項に記載の乾燥装置。
【００２４】
９）前記乾燥ゾーンは、塗布膜が最初に入る乾燥室の天井は入り口よりも高いことを特徴とする１）〜８）の何れか１項に記載の乾燥装置。
【００２５】
１０）１）〜９）の何れか１項に記載の乾燥装置を使用して熱現像感光材料を製造することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
【００２６】
１１）連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の個別に制御可能な複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する第１乾燥装置と、
該乾燥装置より下流に第２乾燥装置と、
該第２乾燥装置より下流で該非感光性保護層の上に湿潤状態で０．５〜３μｍの厚さで最外層を設ける塗布装置と、
該塗布装置の下流側に第３乾燥装置とを有していることを特徴とする熱現像感光材料製造装置。
【００２７】
１２）前記塗布装置が、インクジェットヘッドもしくはスプレーガンであることを特徴とする１１）に記載の熱現像感光材料製造装置。
【００２８】
１３）１１）に記載の第１乾燥装置は、１）〜７）の何れか１項に記載されている乾燥装置であることを特徴とする熱現像感光材料製造装置。
【００２９】
１４）１１）に記載の第２乾燥装置は、６）〜９）の何れか１項に記載されている副乾燥装置であることを特徴とする熱現像感光材料製造装置。
【００３０】
１５）１１）〜１４）の何れか１項に記載の熱現像感光材料製造装置を使用して製造することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
【００３１】
１６）１１）に記載の熱現像感光材料製造装置を用いて、有機銀成分を含有する感光層と、その上に非感光性保護層と、最外層とを有する熱現像感光材料の製造方法において、
該最外層用の塗布液は感光層用の塗布液に含まれる合成高分子化合物および溶媒とは異なる合成高分子化合物および溶媒を含有していることを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
【００３２】
【発明の実施の形態】
本発明に係る実施の形態を図１〜図３を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３３】
図１は本発明の乾燥装置を用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。図１の（ａ）は複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置を用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。図１の（ｂ）は図１の（ａ）のＰで示される部分の拡大概略図である。
【００３４】
図中、１はバックロール２で塗布位置が保持され、連続搬送する帯状支持体３に有機銀成分を含有する感光層及びその上に保護層を形成する塗布液を塗布するコータを示す。４ａ〜４ｃは感光層及びその上に保護層を形成した塗布膜（以下、単に塗布膜とも言う）を有する帯状支持体３ａを搬送（図中の矢印方向）する搬送ロールを示す。５は塗膜を有する帯状支持体３ａを乾燥する乾燥装置を示す。乾燥装置５は加熱空気により乾燥するエアーモード乾燥方式の乾燥装置（以下、エアーモード乾燥装置ともいう）、加熱不活性ガスにより乾燥するイナート乾燥方式の乾燥装置（以下、イナート乾燥装置ともいう）のいずれでもかまわない。乾燥装置５は乾燥条件を個別に制御することが可能となっている乾燥室５０１ａ〜５０１ｅを連続的に繋げた乾燥ゾーンを有している。更に詳しくは、本発明では乾燥室５０１ａの塗布膜を有する帯状支持体３ａの入り口５０６から乾燥室５０１ｅの出口５０７の間を乾燥ゾーンという。乾燥室の数は特に限定はなく、乾燥する塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜厚、搬送速度、乾燥温度、乾燥風量等により適宜変更が可能である。本図では乾燥室が５室の場合を示している。
【００３５】
５０２ａ〜５０２ｅは塗布膜を有する帯状支持体３ａに加熱風の吹き付け手段である吹き付け装置を示す。５０３ａ〜５０３ｅは加熱風の取り入れ口を示し、５０４ａ〜５０４ｅは出口を示す。５０５は塗布膜を有する帯状支持体３ａへの加熱風の吹き出し口を示す。吹き出し口５０５の角度は特に限定はなく、例えば塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗膜面に対して、垂直に吹き出しても良いし、搬送方向に沿って平行となるように吹き出しても良いし、搬送方向と逆に向流として吹き出しても良い。吹き出し口５０５の角度は使用した塗布液の性質や設備上の都合により選択することが可能である。本図では塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜面に対して、垂直に吹き出す場合を示している。Ｈは入り口５０６の高さを示す。
【００３６】
以下に本図に示される乾燥装置５に適応する本発明の乾燥条件につき説明する。１）乾燥室５０１ａ〜５０１ｅの各乾燥室の温度は、一つ前の乾燥室の乾燥雰囲気温度より５〜５０℃高くなるように制御されている。５℃未満の場合は、乾燥が進まなくなり、結露を生じるため好ましくない。５０℃を越えた場合は、乾燥が進みすぎ、塗布膜が乱れるため好ましくない。
【００３７】
各乾燥室の温度制御は各室に配設された温度センサ（不図示）からの情報をＣＰＵとメモリとを有する制御部（不図示）により演算処理され加熱風の温度を制御することで行うことが可能である。
【００３８】
２）塗布膜を有する帯状支持体３ａが最初に入る乾燥室５０１ａの温度は、塗布時の塗布液の温度と比較して０〜３℃高く、且つ乾燥室５０１ａの入り口５０６は、塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜の表面より０．１〜１ｍの高さを有している。尚、０〜３℃高くとは、塗布時の塗布液の温度と比較し塗布液の温度と同じ温度から３℃以内の範囲で高いことを意味する。
【００３９】
乾燥室５０１ａの温度が塗布時の塗布液の温度より低い場合は、乾燥が進まなくなり、塗布膜面に結露等が生じ故障の原因となるためため好ましくない。３℃を越えた場合は、乾燥が進みすぎ、塗布膜が乱れるため好ましくない。入り口５０６の塗布膜面からの高さは、０．１ｍ未満の場合は、塗布膜に近接しすぎ、塗布膜の状態によっては風速により、故障が発生する危険があるため好ましくない。１ｍを越えた場合は、外部との導通が広がりすぎ、乾燥室の雰囲気を保持することが困難となるため好ましくない。
【００４０】
３）乾燥室５０１ａ〜５０１ｅの各乾燥室の溶媒濃度は、塗布膜を有する帯状支持体３ａの搬送方向（図中の矢印方向）に対して、一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも０〜５ｖｏｌ％低くなるように制御されている。尚、０〜５ｖｏｌ％とは、一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度と同じ溶媒濃度から５ｖｏｌ％以内で低いことを意味する。
【００４１】
一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも低い場合は、使用している溶媒の種類によっては乾燥の遅れが生じる可能性があるため好ましくない。５ｖｏｌ％を越えた場合は、使用している溶媒の種類によっては乾燥が進み過ぎて、塗布膜が乱れる危険があるため好ましくない。
【００４２】
各乾燥室の溶媒濃度制御は各室に配設された溶媒濃度センサ（不図示）からの情報をＣＰＵとメモリとを有する制御部（不図示）により演算処理され加熱風の温度、風量を制御することで行うことが可能である。
【００４３】
４）乾燥室５０１ａ〜５０１ｅを有する乾燥装置５の乾燥ゾーンの風速は、乾燥室５０１ａの入り口５０６から乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室（本図では乾燥室５０１ｃが該当する）では、塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜面上の１〜２０ｍｍで、塗布膜を有する帯状支持体３ａの搬送方向（図中の矢印方向）に対して、上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度に対して５０〜１００％となっている。５０％未満の場合は、乾燥風の供給が少なくなり、乾燥の遅れが生じる危険があるため好ましくない。１００％を越えた場合は、乾燥風の供給が過剰となり、塗布膜が乱れる危険があるため好ましくない。
【００４４】
又、残りの区間の乾燥室（本図では乾燥室５０１ｄ、５０１ｅが該当する）では、塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜面上の１〜２０ｍｍで、塗布膜を有する帯状支持体３ａの搬送方向（図中の矢印方向）に対して、上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも５〜５０％高くなっている。５％未満の場合は、乾燥風の供給が少なくなり、乾燥の遅れが生じる危険があるため好ましくない。５０％を越えた場合は、乾燥風の供給が過剰となり、塗布膜が乱れる危険があるため好ましくない。
【００４５】
５）乾燥室５０１ａ〜５０１ｅにおける塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜面の垂直方向の距離１〜２０ｍｍでの上方から下方への風速が、塗布膜を有する帯状支持体３ａの搬送方向（図中の矢印方向）に対して、一つ前の乾燥室より２〜５０％高くなる様に制御する。２％未満の場合は、乾燥風の供給が少なくなり、乾燥の遅れが生じる危険があるため好ましくない。５０％を越えた場合は、乾燥風の供給が過剰となり、塗布膜が乱れる危険があるため好ましくない。
【００４６】
各乾燥室の風速の制御は、各室に配設された風速センサ（不図示）からの情報をＣＰＵとメモリとを有する制御部（不図示）により演算処理され加熱風の風速を制御することで可能である。
【００４７】
本図に示される乾燥装置５の乾燥条件を１）〜５）に示したが、これらの条件は単独でも良いし、少なくとも２つを組み合わせた乾燥条件とすることも可能である。
【００４８】
図１に示される本発明の乾燥装置を使用することによる効果を以下に示す。
１）乾燥装置内部の乾燥ゾーンの塗布膜を有する帯状支持体の入り口から出口の乾燥雰囲気温度に傾斜をつけることにより、乾燥進行に伴う溶媒蒸発速度を（急激な上昇ではなく）階段状に上昇させることができ、これにより乾燥ムラによるムラ状欠陥を防止することが可能となった。
【００４９】
２）塗布膜を有する帯状支持体が最初に入る乾燥室の乾燥雰囲気温度を塗布液温度より高くすることで、塗布膜面上の結露等を防止し、且つ溶媒蒸発速度を抑えることができるため、乾燥ムラによるムラ状欠陥を防止することが可能となった。又、入り口の高さを大きくすることで湿潤状態の塗布膜へ当たる乾燥風の影響を少なくすることができるため、乾燥風によるムラ状欠陥を防止することが可能となった。
【００５０】
３）乾燥装置内部の乾燥ゾーンの溶媒濃度が、塗布膜を有する帯状支持体の入り口から出口までの間で傾斜をつける様に乾燥を行うことにより、乾燥進行に伴う溶媒蒸発速度を（急激な上昇ではなく）階段状に上昇させることができ、これにより乾燥ムラによるムラ状欠陥を防止することが可能となった。
【００５１】
４）塗布膜を有する帯状支持体の入り口から出口までの乾燥ゾーン内での乾燥風の風速を前半と後半とで変化することで、前半乾燥ムラを抑え、後半で確実に塗布膜を乾燥させ、未乾燥状態の発生を防止することが可能となった。
【００５２】
５）塗布膜を有する帯状支持体の入り口から出口までの乾燥ゾーン内での塗布膜面上の乾燥風の風速に傾斜をつけることにより、乾燥進行に伴う溶媒蒸発速度を（急激な上昇ではなく）階段状に上昇させることができ、乾燥ムラによるムラ状欠陥を防止することが可能となった。
【００５３】
図２は本発明の主乾燥装置と副乾燥装置とを用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。
【００５４】
図中、６は副乾燥装置を示し、塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量が仕上がった製品の機能に影響を与える場合、塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量を調整する機能を有している。副乾燥装置６は主乾燥装置５ａと離しても良いし、連続して設けても良い。本図では離した場合を示している。主乾燥装置５ａは図１に示す乾燥装置５と同じ機能を有している。
【００５５】
６０１は副乾燥装置６の外壁を示し、６０２は塗膜を有する帯状支持体３ａの入り口を示し、６０３は出口を示す。６０４は温風の取り入れ口を示し、６０５は温風の出口を示す。温風の温度及び風量は調整を必要とする塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量により決めることが可能である。入り口６０２から出口６０３を副乾燥ゾーンといい、副乾燥ゾーンの長さは調整を必要とする塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量により決めることが可能である。
【００５６】
副乾燥装置６は、乾燥後の塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量を主乾燥装置５ａのみで調整するのが困難の場合にのみ使用しても良く、また、予め、副乾燥装置６を使用して、塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量を調整するように主乾燥装置５ａの乾燥条件を設定してもかまわない。
【００５７】
６０７は副乾燥装置６内で塗布膜を有する帯状支持体３ａを支持搬送する上側の支持ロールを示し、６０６は下側の支持ロールを示し、上側の支持ロール６０７及び下側の支持ロール６０６は温度の制御が可能な加熱ロールとなっている。
又、副乾燥装置６の副乾燥ゾーンの温度も制御が可能となっている。副乾燥装置６の乾燥温度は、副乾燥装置６の出口での塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜の温度を外部雰囲気温度に対して０〜１℃高くすることが好ましい。尚、０〜１℃高くとは、外部雰囲気温度と同じ温度から１℃以内で高くすることを意味する。外部雰囲気温度より低い場合は、外部雰囲気の湿度により、塗布膜面に結露が生じ故障の原因となる場合がある。１℃を越えた場合は、巻き取り装置の位置により、巻き取られた状態の塗布膜を有する帯状支持体の温度が一定とならず変動し故障の原因となる場合がある。
【００５８】
副乾燥装置６は加熱空気により乾燥するエアーモード乾燥装置又はイナート乾燥装置のいずれでもかまわない。
【００５９】
副乾燥ゾーン、上側の支持ロール６０７及び下側の支持ロール６０６の温度の制御は、副乾燥装置内に配設された温度センサ（不図示）、支持ロールに配設された温度センサ（不図示）からの情報をＣＰＵとメモリとを有する制御部（不図示）により演算処理され、加熱風の温度及び支持ロールの加熱温度を制御することで可能である。
【００６０】
上側の支持ロール６０７又は下側の支持ロール６０６は上下方向（図中の矢印方向）への移動が可能となっている。これにより塗布膜を有する帯状支持体３ａの接触面積を調整することで、支持ロールの温度制御と合わせることでより精度良く、塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量の調整が可能となっている。残留溶媒量とは塗布膜中に含まれる有機溶剤又は水の量を言う。他の符号は図１と同義である。
【００６１】
図２に示される本発明の主乾燥装置及び副乾燥装置を備えた乾燥装置を使用することにより、図１に示される乾燥装置の効果に加えて次の効果が挙げられる。
【００６２】
１）副乾燥装置を配設し、雰囲気温度、支持ロールの温度、支持ロールと塗布膜を有する帯状支持体との接触面積を調整することで残留溶媒量を最適化することが容易になり、品質の向上・安定化が可能となった。
【００６３】
２）副乾燥装置により、残留溶媒量を最適化することが容易になったため、主乾燥装置の乾燥条件の管理を幅広く行うことが出来、主乾燥装置の管理が容易になった。
【００６４】
３）副乾燥装置からでる塗布膜を有する帯状支持体の温度を制御することが可能となったため、塗布膜面上に結露の防止及び巻き取られた後の温度変動が少なくすることで出来、収縮、膨張等による故障の発生を防止することが可能となった。
【００６５】
図３は非感光性保護層の上に最外層を塗設する塗布装置を有する熱現像感光材料製造装置の概略図である。
【００６６】
図中、７は塗膜を有する帯状支持体３ａを乾燥する第１乾燥装置を示す。第１乾燥装置７はエアーモード乾燥装置又はイナート乾燥装置のいずれでもかまわない。第１乾燥装置７は乾燥条件を個別に制御することが可能となっている乾燥室７０１ａ〜７０１ｄを連続的に繋げた乾燥ゾーンを有している。更に詳しくは、本発明では乾燥室７０１ａの塗布膜を有する帯状支持体３ａの入り口７０５から乾燥室７０１ａの出口７０６の間を乾燥ゾーンという。乾燥室の数は特に限定はなく、乾燥する塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜厚、搬送速度、乾燥温度、乾燥風量等により適宜変更が可能である。本図では乾燥室が４室の場合を示している。
【００６７】
７０２ａ〜７０２ｄは塗布膜を有する帯状支持体３ａに加熱風の吹き付け手段である吹き付け装置を示す。７０３ａ〜７０３ｄは加熱風の取り入れ口を示し、７０４ａ〜７０４ｄは出口を示す。７０７は塗布膜を有する帯状支持体３ａへの加熱風の吹き出し口を示す。吹き出し口７０７の角度は図１に示す乾燥装置５の吹き付け装置と同じである。
【００６８】
第１乾燥装置７は図１に示す乾燥装置５と同じ機能と構造を有しており、乾燥装置５に適応する乾燥条件１）〜５）を適応することが可能となっている。
【００６９】
８は図２に示す副乾燥装置６と同じ機能と構造を有している第２乾燥装置を示す。第２乾燥装置８は第１乾燥装置７と離しても良いし、連続して設けても良い。本図では離した場合を示している。
【００７０】
８０１は第２乾燥装置８の外壁を示し、８０２は塗膜を有する帯状支持体３ａの入り口を示し、８０３は出口を示す。８０４は温風の入り口を示し、８０５は温風の出口を示す。温風の温度及び風量は調整を必要とする塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量により決めることが可能である。入り口８０２から出口８０３を乾燥ゾーンといい、乾燥ゾーンの長さは調整を必要とする塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量により決めることが可能である。
【００７１】
８０７は第２乾燥装置８内で塗布膜を有する帯状支持体３ａを支持搬送する上側の支持ロールを示し、８０６は下側の支持ロールを示し、上側の支持ロール８０７及び下側の支持ロール８０６は温度の制御が可能な加熱ロールとなっている。又、第２乾燥装置８の乾燥ゾーンの温度も制御が可能となっている。第２乾燥装置８の乾燥条件は、図２に示す副乾燥装置６と同じとなっている。
【００７２】
第２乾燥装置８はエアーモード乾燥装置又はイナート乾燥装置のいずれでもかまわない。第２乾燥装置８の乾燥ゾーンの上側の支持ロール８０７及び下側の支持ロール８０６の温度の制御は、図２に示す副乾燥装置６の支持ロールと同じ方法で行うことが可能である。
【００７３】
上側の支持ロール８０７又は下側の支持ロール８０６は上下方向（図中の矢印方向）への移動が可能となっている。これにより塗布膜を有する帯状支持体３ａの接触面積を調整することで、支持ロールの温度制御と合わせることでより精度良く、塗布膜を有する帯状支持体３ａの残留溶媒量（残留水分量）の調整が可能となっている。
【００７４】
９は非感光性保護層の上に最外層を設ける塗布装置を示す。塗布装置９としては、インクジェットヘッドもしくはスプレーガンが好ましい。最外層の厚さは、湿潤状態で０．５〜３μｍである。０．５μｍ未満の場合は、塗布膜としての形成が困難となり、膜厚分布が不良となるため好ましくない。３μｍを越える場合は、最外層の種類によっては乾燥不足となるため好ましくない。
【００７５】
最外層は、表面状態の改質のために非感光性保護層の上に設けられている。最外層を形成するのに使用する塗布液としては、感光層用の塗布液に含まれる合成高分子化合物および溶媒とは異なる合成高分子化合物および溶媒を含有している。合成高分子化合物としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等がが挙げられる。溶媒としては、例えば純水、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これらの溶媒に０．１〜５質量％になるように合成高分子化合物を溶解し、塗布液として使用される。
【００７６】
１０は最外層を乾燥するために配設された第３乾燥装置を示す。第３乾燥装置１０は、エアーモード乾燥装置又はイナート乾燥装置のいずれでもよく、使用する溶媒の種類により適宜選択が可能となっている。
【００７７】
１０ａは第３乾燥装置の外壁を示し、１０ｂは最外層を有する帯状支持体３ｂの入り口を示し、１０ｃは出口を示す。１０ｄは温風の入り口を示し、１０ｅは温風の出口を示す。温風の温度及び風量は最外層を有する帯状支持体３ｂ溶媒量により決めることが可能である。入り口１０ｂから出口１０ｃを乾燥ゾーンといい、乾燥ゾーンの長さは最外層を有する帯状支持体３ｂ溶媒量により決めることが可能である。１０ｆは搬送用の支持ローラを示す。
【００７８】
第３乾燥装置の温度は、外部温度と同じか１００℃以内で高くなるように制御が可能となっている。制御方法は第１乾燥装置の温度制御と同じ方法で行うことが可能である。他の符号は図１と同義である。
【００７９】
本図に示される熱現像感光材料製造装置を使用することによる効果を以下に示す。図１及び図２に示される乾燥装置の効果に、更に最外層を塗設することが出来ることで、平滑性を上げ外気との接触を防止することで品質向上・安定化が可能となった。
【００８０】
図１〜図３に示す乾燥装置で蒸発した溶剤は、加熱風と共に回収装置（不図示）へ導入され回収される。又、加熱風が不活性ガスの場合は再度加熱され循環して乾燥に使用することが好ましい。乾燥装置は乾燥温度を安定に保ち、乾燥効率を上げるため乾燥装置の外壁は断熱パネル等で覆われていることが好ましい。
【００８１】
コータから乾燥装置の入り口までは、塗膜面が未乾燥であり、塗膜面に付着した異物は塗膜面に接着してしまい故障の原因の一つにもなることから周辺のクリーン度は高く保つ必要がある。乾燥装置内のクリーン度は製造する製品の性格にもよるが、クラス１０００以下、好ましくはクラス１００以下とすることが好ましい。
【００８２】
本発明に係る熱現像感光材料は、支持体上に有機銀粒子、ハロゲン化銀粒子、還元剤を有する有機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布して形成された感光層と、感光層の上に非感光性保護層とを有し、更に非感光性保護層の上に最外層を有していても良い。
【００８３】
感光層に有機溶媒を３０質量％以上、好ましくは３０〜９８質量％含有する塗布液を塗布して形成された層を有する場合、水分の吸脱湿が早く、現像処理の環境湿度で性能が大きく変動してしまうことがあるが、マイクロクリスタリンワックスまたはパラフィンワックスを含有するアクリル系疎水性樹脂層を有することにより、湿度依存性が著しく改善されることが知られている。
【００８４】
本発明に係るマイクロクリスタリンワックスまたはパラフィンワックスとしては、日本精蝋（株）製のＥＭＵＳＴＡＲ−０００１、ＥＭＵＳＴＡＲ−０１３５等を挙げることが出来る。
【００８５】
本発明に係る熱現像感光材料は、アクリル系疎水性樹脂層に、フタラジン化合物、ポリエチレンイミンを含有することが好ましい。好ましく用いられるフタラジン化合物としては、例えば、特開２０００−１０２３２号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（例示化合物Ｉ−１〜Ｉ−８４）等が挙げられる。ポリエチレンイミンとしては通常市販されているものが使用可能であり、例えば、Ｌａｐａｓｏｌ（ＢＡＳＦ社製）、エポミン（日本触媒社製）等が挙げられる。
【００８６】
感光層に含有される有機銀粒子（有機銀塩または有機銀塩粒子ともいう）は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖（１０〜３０、好ましくは５〜２５の炭素原子数）の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環カルボン酸が好ましい。配位子が、４．０〜１０．０の銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ（以下ＲＤ）第１７０２９及び２９９６３に記載されている。
【００８７】
有機銀塩は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２７６４３号公報に記載されている様なコントロールドダブルジェット法等が好ましく用いられる。
例えば、有機酸にアルカリ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ（例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど）を作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。
【００８８】
本発明に係る熱現像感光材料の感光層に含有されるハロゲン化銀粒子は光センサーとして機能するものである。画像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒子サイズが好ましくは０．０３μｍ以下、より好ましくは０．０１〜０．０３μｍの範囲である。尚、本発明の熱現像感光材料のハロゲン化銀粒子は前記有機銀塩調製時に同時に作製されるか、又は前記有機銀塩調製時に該ハロゲン化銀粒子を混在させて調製することにより、有機銀塩に融着した状態でハロゲン化銀粒子を形成させて微小粒子のいわゆるｉｎ ｓｉｔｕ銀とするのが好ましい。尚、上記ハロゲン化銀粒子の平均粒子径の測定方法は、電子顕微鏡により５００００倍で撮影し、それぞれのハロゲン化銀粒子の長辺と短辺を実測し、１００個の粒子を測定し、平均したものを平均粒径とする。
【００８９】
ここで、上記粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶でない場合、例えば、球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。又ハロゲン化銀粒子は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下をいう。更に好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％となる粒子である。
【００９０】
単分散度＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００
ハロゲン化銀粒子は平均粒径０．０１〜０．０３μｍで、かつ単分散粒子であることがより好ましく、この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
【００９１】
ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はないが、ミラー指数〔１００〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が５０％以上、更には７０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。ミラー指数〔１００〕面の比率は、増感色素の吸着における〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ；Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９，１６５（１９８５）により求めることができる。
【００９２】
又もう一つの好ましいハロゲン化銀粒子の形状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影面積の平方根を粒径ｒμｍとして、垂直方向の厚みをｈμｍとした場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものをいう。その中でも好ましくは、アスペクト比が３以上、５０以下である。又粒径は０．０３μｍ以下であることが好ましく、更に０．０１〜０．０３μｍが好ましい。これらの製法は米国特許第５，２６４，３３７号、同５，３１４，７９８号、同５，３２０，９５８号等の各明細書に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、更に画像の鮮鋭性も向上する。
【００９３】
ハロゲン化銀粒子の組成としては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀の何れであってもよい。本発明に用いられる写真乳剤は、Ｐ．Ｇｌａｆｋｉｄｅｓ著Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ社刊、１９６７年）、Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ著 Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６６年）、Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ著Ｍａｋｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６４年）等に記載された方法を用いて調製することができる。
【００９４】
ハロゲン化銀粒子には、照度不軌改良や階調調整のために、元素周期律表の６族から１０族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ましい。
【００９５】
ハロゲン化銀粒子は、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水洗により脱塩することができるが、本発明においては脱塩してもしなくてもよい。
【００９６】
ハロゲン化銀粒子は、化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法としては、当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。
【００９７】
本発明においては熱現像感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲン化銀粒子及び有機銀塩の総量は、銀量に換算して１ｍ^２当たり０．３〜２．２ｇであり、０．５〜１．５ｇがより好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得られる。又銀総量に対するハロゲン化銀の量は、質量比で５０％以下、好ましくは２５％以下、更に好ましくは０．１〜１５％の間である。
【００９８】
本発明におけるハロゲン化銀粒子は３５０〜４５０μｍに光の極大吸収を有し、特に増感色素を有してなくてもよいが、必要に応じて含有させてもよい。
【００９９】
本発明に係る熱現像感光材料の感光層、非感光性保護層、最外層にはバインダーを用いる。用いられるバインダーは親水性バインダー（水に溶解するバインダー若しくはラテックス類）又は疎水性バインダー（有機溶剤に溶解するバインダー）の何れでもよいが、感光層、非感光性保護層のバインダーが互いに同一の溶剤系に溶解するバインダーであるのが好ましく、最外層は感光層、非感光性保護層と異なるバインダー及び溶剤が使用されている。
【０１００】
各層に用いられるバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然高分子化合物や高分子化合物、その他フィルムを形成する媒体となるものが用いられる。
【０１０１】
本発明に係る熱現像感光材料には、一般に熱現像感光材料に用いられるカブリ防止剤、色調剤、硬膜剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、被覆助剤、フィルター染料、マット剤、滑り剤、塗布助剤、界面活性剤等を用いても良い。
【０１０２】
本発明で用いられる支持体は、現像処理後に所定の光学濃度を得るため及び現像処理後の画像の変形を防ぐために、プラスチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレンナフタレート）であることが好ましい。
【０１０３】
その中でも好ましい支持体としては、ポリエチレンテレフタレート及びシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラスチックの支持体が挙げられる。支持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０〜１８０μｍである。
【０１０４】
本発明においては帯電性を改良するために金属酸化物又は導電性ポリマーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バッキング層、感光層と下引の間の層などである。
【０１０５】
感光層、非感光性保護層の塗布方式としては、リバースロール、グラビアロール、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、スクイズコータ、含浸コータ、ワイヤーバーコータ、トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコータ或いはスプレーコータ、エクストルージョンコータがあるが、エクストルージョン方式のエクストルージョンコータによりウェット−オン−ウェット方式の重層塗布を行うのがより好ましい。
【０１０６】
尚、ウェット−オン−ウェット方式における重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったままで上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上するとともに、塗布を一度で終了させるので塗布面に傷が入り難く、平滑性が良いため現像むらが出にくく、更に歩留まりを向上させることができる。
【０１０７】
以下に、本発明の効果を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０８】
【実施例】
実施例１
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を調製した。
【０１０９】
〈感光層塗布液〉
《ハロゲン化銀乳剤Ａの調製》
水９００ｍｌ中にイナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭化カリウムと沃化カリウム及び〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ_５〕塩を銀１モル当たり１×１０^−６モル及び塩化ロジウム塩を銀１モル当たり１×１０^−６モルを含む水溶液３７０ｍｌを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で添加した。その後、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを添加し、ＮａＯＨでｐＨを５に調整して、平均粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％、投影直径面積の変動係数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤に、ゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理を行った後、フェノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲン化銀乳剤を得た。さらに、得られたハロゲン化銀乳剤に、塩化金酸及び無機硫黄で化学増感を行いハロゲン化銀乳剤Ａを得た。
【０１１０】
上記単分散度及び投影直径面積の変動係数は、下式により算出した。
単分散度（％）＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００
投影直径面積の変動係数（％）＝（投影直径面積の標準偏差）／（投影直径面積の平均値）×１００
《ベヘン酸Ｎａ溶液の調製》
９４５ｍｌの純水にベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９ｇ、ステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液９８ｍｌを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン酸Ｎａ溶液を得た。
（プレフォーム乳剤の調製）
上記のベヘン酸Ｎａ溶液に前記ハロゲン化銀乳剤Ａを１５．１ｇ添加し水酸化ナトリウム溶液でｐＨ８．１に調整した後に１モル／Ｌの硝酸銀溶液１４７ｍｌを７分間かけて加え、さらに２０分攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去した。出来たベヘン酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させ、次に、ポリビニルブチラール（平均分子量３０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）５４４ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合した後に、メディア分散機により２７．６ＭＰａで分散させプレフォーム乳剤を調製した。
【０１１１】
〈感光層塗布液の調製〉

【０１１２】
【化１】

【０１１３】
〈非感光性保護層塗布液〉
《非感光性保護層塗布液の調製》

〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．０５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００００ｍを使用し、図１に示すコータ（エクストルージョン型ダイコーターを使用）により、バックロールに保持された帯状支持体に、塗布液温度２５℃、塗布速度を８０ｍ／分、塗布幅１００ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚１００μｍ、非感光性保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布を行った後、表１に示す様に図１に示す乾燥装置の各乾燥室の乾燥雰囲気温度を変化させた乾燥条件で乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料１０１〜１０５とした。
【０１１４】
尚、乾燥室の入り口の高さ（塗布膜の表面からの高さ）を０．８ｍとした。乾燥温度以外の他の乾燥条件として、塗布膜が最初に入る乾燥室の乾燥温度は２７℃（塗布液温度より２℃高くした）とした。各乾燥室の排気口での溶媒濃度を一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも２ｖｏｌ％低くなるように制御した。
乾燥室の入り口から乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも２０％小さく、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも２０％大きくした。又、各乾燥室の風速は塗布膜を有する帯状支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室より１０％大きくなる様に制御した。各乾燥室の乾燥雰囲気温度の（）内の数値は一つ前の乾燥室との温度差を示す。
【０１１５】
粘度測定は、ハーケ社 ロトビスコＲＶ−１２を使用して各剪断における粘度を測定した。
【０１１６】
〈評価〉
作製した試料１０１〜１０５につき、塗布膜面を目視により観察し、以下の評価ランクにより評価を行い、その結果を表１に示す。
【０１１７】
評価ランク
○：乾燥ムラがない
△：性能に悪影響を与えないが僅かに部分的に認められる
×：性能に悪影響を与える乾燥ムラが部分的に認められる
【０１１８】
【表１】

【０１１９】
実施例２
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を調製した。
【０１２０】
〈感光層塗布液、非感光性保護層塗布液の調製〉
実施例１で調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を使用した。
【０１２１】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．０５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００００ｍを使用し、図１に示すコータ（エクストルージョン型ダイコーターを使用）により、バックロールに保持された帯状支持体に、塗布液温度２５℃、塗布速度を８０ｍ／分、塗布幅１００ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚１００μｍ、非感光性保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布を行った後、表２に示す様に図１に示す乾燥装置の塗布膜が最初に入る乾燥室の乾燥雰囲気温度及び乾燥室の入り口の高さ（塗布膜の表面からの高さ）を変化させた乾燥条件で乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料２０１〜２１１とした。
【０１２２】
尚、他の乾燥条件として、各乾燥室の排気口での溶媒濃度を一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも２ｖｏｌ％低くなるように制御した。乾燥室の入り口から乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも２０％小さく、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも２０％大きくした。又、各乾燥室の風速は支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室より１０％大きくなる様に制御した。各乾燥室の乾燥雰囲気温度は一つ前の乾燥室の温度より３０℃高くなるように制御した。
【０１２３】
粘度測定は、ハーケ社 ロトビスコＲＶ−１２を使用して各剪断における粘度を測定した。
【０１２４】
〈評価〉
作製した試料２０１〜２１１につき、塗布膜面を目視により観察し、実施例１と同じ評価ランクにより評価を行い、その結果を表２に示す。
【０１２５】
尚、塗布膜が最初に入る乾燥室の乾燥雰囲気温度は塗布液との温度差を示す。
【０１２６】
【表２】

【０１２７】
実施例３
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を調製した。
【０１２８】
〈感光層塗布液、非感光性保護層塗布液の調製〉
実施例１で調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を使用した。
【０１２９】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．０５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００００ｍを使用し、図１に示すコータ（エクストルージョン型ダイコーターを使用）により、バックロールに保持された帯状支持体に、塗布液温度２５℃、塗布速度を８０ｍ／分、塗布幅１００ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚１００μｍ、非感光性保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布を行った後、表３に示す様に図１に示す乾燥装置の支持体の走行方向に対する各乾燥室の溶媒濃度を変化させた乾燥条件で乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料３０１〜３０４とした。
【０１３０】
尚、乾燥室の入り口の高さ（塗布膜の表面からの高さ）は０．８ｍとした。乾燥温度以外の他の乾燥条件として、塗布膜が最初に入る乾燥室の乾燥温度は２７℃（塗布液温度より２℃高くした）とした。各乾燥室の乾燥雰囲気温度は一つ前の乾燥室の温度より３０℃高くなるように制御した。乾燥室の入り口から乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも２０％小さく、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも２０％大きくした。又、各乾燥室の風速は塗布膜を有する帯状支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室より１０％大きくなる様に制御した。
【０１３１】
粘度測定は、ハーケ社 ロトビスコＲＶ−１２を使用して各剪断における粘度を測定した。
【０１３２】
〈評価〉
作製した試料３０１〜３０４につき、塗布膜面を目視により観察し、実施例１と同じ評価ランクにより評価を行い、その結果を表３に示す。
【０１３３】
【表３】

【０１３４】
実施例４
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を調製した。
【０１３５】
〈感光層塗布液、非感光性保護層塗布液の調製〉
実施例１で調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を使用した。
【０１３６】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．０５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００００ｍを使用し、図１に示すコータ（エクストルージョン型ダイコーターを使用）により、バックロールに保持された帯状支持体に、塗布液温度２５℃、塗布速度を８０ｍ／分、塗布幅１００ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚１００μｍ、非感光性保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布を行った後、表４に示す様に図１に示す乾燥装置の塗布膜面から垂直方向の距離と風速を変化させた乾燥条件で乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料４０１〜４１２とした。図１に示す乾燥装置の各乾燥室５０１ａ〜５０１ｅの内、５０１ａ〜５０１ｃが乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室を示す。
【０１３７】
尚、乾燥室の入り口の高さ（塗布膜の表面からの高さ）は０．８ｍとした。乾燥温度以外の他の乾燥条件として、塗布膜が最初に入る乾燥室の乾燥温度は２７℃（塗布液温度より２℃高くした）とした。各乾燥室の乾燥雰囲気温度は一つ前の乾燥室の温度より３０℃高くなるように制御した。又、各乾燥室の風速は塗布膜を有する支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室の風速より２％高くなる様に制御した。
【０１３８】
粘度測定は、ハーケ社 ロトビスコＲＶ−１２を使用して各剪断における粘度を測定した。
【０１３９】
〈評価〉
作製した試料４０１〜４１２につき、塗布膜面を目視により観察し、実施例１と同じ評価ランクにより評価を行い、その結果を表４に示す。
【０１４０】
【表４】

【０１４１】
実施例５
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を調製した。
【０１４２】
〈感光層塗布液、非感光性保護層塗布液の調製〉
実施例１で調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を使用した。
【０１４３】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．０５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００００ｍを使用し、図１に示すコータ（エクストルージョン型ダイコーターを使用）により、バックロールに保持された帯状支持体に、塗布液温度２５℃、塗布速度を８０ｍ／分、塗布幅１００ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚１００μｍ、保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布を行った後、表５に示す様に図１に示す乾燥装置の塗布膜面から垂直方向の距離と塗布膜を有する帯状支持体の走行方向に対して各乾燥室の風速を変化させた乾燥条件で乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料５０１〜５０９とした。
【０１４４】
尚、乾燥室の入り口の高さ（塗布膜の表面からの高さ）は０．８ｍとした。乾燥温度以外の他の乾燥条件として、入り口の乾燥室の乾燥温度は２７℃（塗布液温度より２℃高くした）とした。各乾燥室の乾燥雰囲気温度は一つ前の乾燥室の温度より３０℃高くなるように制御した。又、乾燥室の入り口から乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも３０％以上５０％以内で低くし、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも５％以上３０％以下で高くした。
【０１４５】
粘度測定は、ハーケ社 ロトビスコＲＶ−１２を使用して各剪断における粘度を測定した。
【０１４６】
〈評価〉
作製した試料５０１〜５０９につき、塗布膜面を目視により観察し、実施例１と同じ評価ランクにより評価を行い、その結果を表５に示す。
【０１４７】
【表５】

【０１４８】
実施例６
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を調製した。
【０１４９】
〈感光層塗布液、非感光性保護層塗布液の調製〉
実施例１で調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を使用した。
【０１５０】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．０５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度μ（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００００ｍを使用し、図２に示すコータ（エクストルージョン型ダイコーターを使用）により、バックロールに保持された帯状支持体に、塗布液温度２５℃、塗布速度を８０ｍ／分、塗布幅１００ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚１００μｍ、保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布を行った後、表６に示す様に図２示す副乾燥装置の支持ロールの塗布膜を有する帯状支持体との接触面積を変化した乾燥条件で乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料６０１〜６０３とした。副乾燥装置の乾燥温度は外部雰囲気温度より０．５℃高くし、乾燥風の風速は０．５ｍ／ｓｅｃとした。
【０１５１】
尚、図２に示す乾燥装置は、乾燥室の入り口の高さ（塗布膜の表面からの高さ）は０．８ｍとし、各乾燥室の乾燥雰囲気温度は一つ前の乾燥室の温度より３０℃高くなるように制御した。た。乾燥温度以外の他の乾燥条件として、塗布膜が最初に入る乾燥室の乾燥温度は２７℃（塗布液温度より２℃高くした）とした。
各乾燥室の排気口での溶媒濃度を一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも２ｖｏｌ％低くなるように制御した。乾燥室の入り口から乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも３０％小さく、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、塗布膜を有する帯状支持体の搬送速度よりも３０％大きくした。又、各乾燥室の風速は塗布膜を有する帯状支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室より０％大きくなる様に制御した。
【０１５２】
〈評価〉
作製した試料６０１〜６０３につき、塗布膜面を目視により観察し、実施例１と同じ評価ランクにより評価を行い、その結果を表６に示す。
【０１５３】
【表６】

【０１５４】
実施例７
以下に示す方法に従って、有機銀を含有した感光層塗布液、非感光性保護層塗布液及び最外層塗布液を調製した。
〈感光層塗布液、非感光性保護層塗布液の調製〉
実施例１で調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を使用した。
〈最外層塗布液の調製〉
純水１Ｌにポリビニルアルコール３０ｇを溶解し最外層塗布液とした。
【０１５５】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液を図３に示す熱現像感光材料製造装置を使用して、実施例１と同じ条件で塗布した後、実施例６の試料Ｎｏ．６０３と同じ条件で乾燥した後、調製した最外層塗布液をインクジェットヘッドを使用して表７に示す様に塗布膜厚の変化を行い非感光性保護層上に塗設・乾燥し熱現像感光材料を作製し試料７０１〜７０６とした。
【０１５６】
尚、最外層塗設後の乾燥は、８０℃で、風速０．５ｍ／ｓｅｃで行った。
〈評価〉
作製した試料７０１〜７０６につき、目視により塗布膜表面の状態を観察し、以下に示す評価ランクにより評価を行い、その結果を表７に示す。
【０１５７】
○：故障がない
△：実質的に問題とならない故障が見られる
×：未塗布部及びスポット故障等があり実用化は困難と判断
【０１５８】
【表７】

【０１５９】
【発明の効果】
乾燥工程における乾燥ムラ、まだらムラ等を無くし、本来の熱現像感光材料の性能を引き出すことが出来る乾燥装置、熱現像感光材料製造装置及びこれらを用いた熱現像感光材料の製造方法を提供することができ、製品の品質向上と安定化及び収率向上が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の乾燥装置を用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。
【図２】本発明の主乾燥装置と副乾燥装置とを用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。
【図３】非感光性保護層の上に最外層を塗設する塗布装置を有する熱現像感光材料製造装置の概略図である。
【符号の説明】
１ コータ
２ バックロール
３ 帯状支持体
５ 乾燥装置
５ａ 主乾燥装置
５０１ａ〜５０１ｅ 乾燥室
５０２ａ〜５０２ｅ、７０２ａ〜７０２ｄ 吹き付け装置
５０５ 吹き出し口
６ 副乾燥装置
６０６、６０７、８０７、８０６ 支持ロール
７ 第１乾燥装置
８ 第２燥装置
９ 塗布装置
１０ 第３乾燥装置

Claims (16)

1. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
   該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
   前記乾燥室の乾燥雰囲気温度は、該支持体の走行方向に対して一つ前の乾燥室の乾燥雰囲気温度よりも５〜５０℃高く制御されていることを特徴とする乾燥装置。
2. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
   該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、該塗布膜が最初に入る前記乾燥室の乾燥雰囲気温度は塗布時の塗布液温度と比較し０〜３℃高く、且つ乾燥室の入り口は、前記塗布膜の表面より０．１〜１ｍの高さを有していることを特徴とする乾燥装置。
3. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
   該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
   該乾燥ゾーンは各乾燥室の溶媒濃度が、該支持体の走行方向に対して、一つ前の乾燥室の排気口での溶媒濃度よりも０〜５ｖｏｌ％低く制御されていることを特徴とする乾燥装置。
4. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
   該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
   該乾燥ゾーンは、前記乾燥室の入り口から前記乾燥ゾーンの全長の６０％の区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１〜２０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、支持体の搬送速度に対して５０〜１００％で、乾燥ゾーンの残りの区間の乾燥室では、塗布膜面から垂直方向の距離１〜２０ｍｍで上方から下方への方向の風速が、該支持体の搬送速度よりも５〜５０％高いことを特徴とする乾燥装置。
5. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置において、
   該乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
   該乾燥ゾーンは、前記乾燥室の塗布膜面の垂直方向の距離１〜２０ｍｍでの上方から下方への風速が、支持体の走行方向に対して、一つ前の乾燥室より２〜５０％高くなる様に制御されていることを特徴とする乾燥装置。
6. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する主乾燥装置と、該乾燥装置より下流に副乾燥装置とを有する乾燥装置において、
   該主乾燥室は個別に乾燥雰囲気温度が制御可能であり、
   該副乾燥装置は乾燥雰囲気温度と該支持体の支持ロールの温度とが制御可能で、且つ、該支持ロールへの支持体の接触面積が調整可能であることを特徴とする乾燥装置。
7. 前記副乾燥装置は、出口での塗布膜の温度が外部雰囲気温度に対して０〜１℃高いことを特徴とする請求項６に記載の乾燥装置。
8. 前記乾燥室は、各々少なくとも１箇所のイナートガス供給部および少なくとも１箇所のガス排気部を有していることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の乾燥装置。
9. 前記乾燥ゾーンは、塗布膜が最初に入る乾燥室の天井は入り口よりも高いことを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の乾燥装置。
10. 請求項１〜９の何れか１項に記載の乾燥装置を使用して熱現像感光材料を製造することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
11. 連続的に走行している支持体上に形成された、有機銀成分を含有する感光層及びその上に非感光性保護層を含む塗布膜の乾燥用の個別に制御可能な複数の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する第１乾燥装置と、
    該乾燥装置より下流に第２乾燥装置と、
    該第２乾燥装置より下流で該非感光性保護層の上に湿潤状態で０．５〜３μｍの厚さで最外層を設ける塗布装置と、
    該塗布装置の下流側に第３乾燥装置とを有していることを特徴とする熱現像感光材料製造装置。
12. 前記塗布装置が、インクジェットヘッドもしくはスプレーガンであることを特徴とする請求項１１に記載の熱現像感光材料製造装置。
13. 請求項１１に記載の第１乾燥装置は、請求項１〜７の何れか１項に記載されている乾燥装置であることを特徴とする熱現像感光材料製造装置。
14. 請求項１１に記載の第２乾燥装置は、請求項６〜９の何れか１項に記載されている副乾燥装置であることを特徴とする熱現像感光材料製造装置。
15. 請求項１１〜１４の何れか１項に記載の熱現像感光材料製造装置を使用して製造することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
16. 請求項１１に記載の熱現像感光材料製造装置を用いて、有機銀成分を含有する感光層と、その上に非感光性保護層と、最外層とを有する熱現像感光材料の製造方法において、
    該最外層用の塗布液は感光層用の塗布液に含まれる合成高分子化合物および溶媒とは異なる合成高分子化合物および溶媒を含有していることを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。

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