JPH08171217A - 多連型露光装置 - Google Patents

多連型露光装置

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JPH08171217A
JPH08171217A JP6334492A JP33449294A JPH08171217A JP H08171217 A JPH08171217 A JP H08171217A JP 6334492 A JP6334492 A JP 6334492A JP 33449294 A JP33449294 A JP 33449294A JP H08171217 A JPH08171217 A JP H08171217A
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Application number
JP6334492A
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English (en)
Inventor
Masahiro Miyashita
正弘 宮下
Hideki Okaya
秀樹 岡谷
Takahiro Nakano
隆広 中野
Michihiro Kuramochi
道広 蔵持
Takao Ito
隆夫 伊藤
Toshiyuki Aihara
利之 相原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 たとえ多連の各露光部の露光エリア幅が異な
っていても、各露光パターンが近接するような形で露光
し得る多連型露光装置を提供する。 【構成】 各両面露光部E1,E2,E3のガラスマス
ク3の幅(被露光材Mの移動方向の幅:露光エリア幅)
を、それぞれW1、W2、W3とすると、隣接する各両面
露光部E1,E2,E3の中心位置間(露光エリア幅W
1、W2、W3の中心位置間)の離間距離が、各両面露光
部E1,E2,E3の露光エリア幅W1,W2,W3の合
計値と、隣接する2つの両面露光部E1,E2等の露光
エリア幅W1,W2等の平均値との加算値となるように各
両面露光部E1,E2,E3を配置し、露光後の被露光
材の移動距離は、各両面露光部E1,E2,E3の露光
エリア幅W1,W2,W3の合計値とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被露光材の巻出部と巻
取出の間に複数の露光部が連続配置された多連型露光装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、高精細なテレビシャドウ
マスク、ICリードフレーム等を大量生産するための露
光装置として、フープ状に巻かれたシート状の被露光材
を露光部に所定量ずつ送出しながら順次マスクのパター
ンを露光する露光装置が知られている。
【0003】また、この種の露光装置において、被露光
材を巻出す巻出部と、この巻出部から巻出された被露光
材を巻取る巻取部との間に、複数の露光部を連続配置し
た多連型露光装置も実現されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような多
連型露光装置は、生産性を向上させることを主な目的と
して実現されたものであり、露光装置の構造上、露光エ
リアの幅よりも露光装置の幅が大きくなるため、結果と
して1回の露光を行ったときに被露光材上に形成される
各露光パターン間には、露光エリアの幅と露光装置の幅
との差、および露光装置同士のすきまに応じたすきま
(露光されない部分)が必然的に生じ(図5参照)、被
露光材の歩留まりが悪くなるという問題があった(かな
り控え目に見積もっても1割は上回る無駄があった)。
【0005】さらに近年では、製造装置に対しては、生
産性向上に加え、多品種の製品に対しフレキシブルに対
応し得ることが要望されており、そのような要望に応え
る一つのやり方として、多連型露光装置において多種類
の製品に係る複数の露光パターンを同時に露光するとい
うことが考えられている。この場合、多種類の製品に係
る複数の露光パターン同士の幅が異なることもあり得
る。そうした場合には、同一幅の露光パターンの場合に
生じる前記のような歩留まり低下に加え、露光装置間の
間隔を一定とした場合には、さらに、狭い露光パターン
の両側には露光されない部分が大きく形成されるため、
さらに歩留まり低下が著しくなる。従来の多連型露光装
置においては、上記のような材料の歩留まり低下に関し
ては、特に考慮がなされていなかった。さらに扱う製品
の種類(特に幅の異なる製品)を変更する必要のある場
合の対処についても考慮されていなかった。
【0006】本発明は、このような背景の下になされた
もので、その目的は、たとえ多連の各露光部の露光エリ
ア幅が異なっていても、各露光パターンが近接するよう
な形で露光し得る多連型露光装置を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、フープ状に巻付けられた被露光材を巻出
す巻出部と、該巻出部から巻出された前記被露光材を巻
取る巻取部とが複数の露光部の両側に配置され、前記巻
出部と巻取部により前記被露光材を前記複数の露光部に
所定量ずつ送出しながら前記被露光材の少なくとも一方
の面に前記複数の露光部の各マスクのパターンを露光す
る多連型露光装置であって、前記複数の各露光部による
1ショットの同時露光によって前記被露光材上に形成さ
れる各露光パターン同士の間隔を前記各マスクの露光エ
リア幅に基づき定められる所定間隔とすべく調整する露
光間隔調整手段と、前記露光間隔調整手段の調整により
生じた1ショットの同時露光後の前記各露光パターン間
のすきま部の露光を行うべく、前記各マスクの露光エリ
ア幅の大きさに基づいて前記被露光材の送出量を制御す
るすきま露光制御手段とを備え、前記被露光材上の送り
方向に実質的にすきまなく露光パターンを形成するよう
に構成されている。
【0008】
【作用】1ショットの同時露光で被露光材上に形成され
る各露光パターンの離間距離が、露光間隔調整手段によ
って各露光エリア幅に基づく所定値に調整されると共
に、すきま露光制御手段により、1ショットの露光終了
毎に被露光材は前記離間距離に関連づけられた所定量だ
け移動されていくので、たとえ各露光部の露光エリア幅
が異なっていても、各露光パターンが近接するような形
で露光が行われることとなる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
【0010】[第1実施例]図1は、本発明の第1実施
例による多連型両面露光装置の概略構成を示す図であ
る。図1において、被露光材Mを巻出す巻出部Oと被露
光材Mを巻取る巻取部Iとの間には、複数の両面露光部
E1,E2,E3,…Enが配置されている。
【0011】巻出部Oと両面露光部E1とは、それら各
部を全体的に被露光材Mの移動方向へ移動させる移動機
構を有していないが、その他の両面露光部E2,E3,
…Enと巻取部Iとは、それら各部を全体的に被露光材
Mの移動方向へ移動して任意の位置に固定する移動・固
定機構を有しており、この移動・固定機構が1ショット
の同時露光により被露光材M上に形成される各露光パタ
ーン間の間隔を、後述の規則に従い調整する露光間隔調
整手段としての役割を果たす。すなわち、両面露光部E
2,E3,…Enと巻取部Iは、直動軸受1を介して、
2本のガイドレール2上に移動可能に載置され、図示省
略した駆動機構によりガイドレール2上の任意の位置に
位置決めできるように構成されている。
【0012】駆動機構としては、例えば固定子をガイド
レール間に敷設し、可動子は各露光部の底部に設けたリ
ニアモータや、ガイドレールと平行に設けられたラック
と各露光部に固定されたモータにより回転駆動されるピ
ニオンとの組合わせ、送りねじとモータとの組合わせ等
を用いることができる。そして、この駆動機構を図示省
略したシステムコントローラにより制御することによ
り、各露光部および巻取部を所望の位置に位置決めす
る。
【0013】なお、上記のような駆動機構は必ずしもな
くてもよく、その場合は、作業者が各露光部および巻取
部をガイドレールに沿って動かし、それぞれを所望の位
置に位置決め・固定できるようになっていればよい。固
定するためには、必要に応じクランプ機構を各露光部側
に設け、位置決めした後、このクランプ機構により固定
してもよい。
【0014】図1において、3はガラスマスク、4はガ
ラスマスク3をX軸、Y軸、θ方向に微小移動させてガ
ラスマスク3のアライメントを行うためのアライメント
用モータ、5はガラスマスク3上に形成されたアライメ
ントマークを読取るためのイメージセンサ、6はガラス
マスク3を被露光材Mの方向(Z軸方向)に移動させる
Z軸モータ、7は各両面露光部E1,E2,E3,…E
nにおける露光動作を個別に制御するコントローラであ
る。各露光部の露光動作は、前記システムコントローラ
から各コントローラ7に指令信号が入力されることによ
り開始される。
【0015】各両面露光部E1,E2,E3,…En
は、上記の移動・固定機構を除いてはほぼ同様の構成と
なっており、図2に示したように、表側露光部Fと裏側
露光部Bとが被露光材Mを挟んで対向するように配置さ
れている。表側露光部Fと裏側露光部Bとは、同様の構
成となっており、ガラスマスク3を支持する支持機構
8、光源部9等を有している。
【0016】各両面露光部E1,E2,E3,…En
は、上記の移動・固定機構を利用して、図1に示したよ
うに離間されて配置されている。以下、この離間距離、
および1ショットの露光毎に被露光材Mを移動する際の
移動量(インデックス量)について、図3を参照しなが
ら説明する。なお、図3は、説明の便宜上、3種類の露
光エリア幅のマスクを扱い、3つの両面露光部E1,E
2,E3によって露光を行う場合について示したもので
ある。
【0017】図3に示したように、各両面露光部E1,
E2,E3のガラスマスク3の幅(被露光材Mの移動方
向の幅:露光エリア幅)を、それぞれW1、W2、W3と
する。この場合、隣接する各両面露光部E1,E2,E
3の中心位置間(露光エリア幅W1、W2、W3の中心位
置間)の離間距離は、各両面露光部E1,E2,E3の
露光エリア幅W1,W2,W3の合計値と、隣接する両面
露光部E1,E2,E3の露光エリア幅W1,W2,W3
の平均値との加算値となるようにしている。
【0018】すなわち、両面露光部E1,E2の中心位
置間の離間距離は、各両面露光部E1,E2,E3の露
光エリア幅W1,W2,W3の合計値(W1+W2+W3)
と、隣接する面露光部E1,E2の露光エリア幅W1,
W2の平均値(W1+W2)/2との加算値、すなわち
(W1+W2+W3)+(W1+W2)/2とする。
【0019】同様に、両面露光部E2,E3の中心位置
間の離間距離は、各両面露光部E1,E2,E3の露光
エリア幅W1,W2,W3の合計値(W1+W2+W3)と、
隣接する両面露光部E2,E3の露光エリア幅W2,W3
の平均値(W2+W3)/2との加算値、すなわち(W1
+W2+W3)+(W2+W3)/2とする。
【0020】このように、離間距離は各両面露光部E
1,E2,E3についての露光エリア幅が決まれば機械
的に定まるので、本発明の多連型露光装置を最初に稼動
させる場合や、扱う製品の種類が変更となり、かつこれ
に伴い露光エリア幅も変更がある場合等に、手動、また
は前記駆動機構によって、予め各両面露光部E1,E
2,E3同士の離間距離が上記のようになるよう位置決
めが行われる。前記システムコントローラにはマイコン
が内蔵されており、このマイコンには、予め作業者が各
両面露光部E1,E2,E3の露光エリア幅W1,W
2,W3の値を例えばキーボードなどの適宜の入力手段
により入力できるようになっているとともに、入力され
たデータに基づいて上記の所定の演算等を行うプログラ
ムが予め内蔵されている。
【0021】そして、前記駆動機構により各両面露光部
の位置決めを行う場合には、さらに各両面露光部E2,
E3の現在位置の情報が(例えば、固定された両面露光
部E1の中央位置を基準とし、この基準位置から各両面
露光部E2,E3の中央位置までの距離を、リニアエン
コーダ等の位置検出手段によって)得られ、システムコ
ントローラ(または駆動機構のコントローラ)に入力さ
れ、認識されるように構成されている。この場合には、
まず、前記システムコントローラのマイコンは指令信号
を出力し、上記演算により得られた各離間距離により定
まる各両面露光部E2,E3の目標位置へ、これら露光
部を移動させるべく、前記駆動機構を作動させる。この
際、各両面露光部E2,E3の位置の情報が位置検出手
段からシステムコントローラ(または各駆動機構のコン
トローラ)に入力されるので、この位置が前記目標位置
と一致するように制御がなされる。
【0022】なお、手動で各両面露光部E1,E2の位
置決めを行う場合にも、適宜の位置検出手段により各両
面露光部E2,E3の位置を検知するとともに、例えば
その結果をデジタル化し、表示器により表示し、作業者
がその表示値を参照しながら位置決めするようにしても
よい。
【0023】上記のように、まず各両面露光部E2,E
3の位置決めを行った後に、一連の露光動作(同時露光
および巻取り(送出))を開始する。そして、各両面露
光部E1,E2,E3による1ショットの同時露光後の
インデックス量は、常時、各両面露光部E1,E2,E
3の露光エリア幅W1,W2,W3の合計値(W1+W2+
W3)とする。この値も前記システムコントローラ中の
マイコンにて演算され、記憶されている。
【0024】これをn台の両面露光部E1,E2,E
3,…Enの場合の一般式で表すと、隣接する両面露光
部Em-1,Emの中心位置間の離間距離W1(m)は、
【数1】 となり、インデックス量Xは、
【数2】 となる。
【0025】次に、露光動作を図3に基づいて説明す
る。今、露光エリア幅W1,W2,W3の両面露光部E
1,E2,E3により、図3の右上がり斜線の部分が露
光されたものとする。この後、各両面露光部E1,E
2,E3の露光エリア幅W1,W2,W3の合計値(W1+
W2+W3)分だけ被露光材Mを移動させる(巻取らせ
る)と、図3の右下がり斜線の部分が、各両面露光部E
1,E2,E3の対向位置に来て露光される。この後、
さらに、被露光材Mを(W1+W2+W3)だけ移動させ
る(巻取らせる)と、図3の網掛けの部分が、各両面露
光部E1,E2,E3の対向位置に来て露光される。
【0026】このように、隣接する各両面露光部E1,
E2,E3の中心位置間の離間距離が、各両面露光部E
1,E2,E3の露光エリア幅W1,W2,W3の合計値
と、隣接する2つの両面露光部E1,E2等の露光エリ
ア幅W1,W2等の平均値との加算値となるようにし、各
両面露光部E1,E2,E3の露光エリア幅の合計値
(W1+W2+W3)分だけ被露光材Mを順次移動させな
がら露光することにより、たとえ各両面露光部E1,E
2,E3の露光エリア幅が異なっていたとしても、各露
光パターン間の隙間を可及的に無くすことができ、被露
光材Mの歩留まりが向上する。
【0027】さらに、上記のように、移動・固定機構を
設けたので、各両面露光部E1,E2,E3の露光エリ
ア幅(マスク幅)が変更されたときに、その変更に応じ
た適正な上記離間距離を得るための各両面露光部E1,
E2,E3の位置決め作業を容易、かつ迅速に行うこと
も可能となる。
【0028】なお、上記の説明から推測できるように、
1回目の露光時に露光されなかった部分のうち、1回目
の露光時に各両面露光部E1,E2,E3,…Enを既
に通り過ぎてしまっている部分(例えば、図3の#の部
分)や、被露光材Mの巻取り始端部、終端部近くは、通
常の巻取り方向にだけ被露光材Mを移動させると、露光
済のエリア同士の間に未露光エリアとして残ってしま
う。しかし、これらの部分については、通常の巻取り方
向とは逆の方向に被露光材Mを移動させ、未露光エリア
に対向させた露光部のみを露光させることにより、露光
するようにすればよい。
【0029】なお、巻取り始端部、終端部の未露光エリ
アについては、たとえ上記のような制御により露光を行
わないようにしても、被露光材Mは、例えば全長1km
以上の長さに及ぶものであり、始端部、終端部のこのよ
うなロスは、本発明により防ぐことができるロスに比較
すれば、小さなものであり、無視したとしても本発明が
歩留まり向上に効果のあるものであるということに変わ
りはない(従来は、例えば控え目に見積もっても全長の
1割は、従って全長1kmとすれば100mは無駄にな
ってしまう)。なお、このような被露光材Mの移動制御
は、前記のように予め蓄えられた演算結果に基づき本装
置全体の動作を制御する前記システムコントローラによ
り巻取部Iの巻取用モータを制御することにより行う。
【0030】なお、上記の説明では、前記離間距離およ
びインデックス量を、全ての露光部についての露光エリ
ア幅の和を含む式(数式1および2)に基づいて決めて
いたが、必ずしもそのようにしなくてもよい。すなわ
ち、使用されるマスクの露光エリア幅の種類の数Pが露
光部の台数nとの間にn=P×S(但しSは自然数)な
る関係がある場合には、以下のようにすることができ
る。
【0031】まず、各露光部を1〜Sのグループに分
け、各グループに全ての露光エリア幅が含まれるように
し、かつ、各グループ内の露光エリア幅の種類の配置の
順を一定になるように、各露光部の扱うマスクの種類を
決める。例えば、露光エリア幅としてW1,W2,W3の
3種類のマスクを扱い、露光部の台数が6台の場合であ
れば、図1のE1〜E6に対応させて、W1,W2,W
3,W1,W2,W3という順になるように配置する。
【0032】次に、隣接する(m−1)番目の露光部と
m番目の露光部(但し、n≧m≧2)との中心位置間の
離間距離W2(m)を
【数3】 となるように定める。但しW(m)は露光部Em(mは
2〜n)に対応する露光エリア幅を示す。本例では、W
(1)=W1,W(2)=W2,W(3)=W3,W(4)=W1,W
(5)=W2,W(6)=W3となる。
【0033】そして、1ショットの同時露光後のインデ
ックス量(巻取量)X2を、
【数4】 となるように定める。
【0034】例えば、上に示した例では、(P=3,S
=2)、および数式3により、W2(2),W2(3)は先の
例の場合と同様、それぞれ(W1+W2+W3)+(W1+
W2)/2,(W1+W2+W3)+(W2+W3)/2とな
り、以下、W2(4)=(W1+W2+W3)+(W3+W1)
/2,W2(5)=(W1+W2+W3)+(W1+W2)/
2,W2(6)=(W1+W2+W3)+(W2+W3)/2と
なる。そして、インデックス量X2=(W1+W2+W3)
となる。
【0035】この例の場合の露光動作について説明する
と、1ショットの同時露光後X2だけ被露光材Mを送る
ということを繰返してゆくと、4回目の露光が終了した
直後で(送り量合計3×X2)、始めの部分に先の例
(図3)の場合と同様の未露光部が残るものの、(8×
X2)の幅にわたって、前記未露光部以外はすきまなく
露光パターンが形成された状態となる。この未露光部を
露光する際のインデックス量を上記X2としたのでは、
露光部E1〜E3が既に露光済の状態の部分と対向して
しまううため、ここでのインデックス量はこれまでの送
り量(3×X2)との和が上記(8×X2)となるよう、
すなわち(5×X2)送ればよい。以下、上記の手順を
繰り返すことにより、先の例の場合と同様、被露光材M
上の露光パターンをすきまを可及的に無くすことがで
き、被露光材Mの歩留まりが向上する。
【0036】上記の例の場合の(5×X2)送るところ
までを1サイクルと呼ぶことにし、上の(8×X2)を
1サイクル分のエリア(WCとする)と定義すると、こ
の1サイクル分のエリアWCを露光エリア幅の種類の数
約P、セット数Sの場合の一般式で表わすと、
【数5】WC=(P+1)×S×X2 となる。1サイクルの露光動作中でのX2送る繰返し数
はPとなり、1サイクル終了時の送り量WRは
【数6】WR=WC−P×X2 となる。
【0037】従って、予め前記数式3,4および6の演
算を実行するプログラムを前記システムコントローラ中
のマイコンに用意しておき、露光エリアの種類の数P、
各露光エリア幅W1,W2,…,Wp、及び1つのマスク
についてのセット数Sを入力手段により入力すれば、シ
ステムコントローラは、例えば上記の例に示した手順に
従い露光動作を繰返すことになる。
【0038】このように数式3〜6に基づいた手順で行
うことによるメリットとしては、数式1,2による場合
と比べ、特定の条件下では各離間距離を小さくすること
ができる点である。特に少ない種類Pに対し台数nが多
い場合、数式1,2によると、巻出部Oと巻取部Iの間
に非常に長い距離が必要になるが、数式3〜6によれば
比較的短くて済む。
【0039】最も単純な例として、各露光部E1,…E
nの受持つ製品の露光エリアの幅が全て同一の場合(パ
ターンは異なっていても構わない)について示す。この
露光エリアの幅をW1とし、前記数式3を適用すると、
各露光部の中心位置間の離間距離W2(m)は、露光エリア
幅の種類の数P=1なので、 W2(m)=W1+(W1+W1)/2=2×W1 で一定となる。そして、1回の同時露光後の送出量(イ
ンデックス量)は、X2=W1となる(数式4)。
【0040】前記各離間距離2×W1とすることにより
1回目の露光後に被露光材M上に形成される各露光パタ
ーン間にできるすきま(未露光部)の幅がW1となるの
で、1回目の露光後に前記送出量W1だけ被露光材Mを
送る(巻取る)ことにより、各露光部は前記すきまの部
分に対向されることになり、この後2回目の同時露光を
行うことにより、前記1回目の各露光パターンのすきま
部分が露光されることとなる。
【0041】数式5を適用すると、5=nなので、この
2回の露光により、幅2×n×W1の長さにわたって被
露光材M上にはすきまなく2×n個の露光パターンが形
成されたことになるので、次に最も巻取部に近い側の露
光部Enが未露光部と対向する位置まで巻取りを行い
(具体的には数式6を適用し、2×n×W1−W1の巻取
量)、以後上述の工程を繰り返す。
【0042】但し、2×W1の大きさが各露光部の幅よ
り小さい場合には、さらにW1ずつ加えてゆき、露光部
の幅を上回る最小のW1の倍数を離間距離Wとして設定
する。この場合、1ショットの露光後の送出量はW1と
し、以後、露光済みの部分の間に未露光部分が無くなる
まで露光、W1送出を繰返し、未露光部分が無くなった
ら最終段の露光部Enが未露光部分と対向する位置まで
送り(例えばW=3×W1の場合は露光、W1送りを2度
繰返した後、3×n×W1−2×W1巻取るという手順と
なる)、また最初から同じ手順を繰り返すことになる。
【0043】なお、露光エリアの種類の数Pとしては、
必ずしも露光エリア幅が異ならなくても構わない。例え
ば、露光エリア幅の種類は2書類であるが、一方を他方
の倍の数だけ生産したい場合、生産数の多い方をW1、
他方をW2とすると、例えばW1=W1,W2=W1,W3=
W2として数式1,2または数式4〜6を適用すること
により対応できる。
【0044】逆に露光パターンは異なっていても、露光
エリア幅が同じであれば、同じものとして各式を適用で
きることは言うまでもない。数式4〜6を適用する場
合、露光部の台数nとしては、例えば6,12等P×S
の組合せを多数とれる数とするのが好ましい。
【0045】さらに、他の方法があれば、すなわち、す
きまなく露光できるのであれば、離間距離、インデック
ス量の決め方に上記に限定されるものではない。
【0046】[第2実施例]図4は、本発明の第2実施
例による多連型両面露光装置の概略構成を示す正面図,
平面図である。
【0047】図4に示したように、第2実施例では、露
光間隔調整手段を構成する要素として、第1実施例の移
動・固定機構に代え、隣接する両面露光部E1,E2,
E3,…En間に、それぞれ2つのガイドローラ10
a,10b、中間ローラ11、中間ローラ11を移動さ
せるエアシリンダ12を有している。その他について
は、第1実施例とほぼ同様の構成を有している。ガイド
ローラ10a,10bは、両面露光部E1,E2,E
3,…Enの被露光材Mの通路上の定位置に取付けられ
ているが、中間ローラ11は、不図示の移動テーブル上
に回転可能に支持され、該移動テーブルはエアシリンダ
12により、被露光材Mの巻取り方向と直交する方向に
移動可能になっている。なお、移動テーブルの移動手段
としては、エアシリンダ12に代え、油圧シリンダ、送
りねじとモータとの組合せ等を用いることができる。
【0048】これらガイドローラ10a,10b、中間
ローラ11、エアシリンダ12は、数式1または数式3
に示した隣接する2つの両面露光部E1,E2等の中心
位置間の離間距離W1(m)またはW2(m)分の被露光
材Mのバッファ量を確保するために設けられたものであ
り、その制御は上記システムコントローラにより行われ
る。前記移動テーブルの移動量と、その移動により得ら
れる前記離間距離との関係は、上記システムコントロー
ラ中のマイコンに予め記憶されている。
【0049】このように、隣接する2つの両面露光部E
1,E2等の間で被露光材Mを巻取り方向と直交する方
向に移動させて、数式1または数式3に示した隣接する
2つの両面露光部E1,E2等の中心位置間の離間距離
W1(m)またはW2(m)分の被露光材Mのバッファ量
を確保することにより、各両面露光部E1,E2,E
3,…En間の離間距離を可及的に小さくすることがで
き、装置全体を小型化して省スペース化を図ることが可
能となる。
【0050】また、エアシリンダ12を設けたので、各
両面露光部E1,E2,E3,…Enの露光エリア幅
(マスク幅)が変更されたときに、その変更に応じた適
正な上記バッファ量を容易、かつ迅速に設定し直すこと
ができる。
【0051】なお、第2実施例では、たとえ各両面露光
部E1,E2,E3,…Enの露光エリア幅(マスク
幅)が変更されても各両面露光部E1,E2,E3,…
Enの設置位置は一定でよいため、被露光材Mの送り方
向のスペースは前記中間ローラ、ガイドローラの分は必
要になるものの、露光エリア幅の種類が増えた場合でも
送り方向に対して巻取部と巻出部との間を拡げる必要が
なくなるため、スペース的に有利である。また、第2実
施例においても第1実施例と同様の効果が得られること
は言うまでもない。
【0052】本発明は、上記の各実施例に限定されるこ
となく、例えば、各両面露光部の露光エリア幅(マスク
幅)が同一の場合にも適用でき、さらに多連型片面露光
装置に適用することもできる。また、前記各実施例で
は、離間距離W1(m)またはW2(m)やインデック
ス量を設定する場合に、位置決め誤差等を考慮し、多少
の余裕量を加えてよいことは言うまでもない。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の多連型露
光装置によれば、1ショットの同時露光で被露光材上に
形成される各露光パターンの離間距離が、各露光エリア
幅に基づく所定の値となるように構成するとともに、1
ショットの露光終了毎に被露光材を前記離間距離と関連
づけられた所定量だけ移動して露光するという操作を繰
り返すことにより、たとえ各露光部の露光エリア幅が異
なっていても、前記離間隔距離間の未露光部をすきまな
く露光できるので、各露光パターンが近接するような形
で露光が行われることとなり、被露光材の歩留まりを向
上することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例による多連型露光装置の概
略構成を示す図である。
【図2】両面露光部の概略構成を示す図である。
【図3】本発明の実施例に特有な構成・動作を説明する
ための説明図である。
【図4】本発明の第2実施例による多連型露光装置の概
略構成を示す平面図である。
【図5】従来の問題点を説明するための説明図である。
【符号の説明】
O…巻出部 I…巻取部 M…被露光材 E1,E2,E3,En…両面露光部 W1,W2,W3…露光エリア幅 1…直動軸受 2…ガイドレール 3…ガラスマスク 10a,10b…ガイドローラ 11…中間ローラ 12…エアシリンダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 蔵持 道広 神奈川県藤沢市鵠沼神明一丁目5番50号 日本精工株式会社内 (72)発明者 伊藤 隆夫 神奈川県藤沢市鵠沼神明一丁目5番50号 日本精工株式会社内 (72)発明者 相原 利之 神奈川県藤沢市鵠沼神明一丁目5番50号 日本精工株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フープ状に巻付けられた被露光材を巻出
    す巻出部と、該巻出部から巻出された前記被露光材を巻
    取る巻取部とが複数の露光部の両側に配置され、前記巻
    出部と巻取部により前記被露光材を前記複数の露光部に
    所定量ずつ送出しながら前記被露光材の少なくとも一方
    の面に前記複数の露光部の各マスクのパターンを露光す
    る多連型露光装置であって、 前記複数の各露光部による1ショットの同時露光によっ
    て前記被露光材上に形成される各露光パターン同士の間
    隔を前記各マスクの露光エリア幅に基づき定められる所
    定間隔とすべく調整する露光間隔調整手段と、 前記露光間隔調整手段の調整により生じた1ショットの
    同時露光後の前記各露光パターン間のすきま部の露光を
    行うべく、前記各マスクの露光エリア幅の大きさに基づ
    いて前記被露光材の送出量を制御するすきま露光制御手
    段とを備え、 前記被露光材上の送り方向に実質的にすきまなく露光パ
    ターンを形成するように構成したことを特徴とする多連
    型露光装置。
JP6334492A 1994-12-19 1994-12-19 多連型露光装置 Pending JPH08171217A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029852A1 (en) * 2005-09-07 2007-03-15 Fujifilm Corporation Pattern exposure method and pattern exposure apparatus
JP2007102200A (ja) * 2005-09-08 2007-04-19 Fujifilm Corp パターン露光方法及び装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029852A1 (en) * 2005-09-07 2007-03-15 Fujifilm Corporation Pattern exposure method and pattern exposure apparatus
US8383330B2 (en) 2005-09-07 2013-02-26 Fujifilm Corporation Pattern exposure method and pattern exposure apparatus
JP2007102200A (ja) * 2005-09-08 2007-04-19 Fujifilm Corp パターン露光方法及び装置

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