JP2000056481A - 露光装置の位置合せ方法 - Google Patents

露光装置の位置合せ方法

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JP2000056481A
JP2000056481A JP10227031A JP22703198A JP2000056481A JP 2000056481 A JP2000056481 A JP 2000056481A JP 10227031 A JP10227031 A JP 10227031A JP 22703198 A JP22703198 A JP 22703198A JP 2000056481 A JP2000056481 A JP 2000056481A
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浩一 本田
Tatsuo Yamanaka
立夫 山中
Hideki Okaya
秀樹 岡谷
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】被露光部材に対してマスクを正確に位置合せで
きる露光装置の位置合せ方法を提供することにある。 【解決手段】帯状の被露光部材5をその長手方向に間欠
的に走行し、被露光部材5を露光位置Qに順次導き、露
光位置において被露光部材5とガラスマスク8a,8b
とを位置合せする露光装置の位置合せ方法において、被
露光部材5に露光位置に対する位置合せ用の位置合せマ
ーク36を付す第1の工程と、前記露光位置で被露光部
材に付された位置合せマーク36とガラスマスク8a,
8bに付されたマスクアライメントマークとをワークア
ライメントカメラ28−1,28−2によって読取る第
2の工程と、前記読取り情報に基づいてガラスマスク8
a,8bを位置合せする第3の工程とを具備することを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、帯状の被露光部
材をその長手方向に間欠的に走行し、被露光部材を露光
位置に順次導き、露光位置において被露光部材とマスク
とを位置合せする露光装置の位置合せ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】高精細なテレビシャドウマスクやICリ
ードフレーム等を大量生産するための露光装置として、
フープ状に巻回された薄い鋼板等の帯状の被露光部材を
露光位置に所定量ずつ送り出しながら順次マスクのパタ
ーンを露光する露光装置が知られている。
【0003】特に、被露光部材の位置決め精度向上に対
する要求が大きくなってきており、そのような要求に対
処するものとして以下のようなものもある。図9〜図1
3は、従来の両面露光装置の概略的構成を示すもので、
1は繰出しボビン2及びブレーキ等の弛み防止機構2a
を備えた繰出し部であり、3は巻取りボビン4及び巻取
りモータ4aを備えた巻取り部である。繰出しボビン2
には帯状の被露光部材5が巻回されており、被露光部材
5は繰出しボビン2から繰り出され、巻取りボビン4に
巻き取られるようになっている。特にこの従来の両面露
光装置には被露光部材5の両側縁には長手方向に等間隔
に位置合せマーク5aが形成されている。
【0004】繰出し部1と巻取り部3との間には被露光
部材5の走行路6を挟んで上下に露光部7a,7bが被
露光部材5を介して対向するように配置されており、露
光時には、これら露光部7a,7bがZ軸駆動機構によ
りそれぞれ被露光部材5の方向へ移動され、各露光部7
a,7bに取付けられたガラスマスク8a,8bが被露
光部材5にそれぞれ密着された状態で露光が行われるよ
うになっている。
【0005】ガラスマスク8a,8bは後述するアライ
メント機構9a,9bに支持され、X軸方向、Y軸方
向、θ方向(X,Y平面内での回転方向)に微少移動可
能に支持されている。
【0006】また、繰出し部1と露光部7a,7bとの
間には被露光部材5を挟持搬送する一対の繰出側送りロ
ーラ10が設けられ、この繰出側送りローラ10は被露
光部材5の走行方向と直角方向に延長するガイドレール
11aに支承され、ボールねじ機構等の駆動機構によっ
て繰出側送りローラ10がガイドレール11aに沿って
移動し、被露光部材5を幅方向(被露光部材5の走行方
向と直角方向)に移動調整できるようになっている。
【0007】また、露光部7a,7bと巻取り部3との
間には被露光部材5を挟持搬送する一対の巻取側送りロ
ーラ12が設けられ、この巻取側送りローラ12は被露
光部材5の走行方向と直角方向に延長するガイドレール
11bに支承され、ボールねじ機構等の駆動機構によっ
て巻取側送りローラ12がガイドレール11bに沿って
移動し、被露光部材5を幅方向(被露光部材5の走行方
向と直角方向)に移動調整できるようになっている。
【0008】巻取側送りローラ12の一方には巻取量カ
ウントエンコーダ13が設けられ、被露光部材5の間欠
走行の送り量を検出し、この検出信号はコントローラ2
9を介して巻取り部3の巻取りモータ4aに入力される
ようになっている。すなわち、巻取量カウントエンコー
ダ13からの信号に基づいて被露光部材5の送り量が制
御される。さらに、巻取側送りローラ12の近傍には被
露光部材5の一側部におけるエッジを検出するエッジポ
ジショナのラインセンサ14が被露光部材5の走行方向
に離間して2か所設けられ、被露光部材5の幅方向のず
れを検出するようになっている。
【0009】前記上下の露光部7a,7bのガラスマス
ク8a,8bの一側の前後にはマスク・マスクアライメ
ントマークMが付されている。このマスク・マスクアラ
イメントマークMは、上部のガラスマスク8aが例えば
黒丸マークで、下部のガラスマスク8bが白抜きマーク
であり、白抜きマークの中心に黒丸マークが位置するよ
うにマスクアライメントすることにより、マスク相互の
位置決めを行うようになっており、前記マスク・マスク
アライメントマークMに対向する上部にはマスクアライ
メントカメラ28aが設けられている。
【0010】さらに、露光部7aのガラスマスク8aの
他側にはガラスマスク8a及び被露光部材5に対向する
マスクアライメントカメラ28bが設置されており、ガ
ラスマスク8aに設けられたマスク・マスクアライメン
トマークMと被露光部材5の位置合せマーク5aを検出
するようになっている。マスクアライメントカメラ28
a及び28bの検出信号はアライメント機構9a,9b
に入力されるようになっている。
【0011】次に、前記アライメント機構9a,9bに
ついて説明すると、15は矩形状のアライメントベース
であり、このアライメントベース15の一方の面にはア
ライメントステージ16が設けられ、このアライメント
ステージ16にガラスマスク8a,8bが固定されてい
る。アライメントベース15の他方の面にはステージ駆
動機構17が設けられている。
【0012】ステージ駆動機構17は、X方向アライメ
ント駆動モータ18(その先端のロッド18aがX方向
に伸縮する。ロッド18aの先端はステージ駆動継手1
9に当接)と、このX方向アライメント駆動モータ18
によってX方向に駆動されるステージ駆動継手19及び
ステージ駆動継手19をX方向アライメント駆動モータ
18と逆方向に押圧する予圧シリンダ20(その先端の
伸縮部20aはステージ駆動継手19に当接)とからな
るX方向駆動ユニット21と、Y方向アライメント駆動
モータ22(その先端のロッド22aがY方向に伸縮。
ロッド22aの先端はステージ駆動継手19に当接)
と、このY方向アライメント駆動モータ22によってY
方向に駆動されるステージ駆動継手23及びステージ駆
動継手23をY方向アライメント駆動モータ22と逆方
向に押圧する予圧シリンダ24(その先端の伸縮部24
aはステージ駆動継手19に当接)とからなるY方向駆
動ユニット25とから構成されている。
【0013】前記X方向及びY方向のステージ駆動継手
19,23は、アライメントベース15に設けられた貫
通孔26を貫通する連結軸27によってアライメントス
テージ16に連結されている。そして、ステージ駆動機
構17によってアライメントベース15に対しアライメ
ントステージ16をX軸方向、Y軸方向、θ方向に微動
してガラスマスク8a,8bをアライメントできるよう
になっている。
【0014】次に、前述のように構成された両面露光装
置における位置合せ方法について説明する。予め、ガラ
スマスク8aと8bとのアライメントはマスクアライメ
ントカメラ28a,28b及びアライメント機構9a,
9bとにより位置合わせされた状態となっている。巻取
り部3の巻取りボビン4が一定の回転角だけ回転する
と、繰出しボビン2に巻回されている被露光部材5は一
定量だけ繰り出されて露光部7a,7bと対向する露光
位置Qに位置決めされる。
【0015】このときの被露光部材5の送り量は、巻取
量カウントエンコーダ13によって検出され、被露光部
材5の走行方向と直角方向の位置ずれは被露光部材5の
一側部におけるエッジを検出するエッジポジショナのラ
インセンサ14によって検出される。巻取量カウントエ
ンコーダ13の検出信号に基づきコントローラ29は巻
取りモータ4aを制御し、所定量被露光部材5を送る。
エッジポジショナのラインセンサ14の検出信号は、繰
出側送りローラ10及び巻取側送りローラ12の駆動機
構に入力され、繰出側送りローラ10及び巻取側送りロ
ーラ12をガイドレール11a,11bに沿って移動し
て被露光部材5の幅方向(図9のY方向)の微調整を行
う。
【0016】また、被露光部材5が露光位置Qに位置決
めされると、マスクアライメントカメラ28bによって
被露光部材5に付された位置合せマーク5aとがガラス
マスク8aのマスク・マスクアライメントマークMとの
ずれを検出し、その検出信号はアライメント機構9a,
9bに入力され、ガラスマスク8a,8bをX軸方向、
Y軸方向、θ方向に微動して被露光部材5の位置合せマ
ーク5aに対してガラスマスク8a,8bの位置合せを
行い、位置合せ後、露光部7a,7bによって被露光部
材5に対する露光が行われる。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術のうち、
エッジポジショナのラインセンサ14や被露光部材5の
位置合わせマークを用いた位置補正を行わないものの場
合、図14に示すように、被露光部材5に露光したと
き、その露光パターン30aが被露光部材5の送り方向
に、露光パターン30a同士の間に隙間Δx1 または重
なってΔx2 のようにずれたり、送り方向と直角方向に
Δyのようにずれることがある。特に、露光パターン3
0aがΔx1 のようにずれて露光パターン30a同士の
間に隙間ができ、白抜けが起こると、後工程のエッチン
グ時に被露光部材5が切れてしまう虞がある。
【0018】これは、送り量の高精度化を図っても限界
がある。すなわち、被露光部材5の送り量を巻取量カウ
ントエンコーダ13によって検出しているが、被露光部
材5と巻取側送りローラ12との間でスリップが発生し
た場合、被露光部材5の実際の送り量を正確に把握する
ことができない。また、生産性を上げるために被露光部
材5を高速送りするとスリップしやすく、誤差が大きく
なるという問題がある。すなわち、孔の大きさを適切に
選択することによりガラスマスク8aのマークがくるよ
うにすることはできても孔の位置のずれが大きいとマス
クの位置合わせに余分な時間を要するという問題が生
じ、高速送りの利点が十分に活かされない。
【0019】これに対し、前記図9〜図13のもので
は、エッジポジショナやアライメント機構などを使用す
ることにより、位置の補正をすることはできる。しかし
ながら、従来、マスクアライメントカメラ28bによっ
て被露光部材5に予め付された位置合せマーク5aを検
出し、その検出信号をアライメント機構9a,9bに入
力してガラスマスク8a,8bをX軸方向、Y軸方向、
θ方向に微動して被露光部材5の位置合せを行っている
が、被露光部材5に予め付された位置合せマーク5aの
精度については何ら検証手段がなく、位置合せ精度を完
全に被露光部材5の位置合せマーク5aに依存してい
た。
【0020】つまり、被露光部材5が露光位置Qにイン
デックスされた後、その位置合せマーク5aをマスクア
ライメントカメラ28bによって検出し、その検出結果
に基づいてガラスマスク8a,8bをアライメント機構
9a,9bによってアライメントしているが、誤差が累
積されてガラスマスク8a,8bを追従できない場合が
生じる。
【0021】この発明は、前記事情に着目してなされた
もので、その目的とするところは、高速送りしても被露
光部材に対してマスクを正確に位置合せでき、隣同士の
露光パターンの隙間が開き過ぎたり、重なるのを防止で
き、生産性の向上が図れる露光装置の位置合せ方法を提
供することにある。
【0022】
【課題を解決するための手段】この発明は、前記目的を
達成するために、請求項1は、帯状の被露光部材をその
長手方向に間欠的に走行し、被露光部材を露光位置に順
次導き、露光位置において被露光部材とマスクとを位置
合せする露光装置の位置合せ方法において、前記被露光
部材に前記露光位置に対する位置合せ用の位置合せマー
クを前記間欠的な走行の1ピッチ毎に付す第1の工程
と、前記露光位置で前記被露光部材に付された位置合せ
マークのうち、前記露光位置に対応する2つの位置合せ
マークと前記マスクに付された基準マークとを読取り手
段によって読取る第2の工程と、前記読取り手段の読取
り情報に基づいて前記マスクを位置合せするとともに、
前記間欠的走行の送り方向のずれ量から次回の走行の送
り量に加えるべき補正量を算出する第3の工程とを具備
することを特徴とする。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、この発明の各実施の形態を
図面に基づいて説明するが、従来と同一構成部分は同一
番号を付して説明を省略する。図1〜図5は第1の実施
形態を示し、図1は露光装置の概略的平面図、図2は同
じく側面図、図3はガラスマスクと被露光部材との関係
を示す平面図、図4はブロック図、図5は作用説明図で
ある。
【0024】露光装置の繰出し部1と露光部7a,7b
との間には走行路6を走行する被露光部材5の一側縁に
対向して位置合せマーク付与手段としての孔明け機30
が設置されている。この孔明け機30は、前記走行路6
より下部にXY方向に移動可能にXYテーブル31が設
けられ、このXYテーブル31上には被露光部材5の側
縁部を通過して走行路6の上方に突出する支柱32が立
設されている。この支柱32にはパンチ33を有する孔
明けヘッド34が設けられている。さらに、パンチ33
に対向するXYテーブル31の上面にはパンチ受け台3
5が設けられ、パンチ33の下降によって被露光部材5
に2mmφ程度の貫通する孔からなる位置決めマーク3
6(H0 、H1 、H2 、H3 ………)が付されるように
なっている。
【0025】孔明け機30のXYテーブル31の駆動部
37はコントローラ29に接続されており、コントロー
ラ29には被露光部材5の一側縁部のエッジを検出する
孔明け機用エッジセンサ39からの検出信号が入力され
るようになっている。
【0026】また、図5に示すように、ガラスマスク8
aの一側縁で、被露光部材5の位置決めマーク36と対
向する位置には基準マークとしての前後2か所にマスク
アライメントマーク38a,38bが付されている。こ
のマスクアライメントマーク38a,38bは0.2m
mφ程度の黒丸であり、それぞれの中心のX方向位置
は、露光位置Qの両端の延長線上に位置し、Y方向位置
は露光位置Qの下端から互いに等しい位置にある。そし
て、マスクアライメントマーク38a,38bと位置決
めマーク36とが重なり合ったとき、位置決めマーク3
6の中にマスクアライメントマーク38a,38bが入
り、マスクアライメントマーク38a,38bに対して
位置決めマーク36のずれ、つまり被露光部材5の送り
方向のずれ量および幅方向(送り方向と直角方向)のず
れ量がワークアライメントカメラ28−1,28−2に
よって検出できるようになっている。
【0027】次に、図5に基づいて露光装置の位置合せ
方法について説明する。まず、予めマスクアライメント
カメラ28a,28bとアライメント機構9a,9bと
により、ガラスマスク8aとガラスマスク8bとは位置
合わせしておく。図5(a)に示すように、被露光部材
5には孔明け機30によって被露光部材5の露光位置Q
のX軸方向幅に等しい送りピッチPだけコントローラ2
9から送りをかけるように指令された場合の実際の送り
量に対応する間隔を存して予め位置決めマークH0 、H
1 が明けられており、この被露光部材5は走行路6に沿
って間欠的に走行され、被露光部材5が露光部7a,7
bに対向する露光位置30にインデックスされる。
【0028】そして、位置決めマークH0 に対してマス
クアライメントマーク38aが対向し、位置決めマーク
1 に対してマスクアライメントマーク38bが対向し
たところで、不図示のZ軸駆動機構によりアライメント
機構9a,9bをZ軸方向に動かし、ガラスマスク8a
と8bとを密着し、ワークアライメントカメラ28−1
によって位置決めマークH0 とマスクアライメントマー
ク38aとを撮像し、同時にワークアライメントマーク
28−2によって位置決めマークH1 とマスクアライメ
ントマーク38bとを撮像する。そして、その結果に基
づきコントローラ29に内蔵された演算器により位置決
めマークH0 のXY方向の交点、すなわち中心座標とマ
スクアライメントマーク38aの中心座標とのX方向及
びY方向のずれ量及び位置決めマークH1 のXY方向の
交点、すなわち中心座標とマスクアライメントマーク3
8bの中心座標とのX方向及びY方向のずれ量を求め、
さらにこれらの結果から位置決めマークH0 の中心とマ
スクアライメントマーク38aの中心を一致させ、かつ
位置決めマークH1 の中心とマスクアライメントマーク
38bの中心のY座標を一致させるためにガラスマスク
8aを移動させるべきX,Y及びθの値を算出する。次
にガラスマスク8aと8bとを離間させた後、アライメ
ント機構9a,9bによってガラスマスク8a,8bを
算出された量だけXYθ方向にアライメントする。
【0029】再び、ガラスマスク8aと8bとを密着
し、ワークアライメントカメラ28−1及び28−2に
よって位置決めマークH0 とマスクアライメントマーク
38aとの中心のずれ、位置決めマークH1 の中心とマ
スクアライメントマーク38bの中心のX軸方向のずれ
がないことを確認し、ずれが許容値以上残っていた場合
は前記アライメント動作を繰り返す。マスクアライメン
トマーク38bに対する位置決めマークH1 のずれ量d
1(位置決めマークH1 のXY方向の交点に対してマス
クアライメントマーク38bの中心のX方向ずれ量)を
密着後の測定値に基づき算出した後に露光部7a,7b
によって被露光部材5に露光する(A1 は第1回目の露
光パターンを示す)。マスクアライメントマーク38b
のずれ量d1はワークアライメントカメラ28−2から
コントローラ29の記憶部に入力され、次の送り量の補
正(図5の例ではd1だけ元の指令値Pより差し引かれ
る。)がなされるとともに、孔明け機30によって被露
光部材5の位置決めマークH2 を明ける。
【0030】次に、図5(b)に示すように、位置決め
マークH2 を明けた後、コントローラ29から巻取り部
3の巻取りモータ4aにP−d1だけ巻取るよう指令が
入力されることにより、巻取り部3によって被露光部材
5を1ピッチ走行すると、被露光部材5が露光部7a,
7bに対向する露光位置30にインデックスされる。し
たがって、位置決めマークH1 はマスクアライメントマ
ーク38aに対向し、位置決めマークH2 はマスクアラ
イメントマーク38bに対向する。このとき、前記のよ
うに補正を加えているので、前回の露光パターンと今回
の露光位置との隙間を略無くすことができる(図5
(b)のΔが略d1と一致する。
【0031】後は、僅かにか残る誤差(X方向はΔとd
1の差分。Y方向及びθ方向はエッジポジショナで対応
し切れない誤差分。)を図5(c)に示すように、ワー
クアライメントカメラ28−1,28−2及びアライメ
ント機構9a,9bによってガラスマスク8a,8bを
XYθ方向にアライメントすることにより、位置決めマ
ークH1 のXY方向の交点に対してマスクアライメント
マーク38aの中心が同図に示すように正確にd1だけ
右側に位置し、かつY方向は位置決めマークH1 とマス
クアライメントマーク38a、位置決めマークH2 とマ
スクアライメントマーク38bともずれないよう調整す
る。
【0032】次に、ワークアライメントカメラ28−2
によって得られるマスクアライメントマーク38bに対
する位置決めマークH2 のずれ量d2 (位置決めマーク
2のXY方向の交点に対してマスクアライメントマー
ク38bのずれ量)を測定値に基づき算出した後に露光
部7a,7bによって被露光部材5に露光する(A2
第2回目の露光パターンを示す)。
【0033】マスクアライメントマーク38bのずれ量
d2はワークアライメントカメラ28−2からコントロ
ーラ29の記憶部に入力され、次の送り量の補正がなさ
れるとともに、孔明け機30によって被露光部材5の位
置決めマークH3 を明ける。
【0034】この動作を繰り返すことにより、被露光部
材5の露光位置30に正確に露光パターンA1 、A2
を形成することができ、露光パターン同士の間に隙間が
生じたり、露光パターン同士が重なることはない。つま
り、被露光部材5を露光位置に走行する直前に被露光部
材5に位置決めマーク36(H0 、H1 、H2 、H3
…)を付し、被露光部材5を露光位置にインデックスし
た後、ガラスマスク7aに予め付された基準となるマス
クアライメントマーク38a,38bに対する位置決め
マーク36(H0 、H1 、H2 、H3 ……)のずれ量を
ワークアライメントカメラ28−1,28−2によって
検出し、そのずれ量を補正して巻取り部3の次の送り量
を設定することにより、ずれ量が累積されることはな
く、巻取りモータ4aによる高速送りにより次の露光位
置への略正確な位置決めができ、残された僅かな誤差は
アライメント機構9a,9bによってガラスマスク8
a,8bをアライメントすることにより行えばよいの
で、高速な位置決めと高精度な位置決めを両立すること
ができる。
【0035】なお、前記実施形態においては、ワークア
ライメントカメラ28−2によってマスクアライメント
マーク38bに対する位置決めマーク36のずれ量d1
を測定し、ずれ量d1をワークアライメントカメラ28
−2からコントローラ29を介して巻取り部3に入力し
て送り量の補正がなされるようにしたが、巻取り部3に
よって被露光部材5の送り量を補正する代わりにマスク
アライメントマーク38bのずれ量d1をワークアライ
メントカメラ28−2からコントローラ29を介して孔
明け機30のXYテーブル31の駆動部37に入力し、
XYテーブル31はずれ量d1だけX方向に微動調整し
た後、孔明け機30によって被露光部材5の位置決めマ
ークH2 を明けるようにしてもよい。
【0036】また、第1の実施形態においては、繰出側
送りローラ10及び巻取側送りローラ12をガイドレー
ル11a,11bに支持し、ボールねじ等の駆動機構に
よって移動することにより、被露光部材5を幅方向に移
動調整するようにしているが、図6または図7に示すよ
うに構成してもよい。
【0037】すなわち、図6は第2の実施形態を示し、
繰出側送りローラ10及び巻取側送りローラ12がロー
ラ支持枠40によって支持されている。ローラ支持枠4
0にはボールねじ41と螺合するナット42が固定され
ており、ボールねじ41を正逆回転可能なモータ43に
よって回転駆動するようにしたものである。
【0038】また、図7は第3の実施形態を示し、繰出
側送りローラ10及び巻取側送りローラ12の軸方向の
両端部が円弧状のガイドレール44によって支持され、
繰出側送りローラ10及び巻取側送りローラ12が水平
面内で傾動自在にしたものである。繰出側送りローラ1
0及び巻取側送りローラ12を2点鎖線で示すように傾
斜させることにより、被露光部材5を2点鎖線矢印方向
に幅寄せでき、破線で示すように傾斜させることによ
り、被露光部材5を破線矢印方向に幅寄せできる。
【0039】また、第1の実施形態においては、被露光
部材5の走行方向と直角方向の位置ずれは被露光部材5
の一側部におけるエッジを検出するエッジポジショナ1
4によって検出し、ガラスマスク8a,8bと被露光部
材5との位置ずれをワークアライメントカメラ28−
1,28−2によって検出ているが、被露光部材5の幅
方向は機械原点に常に保ち、ガラスマスク8a,8bは
その機械原点に保つことができれば、被露光部材5の走
行方向と直角方向の位置ずれの検出は不要であり、被露
光部材5の走行方向のみの位置ずれを考慮すればよい。
【0040】したがって、図8の第4の実施形態に示す
ように、被露光部材5にその長手方向と直交する方向に
長い長孔からなる位置決めマーク45を設け、ガラスマ
スク8a,8bに位置決めマーク45より狭幅で、長さ
が短い棒状のマスクマーク46を設け、位置決めマーク
45とマスクマーク46を上方または下方からリニアセ
ンサ47によって検出して被露光部材5の走行方向の位
置ずれを検出するようにしてもよい。このように構成す
ることにより、ワークアライメントカメラ28−1,2
8−2が不要となる。なお、前記各実施形態において
は、両面露光装置について説明したが、片面露光装置に
おいても適用できること勿論である。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、被露光部材に露光位置に対する位置合せ用の位置合
せマークを付し、露光位置で被露光部材に付された位置
合せマークとマスクに付された基準マークとを読取り手
段によって読取り、読取り情報に基づいてマスクを位置
合せすることにより、被露光部材を高速送りしても被露
光部材に対してマスクを正確に位置合せでき、隣同士の
露光パターンの隙間が開き過ぎたり、重なるのを防止で
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態を示す両面露光装置
の概略的平面図。
【図2】同実施形態の両面露光装置の概略的側面図。
【図3】同実施形態の孔明け機の側面図。
【図4】同実施形態の制御系のブロック図。
【図5】同実施形態の作用説明図。
【図6】この発明の第2の実施形態を示し、繰出側送り
ローラ及び巻取側送りローラの支持装置の側面図。
【図7】この発明の第3の実施形態を示し、繰出側送り
ローラ及び巻取側送りローラの支持装置の平面図。
【図8】この発明の第4の実施形態を示し、被露光部材
の送り方向の検出手段を示す平面図。
【図9】従来の両面露光装置の概略的平面図。
【図10】同従来の両面露光装置の概略的側面図。
【図11】同従来のアライメント機構の斜視図。
【図12】同従来のアライメント機構の一部断面した側
面図。
【図13】図12のA部を拡大した断面図。
【図14】従来の露光パターンの平面図。
【符号の説明】
5…被露光部材 8a,8b…ガラスマスク 28−1,28−2…ワークアライメントカメラ 30…孔明け機 36…位置合せマーク 38a,38b…マスクアライメントマーク
フロントページの続き (72)発明者 岡谷 秀樹 神奈川県藤沢市桐原町12番地 日本精工株 式会社内 Fターム(参考) 2H097 KA03 KA13 KA15 KA20 LA10 LA17 5F067 DA16

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 帯状の被露光部材をその長手方向に間欠
    的に走行し、被露光部材を露光位置に順次導き、露光位
    置において被露光部材とマスクとを位置合せする露光装
    置の位置合せ方法において、 前記被露光部材に前記露光位置に対する位置合せ用の位
    置合せマークを前記間欠的な走行の1ピッチ毎に付す第
    1の工程と、 前記露光位置で前記被露光部材に付された位置合せマー
    クのうち、前記露光位置に対応する2つの位置合せマー
    クと前記マスクに付された基準マークとを読取り手段に
    よって読取る第2の工程と、 前記読取り手段の読取り情報に基づいて前記マスクを位
    置合せするとともに、前記間欠的走行の送り方向のずれ
    量から次回の走行の送り量に加えるべき補正量を算出す
    る第3の工程とを具備することを特徴とする露光装置の
    位置合せ方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005197441A (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Dainippon Kaken:Kk 露光装置および露光方法
JP2007310209A (ja) * 2006-05-19 2007-11-29 Nsk Ltd 露光装置
JP2009053383A (ja) * 2007-08-27 2009-03-12 Orc Mfg Co Ltd 露光装置及び露光方法
JP2009545774A (ja) * 2006-08-03 2009-12-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 長い全長のフレキシブル回路及びそれらの作製方法
CN105785723A (zh) * 2016-05-06 2016-07-20 广州柔印机械有限公司 柔性版uva-led双面曝光机
JP2017215535A (ja) * 2016-06-01 2017-12-07 株式会社オーク製作所 露光装置
JP2020166275A (ja) * 2020-04-27 2020-10-08 株式会社ニコン パターン形成装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005197441A (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Dainippon Kaken:Kk 露光装置および露光方法
JP2007310209A (ja) * 2006-05-19 2007-11-29 Nsk Ltd 露光装置
JP2009545774A (ja) * 2006-08-03 2009-12-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 長い全長のフレキシブル回路及びそれらの作製方法
JP2009053383A (ja) * 2007-08-27 2009-03-12 Orc Mfg Co Ltd 露光装置及び露光方法
TWI417684B (zh) * 2007-08-27 2013-12-01 Orc Mfg Co Ltd Exposure apparatus and exposure method
CN105785723A (zh) * 2016-05-06 2016-07-20 广州柔印机械有限公司 柔性版uva-led双面曝光机
JP2017215535A (ja) * 2016-06-01 2017-12-07 株式会社オーク製作所 露光装置
JP2020166275A (ja) * 2020-04-27 2020-10-08 株式会社ニコン パターン形成装置

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