JPS636501A - インテグレ−タプリズム - Google Patents

インテグレ−タプリズム

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Publication number
JPS636501A
JPS636501A JP61149429A JP14942986A JPS636501A JP S636501 A JPS636501 A JP S636501A JP 61149429 A JP61149429 A JP 61149429A JP 14942986 A JP14942986 A JP 14942986A JP S636501 A JPS636501 A JP S636501A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
prism
integrator
lenses
cylindrical lenses
parallel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61149429A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Nozue
野末 康博
Noriaki Itou
伊藤 仙聡
Osamu Wakabayashi
理 若林
Junichi Fujimoto
准一 藤本
Masahiko Kowaka
雅彦 小若
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP61149429A priority Critical patent/JPS636501A/ja
Publication of JPS636501A publication Critical patent/JPS636501A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体製造装置等に用いられるインテグレー
タに関するものである。
(従来の技術) インテグレータの機能は、不均一な強度分布のある光を
−様な強度分布の光にするものである。
そして、その原理は第6図に示すように光イに対してレ
ンズ口を多数並べ各部分の光を拡げることによって、不
均一な強度分布のある光を−様な強度分布の光にする。
従来の技術としては第7図に示すようなフライアイイン
テグレータがある。これは凹または凸レンズのようなマ
イクロレンズαを多数並べることによってインテグレー
タとしての機能を出している。
(発明が解決しようとする問題点) 上記したフライアイインテグレータのような構造では加
工が困難であり、高価なものになつていた。
また、フライアイインテグレータではマイクロレンズα
を接着剤で接合したものであるので。
深紫外光であるエキシマレーザを光源として用いた場合
、接着剤(ポリマー)の光吸収による劣化が激しく耐久
性に問題があった。
(問題点を解決するための手段及び作用)出願人は先に
特許出願「インテグレータ」(特願昭60−22014
2)にて上記の目的を達成する発明を成した。すなわち
第5図において1はガラスのような透明体であり、透明
体1の一方の面には凹状のシリンドリカルレンズ2が水
平方向に平行に多数並べて形成してあり、透明体1の他
方の面には一方の面のシリンドリカルレンズ2に対して
直角な方向のシリンドリカルレンズ3が平行に多数並べ
て形成しである。
このように構成されたインテグレータ4において、水平
方向のシリンドリカルレンズ2は水平方向の光を拡げる
し、また垂直方向のシリンドリカルレンズ3は垂直方向
の光を拡げる。このようにしてインテグレータとしての
機能を出す。
第5図の発明に係るものは前記問題点を解決する上にお
いて絶大な効果を奏したが、今回出願する発明は更に次
に述べる効果もあげることを目的としたものであり、こ
れを図を用いて説明する。第8図は従来のエキシマレー
ザ・ステッパの要部構成説明図であり9図においてレー
ザヘッドaから発せられたエキシマレーザはエタロンb
、リアミラーC,フロントミラーdによりコントロール
され2反射鏡eにて方向を直角に変え、インテグレータ
fにて−様な強度分布にされ9反射鏡gにて再び方向を
直角に変え、コンデンサレンズh、レチクルi、投影レ
ンズjを介してウェハーに上に露光される。この装置に
おいて2反射鏡eに相当する機能もインテグレータrに
持たせることにより、装置のスペース及びコストを大幅
に節減することが可能となるものである。
以上詳述した2つの目的を達成するために本発明に係る
インテグレータは、断面が直角二等辺三角形状の透明体
であるプリズムの直角を構成する二面のうちの一方の面
にシリンドリカルレンズを一方向に平行に多数並べて形
成すると共に、他方の面に上記シリンドリカルレンズの
方向とは直角方向にシリンドリカルレンズを平行に並べ
て形成する。また、別の手段として上記プリズムを構成
する直角二等辺三角形の一つの面にあるいは複数の面に
シリンドリカルレンズを同心円状に多数並べて形成する
ことにより。
インテグレータとしての機能及び反射鏡としての機能を
併せて出すようにしたものである。
(実施例) 以下本発明の実施例を第1図乃至第3図を参照して説明
する。
第1図において101はガラスのような透明体で構成さ
れた直角二等辺三角柱状のプリズムであり、プリズム1
01の直角を構成する一方の面には凹状のシリンドリカ
ルレンズ102が平行に多数並べて形成してあり、プリ
ズム101の直角を構成する他方の面にはシリンドリカ
ルレンズ102に対して直角な方向のシリンドリカルレ
ンズ103が平行に多数並べて形成しである。このよう
に構成されたインテグレータプリズム104において、
入射光はシリンドリカルレンズ102によりPP’方向
に拡げられ。
プリズムを構成する直角三角形の斜辺により構成される
斜面QQ’R’Rにより垂直上方に方向を変え、シリン
ドリカルレンズ103によりPR方向に拡げられて射出
光となる。このようにしてインテグレータプリズム10
4はインテグレータとしての機能と反射鏡としての機能
を同時にはだすものである。
第2図はシリンドリカルレンズの形状の別の実施例であ
り、プリズム105の直角面の一方のPP’R’R上に
シリンドリカルレンズ106を同心円状に多数並べて形
成してあり、  PQQ’P’面への入射光は斜面QQ
’R’Rで反射されて垂直上方に向きを変え、シリンド
リカルレンズ106によりシリンドリカルレンズ106
の同心円の半径方向に拡げられて射出光となり、このよ
うにしてインテグレータプリズム107はインテグレー
タとしての機能と反射鏡としての機能を同時にはたすも
のである。なおこの実施例において、インテグレータと
しての機能増大をはかるためにプリズム105の面PQ
Q’P’上にもシリンドリカルレンズ106と同様な形
状のシリンドリカルレンズを形成してもよい。
第3図は更に別の実施例であって同心円状のシリンドリ
カルレンズ110をプリズム109の斜面QQ’R’R
上に形成したものであって。
PQQ’P’面への入射光は斜面QQ’R’Rで反射さ
れると同時にシリンドリカルレンズ101により同心円
の半径方向に拡げられ、PP’R’R面より射出光とな
り、このようにしてインテグレータ111はインテグレ
ータとしての機能と1反射鏡としての機能を同時にはた
すものである。この実施例においてもインテグレータと
しての機能増大をはかるためにプリズム1O9の面PQ
Q’P’及び/または面PP’R’R上にもシリンドリ
カルレンズを形成してもよい。
なお、シリンドリカルレンズ102,103゜106.
110は凹レンズに限らず凸レンズでもよい。
第4図は本発明によるインテグレータプリズムを用いた
エキシマレーザ・ステッパの要部構成説明図であり、第
8図と同様の部分には第8図に用いた符号と同一の符号
を用い、説明は省略する。第4図のものが第8図のもの
と異なるところは、第8図における反射鏡eとインテグ
レータfを9インテグレータプリズム121に置き換え
たことであり1インテグレータプリズム121は、上述
したプリズム状のインテグレータプリズム104.10
7または111と同様な構成のものである。第4図を第
8図と比較して容易にわかるように、第4図の寸法Mは
第8図の寸法りに比較して大幅に小さくなり、従ってエ
キシマレーザステッパの全体スペースが大幅に小さくな
るものである。
(発明の効果) 本発明は以上詳述したようにして成るので。
加工が簡単で安価なインテグレータを提供し。
接着剤を使用しないので紫外光のインテグレータとして
も使用できるものである。更にこのインテグレータプリ
ズムをエキシマレーザ・ステッパに用いたときは反射鏡
としての機能も兼ね備えるので一つの反射鏡を省略でき
ると同時にエキシマレーザ・ステッパの全体スペースカ
大幅に小さくできるというすぐれた効果を奏するもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は2本発明の一実施例のインテグレータプリズム
の斜視図、第2図及び第3図はそれぞれ別の実施例のイ
ンテグレータプリズムの斜視図、第4図は本発明に係る
インテグレータプリズムを使用したエキシマレーザ・ス
テッパの要部構成説明図、第5図はシリンドリカルレン
ズを用いた従来技術のインテグレータ、第6図はインテ
グレータの原理説明図、第7図は従来のインテグレータ
の斜視図、第8図は従来のエキシマレーザ・ステッパの
要部構成説明図である。 101.105.109・・・プリズム、102゜10
3.106.110・・・シリンドリカルレンズ、  
 104,107,111.121・・・インテグレー
タプリズム。 特許出願人 株式会社小松製作所 代理人 (弁理士)松 澤  統 射 出 九 Jja1図 簡 2 図 第 3 図 14図 115  弱 1g 6 図 第7図 @8図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)プリズムの一面あるいは複数の面に多数のシリン
    ドリカルレンズを形成したことを特徴とするインテグレ
    ータプリズム。
  2. (2)上記プリズムの一方の面にシリンドリカルレンズ
    を一方向に平行に多数並べて形成すると共に、該プリズ
    ムの他方の面には上記シリンドリカルレンズの方向とは
    直角方向にシリンドリカルレンズを平行に多数並べて形
    成したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のイ
    ンテグレータプリズム。
  3. (3)上記プリズムの一面あるいは複数の面にシリンド
    リカルレンズを同心円状に多数並べて形成したことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載のインテグレータプ
    リズム。
JP61149429A 1986-06-27 1986-06-27 インテグレ−タプリズム Pending JPS636501A (ja)

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JP61149429A JPS636501A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 インテグレ−タプリズム

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JP61149429A JPS636501A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 インテグレ−タプリズム

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JPS636501A true JPS636501A (ja) 1988-01-12

Family

ID=15474914

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JP61149429A Pending JPS636501A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 インテグレ−タプリズム

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0232317A (ja) * 1988-07-21 1990-02-02 Kanagawa Pref Gov エキシマレーザビーム用光学系
WO1997031298A1 (en) * 1996-02-23 1997-08-28 Asm Lithography B.V. Illumination unit for an optical apparatus
JP2002516650A (ja) * 1997-12-23 2002-06-04 キヤノン株式会社 投影光源
WO2007029561A1 (ja) * 2005-09-09 2007-03-15 V Technology Co., Ltd. 露光装置
JP2010045411A (ja) * 1992-06-26 2010-02-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体膜の作製方法、レーザー処理方法及びレーザー照射装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0232317A (ja) * 1988-07-21 1990-02-02 Kanagawa Pref Gov エキシマレーザビーム用光学系
JP2010045411A (ja) * 1992-06-26 2010-02-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体膜の作製方法、レーザー処理方法及びレーザー照射装置
US7985635B2 (en) 1992-06-26 2011-07-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser process
JP2011223027A (ja) * 1992-06-26 2011-11-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体膜の作製方法及び電子機器
WO1997031298A1 (en) * 1996-02-23 1997-08-28 Asm Lithography B.V. Illumination unit for an optical apparatus
JP2002516650A (ja) * 1997-12-23 2002-06-04 キヤノン株式会社 投影光源
WO2007029561A1 (ja) * 2005-09-09 2007-03-15 V Technology Co., Ltd. 露光装置

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