JPS6280617A - インテグレ−タ - Google Patents

インテグレ−タ

Info

Publication number
JPS6280617A
JPS6280617A JP22014285A JP22014285A JPS6280617A JP S6280617 A JPS6280617 A JP S6280617A JP 22014285 A JP22014285 A JP 22014285A JP 22014285 A JP22014285 A JP 22014285A JP S6280617 A JPS6280617 A JP S6280617A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrator
cylindrical lenses
light
transparent body
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22014285A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Kajiyama
康一 梶山
Kaoru Saito
斉藤 馨
Tadayoshi Yamaguchi
忠義 山口
Yasuo Itakura
板倉 康夫
Osamu Wakabayashi
理 若林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP22014285A priority Critical patent/JPS6280617A/ja
Publication of JPS6280617A publication Critical patent/JPS6280617A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体製造装置等に用いられるインテグレー
タに関するものである。
従来の技術 インテグレータの機能は、強度分布のある光を一様な強
度分布の光にするものである。
そして、その原理は第6図に示すように光イに対してレ
ンズ口を多数並べ各部分の光を拡げることによって強度
分布のある光を一様な強度分布の光にする。
従来の技術としては第7図に示すようなフライアイイン
テグレータがある。これは凹または凸レンズのようなマ
イクロレンズαを多数並べることによってインテグレー
タとしての機能を出している。
発明が解決しようとする問題点 上記したフライアイインテグレータのような構造では加
工が困難であり、高価なものになっていた。
また、フライアイインテグレータではマイクロレンズα
を接着剤で接合したものであるので、深紫外光であるエ
キシマレーザを光源として用いた場合、接着剤(ポリマ
ー)の光吸収による劣化が激しく耐久性に問題があった
本発明は上記の事情に鑑みなされたものであって、その
目的とするところはシリンドカルレンズを組み合せてイ
ンテグレータを構成し、加工を簡単にすると共に安価に
しまた紫外光のインテグレータとしても使用できるよう
にすることにある。
問題点を解決するための手段及び作用 上記の目的を達成するために、本発明に係るインテグレ
ータは、透明体1の一方の面にシリンドリカルレンズ2
を一方向に平行に多数並べて形成すると共に透明体1の
他方の面に一方の而のシリンドリカルレンズ2の方向と
は直角方向にシリンドリカルレンズ3を平行に多数並べ
て形成してあり、一方向例えば水平方向の光をシリンド
リカルレンズ2により拡げ、垂直方向の光をシリンドリ
カルレンズ3によって拡げてインテグレータとしての機
能を出すようにしたものである。
実施例 以下、本発明の実施例を第1図反型第4図を参照して説
明する。
図面中1はガラスのような透明体であり、透明体1の一
方の面には凹状のシリンドリカルレンズ2が水平方向に
平行に多数並べて形成してあり、透明体Iの他方の面に
は一方の面のシリンドリカルレンズ2に対して直角な方
向のシリンドリカルレンズ3が平行に多数並べて形成し
である。
このように構成されたインテグレータ4において、水平
方向のシリンドリカルレンズ2は水平方向の光を拡げる
し、また垂直方向のシリンドリカルレンズ3は垂直方向
の光を拡げる。このようにしてインテグレータとしての
機能を出す。
なお、シリンドリカルレンズ2.3は凹レンズに限らず
凸レンズでもよい。
紫外光のインテグレータとしての使用の場合は透明体1
の材質に石英ガラスを用いる。
エキシマレーザのレーザビーム7は不均質な九め、その
tまレーザ照射を行なうと反応が不均質となり均質な照
射を行なうことができない。
そこで第2図に示すようにレーザCVf)装置において
、レーザ発生器5から出たレーザビー  ・ム7がミラ
ー6に反射されて反応チャンバー8に入る前の部分に本
発明に係るインテグレータ4を位置させ基板9の表面に
均一なレーザビーム7を照射することによって均算なC
VDを行なうことができる。
また、エキシマレーザのレーザビーム7は不均算なため
そのままコンデンサーレンズ10にレーザビーム7を照
射するとウェハー11上の像面が不均算なためリソグラ
フィーを行なうことができない。
そこで、第3図に示すようにレーザビーム7がコンデン
サーレンズ10に入る前のところに本発明に係るインテ
グレータ4を位置させレチクル12の面に均一なレーザ
ビーム7を照射することによって、ウェハー11上に均
一な像面を形成させることができる。13は縮小レンズ
である。
現状でのエキシマレーザおよび応用範囲を考えて溝巾L
(2〜6麺)、±20≦曲率半径R≦±20.0の矩形
インテグレータを実際に製作し、レーザビームの強度分
布を測定した結果を第4図に示す。第5図は矩形インテ
グレータを使用しない場合のエヤシマレーザのビーム強
度分布である。
第4図と第5図の比較により非常に高性能なインテグレ
ータであることが判明した。
発明の効果 本発明に係るインテグレータは透明体1の一方の面にシ
リンド リ カルレンズ2を一方向に平行に多数並べて
形成すると共に透明体1の他方の面に一方の面のシリン
ドリカルレンズ2の方向とな直角方向にシリンドリカル
レンズ3を平行に多数並べて形成して構成したから、一
方向例えば水平方向の光をシリンドリカルレンズ2によ
り拡げ、垂直方向の光をシリンドリカルレンズ3によっ
て拡げてインテグレータとしての機能を出すことかで・
きる。
このように、シリンドリカルレンズ2.3を組み合せた
簡単な構成であるために加工が簡単になり安価になるし
、接着剤を使用しないので紫外光のインテグレータとし
ても使用できる。
【図面の簡単な説明】
;窮1図は本発明一実施例の斜視図、第2図は本発明に
係るインテグレータを使用したレーザCVD装置の説明
図、第3図は本発明に係るインテグレータを使用したレ
ーザリングラフイー装置の説明図、第4図は本発明に係
るインテグレータを使用した場合のビーム強度分布の説
明図、第5図はエキシマレーザのビーム強度分布の説明
図、第6図はインテグレータの原理説明図、第7図は従
来のインテグレータの斜視図である。 1は透明体、2.3はシリンドリカルレンズ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明体1の一方の面にシリンドリカルレンズ2を一方向
    に平行に多数並べて形成すると共に透明体1の他方の面
    に一方の面のシリンドリカルレンズ2の方向とは直角方
    向にシリンドリカルレンズ3を平行に多数並べて形成し
    たことを特徴とするインテグレータ。
JP22014285A 1985-10-04 1985-10-04 インテグレ−タ Pending JPS6280617A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22014285A JPS6280617A (ja) 1985-10-04 1985-10-04 インテグレ−タ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22014285A JPS6280617A (ja) 1985-10-04 1985-10-04 インテグレ−タ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6280617A true JPS6280617A (ja) 1987-04-14

Family

ID=16746553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22014285A Pending JPS6280617A (ja) 1985-10-04 1985-10-04 インテグレ−タ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6280617A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002516650A (ja) * 1997-12-23 2002-06-04 キヤノン株式会社 投影光源
US20060028732A1 (en) * 2004-08-06 2006-02-09 Visx, Incorporated Lenslet array for beam homogenization
US7092415B2 (en) 1997-03-10 2006-08-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser optical apparatus
JP2007500862A (ja) * 2003-08-01 2007-01-18 ヘンツェ−リソチェンコ パテントフェルヴァルトゥングス ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲー ビーム形成装置
JP2007073978A (ja) * 2006-10-04 2007-03-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射方法
JP2007096328A (ja) * 2006-10-04 2007-04-12 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射装置
JP2011187968A (ja) * 2011-04-18 2011-09-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射方法およびレーザー照射装置

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7092415B2 (en) 1997-03-10 2006-08-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser optical apparatus
US7479420B2 (en) 1997-03-10 2009-01-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser optical apparatus
JP2002516650A (ja) * 1997-12-23 2002-06-04 キヤノン株式会社 投影光源
JP2007500862A (ja) * 2003-08-01 2007-01-18 ヘンツェ−リソチェンコ パテントフェルヴァルトゥングス ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲー ビーム形成装置
KR101117903B1 (ko) 2003-08-01 2012-02-27 리모 파텐트페어발퉁 게엠베하 운트 코. 카게 빔 형성 장치
US7355794B2 (en) 2004-08-06 2008-04-08 Amo Manufacturing Usa, Llc Lenslet array for beam homogenization
US7206132B2 (en) * 2004-08-06 2007-04-17 Visx, Incorporated Lenslet array for beam homogenization
EP1779179A1 (en) * 2004-08-06 2007-05-02 Visx, Incorporated Lenslet array for beam homogenization
JP2008509436A (ja) * 2004-08-06 2008-03-27 ヴィズイクス・インコーポレーテッド ビーム均一化のための小型レンズ・アレイ
WO2006017543A1 (en) 2004-08-06 2006-02-16 Visx, Incorporated Lenslet array for beam homogenization
US7394595B2 (en) 2004-08-06 2008-07-01 Amo Manufacturing Usa, Llc Lenslet array for beam homogenization
US20060028732A1 (en) * 2004-08-06 2006-02-09 Visx, Incorporated Lenslet array for beam homogenization
US7738176B2 (en) 2004-08-06 2010-06-15 Amo Manufacturing Usa Llc. Lenslet array for beam homogenization
EP1779179A4 (en) * 2004-08-06 2012-01-25 Amo Mfg Usa Llc MICROLENS NETWORK FOR HOMOGENIZING A BEAM
JP2007096328A (ja) * 2006-10-04 2007-04-12 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射装置
JP2007073978A (ja) * 2006-10-04 2007-03-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射方法
JP2011187968A (ja) * 2011-04-18 2011-09-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射方法およびレーザー照射装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014113905A1 (zh) 光刻照明系统
JP2000269130A (ja) リソグラフ投影装置
JPS6280617A (ja) インテグレ−タ
JPS55129313A (en) Light deflector
JPS622540A (ja) ライトインテグレ−タとそれを含むケ−ラ−照明系
JPS63283022A (ja) X線リソグラフイの投影スケール変更方法および装置
JPH10142555A (ja) 投影露光装置
WO2007029561A1 (ja) 露光装置
KR100431883B1 (ko) 노광방법 및 투영 노광 장치
JPH0996760A (ja) 光学装置
JP4305611B2 (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JPS636501A (ja) インテグレ−タプリズム
JPH1197340A (ja) 露光光学系、光加工装置、露光装置及び光結合装置
JPS639186A (ja) 照明光学装置
JP2002189300A (ja) 露光装置
CN107976873A (zh) 掩膜板及曝光方法
JP3588703B2 (ja) 紫外光照射により物質表面を改質する方法及び紫外光照射装置
JPS636540A (ja) インテグレ−タ
JP2617040B2 (ja) 多面凸型プリズム
JPH09232226A (ja) スキャン式露光装置
JPS61196224A (ja) 扇状光発生装置
JP2890475B2 (ja) マスクアライナー
JPH04314321A (ja) 露光装置
JPS60175001A (ja) マイクロレンズアレ−
JPS61199040U (ja)