JP2007013107A - 半導体発光素子及び半導体発光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体発光素子100は、少なくとも1つの主面にp側反射電極20を有する半導体層10と、p側反射電極20に導電性接着剤60で接合される支持基板50とを備え、支持基板50は、主面上に一部が突出した突出面50sを備え、半導体層10は、突出面50sと対向し、突出面50sにp側反射電極20及び導電性接着剤60を介して接合され、突出面50sと接合される領域の面積よりも大きい接合面10sを備える。
【選択図】図1
Description
また、本発明に係る半導体発光素子の特徴は、突出面は、半導体層の主面又は支持基板の主面の略中央に形成され、接合面の略中央に接合されることを要旨とする。
[半導体発光素子]
以下、第1実施形態に係る半導体発光素子について説明する。
p側反射電極20は、接合面10sに備えられる。p側反射電極20は、半導体層10から放出される光を半導体層10へ反射する。例えば、p側反射電極20は、100μm平方の領域に備えられ、接合面10s側から厚み50nmのAl層、厚み0.2μmのAg層の順番で構成される。
以下、本実施形態に係る半導体発光素子の製造方法において行われる工程について説明する。
以上説明した第1実施形態に係る半導体発光素子100によれば、突出面50sと、突出面50sと接合される領域の面積よりも大きい接合面10sとを導電性接着剤60により接合することにより、支持基板50は、はみ出した導電性接着剤60を突出面50sの周辺に形成された側面で受けることができる。これにより、半導体層10において、支持基板50と接着されていない主面側への導電性接着剤60のはみ出しを低減できる。従って、半導体発光素子100は、半導体層10中のn型半導体層(nコンタクト層及びnクラッド層)或いはn側電極40と、p側電極(p側反射電極20及びp側透明電極30)との間にはみ出した導電性接着剤60によるリーク電流の発生を低減できる。
[半導体発光装置]
以下、第2実施形態に係る半導体発光装置について説明する。実施形態に係る半導体発光素子は、半導体発光装置として好適に用いることができる。
図5に示すように、まず第1実施形態と同様に成長用基板上に半導体層13を形成する第1工程、pコンタクト層上にp側電極を形成する第2工程を行う。
以上説明した第2実施形態に係る半導体発光装置150によれば、支持基板53の突出面53sと、突出面53sと接合される領域の面積よりも大きい接合面13sとを導電性接着剤63により接合することにより、支持基板53は、はみ出した導電性接着剤63を突出面の周辺で受けることができるため、半導体層13において、支持基板53と接着されていない主面側への導電性接着剤63のはみ出しを低減できる。これにより、半導体発光素子103は、リーク電流の発生を低減できる。
[半導体発光素子]
図8を参照して、第3実施形態に係る半導体発光素子106について説明する。なお、以下において、上述した第2実施形態に係る半導体発光装置150に用いられた半導体発光素子103との相違点を主として説明する。図8は、第3実施形態に係る半導体発光素子106の断面図である。
以上説明した第3実施形態に係る半導体発光素子106によれば、突出面56sと、突出面56sと接合される領域の面積よりも大きい接合面16sとを導電性接着剤66により接合することにより、半導体発光素子106は、はみ出した導電性接着剤66を支持基板56の突出面56sの周辺に形成された側面で受けることができる。これにより、半導体層16において、支持基板56と接着されていない主面側への導電性接着剤66のはみ出しを低減できる。従って、半導体発光素子106は、n側電極46と、p型半導体層或いはp側透明電極36との間にはみ出した導電性接着剤66によるリーク電流の発生を低減できる。
[半導体発光素子]
図9を参照して、第4実施形態に係る半導体発光素子107について説明する。なお、以下において、上述した第2実施形態に係る半導体発光装置150に用いられた半導体発光素子103との相違点を主として説明する。図9は、第4実施形態に係る半導体発光素子107の断面図である。
以上説明した第4実施形態に係る半導体発光素子107によれば、突出面17sと、突出面17sと接合される領域の面積よりも大きい接合面57sとを導電性接着剤67により接合することにより、半導体発光素子107は、はみ出した導電性接着剤67を支持基板57の接合面57s、又は半導体層17の突出面17sの周辺に形成された側面で受けることができる。これにより、半導体層17において、支持基板57と接着されていない主面側への導電性接着剤67のはみ出しを低減できる。従って、半導体発光素子107は、n側電極47と、p型半導体層或いはp側反射電極27との間にはみ出した導電性接着剤67によるリーク電流の発生を低減できる。
本発明は上記の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
る。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
10s〜16s…接合面、17s…突出面、30〜36…p側透明電極、
40〜47…n側電極、50〜57…支持基板、50g…溝、50s〜56s…突出面、
57s…接合面、60〜67…導電性接着剤、73〜77…反射膜、80…実装部材、
81…蛍光体、82、86…透光性樹脂、100〜107…半導体発光素子、
150…半導体発光装置
Claims (6)
- 少なくとも1つの主面に電極を有する半導体層と、前記電極に導電性接着剤で接合される支持基板とを備える半導体発光素子であって、
前記半導体層及び前記支持基板のいずれか一方は、主面上に一部が突出した突出面を備え、他方は、前記突出面と対向し、前記突出面に前記電極及び前記導電性接着剤を介して接合され、前記突出面と接合される領域の面積よりも大きい接合面を備えることを特徴とする半導体発光素子。 - 前記突出面は、前記半導体層の主面又は前記支持基板の主面の略中央に形成され、前記接合面の略中央に接合されることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記半導体層又は前記支持基板は、少なくともその一部が、前記突出面を上面として、該上面に比べて下面が大きい形状に形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体発光素子。
- 実装部材と、
前記実装部材の底面に実装された半導体発光素子と、
前記実装部材内において前記半導体発光素子を覆うように設けられた透光性樹脂と、
を備え、
前記半導体発光素子は、少なくとも1つの主面に電極を有する半導体層と、前記電極に導電性接着剤で接合される支持基板とを有し、
前記支持基板は、前記導電性接着剤で接合される主面上に一部が突出した突出面を備え、
前記半導体層は、前記突出面と対向し、前記突出面に前記電極及び前記導電性接着剤を介して接合され、前記突出面と接合される領域の面積よりも大きい接合面を備えると共に、
前記支持基板は、前記突出面の周囲に、斜面状に形成された反射面を有することを特徴とする半導体発光装置。 - 実装部材と、
前記実装部材の底面に実装された半導体発光素子と、
前記実装部材内において前記半導体発光素子を覆うように設けられた透光性樹脂と、
を備え、
前記半導体発光素子は、少なくとも1つの主面に電極を有する半導体層と、前記電極に導電性接着剤で接合される支持基板とを有し、
前記半導体層は、前記導電性接着剤で接合される主面上に一部が突出した突出面を備え、
前記支持基板は、前記突出面と対向し、前記突出面に前記電極及び前記導電性接着剤を介して接合され、前記突出面と接合される領域の面積よりも大きい接合面を備えると共に、
前記半導体層は、前記突出面の周囲に、斜面を有し、
前記支持基板は、前記接合面における前記突出面と接合される領域の周囲に反射面を有することを特徴とする半導体発光装置。 - 前記透光性樹脂は、前記半導体発光素子から放出される光を吸収し、別の波長の光に変換して外部に放出する蛍光体を含むことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の半導体発光装置。
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