JP2007005740A - 静電チャック電位供給部の構造とその製造及び再生方法 - Google Patents
静電チャック電位供給部の構造とその製造及び再生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007005740A JP2007005740A JP2005211892A JP2005211892A JP2007005740A JP 2007005740 A JP2007005740 A JP 2007005740A JP 2005211892 A JP2005211892 A JP 2005211892A JP 2005211892 A JP2005211892 A JP 2005211892A JP 2007005740 A JP2007005740 A JP 2007005740A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- potential supply
- supply terminal
- electrostatic chuck
- electrode
- insulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】第一の手段は、電極層に電位を供給する電位供給端子3と電極5との接合が電位供給端子の先端3aの側面をふくみ、かつ電位供給端子3の先端面が表面絶縁誘電層6内にふくまれない静電チャックの電位供給部とする。さらに、電位供給端子の先端部3aの断面を台形状とし、その台形状の下を曲線とする。第二の手段は絶縁碍子2の一部または全部を多孔質セラミックとする。
【選択図】図3
Description
2 絶縁碍子
2a 多孔質絶縁碍子
3 電位供給端子
3a 電位供給端子先端部
3b 電位供給端子先端部の上面
3c 電位供給端子先端部の曲線部分
4 下部絶縁層
5 電極
6 表面絶縁誘電層
7 ひび割れ
7a 絶縁碍子界面を基点とするひび割れ
20 静電チャック
Claims (9)
- 被吸着基板を載置する側から、表面絶縁誘電層、電極、下部絶縁層を有す静電チャックにおいて、電極に電位を供給する電位供給端子と電極との接合が電位供給端子の先端の側面を含み、かつ電位供給端子の先端面が表面絶縁誘電層の内部に埋もれない、静電チャックの電位供給部。
- 前記電位供給端子の先端部の断面が台形状であり、その台形状の下部が曲線であることを特徴とする、請求項1の静電チャックの電位供給端子。
- 電位供給端子がチタンであることを特徴とする、請求項1の静電チャックの電位供給部。
- 電位供給端子を静電チャックに装着し、下部絶縁層を溶射により形成し、電極を溶射により形成し、電位供給端子と電極との接合が電位供給端子の先端の側面を含むよう電気的接合を形成し、表面絶縁誘電層を電位供給端子の先端面が表面絶縁誘電層の内部に埋もれないよう形成する、静電チャックの給電端子部の製造方法。
- 既存の静電チャックの表面絶縁誘電層、電極、下部絶縁層を除去し、既存の電位供給端子を静電チャックに残したまま、下部絶縁層を溶射により形成し、電極を溶射により形成し、電位供給端子と電極との接合が電位供給端子の先端の側面を含むよう電気的接合を形成し、表面絶縁誘電層を電位供給端子の先端面が表面絶縁誘電層の内部に埋もれないよう形成する、静電チャックの再生方法。
- 既存の静電チャックの表面絶縁誘電層、電極、下部絶縁層を除去した後、既存の電位供給端子の先端部をその断面が台形状になるように周囲を削り込み、その底部を曲線とすることを特徴とする、請求項5の静電チャックの再生方法。
- 電位供給端子の絶縁碍子の一部若しくは全部に多孔質セラミックを用いることを特徴とする、静電チャックの電位供給部。
- 電位供給端子の絶縁碍子の一部若しくは全部に多孔質セラミックを用い下部絶縁層のセラミックの溶射を当該絶縁碍子の上面に行うことを特徴とする、静電チャックの電位供給部の製造方法。
- 既存の静電チャックの表面絶縁誘電層、電極、下部絶縁層、電位供給端子、絶縁碍子を取り除き、電位供給端子の絶縁碍子の一部若しくは全部に多孔質セラミックを用い下部絶縁層のセラミックの溶射を当該絶縁碍子の上面に行い、電極を溶射により形成し、これらの表面に表面絶縁誘電層を形成することを特徴とする、静電チャックの再生方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211892A JP2007005740A (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | 静電チャック電位供給部の構造とその製造及び再生方法 |
TW95136030A TW200816344A (en) | 2005-06-23 | 2006-09-28 | Structure for electrostatic chuck potential supply part and its manufacturing and reproduction method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211892A JP2007005740A (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | 静電チャック電位供給部の構造とその製造及び再生方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007005740A true JP2007005740A (ja) | 2007-01-11 |
Family
ID=37691014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005211892A Pending JP2007005740A (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | 静電チャック電位供給部の構造とその製造及び再生方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007005740A (ja) |
TW (1) | TW200816344A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010030101A2 (ko) * | 2008-09-09 | 2010-03-18 | 주식회사 코미코 | 열응력 감소를 위한 이중 버퍼층을 포함하는 정전 척 |
JP2012004580A (ja) * | 2011-07-29 | 2012-01-05 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着電極の補修方法 |
CN102738053A (zh) * | 2011-03-30 | 2012-10-17 | Toto株式会社 | 静电吸盘 |
JP2012204497A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ウェハ保持体 |
WO2017010307A1 (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-19 | 住友電気工業株式会社 | ウェハ保持体 |
JP2022111734A (ja) * | 2021-01-20 | 2022-08-01 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台及びその製造方法 |
US12033880B2 (en) | 2015-07-13 | 2024-07-09 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Wafer holding body |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103227083B (zh) * | 2012-01-31 | 2015-08-12 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种用于等离子体处理装置的载片台 |
JP6693832B2 (ja) * | 2016-07-29 | 2020-05-13 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックス部材 |
CN114959547A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-08-30 | 苏州众芯联电子材料有限公司 | 提高静电卡盘的电介质层的致密性的工艺、静电卡盘的制备工艺、静电卡盘 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102289A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チヤツク装置の電気的接合方法 |
JP2001351969A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック |
JP2002151580A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-24 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | ウエハー保持具の製造方法及びウエハー保持具 |
JP2003045952A (ja) * | 2001-05-25 | 2003-02-14 | Tokyo Electron Ltd | 載置装置及びその製造方法並びにプラズマ処理装置 |
JP2003152065A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-23 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック及びその製造方法 |
JP2005012144A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Kyocera Corp | 静電チャック |
-
2005
- 2005-06-23 JP JP2005211892A patent/JP2007005740A/ja active Pending
-
2006
- 2006-09-28 TW TW95136030A patent/TW200816344A/zh unknown
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102289A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チヤツク装置の電気的接合方法 |
JP2001351969A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック |
JP2002151580A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-24 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | ウエハー保持具の製造方法及びウエハー保持具 |
JP2003045952A (ja) * | 2001-05-25 | 2003-02-14 | Tokyo Electron Ltd | 載置装置及びその製造方法並びにプラズマ処理装置 |
JP2003152065A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-23 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック及びその製造方法 |
JP2005012144A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Kyocera Corp | 静電チャック |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010030101A3 (ko) * | 2008-09-09 | 2010-07-08 | 주식회사 코미코 | 열응력 감소를 위한 이중 버퍼층을 포함하는 정전 척 |
CN102150252A (zh) * | 2008-09-09 | 2011-08-10 | 高美科株式会社 | 包含有用于减小热应力的双缓冲层的静电吸盘 |
WO2010030101A2 (ko) * | 2008-09-09 | 2010-03-18 | 주식회사 코미코 | 열응력 감소를 위한 이중 버퍼층을 포함하는 정전 척 |
CN102150252B (zh) * | 2008-09-09 | 2013-08-14 | 高美科株式会社 | 包含有用于减小热应力的双缓冲层的静电吸盘 |
JP2012204497A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ウェハ保持体 |
US8971008B2 (en) | 2011-03-30 | 2015-03-03 | Toto Ltd. | Electrostatic chuck |
JP2012212735A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Toto Ltd | 静電チャック |
CN102738053A (zh) * | 2011-03-30 | 2012-10-17 | Toto株式会社 | 静电吸盘 |
JP2012004580A (ja) * | 2011-07-29 | 2012-01-05 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着電極の補修方法 |
WO2017010307A1 (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-19 | 住友電気工業株式会社 | ウェハ保持体 |
JP2017022284A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | 住友電気工業株式会社 | ウェハ保持体 |
KR20180027495A (ko) * | 2015-07-13 | 2018-03-14 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 웨이퍼 유지체 |
US10886157B2 (en) | 2015-07-13 | 2021-01-05 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Wafer holding unit |
KR102501916B1 (ko) * | 2015-07-13 | 2023-02-20 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 웨이퍼 유지체 |
US12033880B2 (en) | 2015-07-13 | 2024-07-09 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Wafer holding body |
JP2022111734A (ja) * | 2021-01-20 | 2022-08-01 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台及びその製造方法 |
JP7414747B2 (ja) | 2021-01-20 | 2024-01-16 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200816344A (en) | 2008-04-01 |
TWI336504B (ja) | 2011-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101042782B1 (ko) | 정전 척의 급전구조 및 그 제조방법 및 정전 척 급전구조의 재생방법 | |
JP2007005740A (ja) | 静電チャック電位供給部の構造とその製造及び再生方法 | |
US9960067B2 (en) | Electrostatic chuck | |
JP3332251B2 (ja) | 付着防止静電チャック | |
JP4031732B2 (ja) | 静電チャック | |
US20140150246A1 (en) | Apparatus and Method for Carrying Substrates | |
EP1376660B1 (en) | Wafer heating apparatus with electrostatic attraction function | |
JP4858319B2 (ja) | ウェハ保持体の電極接続構造 | |
KR100995250B1 (ko) | 열 응력 감소를 위한 버퍼층을 포함하는 정전 척 | |
KR20010107663A (ko) | 실리콘웨이퍼 탑재용 실리콘-그라파이트 복합 링 및그것을 장착한 드라이 에칭 장치 | |
KR100984751B1 (ko) | 열 응력 감소를 위한 이중 버퍼층을 포함하는 정전 척 | |
JP2008300374A (ja) | 静電吸着装置 | |
KR101323645B1 (ko) | 에어로졸 코팅을 이용한 정전척 측면부 재생 방법, 및 이에 의해 재생된 정전척 | |
JP4879771B2 (ja) | 静電チャック | |
JPH11135602A (ja) | 静電吸着装置 | |
JP2001267295A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP3104893U (ja) | 静電チャックの接着部 | |
JP2009088558A (ja) | 静電チャック装置 | |
JP5103049B2 (ja) | ウエハ載置用電極 | |
JPH10261697A (ja) | 静電チャック | |
TWI440123B (zh) | 用於承載基材之裝置與方法 | |
JP2005210039A (ja) | 静電チャック接合体 | |
KR20230079000A (ko) | 정전 척 장치의 보수 방법 | |
KR20050028586A (ko) | 반도체 제조 설비의 건식식각장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110407 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110407 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110407 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111018 |