JP2007005384A - 半導体装置およびその製造方法、電子情報機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 スクライブライン5とフィールド絶縁膜2との境界に存在するフィールド絶縁膜2の段差部Aを、固体撮像素子を構成する段差低減ポリシリコン膜61A,62Aによって包囲して大きな順次段差を緩和する。また、ポリシリコン膜61,62上の遮光膜63Bをアクティブエリア4からフィールド絶縁膜2側にはみ出すように設けて、アクティブエリア4上のポリシリコン膜61,62および遮光膜63による各薄膜6とフィールド絶縁膜2との段差部Bが、遮光膜63Bとフィールド絶縁膜2との段差部から、その段差部Bに階段状に順次緩和している。
【選択図】 図1
Description
2 フィールド絶縁膜
3,11,12,13 フォトレジスト膜
4 アクティブエリア
5 スクライブライン
6 半導体素子を構成する薄膜
61,62 ポリシリコン膜
61A,62A 段差低減ポリシリコン膜
63B 遮光膜
7 平坦化膜
8 オンチップレンズ膜
9 カラーフィルタ膜
A スクライブラインとフィールド絶縁膜との段差部
B 各薄膜とフィールド絶縁膜との段差部
Claims (20)
- 基板上に、スクライブラインエリアと、半導体素子が形成されたアクティブエリアとがフィールド絶縁膜を介して設けられ、該スクライブラインエリアで該基板がダイシングされている半導体装置において、
該フィールド絶縁膜と該スクライブラインエリアとの境界に存在する該フィールド絶縁膜の段差部に沿って、該半導体素子を構成する各薄膜のうちの少なくともいずれかの薄膜と同じ薄膜であって、該フィールド絶縁膜の膜厚よりも薄い膜厚の薄膜によって包囲する段差緩和用薄膜が該スクライブラインエリアの一部上に設けられ、
該半導体素子、該フィールド絶縁膜、該段差緩和用薄膜および該スクライブラインエリア上に平坦化膜が設けられている半導体装置。 - 前記スクライブラインエリアと前記フィールド絶縁膜との段差部に沿って隣接した該スクライブラインエリアの一部上に、前記各薄膜のうちの少なくとも2層の薄膜の縦断面形状が階段状に形成されている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子を構成する各薄膜の最上層以外の下側層が前記フィールド絶縁膜よりも高い場合に、該最上層が、該下側層と前記フィールド絶縁膜との境界部に沿ってかつ該境界部上を覆うように該フィールド絶縁膜上の一部にはみ出した状態で設けられている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子は固体撮像素子である請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体素子を構成する各薄膜として、前記固体撮像素子の電極の2層または3層が設けられ、該2層または3層上に遮光膜が設けられている請求項4に記載の半導体装置。
- 前記固体撮像素子の電極の2層または3層上を覆う遮光膜を、該電極と前記フィールド絶縁膜との境界部上を覆うように該フィールド絶縁膜上の一部にはみ出した状態で設けられている請求項5に記載の半導体装置。
- 前記固体撮像素子が白黒表示を行う場合、前記平坦化膜上にオンチップレンズ膜が設けられている請求項4に記載の半導体装置。
- 前記固体撮像素子がカラー表示を行う場合、前記平坦化膜上にオンチップレンズ膜とカラーフィルター膜が設けられている請求項4に記載の半導体装置。
- 基板上に、スクライブラインエリアと、半導体素子が形成されたアクティブエリアとを、フィールド絶縁膜を介して形成する半導体装置の製造方法において、
基板上に所定パターンのフィールド絶縁膜を形成するフィールド絶縁膜形成工程と、
該アクティブエリアに該半導体素子を作製すると共に、該フィールド絶縁膜と該スクライブラインエリアとの境界に存在する該フィールド絶縁膜の段差部に沿って、該半導体素子を構成する各薄膜のうちの少なくともいずれかの薄膜と同じ薄膜であって、該フィールド絶縁膜の膜厚よりも薄い膜厚の薄膜によって包囲する段差緩和用薄膜を該スクライブラインエリアの一部に形成する半導体素子作製工程と、
該半導体素子、該フィールド絶縁膜、該段差緩和用薄膜および該スクライブラインエリア上に平坦化膜を形成する工程と、
スクライブラインエリアにて該基板をダイシングするダイシング工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 前記半導体素子作製工程は、
該半導体素子を構成する前記各薄膜と前記フィールド絶縁膜との段差部および、該フィールド絶縁膜と前記スクライブラインエリアとの段差部に沿うように、該スクライブラインエリアの一部上および前記アクティブエリア上にフォトレジスト膜を形成する工程と、
該フォトレジスト膜をマスクとして該薄膜をエッチングすることによって、該フィールド絶縁膜の段差部に隣接して該薄膜を形成する工程とを有する請求項9に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記スクライブラインエリアと前記フィールド絶縁膜との段差部沿って隣接した該スクライブラインエリアの一部上に、前記各薄膜のうちの少なくとも2層の薄膜を順次形成する際に、該2層の上層の薄膜を下層の薄膜よりも幅が狭くなるように該2層の縦断面形状を階段状に形成する請求項9または10に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体素子を構成する各薄膜の最上層を、該最上層以外の下側膜と前記フィールド絶縁膜との境界部に沿ってかつ該境界部上を覆うように該フィールド絶縁膜上の一部にはみ出した状態で形成する請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体素子として前記アクティブエリア上に固体撮像素子を作製する請求項9〜12のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体素子を構成する前記各薄膜として、前記固体撮像素子の電極の2層または3層を形成し、該2層または3層上に遮光膜を形成する請求項13に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記固体撮像素子の電極の2層または3層上を覆う遮光膜を、該電極と前記フィールド絶縁膜との境界部上を覆うように該フィールド絶縁膜上の一部にはみ出した状態で形成する請求項14に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記フィールド絶縁膜形成工程は、
前記基板上にフィールド絶縁膜を成膜する工程と、
前記スクライブラインエリア上と前記アクティブエリア上を露出させ、かつそれ以外の部分を覆うように該フィールド絶縁膜を選択的に除去するフィールド絶縁膜除去工程とを有する請求項9に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記フィールド絶縁膜除去工程は、
前記スクライブラインエリア上と前記アクティブエリア上を覆い、それ以外の部分を開口するようにフォトレジスト膜を所定パターンに形成するフォトレジスト膜形成工程と、
該フォトレジスト膜をマスクとして前記フィールド絶縁膜をエッチングする工程とを有する請求項16に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記固体撮像素子が白黒表示を行う場合、前記平坦化膜上にオンチップレンズ膜を形成する工程をさらに有する請求項13に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記固体撮像素子がカラー表示を行う場合、前記平坦化膜上にオンチップレンズ膜を形成する工程と、該オンチップレンズ膜上にカラーフィルター膜を形成する工程とをさらに有する請求項13に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の半導体装置を固体撮像素子として撮像部に用いた電子情報機器。
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