JP2005353631A - 固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】裏面照射型の固体撮像装置において、製造工程中に形成する電極取り出し用の開口による段差の影響を抑制し、精度の高い光学部品等を製造できるようにすること。
【解決手段】本発明は、フォトダイオード20を形成した半導体基板の一方面に信号回路22を形成し、他方面側からフォトダイオード20に光を入射する固体撮像装置の製造方法において、半導体基板の他方面から信号回路22へ開口を形成する工程と、開口を第1の感光性材料で埋め込み、半導体基板の他方面を平坦化する工程と、半導体基板の他方面に第2の感光性材料を塗布し、所定の露光および現像によってフォトダイオード20と対応する位置に光学部材を形成する工程と、第1の感光性材料を除去し、開口から信号回路22へ配線を施す工程とを備えている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明は、フォトダイオード20を形成した半導体基板の一方面に信号回路22を形成し、他方面側からフォトダイオード20に光を入射する固体撮像装置の製造方法において、半導体基板の他方面から信号回路22へ開口を形成する工程と、開口を第1の感光性材料で埋め込み、半導体基板の他方面を平坦化する工程と、半導体基板の他方面に第2の感光性材料を塗布し、所定の露光および現像によってフォトダイオード20と対応する位置に光学部材を形成する工程と、第1の感光性材料を除去し、開口から信号回路22へ配線を施す工程とを備えている。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体基板の一方面に信号回路を形成し、半導体基板の他方面から受光を行う固体撮像装置の製造方法に関する。
半導体基板の一方面に信号回路を設け、他方面から受光を行ういわゆる裏面照射型固体撮像装置は、受光面側にアルミニウム等の信号配線および配線層間膜がないことから、減衰や蹴られ等の影響を受けずに受光量を増加できるメリットや、蹴られた光の一部が隣接画素に入る混色を防止できるメリットがある(例えば、特許文献1参照。)。
このような固体撮像装置を製造するには、SOI基板の活性層側に受光領域および信号回路を形成し、このSOI基板の支持基板側をエッチング除去することで受光領域を露出させ、この面を光入射面として反射防止膜を成膜する。そして、受光領域の面から信号回路に電極取り出しのための数μm程度の穴を開口する。その後、電極取り出し部に1μm程度のレジストを塗布する。次に、光入射面にオンチップ・カラーフィルタを作成し、その後オンチップ・マイクロレンズの下地として別のレジストを塗布し、その上にレンズ形状のレジストを作成する。最後にウエハ全面をエッチングし、下地であったレジスト部分にオンチップ・マイクロレンズを形成する。その時、同時に電極取り出し部を覆っていたレジストをエッチングして電極取り出し部を開口している。
しかしながら、このような製造方法では、受光領域の面から信号回路に電極取り出しのための穴を開口し、その後にレジストを塗布して露光、現像を行うため、開口の大きな段差があるところにレジストを塗布しなければならず、ウエハ面内でレジストの塗布ムラが生じ、オンチップ・カラーフィルタやオンチップ・マイクロレンズの形状がばらつくという問題や、エッチング時の電極取り出し部の金属配線残膜がばらついて電極取り出しが行えない開口が発生するという問題が生じる。
本発明はこのような課題を解決するために成されたものである。すなわち、本発明は、受光領域を形成した半導体基板の一方面に信号回路を形成し、他方面側から受光領域に光を入射する固体撮像装置の製造方法において、半導体基板の他方面から信号回路へ開口を形成する工程と、開口を第1の感光性材料で埋め込み、半導体基板の他方面を平坦化する工程と、半導体基板の他方面に第2の感光性材料を塗布し、所定の露光および現像によって受光領域と対応する位置に光学部材を形成する工程と、第1の感光性材料を除去し、開口から信号回路へ配線を施す工程とを備えている。
このような本発明では、半導体基板の他方面から信号回路へ形成した開口に第1の感光性材料を埋め込み、平坦化していることから、その後に第2の感光体材料を塗布するにあたり平坦な面に塗布できるため、第2の感光体材料を用いた露光、現像の精度を高めることができるようになる。
したがって、本発明によれば、半導体基板の一方面に信号回路、他方面を受光側とするいわゆる裏面照射型の固体撮像装置において、基板の他方面から信号回路に開口を設けても、その開口による段差の影響をなくしてレジスト塗布できるため、開口形成後に行うレジスト塗布の平坦性を向上でき、またこのレジストを用いて形成する光学部材を精度良く製造でき、固体撮像装置の信頼性を向上することが可能となる。
以下、本発明の実施の形態を図に基づき説明する。本実施形態に係る固体撮像装置は、受光領域であるフォトダイオードを形成した半導体基板の一方面に信号回路を形成し、他方面側からフォトダイオードに光を取り込むいわゆる裏面照射型固体撮像装置(例えば、CMOSセンサー)に関する。特に、裏面照射型固体撮像装置では、光の入射面側のフォトダイオードが配置され、その下方に信号回路が設けられることから、製造工程中に信号回路との電極取り出し用の開口を形成する必要がある。本実施形態では、このような開口による段差がその後の製造工程に与える影響を抑制し、精度の高い固体撮像装置を提供できるようにすることを目的としている。
具体的には、開口を設けた状態で基板全面にレジストを塗布すると開口の段差の影響を受けてレジスト塗布後の平坦性が損なわれるため、このレジストを露光、現像して形成するフォトダイオード上の光学部材(例えば、オンチップ・カラーフィルタやオンチップ・マイクロレンズ)の精度に悪影響を及ぼすことになる。本実施形態では、光学部材を作成する前に開口の数マイクロメートルに及ぶ段差を軽減させ、段差の影響が発生しないようにする点に特徴がある。
以下、工程順に説明する。図1〜図10は、本実施形態に係る固体撮像装置の製造方法を順に説明する模式断面図である。先ず、図1に示すように、SOI(Silicon On Insulator)支持基板10とSOI活性層12とが1μm厚程度の熱酸化膜から成るSOI・Box層11を介して貼り合わされたSOI基板を用意し、SOI活性層12にフォトダイオード20を形成する。また、このフォトダイオード20の上方に層間膜30を介してトランジスタ21を形成するとともに、複数層から成る信号回路22を形成する。これら信号回路22やトランジスタ21を形成した後は、パッシベーション膜31を形成して保護する。
次に、図2に示すように、フォトダイオード20および信号回路22等を形成したSOI基板のパッシベーション膜31の上に接着層50を形成し、シリコン等から成る支持基板40を貼り合わせる。貼り合わせると図3に示すような状態となる。
次いで、貼り合わせた基板を反転し、支持基板40を土台としてSOI支持基板10およびSOI・Box層11をエッチングにより除去する。除去すると、図4に示すようにSOI活性層12に形成したフォトダイオード20が表面に露出する状態となる。
次に、図5に示すように、フォトダイオード20が露出したSOI活性層12の上に反射防止膜60を形成する。反射防止膜60は数nmの厚さで、必要に応じて複数層形成する。その後、フォトダイオード20が形成されている周辺のSOI活性層12および層間膜30に電極取り出し用の開口23をエッチングによって形成する。開口23は数十μm□の大きさから成り、層間膜30の信号回路22まで達するように形成する。通常、開口23の深さは5μm程度となる。
次に、図6に示すように、形成した開口23を埋めるように第1のレジストR1を塗布する。この塗布は、必要に応じて複数回に分けて行う。すなわち、開口23の深さが5μm程度あるため、1回の塗布では完全に埋まらない可能性がある。したがって、複数回に分けて、1回ごとにキュアを行うことで開口23に第1のレジストR1を埋め込むことができる。また、開口23以外の部分に塗布されたレジストは露光および現像によって除去しておく。
次に、図7に示すように、各フォトダイオード20の上に対応してオンチップ・カラーフィルタCFを形成する。ここでは、R(赤)、G(緑)、B(青)に対応したオンチップ・カラーフィルタCFをフォトダイオード20の位置に合わせて形成する。このオンチップ・カラーフィルタCFは、各色の順にレジストを塗布し、露光、現像を行うことで形成されるが、このレジスト塗布を行う際、先の工程で開口23に第1のレジストR1が埋め込まれ、表面が平坦化されていることから、オンチップ・カラーフィルタCFを形成するためのレジスト塗布を均一に行うことができ、このレジストを露光、現像して形成されるオンチップ・カラーフィルタCFを精度良く製造することが可能となる。
次に、図8に示すように、オンチップ・カラーフィルタCFの上を含む全面に第2のレジストR2を塗布し、第1のレジストR1の上方を露光、現像して除去しておく。この第2のレジストR2は、後の工程でオンチップ・マイクロレンズとなるものである。この第2のレジストR2を塗布する際にも、先と同様に、第1のレジストR1によって開口23が埋め込まれ、表面が平坦化されていることから、オンチップ・マイクロレンズを形成するためのレジスト塗布を均一に行うことができるようになる。したがって、このレジストを用いたオンチップ・マイクロレンズを精度良く製造することが可能となる。なお、第1のレジストR1の上方となる第2のレジストR2を開口しておく際には、第1のレジストR1と同じ大きさではなく、多少小さめの開口にしておく。
第2のレジストR2を塗布した後は、図9に示すように、第2のレジストR2上でオンチップ・カラーフィルタCFと対応する位置に第3のレジストR3を塗布し、この第3のレジストR3を露光、現像、キュアすることでオンチップ・マイクロレンズの形状を構成する。その後、基板全面に対する露光を行う。
図10は、基板全面に対するエッチングを行った後の状態を示している。第3のレジストR3をオンチップ・マイクロレンズの形状に構成した状態で全面エッチングを行うと、第3のレジストR3で形成したオンチップ・マイクロレンズの形状が第2のレジストR2に転写され、第2のレジストR2によってオンチップ・マイクロレンズMLが形成される。
また、このエッチングによって第2のレジストR2に設けた開口を介して第1のレジストR1が除去され、開口23を介して信号配線22が露出する状態となる。つまり、図8に示す段階で第2のレジストR2における第1のレジストR1の上方を開口していることから、上記の全面エッチングによってオンチップ・マイクロレンズMLの形成とともに、開口23を埋め込んでいた第1のレジストR1を同時に除去できることになる。なお、第2のレジストR2の開口の大きさに合わせて第1のレジストR1が除去されるため、開口23の内壁にはわずかに第1のレジストR1が残る状態となる。
第1のレジストR1が除去された開口23は電極取り出し口となり、例えばボンディングワイヤーによって信号配線22との電気的な導通を得ることが可能となる。開口23を介したボンディングワイヤーの接続では、開口23の内壁が第1のレジストR1によって保護されているため、ボンディングワイヤーとSOI活性層との直接の接触を防止することができる。
このような製造方法によって完成した固体撮像装置では、裏面照射型でありながら大きな開口23によるレジスト塗布時の影響を抑制し、高精度なオンチップ・カラーフィルタCFやオンチップ・マイクロレンズMLを形成することが可能となる。
また、図5に示す段階で開口23を設けて信号回路22を露出させた後、この開口23に第1のレジストR1を埋め込んでいるため、その後の構成で信号回路22が薬液等と接触することを防止でき、信号回路22の腐食等の問題を回避することも可能である。
10…SOI支持基板、11…SOI・Box層、12…SOI活性層、20…フォトダイオード、21…トランジスタ、22…信号回路、30…層間膜、31…パッシベーション膜、CF…オンチップ・カラーフィルタ、ML…オンチップ・マイクロレンズ、R1…第1のレジスト、R2…第2のレジスト、R3…第3のレジスト
Claims (3)
- 受光領域を形成した半導体基板の一方面に信号回路を形成し、他方面側から前記受光領域に光を取り込む固体撮像装置の製造方法において、
前記半導体基板の他方面から前記信号回路へ開口を形成する工程と、
前記開口を第1の感光性材料で埋め込み、前記半導体基板の他方面を平坦化する工程と、
前記半導体基板の他方面に第2の感光性材料を塗布し、所定の露光および現像によって前記受光領域と対応する位置に光学部材を形成する工程と、
前記第1の感光性材料を除去し、前記開口から前記信号回路へ配線を施す工程と
を備えることを特徴とする固体撮像装置の製造方法。 - 前記開口に前記第1の感光性材料を埋め込むにあたり、複数回に分けて塗布する
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置の製造方法。 - 前記第2の感光性材料の露光、現像およびエッチングによって前記光学部材を形成すると同時に前記第1の感光性材料を前記開口から除去する
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置の製造方法。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008060320A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Sony Corp | 固体撮像素子及びその製造方法 |
JP2008300613A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Fujifilm Corp | 撮像素子及び撮像素子の製造方法 |
EP2081229A2 (en) | 2008-01-21 | 2009-07-22 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of fabricating solid-state imaging device |
EP2120264A2 (en) | 2008-05-12 | 2009-11-18 | Sony Corporation | Method of manufacturing solid-state imaging device and method of manufacturing electronic apparatus |
JP2009290229A (ja) * | 2009-08-28 | 2009-12-10 | Sony Corp | 裏面照射型固体撮像装置および裏面照射型固体撮像装置の製造方法 |
EP2432019A1 (en) | 2010-09-15 | 2012-03-21 | Sony Corporation | Imaging device and imaging apparatus |
US8445985B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-05-21 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of manufacturing the same, and electronic equipment |
EP2657972A1 (en) | 2009-02-10 | 2013-10-30 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
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-
2004
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Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008060320A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Sony Corp | 固体撮像素子及びその製造方法 |
JP2008300613A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Fujifilm Corp | 撮像素子及び撮像素子の製造方法 |
JP4637139B2 (ja) * | 2007-05-31 | 2011-02-23 | 富士フイルム株式会社 | 撮像素子及び撮像素子の製造方法 |
US8300127B2 (en) | 2008-01-21 | 2012-10-30 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of fabricating solid-state imaging device, and camera |
EP2081229A2 (en) | 2008-01-21 | 2009-07-22 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of fabricating solid-state imaging device |
US8363136B2 (en) | 2008-01-21 | 2013-01-29 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of fabricating solid-state imaging device, and camera |
EP2120264A2 (en) | 2008-05-12 | 2009-11-18 | Sony Corporation | Method of manufacturing solid-state imaging device and method of manufacturing electronic apparatus |
JP2009277732A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-11-26 | Sony Corp | 固体撮像装置の製造方法 |
US8076172B2 (en) | 2008-05-12 | 2011-12-13 | Sony Corporation | Method of manufacturing solid-state imaging device and method of manufacturing electronic apparatus |
EP2657972A1 (en) | 2009-02-10 | 2013-10-30 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
US8928784B2 (en) | 2009-02-10 | 2015-01-06 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
KR20160121482A (ko) | 2009-02-10 | 2016-10-19 | 소니 주식회사 | 고체 촬상 장치와 그 제조 방법, 및 전자 기기 |
US11735620B2 (en) | 2009-02-10 | 2023-08-22 | Sony Group Corporation | Solid-state imaging device having optical black region, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
JP2009290229A (ja) * | 2009-08-28 | 2009-12-10 | Sony Corp | 裏面照射型固体撮像装置および裏面照射型固体撮像装置の製造方法 |
US8445985B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-05-21 | Sony Corporation | Solid-state imaging device, method of manufacturing the same, and electronic equipment |
EP2432019A1 (en) | 2010-09-15 | 2012-03-21 | Sony Corporation | Imaging device and imaging apparatus |
US9263490B2 (en) | 2010-10-07 | 2016-02-16 | Sony Corporation | Methods of forming integrated circuits |
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