JP2006352121A - インプリント・リソグラフィ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インプリント・テンプレート又はインプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレート・ホルダと、基板を受けるように構成された基板テーブルとを有し、さらに、基板テーブル及びインプリント・テンプレート又はテンプレート・ホルダと共に、周囲の領域から実質的に密閉された密閉空間を形成するように構成された壁を備えたリソグラフィ装置が開示される。
【選択図】図4
Description
Claims (22)
- インプリント・テンプレート又はインプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレート・ホルダと、基板を受け取るように構成された基板テーブルとを備え、前記基板テーブル及び前記インプリント・テンプレート又は前記テンプレート・ホルダと共に、周囲の領域から実質的に密閉された密閉空間を形成するように構成された壁をさらに備えたリソグラフィ装置。
- 前記密閉空間のガスの含有量及び/又は圧力の制御を可能にするための1つ又は複数の弁が前記密閉空間に接続されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の弁が、1つ又は複数の入力弁及び1つ又は複数の出力弁である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の入力弁が、前記密閉空間の体積が増加すると前記密閉空間にガスを流入させるように配置されている、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の出力弁が、前記密閉空間の体積が減少すると前記密閉空間からガスを流出させるように配置されている、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の出力弁が、前記インプリント・テンプレートが基板に接触すると真空を印加するように配置されている、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の弁が前記リソグラフィ装置の前記壁に配置されている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の弁が前記基板テーブルに隣接して配置されている、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の弁がガス・リザーバ、ガス・クリーナ又はその両方に接続されている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の弁が、前記インプリント・テンプレート又は前記テンプレート・ホルダが移動している間の前記密閉空間の体積変化を補償するように配置された圧力チャンバに接続されている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルと前記リソグラフィ装置の前記壁の間にシールが提供されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記インプリント・テンプレート又は前記テンプレート・ホルダが、前記インプリント・テンプレート又は前記テンプレート・ホルダを前記リソグラフィ装置の前記壁に対して密閉するシールを備えている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記基板の上に提供されたインプリント可能材料を硬化させるために使用されるUV光から前記1つ又は複数の弁を遮蔽するように配置されたシールドをさらに備えている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が前記密閉空間にガスを提供するように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガスが、前記基板の上に提供されたインプリント可能材料の成分である1つ又は複数の物質を有している、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ又は複数の物質が1つ又は複数の単量体である、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス中の前記1つ又は複数の物質の圧力が前記インプリント可能材料の蒸発を抑制するのに十分な圧力である、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス中の前記1つ又は複数の物質の圧力が飽和レベル未満である、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガスが1つ又は複数の不活性ガスである、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- インプリント・テンプレート、基板テーブル及び壁を使用したインプリント・リソグラフィの方法であって、前記壁及び前記基板テーブルが、前記インプリント・テンプレート又は前記インプリント・テンプレートを保持しているテンプレート・ホルダと共に、周囲の領域から実質的に密閉された密閉空間を形成するように構成され、前記方法が、インプリント可能な材料の層を有する基板を前記基板テーブルの上に提供する工程と、前記インプリント可能な材料の成分である1つ又は複数の物質を有したガスを前記密閉空間に充填する工程と、前記インプリント可能な材料を前記インプリント・テンプレートを使用してインプリントする工程とを含む方法。
- 前記密閉空間に接続された1つ又は複数の弁を使用して前記密閉空間のガスの圧力、含有量又はその両方を調整する工程をさらに含む、請求項20に記載の方法。
- 前記密閉空間から前記1つ又は複数の弁を介してガス・リザーバ、ガス・クリーナ又はその両方にガスを供給する工程と、前記ガスを浄化する工程と、浄化されたガスを前記密閉空間に戻す工程とをさらに含む、請求項21に記載の方法。
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