KR100913497B1

KR100913497B1 - 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법

Info

Publication number: KR100913497B1
Application number: KR1020070139222A
Authority: KR
Inventors: 김광; 김주현
Original assignee: 한국산업기술대학교산학협력단
Priority date: 2007-12-27
Filing date: 2007-12-27
Publication date: 2009-08-25
Also published as: KR20090071031A

Abstract

본 발명은 진공압 및 별도의 압력을 이용하여 기판상의 수지를 스탬퍼로 가압하여 기판상에 구조물을 형성하는 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 기판의 수지의 내부에 기포의 발생을 방지하고 장치의 소형화가 가능한 개선된 구조 및 방법이 제시된다.

임프린팅, 리소그래피

Description

임프린팅 장치 및 임프린팅 방법 {APPARATUS AND METHOD FOR IMPRINTING}

본 발명은 진공압을 이용하여 기판상의 수지를 스탬퍼로 가압하여 기판상에 나노구조물을 전사하는 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법에 관한 것이다.

일반적으로, 나노임프린트 리소그래피(nano-imprint lithography)기술은 경제적이고도 효과적으로 나노구조물을 제작할 수 기술로, 나노구조물이 각인된 스탬프를 기판상에 코팅된 고분자소재의 레지스트 표면에 눌러 나노구조물을 반복적으로 전사하는 기술이다.

기판상에 소정의 패턴을 형성하기 위하여 여러 가지 타입의 임프린팅 수단이 적용되고 있으며, 균일한 임프린트 압력을 얻을 수 있고 구조를 단순화시킬 수 있도록 진공압을 이용한 임프린팅 장치가 개발되고 있다.

도 1에 도시된 바와 같이, 진공압을 이용한 임프린팅 장치는, 통로(11)가 형성된 공정챔버(10)의 내부에 배치되고 레지스트 수지(21)가 코팅된 기판(20)이 탑재되는 탑재대(30)와, 탑재대(30)의 기판(20)이 탑재되는 면에 대향되도록 위치되고 수지(21)에 전사하도록 요철의 형상을 갖는 스탬퍼(40)와, 공정챔버(10)의 내부에 고정되고 그 중앙에 스탬퍼(40)가 결합되며 소정의 탄성을 갖는 탄성부재(50) 와, 패턴이 형성된 수지(21)를 경화시키기 위한 광원(미도시)을 포함하여 구성된다.

도 2에 도시된 바와 같이, 진공압을 이용한 임프린팅 장치는 진공압 및 탄성부재(50)의 탄성에 의하여 스탬퍼(40)가 기판(20)쪽으로 이동되어 기판(20)상의 수지(21)를 가압하도록 공정챔버(10)의 내부를 통로(11)를 통하여 진공으로 형성시키는 과정을 통하여 기판(20)상에 소정의 나노구조물을 전사한다.

그러나, 이와 같은 임프린팅 장치는 공정챔버(10)의 통로(11)를 통하여 공기가 배출되는 것과 동시에 스탬퍼(40)가 기판(20)상의 수지(21)쪽으로 이동되어 공정챔버(10)의 내부가 진공의 상태가 되지 않은 상태에서 스탬퍼(40)가 기판(20)상의 수지(21)를 가압하기 때문에, 스탬퍼(40)와 수지(21)와의 사이에 공기가 존재하며, 이에 따라, 전사가 완료된 후에 수지(21)의 내부에 기포가 발생되어 패턴이 손상되는 등의 제품의 품질이 저하되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기한 종래의 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 기판상의 수지에 기포가 형성되는 것을 억제하여 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법을 제공하는 데에 있다.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 임프린팅 장치는 공정챔버와, 공정챔버의 내부에 배치되어 공정챔버를 제1통로를 갖는 제1챔버부와 제2통로를 갖는 제2챔버부로 구획하는 탄성부재와, 제1챔버부내에서 탄성부재에 고정되는 스탬퍼와, 제1챔버부내에서 스탬퍼에 대향되도록 배치되고 기판이 탑재되는 탑재대와, 기판상의 수지를 경화시키는 경화유닛을 포함하여 구성된다.

제2챔버부에는 스탬퍼의 위치를 결정하는 위치결정수단이 구비되는 것이 바람직하며, 위치결정수단은 제2챔버부의 내부에 배치되어 제2챔버부에 진공이 형성되는 경우 스탬퍼의 일정거리 이상의 이동을 방지하는 스토퍼를 포함하여 구성된다.

탄성부재는 제2챔버부를 이루는 챔버벽상에 설치되는 서포트에 제2챔버부의 기밀을 유지하도록 결합되며, 서포트와 결합되는 부분이 소정의 주름을 갖는 벨로우즈의 형상으로 형성될 수 있다.

공정챔버는 탄성부재와 함께 제2챔버부를 이루는 상부챔버와 탄성부재와 함께 제1챔버부를 이루는 하부챔버로 구성되고, 상부챔버와 하부챔버와의 사이에는 기밀을 위한 실링부재가 개재되는 것이 바람직하다.

경화유닛은 패턴이 형성된 기판상의 수지를 광경화시킬 수 있도록 소정의 빛을 발생시키는 광원을 포함하여 구성되며, 광원에서 발생된 빛이 수지로 전달될 수 있도록 탑재대는 빛이 통과되는 재질로 형성될 수 있다.

또한, 본 발명의 목적을 달성하기 위한 임프린팅 방법은 공정챔버와, 공정챔버의 내부에 배치되어 공정챔버를 제1챔버부와 제2챔버부로 구획하는 탄성부재와, 제1챔버부내에서 탄성부재에 고정되는 스탬퍼와, 제1챔버부내에서 스탬퍼에 대향되도록 배치되어 수지가 코팅된 기판이 탑재되는 탑재대 및 기판상의 수지를 경화시키는 경화유닛을 포함하는 임프린팅 장치에 있어서, 제2챔버부의 내부를 진공으로 형성하는 제1단계와, 제1챔버부의 내부를 진공으로 형성하는 제2단계와, 제2챔버부의 내부의 진공을 해제하여 스탬퍼를 기판쪽으로 이동시켜 기판상의 수지를 가압하는 제3단계와, 기판상의 수지를 경화시키는 제4단계와, 제1챔버부의 진공을 해제시켜 스탬퍼를 기판으로부터 이격시키는 제5단계를 포함하여 구성된다.

여기에서, 제1단계와 제2단계의 사이에는 제1단계의 수행 전에 분리된 공정챔버의 상부챔버와 하부챔버를 결합시키는 단계를 더 포함하여 구성된다.

기판상의 수지를 가압하는 압력을 증가시킬 수 있도록 제3단계와 제4단계의 사이에는 제2챔버부를 가압하는 단계를 포함하는 것이 바람직하며, 이와 같은 경우에는 제4단계와 제5단계의 사이에 제2챔버부의 가압을 해제하는 단계가 더 포함된다.

제4단계는 기판상의 수지에 빛을 조사하여 수지를 광경화시키는 과정을 통하 여 진행된다.

제5단계에서 스탬퍼가 기판상의 수지로부터 완전히 분리될 수 있도록 제2챔버부의 내부를 진공으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.

제5단계 후에 상부챔버와 하부챔버를 분리하는 단계가 더 포함된다.

본 발명에 따른 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법은 공정챔버의 내부를 탄성부재로 제1챔버부와 제2챔버부로 나누고 제1챔버부와 제2챔버부의 압력을 조절하면서, 스탬퍼가 기판상의 수지를 가압하는 경우, 스탬퍼와 수지와의 사이의 공기를 제거함으로써, 기판상의 수지에 기포가 형성되는 것을 억제하여 패턴의 손상을 방지하고 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법의 바람직한 실시예에 대하여 설명한다.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 임프린팅 장치는, 내부에 밀폐된 공간이 제공되는 공정챔버(110)와, 공정챔버(110)의 내부에 배치되어 공정챔버(110)를 제1통로(123)를 갖는 제1챔버부(121)와 제2통로(124)를 갖는 제2챔버부(122)로 구획하는 탄성부재(130)와, 제1챔버부(121)의 내부에서 탄성부재(130)에 고정되고 소정의 나노구조물이 각인된 스탬퍼(140)와, 제1챔버부(121)의 내부에서 스탬퍼(140)의 각인된 면에 대향되도록 배치되고 레지스트 수지(151)가 코팅된 기판(150)이 탑재되는 탑재대(160)와, 탑재대(160)의 일측에 배치되어 기판(150)상의 수지(151)를 경화시키는 경화유닛(170)과, 스탬퍼(140)의 위치를 결정하는 위치결정수단(180)을 포함하여 구성된다.

공정챔버(110)는 탄성부재(130)와 함께 제2챔버부(122)를 형성하는 상부챔버(111)와, 탄성부재(130)와 함께 제1챔버부(121)를 형성하는 하부챔버(112)로 구성된다. 또한, 상부챔버(111)와 하부챔버(112)의 사이에는 그 사이의 기밀을 위한 실링부재(113)가 개재된다.

공정챔버(110)의 상부챔버(111)와 하부챔버(112)는 서로 대향되는 구조로 이루어지므로, 어느 한쪽의 챔버가 다른쪽의 챔버에 포함되는 형태를 갖는 구조에 비하여 장치를 소형화할 수 있는 이점이 있다.

탄성부재(130)는 소정의 탄성력을 가지는 재질로 이루어지며, 공정챔버(110)의 제2챔버부(122)를 이루는 챔버벽상에 설치되는 서포트(135)에 제2챔버부(122)의 기밀을 유지하도록 결합된다.

탄성부재(130)는 공정챔버(110)의 내부에서 제1챔버부(121) 및 제2챔버부(122)의 압력조건에 따라 연장 또는 수축되며, 이에 따라, 탄성부재(130)에 설치된 스탬퍼(140)가 제1챔버부(121)쪽 방향 또는 제2챔버부(122)쪽 방향으로 이동된다.

도 4는 본 발명에 따른 임프린팅 장치의 탄성부재(130)의 다른 예가 도시된 것으로, 이에 따른 탄성부재(130)는 공정챔버(110)의 내부에 배치되고 스탬퍼(140)가 고정되는 플레이트(131)와, 플레이트(131)로부터 연장되어 서포트(135)에 고정되고 소정의 주름을 갖는 벨로우즈부재(132)를 포함하여 구성된다.

벨로우즈부재(132)는 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 압력조건에 따라 연장 또는 수축되며, 이에 따라, 플레이트(131)와 스탬퍼(140)가 제1챔버부(121)쪽 방향 또는 제2챔버부(122)쪽 방향으로 이동된다.

탄성부재(130)가 플레이트(131)와 벨로우즈부재(132)로 구성되는 경우에는 플레이트(131)의 강성에 비하여 벨로우즈부재(132)의 강성이 무시할 정도로 작기 때문에 벨로우즈부재(132)는 공정챔버(110)내의 진공을 유지하는 기능으로만 사용되며, 벨로우즈부재(132)의 큰 변형이 있는 경우에도 스탬퍼(140)의 이동의 직진성이 향상되며, 압력분포도 일정하게 됨에 따라 기판(150)상의 수지(151)로의 전사를 정확하게 수행할 수 있다.

스탬퍼(140)는 탄성부재(130)에 결합되어 제1챔버부(121)의 내부에 위치되고, 수지(151)가 코팅된 기판(150)에 대향하는 면이 에칭공정 등에 의하여 나노구조물을 갖도록 각인된다.

스탬퍼(140)는 탄성부재(130)에 직접 결합될 수 있으나, 나노구조물의 형상이 서로 다른 스탬퍼(140)의 교체를 용이하게 수행할 수 있도록, 탄성부재(130)에는 스탬퍼(140)를 착탈이 가능하게 고정시키는 고정부재(141)가 구비되는 것이 바람직하다.

탑재대(160)는 빛이 통과될 수 있는 재질로 형성되며, 그 상부에 수지(151)가 코팅된 기판(150)이 탑재된다.

경화유닛(170)은 탑재대(160)의 일측의 챔버벽의 내부에 형성되는 통과공(171)과, 빛을 발생시켜 통과공(171)을 통하여 탑재대(160)로 전달하는 광 원(172)을 포함하여 구성된다.

스탬퍼(140)의 가압에 의하여 소정의 패턴이 형성된 수지(151)는 광원(172)에서 발생된 빛에 의하여 광경화되는데, 수지(151)로 빛을 조사하는 광원(172)의 위치는 다양하게 조절할 수 있으나, 광원(172)이 탑재대(160)의 양측에 위치되도록 하고, 기판(150) 및 탑재대(160)를 빛이 통과할 수 있는 재질로 형성하는 것이 임프린팅 장치의 사이즈를 최소화시킬 수 있는 데에 유리하다.

위치결정수단(180)은 제2챔버부(122)의 내부에 진공이 형성되는 경우에 탄성부재(130)가 제2챔버부(122)쪽으로 과도하게 연장 또는 수축되는 것을 방지하는 역할을 하는 것으로, 탄성부재(130)의 스탬퍼(140)가 고정되는 면의 반대측에 구비되는 가이드부재(181)와, 상부챔버(111)의 내벽에 구비되어 스탬퍼(140)의 일정거리 이상의 이동을 방지하는 스토퍼(182)를 포함하여 구성된다.

여기에서, 가이드부재(181)와 스토퍼(182)가 서로 밀착되는 경우에 그 사이의 마찰을 줄일 수 있도록, 스토퍼(182)의 가이드부재(181)에 대향하는 면에는 소정의 슬롯(183)이 형성되는 것이 바람직하다. 이와 같은 슬롯(183)은 가이드부재(181)의 스토퍼(182)에 대향하는 면에 형성될 수도 있다.

이하, 도 5 내지 도 11을 참조하여, 상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 임프린팅 장치의 동작에 대하여 설명한다.

먼저, 도 5에 도시된 바와 같이, 기판(150)의 상부에 수지(151)를 코팅하고, 상부챔버(111)와 하부챔버(112)가 분리된 상태에서, 기판(150)을 탑재대(160)에 장착시킨다(S10).

그리고, 제2챔버부(122)에 진공을 형성하면, 제2챔버부(122)의 진공압에 의하여 탄성부재(130)가 변형되면서 가이드부재(181)가 스토퍼(182)에 밀착될 때까지 스탬퍼(140)가 제2챔버부(122)쪽으로 이동된다(S20).

그리고, 도 6에 도시된 바와 같이, 상부챔버(111)와 하부챔버(112)를 결합시켜, 제1챔버부(121)의 내부를 밀폐시킨다(S30).

그리고, 도 7에 도시된 바와 같이, 제2챔버부(122)의 내부를 진공으로 유지하면서, 제1챔버부(121)의 내부를 진공으로 형성한다(S40). 이에 따라, 탄성부재(130)가 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 내압이 서로 동일해 질 때까지 변형되면서 스탬퍼(140)가 제1챔버부(121)쪽으로 이동되며, 이때, 제1챔버부(121)의 내부의 공기는 완전히 제거된다.

여기에서, 제1챔버부(121)의 내부의 진공도가 약 0.5torr이하인지를 판단하여 진공도가 그 이하인 경우에는 다음 공정을 진행한다.

그리고, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1챔버부(121)의 내부를 진공으로 유지하면서, 제2챔버부(122)의 진공을 해제한다(S50). 따라서, 제2챔버부(122)의 내부로 공기가 유입되면서 제2챔버부(122)는 대기압의 상태로 유지되는 반면에 제1챔버부(121)의 내부는 진공의 상태이므로, 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 압력의 차이에 의하여 탄성부재(130)가 변형되면서 스탬퍼(140)가 제1챔버부(121)쪽으로 이동되고, 이에 따라, 스탬퍼(140)가 기판(150)상의 수지(151)를 가압하여 스탬퍼(140)의 각인된 면에 대응되는 형상의 패턴이 형성된다.

여기에서, 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 압력의 차이로 스탬퍼(140)가 기판(150)상의 수지(151)를 가압하는 압력이 결정되는데, 공정에 따라 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 차압보다 더 큰 압력이 요구되는 경우에는, 제2챔버부(122)에 공기를 가압하여 수지(151)를 가압하는 압력을 증가시킬 수 있다.

기판(150)상의 수지(151)에 패턴의 형성이 완료되면, 경화유닛(170)에 의하여 기판(150)상의 수지(151)를 경화시킨다(S60). 즉, 광원(172)에서 발생된 빛이 통과공(171), 기판(150) 및 탑재대(160)를 통과하여 기판(150)상의 수지(151)로 전달되면, 패턴이 형성된 수지(151)는 광경화된다.

기판(150)상의 수지(151)의 경화가 완료되면, 도 9에 도시된 바와 같이, 제1챔버부(121)의 진공을 해제하여 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 내압을 동일하게 하면, 스탬퍼(140)는 상승되면서 기판(150)상의 수지(151)로부터 분리된다(S70).

여기에서, 스탬퍼(140)를 수지(151)쪽으로 이동시키는 공정에서 스탬퍼(140)가 수지(151)를 가압하는 압력을 증가시키기 위하여 제2챔버부(122)를 가압한 경우에는, 제2챔버부(122)의 가압상태를 해제하는 것이 필요하다.

이때, 스탬퍼(140)를 기판(150)상의 수지(151)로부터 용이하게 분리할 수 있도록 제2챔버부(122)에 진공을 형성할 수 있다. 즉, 제1챔버부(121)의 진공을 해제하면서 제2챔버부(122)에 진공을 형성하면 제1챔버부(121)와 제2챔버부(122)의 압력차이에 의하여 스탬퍼(140)가 기판(150)상의 수지(151)로부터 용이하게 분리될 수 있다.

스탬퍼(140)가 기판(150)상의 수지로부터 분리된 후에는, 도 10에 도시된 바 와 같이, 상부챔버(111)와 하부챔버(112)를 분리하고(S80), 탑재대(160)로부터 소정의 패턴이 형성된 기판(150)을 분리함으로써(S90), 임프린팅 공정이 종료된다.

상기한 바와 같은 본 발명에 따른 임프린팅 장치는 스탬퍼(140)가 기판(150)상의 수지(151)를 가압하기 전에 기판(150)이 위치된 제1챔버부(121)의 내부가 진공으로 형성되므로, 제1챔버부(121)의 내부의 공기가 완전히 제거된다. 따라서, 스탬퍼(140)가 기판(150)상의 수지(151)를 가압할 때 스탬퍼(140)와 기판(150)상의 수지(151)와의 사이에는 공기가 존재하지 않으므로 수지(151)의 내부에 기포의 발생이 방지되는 효과가 있다.

도 1은 종래의 임프린팅 장치가 도시된 단면도이다.

도 2는 종래의 임프린팅 장치의 작동상태가 도시된 단면도이다.

도 3은 본 발명에 따른 임프린팅 장치가 도시된 단면도이다.

도 4는 본 발명에 따른 임프린팅 장치의 다른 실시예가 도시된 단면도이다.

도 5 내지 도 10은 본 발명에 따른 임프린팅 장치의 공정을 순차적으로 도시한 단면도이다.

도 11은 본 발명에 따른 임프린팅 장치의 공정이 도시된 순서도이다.

*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ***

110: 공정챔버 111: 상부챔버

112: 하부챔버 113: 실링부재

121: 제1챔버부 122: 제2챔버부

123: 제1통로 124: 제2통로

130: 탄성부재 131: 플레이트

132: 벨로우즈부재 135: 서포트

140: 스탬퍼 141: 고정부재

150: 기판 151: 수지

160: 탑재대 170: 경화유닛

171: 통과공 172: 광원

180: 위치결정수단 181: 가이드부재

182: 스토퍼 183: 슬롯

Claims

공정챔버;

상기 공정챔버의 내부에 배치되어 상기 공정챔버를 제1통로를 갖는 제1챔버부와 제2통로를 갖는 제2챔버부로 구획하는 탄성부재;

상기 제1챔버부내에서 상기 탄성부재에 고정되는 스탬퍼;

상기 제1챔버부내에서 상기 스탬퍼에 대향되도록 배치되고, 기판이 탑재되는 탑재대; 및

상기 기판상의 수지를 경화시키는 경화유닛을 포함하는 임프린팅 장치.
제1항에 있어서,

상기 스탬퍼의 위치를 결정하는 위치결정수단을 포함하는 임프린팅 장치.
제2항에 있어서,

상기 위치결정수단은 상기 제2챔버부의 내부에 배치되어 상기 제2챔버부에 진공이 형성되는 경우 상기 스탬퍼의 일정거리 이상의 이동을 방지하는 스토퍼를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
제1항에 있어서,

상기 탄성부재는 상기 제2챔버부를 이루는 챔버벽상에 설치되는 서포트에 상 기 제2챔버부의 기밀을 유지하도록 결합되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
제4항에 있어서,

상기 탄성부재는 상기 스탬퍼가 고정되는 플레이트와, 상기 플레이트로부터 연장되어 상기 서포트에 고정되고 소정의 주름을 갖는 벨로우즈부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
제1항에 있어서,

상기 탄성부재에는 상기 스탬퍼를 착탈이 가능하게 고정시키는 고정부재가 구비되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
제1항에 있어서,

상기 공정챔버는 상부챔버와 하부챔버로 구성되고, 상기 상부챔버와 상기 하부챔버와의 사이에는 기밀을 위한 실링부재가 개재되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
제1항에 있어서,

상기 경화유닛은 상기 공정챔버의 일측에 구비되어 빛을 발생시키는 광원을 포함하여 구성되고, 상기 기판 및 상기 탑재대는 광원에서 발생한 빛이 상기 수지로 전달될 수 있는 빛이 통과되는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
공정챔버와, 상기 공정챔버의 내부에 배치되어 상기 공정챔버를 제1챔버부와 제2챔버부로 구획하는 탄성부재와, 상기 제1챔버부내에서 상기 탄성부재에 고정되는 스탬퍼와, 상기 제1챔버부내에서 상기 스탬퍼에 대향되도록 배치되어 기판이 탑재되는 탑재대 및 상기 기판상의 수지를 경화시키는 경화유닛을 포함하는 임프린팅 장치에 있어서,

상기 제2챔버부의 내부를 진공으로 형성하는 제1단계;

상기 제1챔버부의 내부를 진공으로 형성하는 제2단계;

상기 제2챔버부의 내부의 진공을 해제하여, 상기 스탬퍼를 상기 기판쪽으로 이동시켜 상기 기판상의 수지를 가압하는 제3단계;

상기 기판상의 수지를 경화시키는 제4단계와; 및

상기 제1챔버부의 진공을 해제시켜 상기 스탬퍼를 상기 기판으로부터 이격시키는 제5단계를 포함하는 임프린팅 방법.
제9항에 있어서,

상기 공정챔버는 상부챔버와 하부챔버로 구성되고,

상기 제1단계와 상기 제2단계의 사이에는 상기 제1단계의 수행 전에 분리된 상부챔버와 하부챔버를 결합시키는 단계를 더 포함하는 임프린팅 방법.
제9항에 있어서,

상기 제3단계와 상기 제4단계의 사이에서 상기 제2챔버부의 제2통로를 통하여 상기 제2챔버부를 가압하는 단계와, 상기 제4단계와 상기 제5단계의 사이에서 상기 제2챔버부의 가압을 해제하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 방법.
제9항에 있어서,

상기 제4단계는 상기 기판상의 수지에 빛을 조사하여 상기 수지를 경화시키는 것을 특징으로 하는 임프린팅 방법.
제9항에 있어서,

상기 제5단계는 제2챔버부의 내부를 진공으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 방법.
제9항에 있어서,

상기 공정챔버는 상부챔버와 하부챔버로 구성되고,

상기 제5단계 후에 상부챔버와 하부챔버를 분리하는 단계를 더 포함하는 임프린팅 방법.