KR100602176B1 - 나노 임프린팅 장치 - Google Patents

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KR100602176B1
KR100602176B1 KR1020050048387A KR20050048387A KR100602176B1 KR 100602176 B1 KR100602176 B1 KR 100602176B1 KR 1020050048387 A KR1020050048387 A KR 1020050048387A KR 20050048387 A KR20050048387 A KR 20050048387A KR 100602176 B1 KR100602176 B1 KR 100602176B1
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이필현
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(주)화진인더스트리
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Abstract

본 발명에 따른 나노 임프린팅 장치는 자외선 또는 적외선에 투명하고, 저면에 패턴이 형성된 임프린팅 스탬프; 상기 패턴이 전사되는 폴리머층을 형성하는 베이스 기판; 상기 베이스 기판 상면에 임프린팅 스탬프를 공급시키는 스탬프 공급수단; 상기 임프린팅 스탬프를 베이스 기판에 압착하는 가압수단; 상기 베이스 기판을 탑재한 상태로 미세위치 조정되는 스테이지; 상기 스테이지의 위치 조정 시, 임프린팅 스탬프의 움직임을 고정시키는 스탬프 고정수단; 상기 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 위치 편차를 확인하고 보정할 수 있도록 하는 비젼시스템; 및 상기 위치 보정된 임프린팅 스탬프 상에 자외선 또는 적외선을 조사시켜 폴리머를 경화시키도록 된 광원부를 포함하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 대형 제작된 시트 상태의 임프린팅 스탬프를 라미네이팅 방식으로 베이스 기판 상에 공급함으로써, 대면적 임프린트 공정이 가능하게 하는 동시에 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 미세 위치정렬이 가능하도록 하여 최적의 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 패턴을 형성할 수 있게 되는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 밀폐 구조를 갖는 진공챔버 내를 감압시켜 임프린팅 스탬프와 베이스 기판 사이의 미세기포가 제거되도록 함으로서, 정밀도가 높은 나노 패턴을 얻을 수 있게 되고, 불량률을 줄이게 되는 효과가 있다.

Description

나노 임프린팅 장치{device of Nano Imprinting}
도 1a 내지 1c는 종래 기술의 임프린팅 리소그라피 공정을 차례로 보인 공정도.
도 2는 종래 기술의 임프린팅 장치의 개략적 구조를 나타낸 개략도.
도 3은 본 발명에 따른 나노 임프린팅 장치의 개략적 구조를 나타낸 개략도.
도 4는 본 발명의 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압하는 일실시 예를 보인 가압공정도.
도 5는 본 발명의 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압하는 다른 실시 예를 보인 가압공정도.
도 6은 본 발명의 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압하는 또 다른 실시 예를 보인 가압공정도.
도 7은 본 발명의 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 미세위치를 정렬하는 상태를 보인 개략사시도.
도 8은 본 발명의 임프린팅 스탬프 및 베이스 기판이 진공챔버 내에 수용되어 감압된 상태로 임프린팅 공정이 진행되는 상태를 도시한 개략도.
< 도면 중 주요부분에 대한 부호의 설명 >
210: 임프린팅 스탬프 211: 패턴
220: 베이스 기판 221: 폴리머
230: 스탬프 공급수단 240: 가압수단, 롤러
250: 스테이지 260: 스탬프 고정수단
270: 비젼 시스템 280: 광원부
300: 진공챔버 310: 진공밸브
본 발명은 패턴을 임프린팅하기 위한 임프린팅 장치에 관한 것으로서, 특히 나노미터(nanometer) 또는 마이크로미터(micrometer) 크기의 패턴을 임프린팅하기 위한 나노 임프린팅 장치에 관한 것이다.
일반적으로 나노기술(nano technology: NT)이라 함은 나노미터 크기의 패턴을 이용해 초소형 크기의 소재, 구조, 기구, 기계, 소자 등을 생산하고 활용하는 기술을 일컫는다.
이러한, 나노기술에는 100nm이하의 크기를 가지는 소재나 소자 등이 속하게 되는데, 정보기술(information technology : IT)과 생명공학기술(bio technology : BT)을 실현시키는 기초기반 기술로서 대부분의 생산, 가공, 응용기술은 나노기술과 밀접한 관계를 가지고 있다.
위와 같은 나노기술에 있어서 핵심적인 기술이 나노미터 크기의 소재, 소자 등을 생산하고 활용할 수 있도록 하는 나노공정 기술로서, 현재 나노 임프린팅 (nano imprinting) 리소그라피 기술이 사용되고 있다.
상기 나노 임프린팅 리소그라피 (nano imprinting lithography) 기술은 나노 패턴(nano parttern)을 용이하게 형성할 수 있고, 대량생산이 가능하여 공정 수율이 높은 장점이 있다. 또한, 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위해서도 사용될 수 있다.
도 1a 내지 1c는 종래 기술의 임프린팅 리소그라피 공정을 차례로 보인 공정도로서, 도 1a에 도시한 바와 같이, 패턴 구조(11)가 형성된 스탬프(9)와 폴리머(21)가 적층된 베이스 기판(19)을 대응하여 위치시킨다.
이때, 베이스 기판(19)에 원하는 패턴을 형성하기 위해서는 스탬프(9)와 베이스 기판(19)은 정확하게 위치정렬(position alignment) 되어야 한다.
그 후에, 도 1b에 도시한 바와 같이, 스탬프(9)와 베이스 기판(19)을 밀착시키고 압력을 인가하여 스탬프(19)와 베이스 기판(19)을 압착한다. 이로 인해 스탬프(9)에 형성된 패턴구조(11)가 폴리머(21)에 임프린팅 된다.
그런 다음, 상기 스탬프(9) 및 폴리머(21)에 자외선을 조사시켜 폴리머(21)을 경화시키는 노광공정을 실시하도록 한다. 이때, 상기 스탬프(9)는 자외선이 투과할 수 있는 투명재질로 이루어지게 된다.
그 후에, 도 1c에 도시한 바와 같이, 압착된 스탬프(9)와 베이스 기판(19)을 분리시키게 된다. 이때, 베이스 기판(19)에 형성된 나노패턴(22)에 손상을 주지 않도록 두 기판(9,19)을 분리하는 것이 중요하다.
위와 같은 나노 임프린팅 리소그라피 공정을 통해, 스탬프(9)에 형성된 패턴 구조(11)를 베이스 기판(19)의 폴리머(21)에 임프린팅 하게 된다.
도 2는 종래 기술의 임프린팅 장치의 개략적 구조를 나타낸 개략도로서, 임프린팅 리소그라피 공정을 진행하기 위한 임프린팅 기판 지지장치(70)와 챔버(50)를 도시하고 있다.또한, 본 발명은 베이스 기판에 놓여진 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압 밀착시킴으로써, 기포가 제거되어 제품의 정밀도를 향상시키게 되는 효과가 있다.
도시한 바와 같이, 종래의 임프린팅 기판지지장치(70)는 탄성력을 가지는 탄성체판(31,32)과, 탄성체판(31,32)을 고정시키기 위한 고정체(41,42)로 구성된다.
상기 탄성체판은 제1탄성체판(31)과 제2탄성체판(32)으로 구성되고, 상기 고정체는 제1고정체(41)와 제2고정체(42)로 구성된다.
상기 탄성체판(31,32)은 탄성력을 가지는 고무와 같은 폴리머 중합체로 이루어지고, 제1탄성체판(31)과 제2탄성체판(32) 사이에는 스탬프(9)와 베이스 기판(19)이 위치하고 있다.
상기 스탬프(9)의 패턴구조를 베이스 기판(19)에 임프린팅 하기 위해서는 제1탄성체판(31)과 제2탄성체판(32)에 압력을 인가하게 되는데, 인가된 압력에 의해 스탬프(9)와 베이스 기판(19)은 압착되어 베이스 기판(19)에 패턴이 형성되게 된다.
상기 챔버(50)는 임프린팅 기판 지지장치(70)에 압력을 인가하게 되는데, 이를 위해, 스탬프(9)와 베이스 기판(19)이 위치한 임프린팅 지지장치(70)를 챔버 (50) 내에 위치시킨 다음, 밸브(60)를 통해서 챔버(50) 내의 압력을 상승시키도록 한다. 이때, 챔버(50) 내의 압력에 의해 베이스 기판(19)에 패턴이 형성된다.
그러나, 상기한 종래 기술의 임프린팅 장치는 고압 챔버(50)를 사용하기 때문에 기판지지장치(70)에 고압이 작용되어 스탬프(9)와 베이스 기판(19)의 위치정렬관계가 흐트러지게 되는 문제가 있다.
이때, 상기 베이스 기판(19)의 패턴은 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 극 미세 패턴이기 때문에, 스탬프(9)와 베이스 기판(19)의 위치정렬 상태가 흐트러지게 되면 바람직한 패턴이 베이스 기판(19)에 형성되지 못하게 된다.
또한, 이러한 고압의 챔버를 이용하는 장치에서는 기판의 크기가 큰 평판디스플레이(plat display) 관련분야로의 적용이 어렵고, 장치의 구조가 복잡해지게 되는 문제가 있다.
상기와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은 임프린트 공정을 대면적 기판에 적용이 가능하게 함과 동시에 베이스 기판에 바람직한 나노 패턴을 형성시키기 위하여 나노 스탬프와 베이스 기판의 위치정렬을 올바르게 하여 최적의 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 패턴을 형성할 수 있는 임프린팅 장치를 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 베이스 기판에 놓여진 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압 밀착시킴으로써, 기포가 제거되어 제품의 정밀도를 향상시키도록 하는데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 밀폐 구조를 갖는 진공챔버를 구비함에 따라, 상기 진공챔버 내를 감압시켜 임프린팅 스탬프와 베이스 기판 사이의 미세기포가 제거된 상태에서 위치정렬 및 폴리머 경화공정이 연속 진행될 수 있도록 하는데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 나노 임프린팅 장치는 자외선 또는 적외선에 투명하고, 저면에 패턴이 형성된 임프린팅 스탬프; 상기 패턴이 전사되는 폴리머층을 형성하는 베이스 기판; 상기 베이스 기판 상면에 임프린팅 스탬프를 공급시키는 스탬프 공급수단; 상기 임프린팅 스탬프를 베이스 기판에 압착하는 가압수단; 상기 베이스 기판을 탑재한 상태로 미세위치 조정되는 스테이지; 상기 스테이지의 위치 조정 시, 임프린팅 스탬프의 움직임을 고정시키는 스탬프 고정수단; 상기 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 위치 편차를 확인하고 보정할 수 있도록 하는 비젼시스템; 및 상기 위치 보정된 임프린팅 스탬프 상에 자외선 또는 적외선을 조사시켜 폴리머를 경화시키도록 된 광원부를 포함하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 임프린팅 스탬프는 시트형상으로 제작되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 스탬프 공급수단은 임프린팅 스탬프를 진공으로 흡착하는 흡착부와, 상기 흡착된 스탬프를 일정한 위치로 이송시켜 정렬하는 이송부를 포함하는 구성으로 이루어지는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 가압수단은 환형상의 롤러를 이용하여 스탬프를 위에서 일정한 방향과 일정한 압력 및 일정한 속도로 문지를 수 있도록 하는 기구를 포함하는 구성으로 이루어지는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 환 형상의 롤러는 금속이거나 플라스틱 또는 일정한 탄성을 가지는 재질을 사용하여 제작되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 임프린팅 스탬프가 스탬프 이송수단에 의해 베이스 기판의 상면에 경사진 상태로 위치하고, 상기 임프린팅 스탬프의 베이스 기판과의 접촉 방향으로부터 롤러를 이용한 가압이 차례로 진행되도록 하되, 임프린팅 스탬프를 정렬하고 있는 스탬프 이송수단의 흡착부중에서 롤러가 진입되는 순서대로 흡착판이 분리되도록 하는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 스테이지는 바닥에 베이스 기판을 흡착시켜 위치정렬과정에서 움직이거나 정렬상태가 흐트러지는 것이 방지되도록 복수 개의 진공 흡착 플레이트를 형성하는 구성으로 이루어지는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 스탬프 고정수단은 임프린팅 스탬프 상면을 흡착 지지하기 위한 복수개의 진공 흡착 플레이트를 구성하는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 임프린팅 스탬프와 베이스 기판이 진공 챔버 내에 수용되고, 상기 진공 챔버 내부가 진공밸브에 의해 감압되어 임프린팅 스탬프와 베이스 기판 사이에 미세 기포가 제거되도록 하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해 첨부도면을 참조하여 자세히 설명 하면 다음과 같다.
도 3은 본 발명에 따른 나노 임프린팅 장치의 개략적 구조를 나타낸 개략도 이다.
동 도면에서 보는 바와 같이 본 발명에 따른 나노 임프린팅 장치는 자외선 또는 적외선에 투명하고, 저면에 패턴(211)이 형성된 임프린팅 스탬프(210)와, 상기 패턴(211)이 전사되는 폴리머(221) 층을 형성하는 베이스 기판(220)과, 상기 베이스 기판(220) 상면에 임프린팅 스탬프(210)를 공급시키는 스탬프 공급수단(230)과, 상기 임프린팅 스탬프(210)를 베이스 기판(220)에 압착하는 가압수단(240)과, 상기 베이스 기판(220)을 탑재한 상태로 미세위치 조정되는 스테이지(250)와, 상기 스테이지(250)의 위치 조정 시, 임프린팅 스탬프(210)의 움직임을 고정시키는 스탬프 고정수단(260)과, 상기 임프린팅 스탬프(210)와 베이스 기판(220)의 위치 편차를 확인하고 보정할 수 있도록 하는 비젼 시스템(270)과, 상기 위치 보정된 임프린팅 스탬프(210) 상에 자외선 또는 적외선을 조사시켜 폴리머(221)를 경화시키도록 된 광원부(280)를 포함하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 임프린팅 스탬프(210)는 시트형상의 투명한 합성수지 기판이 사용되는데, 대신 유리 기판을 사용할 수도 있다.
또한, 상기 임프린팅 스탬프(210) 저면에 형성되는 패턴(211)은 실리콘 산화물(SiOx)로 이루어지게 되는데, 기판 위에 실리콘 산화물(SiOx)을 적층하고, 전자빔 리소그라피 공정과 식각 공정을 차례로 진행시켜 패턴구조(211)를 형성하게 된다.
그리고, 상기 베이스 기판(220)은 기판 상에 폴리머(221)가 적층되는 구성으로 이루어지게 되는데, 상기 기판은 투명한 합성수지 기판이나 갈륨비소(GaAs) 기판, 석영(quartz)기판, 알루미나(alumina) 기판이 사용될 수 있다.
또한, 상기 폴리머(221)는 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmetacrylate: PMMA) 등의 열가소성수지(thermoplastic resin)가 일반적인데, 본 발명에서와 같이 투명한 스탬프(210)를 사용하는 경우에는 자외선에 의해 폴리머화(polymerization)되는 수지를 사용할 수 있다.
그리고, 상기 스탬프 공급수단(230)은 임프린팅 스탬프(210)를 진공으로 흡착하는 흡착부(231)와, 상기 흡착된 스탬프(210)를 일정한 위치로 이송시켜 정렬하는 이송부(233)로 구성된다.
또한, 상기 가압수단(240)은 환형상의 롤러를 이용하여 스탬프(210)의 상면을 일정한 방향과 일정한 압력 및 일정한 속도로 가압하게 된다.
도 4는 본 발명의 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압하는 일실시 예를 보인 가압공정도 이다.
동 도면에서 보는 바와 같이 본 발명은 폴리머(221)가 형성되어 있는 베이스 기판(220)에 패턴(211)이 형성되어 있는 임프린팅 스탬프(210)을 접촉시킬 때에 롤러(200)를 이용하여 일정한 압력과 속도로 압착함으로써, 유동성이 있는 폴리머(221)에서 발생할 수 있는 기포를 제거함과 동시에 스탬프(210)와 베이스 기판(220)이 균일하게 접촉되도록 하여 임프린팅 스탬프(210)에 형성된 미세 패턴(211) 이 폴리머(221) 전면에 걸쳐 일정하게 전사되도록 한다.
상기한 바와 같은 롤러에 의한 가압수단(240)은 첨부된 도 5 내지 도 6에서와 같이 다양하게 변형될 수 있다.
도 5는 본 발명의 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압하는 다른 실시 예를 보인 가압공정도로서, 동 도면에서 보는 바와 같이 임프린팅 스탬프(210) 상면 중앙에 2개의 롤러(240)를 배치시켜 양쪽 방향으로 동시에 전개되도록 할 수 있다.
이는, 대면적의 베이스 기판(220)상의 폴리머(221)와 스탬프(210)의 사이에 존재하는 미세기포를 효과적이고 빠르게 제거할 수 있게 된다.
도 6은 본 발명의 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압하는 또 다른 실시 예를 보인 가압공정도로서, 동 도면에서 보는 바와 같이 스탬프 이송수단(230)에 의해 베이스 기판(220) 상부로 이송된 임프린팅 스탬프(210)의 패턴(211)면이 베이스 기판(220)의 폴리머(221) 면에 대해 경사진 상태로 위치하도록 한다.
이때, 베이스 기판(220)에 스탬프(210)를 접촉시키기 위해 일측 방향(도면에서는 좌측 진행방향)으로부터 롤러(240)를 진행시켜 가압하게 되는데, 흡착부(231)를 구성하는 복수 개의 흡착판들 중에서 롤러(240)가 진입되는 압쪽의 흡착판 순으로 차례로 분리되도록 하여 롤러(240)가 진입될 수 있도록 한다.
이는 임프린팅 스탬프(210)을 베이스 기판(220)의 전 면적에 동시에 접촉시키지 않고, 베이스 기판(220)의 한쪽 끝부분으로부터 서서히 롤러(240)를 이용하여 압력을 가하면서 일 방향으로의 접촉이 차례로 진행되도록 함에 따라 면 접촉에 의한 기포의 발생이 근원적으로 방지된다.
이때, 상기 도 4내지 도 6에서 사용되는 환 형상의 롤러(240)는 금속 또는 플라스틱으로 제작될 수 있는데, 적정한 탄성력을 갖는 합성수지재로 제작하는 것이 보다 바람직하다.
도 7은 본 발명의 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 미세위치를 정렬하는 상태를 보인 개략사시도이다.
동 도면에서 보는 바와 같은 본 발명은 임프린팅 스탬프(210)와 베이스 기판(220) 사이의 미세패턴을 형성하기 위하여 베이스 기판(220)을 수용하고 있는 스테이지(250)를 움직이며 미세한 위치정렬이 이루어지도록 한다.
이때, 상기 스테이지(250)는 베이스 기판(220)을 흡착 고정시키기 위한 복수 개의 진공 흡착 플레이트(미도시)를 바닥에 형성시켜 위치정렬과정에서 베이스 기판(220)이 움직이는 것이 방지되도록 할 수 있다.
상기 스테이지(250) 평면상으로 상하좌우 미세위치 조정되면서 베이스 기판(220)의 위치를 조정시켜 임프린팅 스탬프(210)와 정렬을 이루게 된다.
이때, 상기 임프린팅 스탬프(210)의 위치가 상대적으로 고정될 수 있도록 별도의 스탬프 고정수단(260)이 사용되는데, 상기 스탬프 고정수단(260)으로는 복수개의 진공 흡착플레이트(260)가 사용될 수 있다.
이때, 상기 정렬 시, 임프린팅 스탬프(210)와 베이스 기판(220)의 위치편차는 육안으로의 식별이 어렵기 때문에 이를 확인하고 보정할 수 있도록 하는 화상분석카메라를 포함하는 비젼 시스템(270)을 사용하게 된다.
상기와 같이 정렬 후에는 광원부(280)를 통해 자외선 또는 적외선을 조사시켜 폴리머(221)를 경화시키도록 한다. 이때, 상기 임프린팅 스탬프(210) 및 베이스 기판(220)이 흡착 고정상태를 지속적으로 유지할 수 있도록 한다.
도 8은 본 발명의 임프린팅 스탬프 및 베이스 기판이 진공챔버 내에 수용되어 감압된 상태로 임프린팅 공정이 진행되는 상태를 도시한 개략도 이다.
동 도면에서 보여 지는 바와 같이 상기 임프린팅 스탬프(210)와 베이스 기판(220)이 진공 챔버(300) 내에 수용되고, 상기 진공 챔버(300) 내부가 진공밸브(310)에 의해 감압조건을 만들도록 하면, 임프린팅 스탬프(210)와 베이스 기판(220) 사이에 미세 기포가 제거되도록 할 수 있다.
이때, 상기 진공 챔버(300) 내에는 임프린팅 스탬프(210)를 접촉시키기 위한 롤러(240)를 포함하는 기구물을 전체적으로 포함시킬 수 도 있으며, 진공챔버(300)내의 구조를 단순화시키기 위하여 임프린팅 스탬프(210)와 베이스 기판(220)이 접촉된 상태에서 진공 챔버(300) 안으로 이동시켜 위치정렬을 한 후에, 광원부(280)를 통해 자외선 또는 적외선을 조사할 수 있도록 구성할 수 있다.
본 발명은 대형 제작된 시트 상태의 임프린팅 스탬프를 라미네이팅 방식으로 베이스 기판 상에 공급함으로써, 대면적 임프린트 공정이 가능하게 하는 동시에 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 미세 위치정렬이 가능하도록 하여 최적의 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 패턴을 형성할 수 있게 되는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 베이스 기판에 놓여진 임프린팅 스탬프를 롤러를 이용해 가압 밀착시킴으로써, 기포가 제거되어 제품의 정밀도를 향상시키게 되는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 밀폐 구조를 갖는 진공챔버 내를 감압시켜 임프린팅 스탬프와 베이스 기판 사이의 미세기포가 제거되도록 함으로서, 정밀도가 높은 나노 패턴을 얻을 수 있게 되고, 불량률을 줄이게 되는 효과가 있다.

Claims (9)

  1. 자외선 또는 적외선에 투명하고, 저면에 패턴이 형성된 임프린팅 스탬프;
    상기 패턴이 전사되는 폴리머층을 형성하는 베이스 기판;
    상기 베이스 기판 상면에 임프린팅 스탬프를 공급시키는 스탬프 공급수단;
    상기 임프린팅 스탬프를 베이스 기판에 압착하는 가압수단;
    상기 베이스 기판을 탑재한 상태로 미세위치 조정되는 스테이지;
    상기 스테이지의 위치 조정 시, 임프린팅 스탬프의 움직임을 고정시키는 스탬프 고정수단;
    상기 임프린팅 스탬프와 베이스 기판의 위치 편차를 확인하고 보정할 수 있도록 하는 비젼시스템; 및
    상기 위치 보정된 임프린팅 스탬프 상에 자외선 또는 적외선을 조사시켜 폴리머를 경화시키도록 된 광원부; 를 포함하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 임프린팅 스탬프는 시트형상으로 제작되는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 스탬프 공급수단은 임프린팅 스탬프를 진공으로 흡착하는 흡착부와, 상기 흡착된 스탬프를 일정한 위치로 이송시켜 정렬하는 이송부를 포함하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 가압수단은 스탬프 상면에서 일정한 방향과 일정한 압력 및 일정한 속도로 가압하기 위한 환형상의 롤러를 포함하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 환형상의 롤러는 금속이거나 플라스틱 또는 일정한 탄성을 가지는 재질을 사용하여 제작되는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 임프린팅 스탬프가 스탬프 이송수단에 의해 베이스 기판의 상면에 경사진 상태로 위치하고, 상기 임프린팅 스탬프의 베이스 기판과의 접촉 방향으로부터 롤러를 이용한 가압이 차례로 진행되도록 하되, 임프린팅 스탬프를 정렬하고 있는 스탬프 이송수단의 흡착부중에서 롤러가 진입되는 순서대로 흡착판이 분리되도록 하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지는 바닥에 베이스 기판을 흡착시켜 위치정렬과정에서 움직이거나 정렬상태가 흐트러지는 것이 방지되도록 복수 개의 진공 흡착 플레이트를 형성하는 구성으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 스탬프 고정수단은 임프린팅 스탬프 상면을 흡착 지지하기 위한 복수개의 진공 흡착 플레이트를 구성하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 임프린팅 스탬프와 베이스 기판이 진공 챔버 내에 수용되고, 상기 진공 챔버 내부가 진공밸브에 의해 감압되어 임프린팅 스탬프와 베이스 기판 사이에 미세 기포가 제거되도록 하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 장치.
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