JP2015144315A - インプリント装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板10上のインプリント材12に型8での押型を行って基板10上にパターンを形成するインプリント装置1であって、型8、インプリント材12および基板10のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを供給する供給手段6を有し、透過性ガスおよび凝縮性ガスをインプリント材12と型8との間に供給して押型を行う。
【選択図】図1
Description
n1<nair<n2 (1)
さらに、1気圧における透過性ガスと凝縮性ガスとの混合ガスの屈折率をn3とした場合、透過性ガスと大気との屈折率差をΔn1とし、凝縮性ガスと大気との屈折率差をΔn2とし、また、混合ガスと大気との屈折率差をΔn3とする。ここで、押型位置に対して供給するガスとして透過性ガスのみを使用する場合に比べて、混合ガスを使用した方がその周囲の大気の屈折率との差異が小さくなり、干渉変位測定への影響を抑えることができるのは、以下の式(2)に示す関係が成り立つ場合である。
|Δn1|>|Δn3| (2)
一方、押型位置に対して供給するガスとして凝縮性ガスのみを使用する場合に比べて、混合ガスを使用した方がその周囲の大気の屈折率との差異が小さくなり、干渉変位測定への影響を抑えることができるのは、以下の式(3)に示す関係が成り立つ場合である。
|Δn2|>|Δn3| (3)
なお、式(2)および(3)では、各屈折率差は、絶対値とする。すなわち、式(1)の条件を満足する透過性ガスと凝縮性ガスとを使用すれば、必然的に式(2)および式(3)の条件を満足するので、この場合、透過性ガスまたは凝縮性ガスを単独で使用する場合に比べて、干渉変位測定への影響を抑えることができる。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子等の他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
6 ガス供給部
8 モールド
10 ウエハ
12 樹脂
Claims (12)
- 基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを供給する供給手段を有し、
前記透過性ガスおよび前記凝縮性ガスを前記インプリント材と前記型との間に供給して前記押型を行う、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記供給手段は、前記インプリント材の成分のガスとは異なる前記凝縮性ガスを供給する、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記供給手段は、ハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルのうちの少なくとも一つを含む前記凝縮性ガスを供給する、
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記供給手段は、供給ノズルを含み、前記基板上の前記インプリント材と前記型との間に前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとを前記供給ノズルから供給する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記供給手段は、前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとを混合する混合部を含み、該混合部を介して前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとの混合ガスを供給する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記混合ガスの成分比を調整する調整手段を有する、ことを特徴とする請求項5に記載のインプリント装置。
- 前記混合ガスの成分を検出する検出器を有し、
前記調整手段は、前記検出器の出力に基づいて、前記混合ガスの成分比を調整する、
ことを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。 - 前記透過性ガスおよび前記凝縮性ガスを回収する回収ノズルを有する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項7のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記透過性ガスは、ヘリウムおよび水素のうち少なくとも一つを含む、ことを特徴とする請求項1ないし請求項8のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 請求項1ないし請求項9のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント工程と、前記インプリント工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、を含む物品の製造方法であって、
前記インプリント工程は、前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを前記インプリント材と前記型との間に供給して前記押型を行う、
ことを特徴とする物品の製造方法。 - 基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを前記インプリント材と前記型との間に供給して前記押型を行う、
ことを特徴とするインプリント方法。
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