JP2006326550A - 排気ガス浄化用触媒 - Google Patents

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Abstract

【課題】排気ガス浄化用触媒の耐S被毒性を高める。
【解決手段】 Ce及びZrを含有するCeZr系複酸化物と触媒金属Rhとを組み合わせてなる排気ガス浄化用触媒において、当該複酸化物を形成する金属成分として、Ce及びZrの他に、アルカリ金属等の第三金属成分Mを添加することにより、当該複酸化物の塩基性を高める一方、Rhは当該複酸化物の結晶格子点又は格子点間に配置する。
【選択図】 図5

Description

本発明は、排気ガス浄化用触媒に関する。
内燃機関の排気ガス浄化用触媒はS被毒を生ずることが知られている。これは、内燃機関の燃料や潤滑油にはS(硫黄)が含まれ、このSが酸化物等となって該内燃機関から排出されるためである。
このS被毒の問題に関し、特許文献1には、排気ガス中のNOxを吸収するNOx吸収材よりも上流側の排気通路にイオウ吸収剤を設けることが記載されている。そのイオウ吸収剤としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素から選ばれる少なくとも一つと、貴金属とをアルミナ担体に担持したものが開示されている。また、特許文献2には、排気ガス流れの前段側に排気ガス中の硫黄酸化物を吸収し分解するための触媒を配置し、排気ガス流れの後段にNOx吸収能を有する三元触媒を配置することが記載されている。前段触媒は、例えばNa、Mg、Ca、Sr、Ba、Y及びLaから選ばれる少なくとも1種と、Fe、Mn、Co及びNiから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物をアルミナに担持させたもので構成されている。
ところで、本出願人は、金属成分としてCeとZrとを含有する酸素吸蔵能を有するCeZr複酸化物の結晶格子点又は格子点間に触媒金属を配置してなる触媒金属ドープ型の排気ガス浄化用触媒を提案している(特許文献3参照)。この触媒の場合、触媒金属がCeZr複酸化物粒子の表面だけでなく内部に存在し、そのことによって酸素吸蔵量が増大するとともに、酸素吸蔵速度が大きくなるので、排気ガス浄化性能が高くなる。すなわち、少ない触媒金属量でも高い排気ガス浄化性能を示し、コスト低減に有利になる。さらに、触媒金属は複酸化物の結晶格子点又は格子点間に配置されているため、高温の排気ガスによる触媒金属の凝集ないしはシンタリングが抑制される。
特開平6−58138号公報 特開2000−42370号公報 特開2004−174490号公報
しかし、上述の如く、触媒金属ドープ型の排気ガス浄化用触媒にあっては、触媒金属の全てが当該CeZr複酸化物の表面に存在しているのではない。つまり、CeZr複酸化物の表面には触媒金属が一部しか存在せず、残りは内部に存在する。このため、S被毒が進行してくると、CeZr複酸化物の表面において排気ガスの浄化に有効に働く触媒金属が過度に少なくなる。つまり、排気ガス中のS成分がCeZr複酸化物表面の触媒金属と反応して化合物を生成し、活性サイトが少なくなる。
従って、CeZr複酸化物内部の触媒金属が酸素吸蔵能を高めるとは云っても、S被毒を生じたときの触媒のダメージは大きく、また、S被毒からの再生処理(排気ガスの酸素濃度を低くするとともに、排気ガス温度を高める処理)を行なっても、触媒性能を充分に回復させることができない。もちろん、触媒金属量を多くすれば、多少のS被毒を生じても、触媒性能が大きく低下することはないが、それでは、コスト高になる。
すなわち、本発明の課題は、触媒金属量を多くすることなく、上記S被毒に対策することにある。
本発明は、上記課題を解決するために、触媒金属をドープするCeZr系複酸化物の塩基性を高めるようにした。
すなわち、本発明は、酸素吸蔵能を有する複酸化物の結晶格子点又は格子点間に触媒金属が配置されている排気ガス浄化用触媒において、
上記複酸化物は、当該複酸化物を形成する金属成分として、Ceと、Zrと、アルカリ金属、アルカリ土類金属、La及びPrのうちから選択される少なくとも一種よりなる第三金属成分Mとを含有し、該第三金属成分Mの含有により当該複酸化物の塩基性が該第三金属成分Mを含まないCeZr複酸化物の塩基性よりも高くなっていることを特徴とする。
従って、本発明によれば、排気ガス中の酸性が高い硫黄酸化物等のS成分は、上記複酸化物表面に現れている触媒金属付近にきても、その周囲の塩基性が高いサイトに吸着され、或いは触媒金属に一旦吸着されても該触媒金属と強い結合を形成する前に脱離して、その周囲の塩基性が高いサイトに吸着される。これは、上記複酸化物の表面に、上記第三金属成分Mの添加によって触媒金属の存する部位よりも塩基性の高いサイトが形成されるため、或いは価数が変化し易いCeの塩基性が上記第三金属成分Mの添加によって高まるためと考えられる。
そうして、このように上記第三金属成分Mの添加により、触媒金属のS被毒が抑制される結果、当該触媒の排気ガス浄化性能の高い状態が長期間にわたって維持される。また、触媒金属にS成分が吸着してもその結合が弱いことから、排気ガス温度が高くなったときに、特に排気ガスの酸素濃度を下げて排気ガス温度を高める再生処理を行なったときに、当該触媒のS被毒からの回復性が良くなる。
上記第三金属成分Mとしては、Ceよりも塩基性の高いものであることがより好ましい。
以上のように本発明によれば、酸素吸蔵能を有する複酸化物の結晶格子点又は格子点間に触媒金属が配置されている排気ガス浄化用触媒において、上記複酸化物は、当該複酸化物を形成する金属成分として、Ceと、Zrと、アルカリ金属、アルカリ土類金属、La及びPrのうちから選択される少なくとも一種よりなる第三金属成分Mとを含有し、該第三金属成分Mの含有により当該複酸化物の塩基性が該第三金属成分Mを含まないCeZr複酸化物の塩基性よりも高くなっているから、触媒金属のS被毒が抑制され、排気ガス浄化性能が高い状態を長期間維持する上で有利になり、しかも、当該触媒のS被毒からの回復性も良いという効果が得られる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1に示す本発明の実施形態に係る排気ガス浄化用触媒1は、自動車エンジンの排気ガス中のHC(炭化水素)、CO(一酸化炭素)及びNOx(窒素酸化物)を浄化することに適したものである。この触媒1は、コージェライト等の無機多孔質によって形成されたハニカム状担体2のガス流路であるセル3の壁面に触媒層を形成したものである。すなわち、図2に示すように、ハニカム状担体の各セル3を隔てるセル壁5に触媒層6が形成されている。この触媒層6は、Ceと、Zrと、塩基性を高める第三金属成分Mとを含有する複酸化物の結晶格子点又は格子点間に触媒金属が配置されてなる触媒金属ドープ型の触媒粉末をバインダと共に担体にウォッシュコートすることによって形成されている。
なお、上記触媒層6には、さらに他のサポート材に触媒金属を担持させてなる触媒粉末を含ませたり、NOx吸収材としてBaその他のアルカリ土類金属又はアルカリ金属を含ませるようにしてもよく、或いは、セル壁5の表面に上記触媒層6と、該触媒層とは成分が異なる他の触媒層とを層状に形成してもよい。
以下、本発明の実施例及び比較例を説明する。
<実施例及び比較例の触媒粉末の調製>
−実施例1−
本例は第三金属成分MとしてLiを採用したものである。その触媒粉末の調製法は次の通りである。オキシ硝酸ジルコニウム、硝酸第一セリウム、硝酸リチウム及び硝酸ロジウム各々の所定量と水とを混合して合計300mLとし、この混合溶液を室温で約1時間撹拌した。この混合溶液を80℃まで加熱昇温させた後、ガラス棒を用いて強く、素早く攪拌しつつ、別のビーカーに用意していた28%アンモニア水50mLを一気に加えて混合した。このアンモニア水の添加・混合は1秒以内に完了させた。アンモニア水の混合により白濁した溶液を一昼夜放置し、生成したケーキを遠心分離器にかけ、十分に水洗した。この水洗したケーキを約150℃の温度で乾燥させた後、400℃の温度に5時間保持し、次いで500℃の温度に2時間保持するという条件で焼成した。
以上により得られた触媒粉末はRh成分を添加して共沈法により生成されているから、Rhは、Ce、Zr及びLiと同じく当該複酸化物の結晶格子点に配置され、換言すれば、当該複酸化物に強く結合した状態になる。あるいはRhは当該複酸化物の格子点間に配置された状態になる。いずれにしても、Rhはその一部が複酸化物の結晶子の表面及び内部に均一に分散した状態になる。
Rhドープ型触媒粉末のRhを除く金属成分の組成は、モル%でCe:Zr:Li=17:75:8であり、Rh量は0.116質量%とした。
−実施例2〜9−
上記第三金属成分Mとして、Liに代えて、Na、K、Ca、Sr、Ba、La、Prをそれぞれ採用した実施例2〜9の各Rhドープ型触媒粉末を実施例1と同じ方法で調製した。それらRhドープ型触媒粉末のRhを除く金属成分の組成は、第三金属成分MがLiの場合と同じく、モル%でCe:Zr:M=17:75:8であり、Rh量は0.116質量%とした。
以上のように、実施例1〜9では、いずれも複酸化物における第三金属成分Mのモル比をCeモル比よりも小さくしている。
−比較例1,2−
第三金属成分MとしてNdを採用した比較例1に係るRhドープ型触媒粉末を実施例1と同じ方法で調製した。すなわち、このRhドープ型触媒粉末のRhを除く金属成分の組成は、モル%でCe:Zr:Nd=17:75:8であり、Rh量は0.116質量%とした。
第三金属成分を含まない比較例2に係るRhドープ型触媒粉末を実施例1と同じ方法で調製した。すなわち、このRhドープ型触媒粉末のRhを除く組成は、Ce0.25Zr0.752であり、Rh量は0.116質量%である。
<塩基量の測定>
実施例1〜9及び比較例1,2の各触媒粉末について、固定床流通式の昇温脱離装置にペレット状に形成したサンプルを一定量を仕込み、CO2を吸着させた後、サンプルを昇温させて脱離したCO2量を測定する方法を採用した。
すなわち、昇温脱離装置にHe100%のキャリアガスを通しながら、サンプル温度を600℃まで上昇させ、その温度に10分間保持することにより、吸着水を脱離させた。次いで、同温度でCO22%含有のHeガスに切り替えて10分間保持した後、室温まで温度を下げてCO2をサンプルの塩基点に吸着させた。次いで、He100%のキャリアガスに切り替えることにより、余分なCO2を排気した後、同ガスを流通させながら(SV=95000h-1)、室温から600℃まで20℃/分で昇温していき、脱離したCO2の総量を定量して、これを塩基量とした。
結果は図3に示されている。第三金属成分MとしてLi、Na、K、Ca、Sr、Ba、La、Prを採用した実施例に係る触媒粉末は塩基量が比較例(「無」及び「Nd」)よりも多くなっており、第三金属成分Mの添加により当該複酸化物の塩基性が同図に「無」で示すCeZr複酸化物よりも高くなっていることがわかる。
<排気ガス浄化性能の評価>
実施例1〜9及び比較例2(第三金属成分無し)の各触媒粉末について、排気ガス浄化性能測定用のサンプルを調製した。すなわち、触媒粉末とジルコニアバインダとを混合し、これにイオン交換水を添加することによってスラリーを調製した。このスラリーにハニカム状担体を浸漬して引き上げ、余分なスラリーを吹き飛ばす、という方法により、該担体にスラリーをコーティングした。次いで、これを150℃の温度で1時間乾燥し、540℃の温度で2時間焼成することによって、セル壁の表面に上記触媒層を形成した。
そうして、各サンプルについて、大気雰囲気において1000℃で24時間保持するエージングを事前に施した後、モデルガス流通反応装置及び排気ガス分析装置を用いて、フレッシュ時(S被毒処理前)、S被毒処理後、及び再生処理後それぞれのNOxの浄化に関するライトオフ温度T50を測定した。
フレッシュ時のT50の測定に当たっては、事前に空燃比リッチのモデル排気ガス(温度600℃)を供試触媒に10分間流した。そうして、評価用モデル排気ガスに切り替えて当該測定を行なった。T50は、触媒に流入するモデルガス温度を常温から漸次上昇させていき、浄化率が50%に達したときの触媒入口のガス温度である。
評価用モデル排気ガスは、A/F=14.7±0.9とした。すなわち、A/F=14.7のメインストリームガスを定常的に流しつつ、所定量の変動用ガスをパルス状に添加することにより、A/Fを±0.9の振幅で強制的に振動させた。この振動数は1Hzとした。空間速度SVは60000h-1、モデルガスの昇温速度は30℃/分である。
S被毒処理は、サンプルにN2100%ガスを流通させながら、350℃まで昇温して同温度に保持し、次いで同温度でSO250ppm,O210%,残N2のS被毒用ガスに切り替えてこれを1時間流通させ(SV=60000h-1)、その後N2100%ガスに切り替えて室温まで温度を下げる、というものである。このS被毒処理後に上記評価用モデル排気ガスによりフレッシュ時と同様にしてT50を測定した。
再生処理は、上記S被毒処理後のサンプルにA/F=14.5相当のリッチモデル排気ガスを流通させながら(SV=120000h-1)、30℃/分で600℃まで昇温させ、その温度に10分間保持した後、N2100%ガスに切り替えて室温まで温度を下げるというものである。その後に上記評価用モデル排気ガスによりフレッシュ時と同様にしてT50を測定した。
結果を表1に示す。同表のS被毒悪化率及び再生回復率は次式によって求めたものである。なお、S被毒後T50はS被毒処理後のT50、FreshT50はフレッシュ時のT50、再生後T50は再生処理後のT50を意味する。
S被毒悪化率=(S被毒後T50−FreshT50)/FreshT50
再生回復率=(S被毒後T50−再生後T50)/(S被毒後T50−FreshT50)
Figure 2006326550
フレッシュ時のT50をみると、実施例は比較例よりも少し良くなっているが、これは第三金属元素Mの添加により、複酸化物の酸素吸蔵能若しくは耐熱性が向上したためと考えられる。特に希土類元素La、Prを添加した実施例が良くなっている。
S被毒処理後のT50をみると、実施例はいずれも比較例よりもT50が低くなっており、S被毒悪化率も小さくなっている。これから、実施例のように第三金属成分Mを添加すると、触媒の耐S被毒性が高まることがわかる。
再生処理後のT50及び再生回復率をみると、実施例はいずれも当該再生処理により排気ガス浄化性能が100%若しくは100%近くまで回復しているのに対して、比較例では50%程度しか回復していない。これから、実施例のように第三金属成分Mを添加すると、触媒のS被毒後の再生による回復性も高いことがわかる。
以上のS被毒及び再生のメカニズムを検討するに、まず、図4はCeZr複酸化物(第三金属成分を添加していないCeZrO)にRh溶液を接触させ焼成して担持させた従来例を示す。この従来例では、図3の比較例「無」で明らかなように、CeZr複酸化物の塩基性があまり高くないことから、排気ガス中のS成分(SO4 2-で表している)は、Rhの近傍にくると、そのままRhに吸着され、硫酸ロジウムの形になって、Rhと非常に強く結合し、脱離しにくい状態になり易いと考えられる。この点は上記比較例「無」も同じであり、そのため、上記表1のようにS被毒悪化率が高く、また、再生回復率が低くなっていると考えられる。
これに対して、実施例の場合、図5に示すように、Rhをドープした複酸化物(第三金属成分Mを有するCeZrMO)は、この第三金属成分Mの働きによって塩基性が高くなっている。このため、排気ガス中のS成分(SO4 2-)は、CeZrMO表面のRh付近にきても、その周囲の塩基性が高いサイトに吸着され、或いはRhに一旦吸着されても該Rhと化合物を形成する前に脱離して、その周囲の塩基性が高いサイトに吸着されると考えられる。
これは、上記第三金属成分Mの添加により、上記複酸化物の表面にRhよりも塩基性の高いサイトが形成されたため、或いは価数が変化し易いCeの塩基性が上記第三金属成分Mの添加によって高まったためと考えられる。
また、実施例の場合、比較例に比べて再生回復率がきわめて高くなっている、これは、Rhが被毒されても、実施例の場合はそのRhとS成分との結合が弱いこと、これに対して、比較例の場合はRhとS成分との結合が非常に強く、S成分が脱離しにくい状態になっていることを意味する。
また、実施例の再生回復率が略100%になっているということは、再生処理によって、Rhに吸着していたS成分だけでなく、複酸化物のRh以外の部分に吸着していたS成分もその殆ど脱離していることを示唆する。すなわち、第三金属成分Mが塩基性の高いサイトを形成してこれにS成分が吸着されたというよりも、第三金属成分の添加により、価数が変化し易いCeの塩基性が高まり、S成分はこの塩基性が高まったCeに主として吸着されるようになったことを示唆する。このCeは価数が変化し易いが故に再生処理によってS成分を脱離し易く、そのために、再生回復率が略100%になっていると考えられるからである。
本発明に係る排気ガス浄化用触媒の斜視図である。 同触媒の一部を拡大して示す断面図である。 各種第三金属成分を添加したCeZr系複酸化物の塩基量を比較したグラフ図である。 従来の複酸化物CeZrOのRhにS成分(SO4 2-)が接触した状態を示す模式図である。 本発明に係る第三金属成分Mを添加した複酸化物CeZrMOのRhにS成分(SO4 2-)が接触した状態を示す模式図である。
符号の説明
1 排気ガス浄化用触媒
2 担体
3 セル
5 セル壁
6 触媒層

Claims (1)

  1. 酸素吸蔵能を有する複酸化物の結晶格子点又は格子点間に触媒金属が配置されている排気ガス浄化用触媒において、
    上記複酸化物は、当該複酸化物を形成する金属成分として、Ceと、Zrと、アルカリ金属、アルカリ土類金属、La及びPrのうちから選択される少なくとも一種よりなる第三金属成分Mとを含有し、該第三金属成分Mの含有により当該複酸化物の塩基性が該第三金属成分Mを含まないCeZr複酸化物の塩基性よりも高くなっていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
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