JP2006278737A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ダウンフローダクト20内の下部に処理槽4が設けられている。処理槽4は複数の基板Wを収納可能な内槽40および内槽40の上部外周を取囲むように設けられた外槽43により形成されている。内槽40の底部には、内槽40内に処理液を供給するための処理液供給管41および内槽40内の処理液を排出するための処理液排出管42が接続されている。外槽43の底部には、内槽40から流れ出し、外槽43内に流れ込む処理液を排出するための処理液排出管44が接続されている。内槽40の側壁の上部に複数の貫通孔40hが形成されている。また、内槽40の側壁において、複数の貫通孔40hの近傍には、それら複数の貫通孔40hを開閉可能な液面調整シャッタ40sおよびシャッタ駆動部40Dが設けられている。制御部70がシャッタ駆動部40Dを制御することにより、複数の貫通孔40hの開閉動作が制御される。
【選択図】 図1
Description
30 基板移動機構
40 内槽
40D シャッタ駆動部
40h 貫通孔
40s 液面調整シャッタ
60 ドライエア発生装置
61 配管
62 ドライエア供給ダクト
70 制御部
100 基板処理装置
Claims (5)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の前記処理液中と前記処理槽の上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降手段と、
前記処理槽の上端に沿って、前記処理槽の一側方から他側方へ気体を供給して、前記基板昇降手段により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給手段と、
前記気体供給手段により基板に気体が供給される間に、前記処理槽に貯留される処理液の液面を前記処理槽の上端よりも下降させる液面下降手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理槽の側壁の上端より下方の位置に開口が設けられ、
前記液面下降手段は、前記開口を開閉可能な開閉手段を備えることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記開口は、水平方向に並ぶように形成された複数の貫通孔であることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記気体はドライエアであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記処理液は、純水であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2008205360A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN111383958A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 东京毅力科创株式会社 | 基片液处理装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0938605A (ja) * | 1995-07-27 | 1997-02-10 | Toshiba Eng & Constr Co Ltd | 基板のリンス及び乾燥の方法及び装置 |
JPH11508823A (ja) * | 1996-04-24 | 1999-08-03 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 流体容器内で基板を処理するための装置 |
JPH11354488A (ja) * | 1998-06-10 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JPH11354486A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2000012505A (ja) * | 1998-06-17 | 2000-01-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法及びその装置 |
-
2005
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0938605A (ja) * | 1995-07-27 | 1997-02-10 | Toshiba Eng & Constr Co Ltd | 基板のリンス及び乾燥の方法及び装置 |
JPH11508823A (ja) * | 1996-04-24 | 1999-08-03 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 流体容器内で基板を処理するための装置 |
JPH11354486A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JPH11354488A (ja) * | 1998-06-10 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2000012505A (ja) * | 1998-06-17 | 2000-01-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法及びその装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008205360A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN111383958A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 东京毅力科创株式会社 | 基片液处理装置 |
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