JP4589161B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す模式的断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置100は、処理槽4、ダウンフローダクト20、基板移動機構30、処理液ミキシング装置50、ドライエア発生装置60、制御部70およびファンフィルタユニットFFUを備える。
第2の実施の形態に係る基板処理装置は、以下の点を除き第1の実施の形態に係る基板処理装置100と同様の構造を有する。
第3の実施の形態に係る基板処理装置は、以下の点を除き第1の実施の形態に係る基板処理装置100と同様の構造を有する。本実施の形態に係る基板処理装置においては、オートフラップ機構400に代えてスライド機構が設けられている。
20 ダウンフローダクト
20M 開口部
30 基板移動機構
40 内槽
43 外槽
43b,43f 回転軸
43c 板状部材
43d 壁部材
44X 処理液排出口
60 ドライエア発生装置
61 配管
62 ドライエア供給ダクト
63 ドライエア排気ダクト
70 制御部
100 基板処理装置
431 板状部材
DF ドライエア
Claims (8)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の処理液中と前記処理槽の上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降手段と、
前記基板昇降手段により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給手段とを備え、
前記処理槽は、
前記処理液を貯留するとともに、基板を収納可能な内槽と、
前記内槽の周囲を取囲むように設けられ、前記内槽から溢れる処理液が流入する外槽と、
前記外槽内に流入した処理液を排出する処理液排出口と、
前記外槽内の少なくとも一部の領域において前記内槽の側壁に対向しかつ略水平方向の軸の周りで回動可能に設けられた遮蔽部材とを備え、
前記遮蔽部材は、前記気体供給手段から基板に気体が供給される間、前記内槽から前記外槽に流入した処理液の流れにより下端が前記外槽の側壁の内面側に回動して処理液を前記処理液排出口に案内するとともに、処理液が前記遮蔽部材と前記外槽の側壁との間の空間に流入することを阻止し、前記気体供給手段により供給される気体と前記外槽内の処理液とが接触する面積を減少させることを特徴とする基板処理装置。 - 前記遮蔽部材は、前記外槽内から前記内槽の側壁の上端よりも上方の位置まで延びるように設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽部材が嵌合可能な開口部を有する壁部材をさらに備え、
前記壁部材は、前記外槽内の少なくとも一部の領域において前記内槽の側壁に対向しかつ前記外槽内から前記内槽の側壁の上端よりも上方の位置まで延びるように設けられ、
前記遮蔽部材は、前記壁部材の前記開口部に前記軸の周りで回動可能に取り付けられたことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の処理液中と前記処理槽の上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降手段と、
前記基板昇降手段により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給手段とを備え、
前記処理槽は、
前記処理液を貯留するとともに、基板を収納可能な内槽と、
前記内槽の周囲を取囲むように設けられ、前記内槽から溢れる処理液が流入する外槽と、
前記外槽内に流入した処理液を排出する処理液排出口と、
前記外槽内の少なくとも一部の領域において前記内槽の側壁に対向しかつ略鉛直方向に移動可能に設けられた遮蔽部材とを備え、
前記遮蔽部材は、前記気体供給手段から基板に気体が供給される間、前記基板昇降手段による基板の上昇に伴って前記外槽内から前記内槽の側壁の上端よりも上方の位置まで延びるように上昇するとともに、処理液を前記処理液排出口に案内することを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理槽の周囲を取り囲むようにかつ上下方向に延びるように設けられるダクトをさらに備え、
前記ダクトは、前記遮蔽部材が設けられる前記外槽内の一部の領域に近接する側面の少なくとも一部に開口を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記気体供給手段は、
前記処理槽の上端に沿って、前記処理槽の一側方から他側方へ気体を供給することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記気体は、ドライエアであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記処理液は、純水であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。
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