JP4498190B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
30 基板移動機構
40 内槽
40D シャッタ駆動部
40h 貫通孔
40s 液面調整シャッタ
60 ドライエア発生装置
61 配管
62 ドライエア供給ダクト
70 制御部
100 基板処理装置
Claims (5)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の前記処理液中と前記処理槽の上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降手段と、
前記処理槽の上端に沿って、前記処理槽の一側方から他側方へ気体を供給して、前記基板昇降手段により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給手段と、
前記気体供給手段から基板に供給される気体により発生する気流が前記処理槽の上端で処理液の液面に接触しないように、前記気体供給手段により基板に気体が供給される前に、前記処理槽に貯留される処理液の液面を前記処理槽の上端よりも下降させる液面下降手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理槽の側壁の上端より下方の位置に開口が設けられ、
前記液面下降手段は、前記開口を開閉可能な開閉手段を備えることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記開口は、水平方向に並ぶように形成された複数の貫通孔であることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記気体はドライエアであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記処理液は、純水であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。
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