JP4895861B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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(1)基板処理装置の構成および動作
図1は、第1の実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す模式的断面図である。図1に示すように、第1の実施の形態に係る基板処理装置100は、処理槽4、ダウンフローダクト20、基板移動機構30、処理液ミキシング装置50、ドライエア発生装置60、制御部70およびファンフィルタユニットFFUを備える。
図2は、図1の基板保持具330の外観斜視図である。図2に示すように、基板保持具330は、昇降軸331、支持板332、背板333および保持部340を備える。保持部340は、サイドアーム341,342、センターアーム343およびアーム固定部346を含む。
図3および図4は、図1の基板処理装置100により基板Wの乾燥処理が行われる様子を示す側面図である。図3および図4に示すように、ドライエア供給ダクト10Aは、処理槽4の外方で下方から鉛直方向に延びる矩形の鉛直筒状部VRと、鉛直筒状部VRの上端から処理槽4に向かって水平方向に延びる矩形の水平筒状部HRとを備える。水平筒状部HRの端面は開口している。ドライエア排気ダクト10Bは、箱型形状を有し、一端面が開口している。
本実施の形態において、基板移動機構30は、外周当接部WTが引き上げられた状態で基板保持具330の昇降動作を一時的に停止してもよい。例えば、基板移動機構30は、外周当接部WTがドライエア供給ダクト10Aの最下部の通気路110の高さに位置する状態で基板保持具330の昇降動作を一時停止する。
第2の実施の形態に係る基板処理装置について、第1の実施の形態に係る基板処理装置100と異なる点を説明する。
第3の実施の形態に係る基板処理装置について、第1の実施の形態に係る基板処理装置100と異なる点を説明する。
第4の実施の形態に係る基板処理装置について、第1の実施の形態に係る基板処理装置100と異なる点を説明する。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
10A ドライエア供給ダクト
10B ドライエア排気ダクト
12 仕切板
12R ヒンジ部
13,13B 仕切板駆動部
30 基板移動機構
60 ドライエア発生装置
70 制御部
100 基板処理装置
110 通気路
111 風向規制部材
330 基板保持具
DF ドライエア
HR 水平筒状部
VR 鉛直筒状部
W 基板
WT 外周当接部
Claims (10)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
基板の外周端部を支持し、基板を起立姿勢で保持する基板保持部と、
前記処理槽内の処理液中と前記処理槽の上方位置との間で前記基板保持部により保持された基板を昇降させる基板昇降装置と、
前記基板昇降装置により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給部と、
前記気体供給部から基板に供給される気体の流れの断面を第1の断面および前記第1の断面よりも小さい第2の断面に切り替える切替機構とを備え、
前記切替機構は、基板の外周端部と前記基板保持部との当接部が前記処理槽内に位置する間、前記気体供給部から基板に供給される気体の流れの断面を前記第1の断面に維持して前記処理槽から引き上げられた前記基板に前記気体を供給し、基板の外周端部と前記基板保持部との当接部が前記処理槽から引き上げられた後に前記気体供給部から基板に供給される気体の流れの断面を前記第2の断面に切り替えて前記基板の外周端部と前記基板保持部との前記当接部に前記気体を供給することを特徴とする基板処理装置。 - 前記気体供給部は、水平に延びる複数段の気体通気路を有し、
前記切替機構は、前記複数段の気体通気路の一部を閉塞する仕切部材と、その仕切部材を駆動することにより前記複数段の気体通気路の一部を閉塞する駆動装置とを備える請求項1記載の基板処理装置。 - 前記駆動装置は、前記仕切部材を起立姿勢で昇降させることにより前記複数段の気体通気路の一部を閉塞することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記駆動装置は、前記仕切部材を回動させることにより、前記複数段の気体通気路の一部を閉塞することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記駆動装置は、前記仕切部材により閉塞されない気体通気路へ流れる気体の流れの断面が漸次小さくなるように前記仕切部材を水平方向に対して傾斜した状態で保持することを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 前記気体供給部は鉛直方向に延びる鉛直筒部と、前記鉛直筒部の上端から前記処理槽の上方位置へ水平方向に延びる水平筒部とを有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記気体供給部に設けられ、前記気体供給部から基板に供給される気体の流れの方向を規制する方向規制部材をさらに備え、
前記方向規制部材は、前記第2の断面で流れる気体を、斜め上方から基板の外周端部と前記基板保持部との当接部に向かうように規制することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記基板昇降装置は、前記第2の断面で流れる気体が、基板の外周端部と前記基板保持部との当接部に向かう場合に、前記基板保持部により保持された基板の昇降動作を停止することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記気体は乾燥空気であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記気体供給部は、前記処理槽の一方側に配置され、
前記処理槽の他方側に配置され、前記処理槽上の雰囲気を排出するための気体排出部をさらに備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の基板処理装置。
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