JP2006237023A - 静電チャック - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 主に100℃以上で使用される静電チャックである。被吸着基板を吸着固定するための吸着面にピンを形成する。このピンと被吸着基板との接触面積を被吸着基板の面積の10%以下とし、ピンの平均高さを5μm以上30μm以下とし、かつ、ピンの高さの標準偏差を1.8以下とした。
【選択図】図1
Description
被吸着基板を吸着固定するための吸着面にピンが形成されており、
当該ピンと被吸着基板との接触面積が被吸着基板の面積の10%以下であり、ピンの平均高さが5μm以上30μm以下、かつ、当該ピンの高さの標準偏差が1.8以下であることを特徴とする静電チャック、が提供される。
Claims (1)
- 100℃以上で使用される、所定の基板を吸着固定する静電チャックであって、
被吸着基板を吸着固定するための吸着面にピンが形成されており、
当該ピンと被吸着基板との接触面積が被吸着基板の面積の10%以下であり、ピンの平均高さが5μm以上30μm以下、かつ、当該ピンの高さの標準偏差が1.8以下であることを特徴とする静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005044910A JP2006237023A (ja) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005044910A JP2006237023A (ja) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 静電チャック |
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JP2006237023A true JP2006237023A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=37044386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005044910A Pending JP2006237023A (ja) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2006237023A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153770A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 画像処理装置、画像処理方法およびプログラム |
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JPH05267436A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | 静電チャック |
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-
2005
- 2005-02-22 JP JP2005044910A patent/JP2006237023A/ja active Pending
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