JP2006221175A - フォトレジスト - Google Patents
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Abstract
【課題】残膜率を維持すると同時に解像度及び感度が優れたフォトレジストを提供する。
【解決手段】メタクレゾールから合成されるノボラック樹脂で、平均分子量が8000〜25000であり、分散度は4以下であるアルカリ可溶性樹脂、テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドー5−スルホン酸塩に代表される光感応剤及び溶剤を含むホトレジスト。アルカリ可溶性樹脂における該ノボラック樹脂の含有量は5〜30重量%である。
【選択図】なし
【解決手段】メタクレゾールから合成されるノボラック樹脂で、平均分子量が8000〜25000であり、分散度は4以下であるアルカリ可溶性樹脂、テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドー5−スルホン酸塩に代表される光感応剤及び溶剤を含むホトレジスト。アルカリ可溶性樹脂における該ノボラック樹脂の含有量は5〜30重量%である。
【選択図】なし
Description
本発明は、フォトレジストに関し、より詳細にはパターン形状向上のためのフォトレジストに関する。
液晶表示装置は、通常、画素電極と共通電極など電界生成電極が形成されている二枚のガラス表示板と、その間に介在される液晶層とを備える。液晶表示装置は、電界生成電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、液晶分子の方向を決定することで映像を表示する。
画素電極に電気信号を伝達するために、通常、表示板に備えられた薄膜トランジスタなどのスイッチング素子を用いる。薄膜トランジスタは、感光膜の塗布、露光及び現像によって製造する。薄膜トランジスタのパターニング解像度を改善するためには、感光膜の現像コントラストを改善する必要があり、この時、現像コントラストとは露光されない部分の損失量に対する露光された部分の損失量の比率である。
画素電極に電気信号を伝達するために、通常、表示板に備えられた薄膜トランジスタなどのスイッチング素子を用いる。薄膜トランジスタは、感光膜の塗布、露光及び現像によって製造する。薄膜トランジスタのパターニング解像度を改善するためには、感光膜の現像コントラストを改善する必要があり、この時、現像コントラストとは露光されない部分の損失量に対する露光された部分の損失量の比率である。
一般に、感光膜の感度を改善するために、現像液に溶解しやすい樹脂を使用する。高溶解性樹脂を使用すれば、樹脂で露光されない部分の溶解度が大きくなる。その結果、感光膜の感度が高くなり、残膜率は減少する。よって、残膜率を維持できると同時に解像度及び感度が優れたフォトレジストが要求される。
本発明の一実施形態によるフォトレジストは、メタクレゾールから合成され、平均分子量が8000〜25000である第1ノボラック樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、光感応剤及び溶剤を含むことを特徴とする。
このフォトレジストにおいては、第1ノボラック樹脂の分子量分散度が4以下であることが好ましい。
このフォトレジストにおいては、第1ノボラック樹脂の分子量分散度が4以下であることが好ましい。
また、前記アルカリ可溶性樹脂における前記第1ノボラック樹脂の含有量は5〜30重量%であることが好ましい。
さらに、アルカリ可溶性樹脂として、4:6の重量比で混合されたメタクレゾールとパラクレゾールとから合成され、平均分子量が2000〜6000である第2ノボラック樹脂をさらに含むことが好ましい。この場合、前記アルカリ可溶性樹脂における前記第2ノボラック樹脂の含有量は70〜95重量%であることが好ましい。
さらに、アルカリ可溶性樹脂として、4:6の重量比で混合されたメタクレゾールとパラクレゾールとから合成され、平均分子量が2000〜6000である第2ノボラック樹脂をさらに含むことが好ましい。この場合、前記アルカリ可溶性樹脂における前記第2ノボラック樹脂の含有量は70〜95重量%であることが好ましい。
前記光感応剤はジアジド系化合物であることが好ましく、特に、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸塩を含むことが好ましい。
前記フォトレジストにおける前記アルカリ可溶性樹脂の含有量は5〜45重量%であるか、光感応剤の含有量は1〜20重量%であることが好ましい。
前記フォトレジストにおける前記アルカリ可溶性樹脂の含有量は5〜45重量%であるか、光感応剤の含有量は1〜20重量%であることが好ましい。
メタクレゾールから合成され、好適な平均分子量を有する第1ノボラック樹脂を用いることにより、アルカリ現像液に対するフォトレジストの溶解速度を遅くして、解像度を向上させることができる。これは、溶解速度が速いメタクレゾールの比率を高くしたからである。
また、第1ノボラック樹脂の分子量が大きく、全体樹脂の分子量を大きくすることができるため、解像力と残膜率とを維持することができると同時に、感度を向上させることができる。さらに、第1ノボラック樹脂を用いることにより、低分子量、中分子量、高分子量の分子を有する物質を形成することができるために、未反応物を減少させることができ、その結果、現像液に溶解される量を減少させて、感度を向上することができる。
また、第1ノボラック樹脂の分子量が大きく、全体樹脂の分子量を大きくすることができるため、解像力と残膜率とを維持することができると同時に、感度を向上させることができる。さらに、第1ノボラック樹脂を用いることにより、低分子量、中分子量、高分子量の分子を有する物質を形成することができるために、未反応物を減少させることができ、その結果、現像液に溶解される量を減少させて、感度を向上することができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態を、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は、多様な形態で実現することができ、ここで説明する実施形態に限定されない。
本発明の一実施形態によるフォトレジストは、下記化学式1で表されるメタクレゾールから合成される第1ノボラック樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂を含む。
本発明の一実施形態によるフォトレジストは、下記化学式1で表されるメタクレゾールから合成される第1ノボラック樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂を含む。
本発明において、フェノールモノマーとしては、式1のメタクレゾールを用いる。
アルデヒド化合物としては、フォルムアルデヒド、p−フォルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒドなどが挙げられる。このような化合物が、単独または混合して縮重合反応のアルデヒド化合物として用いられる。
また、フェノール化合物及びアルデヒド化合物の反応時添加される酸触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、ホルム酸またはシュウ酸等から選択することができる。
また、フェノール化合物及びアルデヒド化合物の反応時添加される酸触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、ホルム酸またはシュウ酸等から選択することができる。
第1ノボラック樹脂を合成する際に、アルデヒドを約50重量%、酸触媒を約0.5重量%使用し、残りはフェノールモノマーを使用する。
第1ノボラック樹脂の平均分子量(例えば、重量平均分子量)は8000以上であり、本発明の一実施形態によれば8000〜25000である。このような高分子量のノボラック樹脂を含むことにより、解像度を向上することができる。一般に、ノボラック樹脂の分子量が高い場合、現像液におけるフォトレジストの溶解速度が遅くなる傾向がある。
第1ノボラック樹脂の平均分子量(例えば、重量平均分子量)は8000以上であり、本発明の一実施形態によれば8000〜25000である。このような高分子量のノボラック樹脂を含むことにより、解像度を向上することができる。一般に、ノボラック樹脂の分子量が高い場合、現像液におけるフォトレジストの溶解速度が遅くなる傾向がある。
メタクレゾールから合成された好適な分子量分散度を有する第1ノボラック樹脂を使用すれば、残膜率及び解像度を維持すると同時に感度を向上することができる。メタクレゾールは、現像液に対する溶解速度が相対的に速いため、メタクレゾールからノボラック樹脂を合成する場合、感度を向上することができる。
本発明の一実施形態による第1ノボラック樹脂は、4以下の分子量分散度(polydispersity index)を有する。分子量分散度は、重量平均分子量/数平均分子量で表わされる。
本発明の一実施形態による第1ノボラック樹脂は、4以下の分子量分散度(polydispersity index)を有する。分子量分散度は、重量平均分子量/数平均分子量で表わされる。
図1は、本発明による第1ノボラック樹脂の分子量分布を示すグラフである。分子量分布は、ポリスチレンを基準物質としてゲル透過クロマトグラフィーを行うことによって測定することができる。具体的に、ポリスチレンでクロマトグラフィーを行い、基準の強度ピークを得た後、測定しようとする試料に対してクロマトグラフィーを測定し、また他の強度ピークを得る。次いで、基準強度ピークを基準として強度ピークを補正し、図1のような測定試料の分子量の大きさ別分布を得ることができる。第1ノボラック樹脂は、メタクレゾールから合成され、重量平均分子量が約9400である。
同図に示すように、低分子量成分は分子量(AU)123、315でピークを示し、中分子量成分は分子量637、794でピークを示し、高分子量成分は分子量が1676、4499、14732でピークを示す。このようなメタクレゾールから合成された第1ノボラック樹脂は、従来のノボラック樹脂に比べて各分子量の調節が容易であるため所望の溶解特性を得ることができる。その結果、残膜率の低下を抑制し、所望の感度を得ることができる。
第1ノボラック樹脂の含有量は、適切な感光速度を得ることができ、残膜率の急激な低下等を防止する観点から、アルカリ可溶性樹脂において、5〜30重量%であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、第2ノボラック樹脂をさらに含んでいてもよい。第2ノボラック樹脂は、メタクレゾールとパラクレゾールとの混合物により合成されたものであり、その含有量比は4:6である。第2ノボラック樹脂の平均分子量は2000〜6000である。ここで、第2ノボラック樹脂の含有量は、アルカリ可溶性樹脂の全含有量に対して70〜95重量%とすることができる。
アルカリ可溶性樹脂は、第2ノボラック樹脂をさらに含んでいてもよい。第2ノボラック樹脂は、メタクレゾールとパラクレゾールとの混合物により合成されたものであり、その含有量比は4:6である。第2ノボラック樹脂の平均分子量は2000〜6000である。ここで、第2ノボラック樹脂の含有量は、アルカリ可溶性樹脂の全含有量に対して70〜95重量%とすることができる。
フォトレジストにおけるアルカリ可溶性樹脂の含有量は、アルカリ可溶性樹脂において適切な粘度を得て、所望の厚さのレジスト層を均一に形成するという観点から、約5〜45重量%であることが好ましい。フォトレジストにおける光感応剤の含有量は、適当な感度を得るという観点から、1〜20重量%であることが好ましい。一実施形態によれば、ジアジド系化合物が適する。ジアジド系化合物の例としては、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸塩及び2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸塩等が挙げられ、これらを単独又は混合して使用することができる。
フォトレジストは、可塑剤、安定剤または界面活性剤のように、他の添加剤をさらに含むこともできる。
アルカリ可溶性樹脂、光感応剤及び各種添加剤は、通常、有機溶媒に溶解される。有機溶媒の例としては、エチルアセテート、ブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエチルエーテル、メチルメトキシプロピオン酸、エチルエトキシプロピオン酸、乳酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールメチルアセテート、ジエチレングリコールエチルアセテート、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン、γ-ブチロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム、テトラハイドロフラン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂、光感応剤及び各種添加剤は、通常、有機溶媒に溶解される。有機溶媒の例としては、エチルアセテート、ブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエチルエーテル、メチルメトキシプロピオン酸、エチルエトキシプロピオン酸、乳酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールメチルアセテート、ジエチレングリコールエチルアセテート、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン、γ-ブチロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム、テトラハイドロフラン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどが挙げられる。
本発明の一実施形態によれば、フォトレジストにおける溶媒の含有量は約50〜95重量%が好ましい。
以下、本発明の実施形態について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。
実施例1
フォトレジストの製造
ホルムアルデヒド50重量%、シュウ酸0.5重量%及びメタクレゾール49.5重量%を縮重合して分子量が9375である図1の分子量分布を有する第1ノボラック樹脂を製造した。
以下、本発明の実施形態について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。
実施例1
フォトレジストの製造
ホルムアルデヒド50重量%、シュウ酸0.5重量%及びメタクレゾール49.5重量%を縮重合して分子量が9375である図1の分子量分布を有する第1ノボラック樹脂を製造した。
また、メタクレゾール40重量部とパラクレゾール60重量部とから分子量が4896である第2ノボラック樹脂を合成した。
第1ノボラック樹脂10重量部と第2ノボラック樹脂90重量部とを混合した後、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸塩30重量部を混合して固形分濃度が30%である混合物を製造した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶媒に混合物を溶解し、0.2μmフィルターでろ過してフォトレジストを得た。
フォト工程
まず、ガラスなどからなる基板上に、アルミニウム(Al)膜及びモリブデン(Mo)膜を順次に積層した。その後、金属層上に前記で製造されたフォトレジストをスピンコーティング法で塗布した。次に、フォトレジスト膜を約90℃の温度で90秒間プレベークした。次いで、パターン形成用マスクを用いて複合波長(365nm、405nm、436nm)における強度が各々12mW/cm2、45mW/cm2、28mW/cm2である紫外線(UV)を5秒間照射した。続いて、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)2.38重量%の水溶液で25℃にて1分間現像し、超純粋で1分間洗浄した。
第1ノボラック樹脂10重量部と第2ノボラック樹脂90重量部とを混合した後、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸塩30重量部を混合して固形分濃度が30%である混合物を製造した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶媒に混合物を溶解し、0.2μmフィルターでろ過してフォトレジストを得た。
フォト工程
まず、ガラスなどからなる基板上に、アルミニウム(Al)膜及びモリブデン(Mo)膜を順次に積層した。その後、金属層上に前記で製造されたフォトレジストをスピンコーティング法で塗布した。次に、フォトレジスト膜を約90℃の温度で90秒間プレベークした。次いで、パターン形成用マスクを用いて複合波長(365nm、405nm、436nm)における強度が各々12mW/cm2、45mW/cm2、28mW/cm2である紫外線(UV)を5秒間照射した。続いて、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)2.38重量%の水溶液で25℃にて1分間現像し、超純粋で1分間洗浄した。
実施例2
実施例1と同様の方法により、第1ノボラック樹脂20重量部に第2ノボラック樹脂80重量部を含むフォトレジストを製造した。第1ノボラック樹脂は分子量が9375であり、メタクレゾールから合成されたものである。第2ノボラック樹脂は分子量が4896であり、メタクレゾール40重量部とパラクレゾール60重量部とから合成されたものである。
実施例3
実施例1と略同様であり、第1ノボラック樹脂の分子量が15457である。
実施例1と同様の方法により、第1ノボラック樹脂20重量部に第2ノボラック樹脂80重量部を含むフォトレジストを製造した。第1ノボラック樹脂は分子量が9375であり、メタクレゾールから合成されたものである。第2ノボラック樹脂は分子量が4896であり、メタクレゾール40重量部とパラクレゾール60重量部とから合成されたものである。
実施例3
実施例1と略同様であり、第1ノボラック樹脂の分子量が15457である。
実施例4
実施例2と略同様であり、第1ノボラック樹脂の分子量が15457である。
比較例
実施例1と略同様であり、フォトレジストが100重量部のノボラック樹脂を含有する。ノボラック樹脂の分子量は4896であり、メタクレゾール40重量部とパラクレゾール60重量部とから合成された。
実施例2と略同様であり、第1ノボラック樹脂の分子量が15457である。
比較例
実施例1と略同様であり、フォトレジストが100重量部のノボラック樹脂を含有する。ノボラック樹脂の分子量は4896であり、メタクレゾール40重量部とパラクレゾール60重量部とから合成された。
実験例
実施例1、2、3、4及び比較例で得られたパターンの感度及び解像度を測定した。ここで、感度マスクを用いて露光及び現像後、ガンマ値(γ)を利用して感度を測定した。解像度は、走査電子顕微鏡(SEM)測定でパターンの最少大きさを測定して決定した。その結果を、表1に示す。
実施例1、2、3、4及び比較例で得られたパターンの感度及び解像度を測定した。ここで、感度マスクを用いて露光及び現像後、ガンマ値(γ)を利用して感度を測定した。解像度は、走査電子顕微鏡(SEM)測定でパターンの最少大きさを測定して決定した。その結果を、表1に示す。
表1に示すように、実施例1〜4のフォトレジストは、比較例に比べて優れた感度を示し、解像度と残膜率においては比較例と類似する特性を示した。実施例1〜4において、第1ノボラック樹脂は分子量が8000以上であり、分子量分散度が4以下である。メタクレゾールから合成される第1ノボラック樹脂は、平均分子量が2000〜6000である第2ノボラック樹脂より溶解速度が速い。このように、実施例1〜4のフォトレジストの感度が比較例より優れている。
実施例1と実施例3のフォトレジストにおいて、第1ノボラック樹脂の含有量は同一である。しかし、実施例1のフォトレジストが実施例3のフォトレジストよりも感度が優れており、実施例3のフォトレジストが実施例1のフォトレジストよりも解像度は優れている。第1ノボラック樹脂の分子量が大きいほどフォトレジスト組成物がアルカリ水溶液に溶解する速度が遅くなる。よって、ガンマ値が増加して解像度が向上する。
実施例1と実施例2において、第1ノボラック樹脂の分子量は同一で、含有量は異なる。実施例1のフォトレジストが実施例2のフォトレジストに比べて、現像液に対する溶解速度が速い第1ノボラック樹脂の比率が低いため感度が優れている。反面、実施例2のフォトレジストが実施例1のフォトレジストに比べて、溶解速度が遅い第1ノボラック樹脂の含有量が低いため解像度が高い。これと同様に、実施例3と実施例4において、第1ノボラック樹脂の分子量は同一であり、含有量は異なる。実施例3のフォトレジストは、実施例4のフォトレジストに比べて現像液に対する溶解速度が速い第1ノボラック樹脂の比率が低いため感度が優れている。反面、実施例4のフォトレジストが実施例3のフォトレジストに比べて、溶解速度が遅い第1ノボラック樹脂の含有量が低いため解像度が高い。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の多様な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属する。
Claims (9)
- メタクレゾールから合成され、平均分子量が8000〜25000である第1ノボラック樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、光感応剤及び溶剤を含むフォトレジスト。
- 前記第1ノボラック樹脂の分子量分散度が4以下である請求項1に記載のフォトレジスト。
- 前記アルカリ可溶性樹脂における前記第1ノボラック樹脂の含有量は5〜30重量%である請求項1又は2に記載のフォトレジスト。
- アルカリ可溶性樹脂として、4:6の重量比で混合されたメタクレゾールとパラクレゾールとから合成され、平均分子量が2000〜6000である第2ノボラック樹脂をさらに含む請求項1〜3のいずれか1つに記載のフォトレジスト。
- 前記アルカリ可溶性樹脂における前記第2ノボラック樹脂の含有量は70〜95重量%である請求項4に記載のフォトレジスト。
- 前記光感応剤はジアジド系化合物である請求項1〜5のいずれか1つに記載のフォトレジスト。
- 前記光感応剤は2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸塩を含む請求項6に記載のフォトレジスト。
- 前記フォトレジストにおける前記アルカリ可溶性樹脂の含有量は5〜45重量%である請求項1〜7のいずれか1つに記載のフォトレジスト。
- 前記フォトレジストにおける前記光感応剤の含有量は1〜20重量%である請求項1〜8のいずれか1つに記載のフォトレジスト。
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Cited By (1)
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