JP2016218140A - 感光性樹脂組成物およびその用途 - Google Patents
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Abstract
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[1]式(A1)で表される構造単位(A1)および式(A2)で表される構造単位(A2)から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する重合体(A)と、感光剤(B)とを含有する感光性樹脂組成物。
[3]感光剤(B)が、ナフトキノンジアジド化合物である前記[1]または[2]に記載の感光性樹脂組成物。
[4]前記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物から得られる樹脂膜。
[5]基板上に、前記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物の樹脂塗膜を形成する工程、前記樹脂塗膜を露光する工程、およびアルカリ性現像液により前記露光後の樹脂塗膜を現像する工程を有する、パターン化樹脂膜の製造方法。
[6]前記[4]に記載の樹脂膜を有する電子部品。
[感光性樹脂組成物]
本発明の感光性樹脂組成物(以下「本発明の組成物」ともいう)は、以下に説明する重合体(A)と、感光剤(B)とを含有する。特定構造を有する重合体(A)を含有する前記組成物を用いることにより、高屈折率の樹脂膜を形成することができる。
重合体(A)は、式(A1)で表される構造単位(A1)および式(A2)で表される構造単位(A2)から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する。
構造単位(A1)は、式(A11)で表される構造単位(A11)が好ましい。
重合体(A)は、式(A3)で表される構造単位(A3)および式(A4)で表される構造単位(A4)から選ばれる少なくとも1種の構造単位をさらに有してもよい。
Arは、それぞれ独立にアリーレン基である。アリーレン基としては、例えば、炭素数6〜18、好ましくは6〜12のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントリレン基、メチルフェニレン基、エチルフェニレン基が挙げられる。
重合体(A)は、例えば、式(a1)で表される化合物(a1)および式(a2)で表される化合物(a2)から選ばれる少なくとも1種と、式(a3)で表される化合物(a3)と、必要に応じて式(a4)で表される化合物(a4)とを、超強酸の存在下で重縮合させることで、得ることができる。
化合物(a1)としては、例えば、式(a11)で表される化合物(a11)が挙げられる。
化合物(a3)としては、例えば、1,1’−ビ−2−ナフトール、ビフェニル−2,2−ジオールが挙げられる。
化合物(a4)としては、例えば、ジフェノキシメタン、1,2−ジフェノキシエタン、1,3−ジフェノキシプロパン、1,4−ジフェノキシブタン、1,8−ジフェノキシオクタン等のジフェノキシアルカン;ジフェニルエーテル;1,2−ジフェニルエタン、1,3−ジフェニルプロパン、1,4−ジフェニルブタン、1,8−ジフェニルオクタン等のジフェニルアルカンが挙げられる。
超強酸は、上述の重縮合反応の触媒として用いる。
超強酸とは、100%硫酸よりも強い酸性度を有する酸であり、超酸ともいう。
触媒の好適例としては、トリフルオロメタンスルホン酸を単独で使用する例、トリフルオロメタンスルホン酸と、メタンスルホン酸およびトリフルオロ酢酸から選ばれる少なくとも1種とを組み合わせて使用する例が挙げられる。
超強酸は、化合物(a1)および化合物(a2)の合計1モルに対して、通常0.01〜100モル、好ましくは0.1〜50モルの量で用いることができる。
上記超強酸または上記重縮合反応に対して不活性な溶媒を用いることができる。不活性溶媒としては、例えば、メシチレン等の芳香族炭化水素(上記重縮合反応で反応する化合物を除く);塩化メチレン、ヘキサクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素(上記重縮合反応で反応する化合物を除く);炭素数4〜12のn−アルカン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等の酢酸アルキルエステルが挙げられる。
重縮合の反応条件は、以下が好ましい。
化合物(a3)および化合物(a4)の合計量は、化合物(a1)および化合物(a2)の合計1モルに対して、通常は0.5〜1.5モル、好ましくは0.9〜1.1モル、より好ましくは0.95〜1.05モルである。
反応終了後は、得られた重合体(A)は、公知の方法で精製することができる。
重合体(A)において、構造単位(A1)および構造単位(A2)の合計含有量は、通常は50質量%以上、好ましくは60質量%以上である。前記構造単位の含有量が前記範囲にあると、重合体(A)を含有する感光性樹脂組成物が解像性に優れ、高屈折率な樹脂膜を形成できる。
各構造単位の含有量は、H−NMRにて測定することができる。
本発明の組成物は、感光剤(B)を含有する。感光剤(B)としては、例えば、感光性酸発生剤、光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
感光性酸発生剤は、光照射を含む処理により酸を発生する化合物である。本発明の組成物から形成される樹脂塗膜に対する露光処理を含む処理によって、感光性酸発生剤に基づき露光部に酸が発生し、この酸の作用に基づき露光部のアルカリ水溶液への溶解性が変化する。
感光性酸発生剤としては、例えば、オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物、キノンジアジド基を有する化合物が挙げられる。以下、キノンジアジド基を有する化合物を「キノンジアジド化合物(B2)」ともいい、これ以外の前記例示の感光性酸発生剤を「酸発生剤(B1)」ともいう。
酸発生剤(B1)は、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等のオニウム塩化合物;ハロアルキル基含有複素環式化合物、ハロアルキル基含有炭化水素化合物等のハロゲン含有化合物;β−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物およびこれらの化合物のα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物;アルキルスルホン酸エステル類、ハロアルキルスルホン酸エステル類、アリールスルホン酸エステル類、イミノスルホネート類等のスルホン酸化合物;スルホンイミド化合物;ジアゾメタン化合物が挙げられる。
本発明の組成物において、感光剤(B)として酸発生剤(B1)を用いる場合、酸発生剤(B1)の含有量は、重合体(A)100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは0.3〜5質量部、さらに好ましくは0.5〜5質量部である。
キノンジアジド化合物(B2)としては、例えば、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられ、具体的には、フェノール性水酸基を1つ以上有する化合物と、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸または1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル化合物が挙げられる。
本発明の組成物において、感光剤(B)としてキノンジアジド化合物(B2)を用いる場合、キノンジアジド化合物(B2)の含有量は、重合体(A)100質量部に対して、好ましくは5〜50質量部、より好ましくは10〜40質量部、さらに好ましくは15〜35質量部である。
感光剤(B)として光ラジカル重合開始剤を用い、架橋剤(C)として後述する多官能(メタ)アクリル酸エステル等の重合性炭素−炭素二重結合含有化合物を用いることで、ネガ型の感光特性を発揮する材料を得ることができる。
本発明の組成物は、架橋剤(C)を含有してもよい。架橋剤(C)を用いることで、感光性樹脂組成物から形成される樹脂膜の絶縁性、耐薬品性および耐熱性を向上させることができる。
また、架橋剤(C)としては、例えば、オキシラン環含有化合物、オキセタン環含有化合物、イソシアネート基含有化合物(ブロック化されたものを含む。)、オキサゾリン環含有化合物、アルデヒド基含有フェノール化合物を挙げることもできる。
本発明の組成物には、感光性樹脂組成物から形成される樹脂膜と基板との密着性を向上させるため、密着助剤をさらに含有させることができる。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましい。
本発明の組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤を用いることで、前記組成物の取扱い性を向上させたり、粘度および保存安定性を調節したりすることができる。
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ブチルカルビトール等のカルビトール類;乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n−プロピル、乳酸イソプロピル等の乳酸エステル類;酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n−ブチル、プロピオン酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類;
2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;N−ジメチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;γ−ブチロラクトン等のラクトン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
が挙げられる。
溶剤は1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の組成物は、各成分を均一に混合することにより調製できる。また、ゴミを取り除くために、各成分を均一に混合した後、得られた混合物をフィルター等で濾過してもよい。
本発明の樹脂膜は、例えば上述の感光性樹脂組成物から形成される。前記組成物を用いることにより、屈折率が高い樹脂膜を得ることができる。さらに、耐熱性、絶縁性および解像度の樹脂膜を得ることができる。
塗膜形成工程では、例えば、前記組成物を、最終的に得られる樹脂膜の膜厚が例えば0.1〜100μmとなるように、基板上に塗布する。これをオーブンやホットプレートを用いて、通常、50〜140℃で10〜360秒間加熱する。このようにして、基板上に樹脂塗膜を形成する。
露光工程では、所望のマスクパターンを介して、例えばコンタクトアライナー、ステッパーまたはスキャナーを用いて、上記樹脂塗膜に対して露光を行う。露光光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、通常、波長200〜500nmの光(例:i線(365nm))を用いる。露光光の照射量は、感光性樹脂組成物中の各成分の種類、含有量、樹脂塗膜の厚さなどによって異なるが、露光光にi線を使用する場合、露光量は通常10〜10,000mJ/cm2である。
現像工程では、アルカリ性現像液により前記樹脂塗膜を現像して、ネガ型の場合は非露光部を、ポジ型の場合は露光部を溶解・除去することにより、基板上に所望のパターンを形成する。
必要に応じて、例えば絶縁膜としての特性を充分に発現させるため、加熱によりパターンをさらに硬化させる。加熱条件は特に限定されないが、樹脂膜の用途に応じて、例えば100〜300℃の温度で30分〜10時間程度加熱する。硬化を充分に進行させたり、パターン形状の変形を防止したりするため、多段階で加熱することもできる。
本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、D線(589nm)での屈折率(nD)が、好ましくは1.6以上、より好ましくは1.6〜1.8、さらに好ましくは1.65〜1.75の、パターン化されていてもよい樹脂膜を形成することができる。前記屈折率は、実施例に記載の条件で測定することができる。
本発明によれば、上記感光性樹脂組成物から形成された樹脂膜を有する電子部品、例えば表面保護膜、層間絶縁膜および平坦化膜から選択される1種以上の樹脂膜を有する、回路基板(半導体素子)、半導体パッケージまたは表示素子等の電子部品を製造することができる。特に、液晶表示装置等の表示装置が有するTFTアレイ基板において、TFTアレイ素子と透明画素電極との間に、上述の樹脂膜からなる層間絶縁膜を有する電子部品が好ましい。
1−1.重量平均分子量(Mw)および分子量分布(Mn/Mw)の測定方法
重合体の重量平均分子量(Mw)および分子量分布(Mn/Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により、下記条件下で測定した。
・カラム:東ソー社製カラムの「TSKgel αM」および
「TSKgel α2500」を直列に接続
・溶媒:臭化リチウムおよびリン酸を添加したN−メチル−2−ピロリドン
・温度:40℃
・検出方法:屈折率法
・標準物質:ポリスチレン
・GPC装置:東ソー製、装置名「HLC−8020−GPC」
重合体の構造解析は、H−NMRにより、下記条件下で行った。
・装置:JEOL社製、装置名「ECP−400P」
・重溶媒:重クロロホルム、重メタノールおよび重水から、
重合体の溶解性のもっとも高い重溶媒を選択した。
重合体のガラス転移温度(Tg)は、Rigaku社製8230型DSC測定装置を用いて、昇温速度20℃/分にて測定した。また、重合体の5%重量減少温度を、熱重量分析法(TGA)で、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分にて測定し、これを重合体の熱分解温度(Td5)とした。
[合成例1]重合体A1の合成
撹拌機、窒素導入管付き三方コックを取り付けた、窒素雰囲気下の300mLの3つ口フラスコに、イサチン2.94g(20mmol)、1,1’−ビ−2−ナフトール5.73g(20mmol)、および塩化メチレン30mLを添加した。
反応終了後に反応液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、下記式(1)で表される構造単位を有する白色粉末の重合体A1を得た。
重合体A1のMwは25,000、Mw/Mnは2.7、Tgは350℃以上、Td5は462℃であった。
表1に示した原料モノマーを用いたこと以外は合成例1と同様にして、下記式(2)で表される構造単位を有する白色粉末の重合体A2、前記式(1)で表される構造単位と下記式(3)で表される構造単位とを有する白色粉末の重合体A3、前記式(1)で表される構造単位と下記式(4)で表される構造単位とを有する白色粉末の重合体A4、および前記式(3)で表される構造単位と下記式(5)で表される構造単位とを有する白色粉末の重合体A5を得た。
[実施例1]
合成例1で合成した重合体A1を100部と、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−[4−[1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル]フェニル]エタンと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸との縮合物(モル比=1.0:2.0)を30部と、溶剤としてシクロヘキサノンを400部と、を均一に混合し、メンブランフィルターで異物を除去し、実施例1の感光性樹脂組成物を製造した。
表2に示す重合体を用いた以外は実施例1と同様に、感光性樹脂組成物を製造した。
[評価]
D線(589nm)での屈折率(nD)を、以下の手法にて評価した。ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記実施例で得られた感光性樹脂組成物を塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして平均膜厚30μmの塗膜を形成した。膜厚は、触針式膜厚計により測定した。このガラス基板をホットプレート上で200℃、60分間加熱した。得られた樹脂膜の23℃1気圧下における屈折率をMetricon社の「プリズムカプラ モデル2010」にて測定した。屈折率は、408nm、633nmおよび828nmの3波長にて測定し、Cauchyの式を用いてD線(589nm)での屈折率(nD)を求めた。
Claims (6)
- 式(A1)で表される構造単位(A1)および式(A2)で表される構造単位(A2)から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する重合体(A)と、
感光剤(B)と
を含有する感光性樹脂組成物。
式(A1)〜(A2)中、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子または有機基であり、R2およびR3のうち少なくとも1つは水素原子であり;R4およびR5は、芳香環に結合する基であり、それぞれ独立に、−OR2および−OR3以外の基であり;aは0〜2m+3の整数であり;bは0〜2n+3の整数であり;mおよびnはそれぞれ独立に0〜5の整数であり;*1および*2は芳香環に結合する結合手である。] - 重合体(A)が、構造単位(A1)および構造単位(A2)を合計で50質量%以上含有する、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 感光剤(B)が、ナフトキノンジアジド化合物である請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物から得られる樹脂膜。
- 基板上に、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物の樹脂塗膜を形成する工程、前記樹脂塗膜を露光する工程、およびアルカリ性現像液により前記露光後の樹脂塗膜を現像する工程を有する、パターン化樹脂膜の製造方法。
- 請求項4に記載の樹脂膜を有する電子部品。
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